JP2001085495A - 基板処理装置及びカセット搬送方法 - Google Patents

基板処理装置及びカセット搬送方法

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JP2001085495A
JP2001085495A JP25793899A JP25793899A JP2001085495A JP 2001085495 A JP2001085495 A JP 2001085495A JP 25793899 A JP25793899 A JP 25793899A JP 25793899 A JP25793899 A JP 25793899A JP 2001085495 A JP2001085495 A JP 2001085495A
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cassette
wafer
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Takayoshi Nakajima
考宜 中島
Akinari Hayashi
昭成 林
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Hitachi Kokusai Electric Inc
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Abstract

(57)【要約】 【課題】カセット内に於けるウェーハのばたつきを防止
し、パーティクルの発生を抑制することにより歩留りを
向上する。 【解決手段】装置内部のカセット搬送過程でカセット1
0を所定角度反転するカセット搬送装置35を具備する
基板処理装置に於いて、前記カセット搬送装置が回転可
能なカセット載置台と、該カセット載置台を所要角度回
転させる回転手段とを有し、該回転手段が前記カセット
載置台を低速、高速の2速で回転可能とした。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体ウェーハ等に
成膜処理する基板処理装置及びカセット搬送方法に係
り、特にウェーハカセットの授受及び回転を行うカセッ
ト搬送部に関するものである。
【0002】
【従来の技術】基板処理装置はウェーハ等の被処理基板
表面に気相成長反応により成膜し、不純物拡散或はエッ
チング等を行い半導体素子を製造するものである。
【0003】ウェーハはカセットに収容され搬送され
る。該カセットは一面が開口しウェーハの挿脱が行われ
る様になっており、前記カセットの内壁面にはウェーハ
保持用のスロットが形成されている。
【0004】前記カセット内に於いて、ウェーハは前記
カセットの搬送途中に衝撃を受けると、前記ウェーハが
前記カセットから滑落ちる虞れがある。その為、前記基
板処理装置外に於いては、カセット開口面が上向きにさ
れ、前記ウェーハは垂直な状態で搬送される。
【0005】前記基板処理装置内では前記ウェーハは水
平状態で移載、基板処理及び貯蔵される。その為、前記
基板処理装置はカセットを姿勢変更して搬送する為のカ
セット搬送装置を備えている。
【0006】従来の基板処理装置の一例として縦型拡散
CVD装置(特開平4−148717号公報)の概略を
図10〜図13に示す。
【0007】筐体2内に熱処理炉3が垂直に設けられて
おり、該熱処理炉3は反応管、均熱管、ヒータ及び断熱
材等から構成される。前記反応管は円筒状であり、前記
均熱管、ヒータ及び断熱材は前記反応管を囲繞してい
る。
【0008】前記熱処理炉3の下方にボートエレベータ
4が設けられ、該ボートエレベータ4によりボート5が
前記熱処理炉3内に装入、引出される様になっている。
【0009】前記ボートエレベータ4近傍にウェーハ移
載ステージ7が設けられ、該ウェーハ移載ステージ7と
前記ボートエレベータ4との間にウェーハ移載機8が設
置されている。前記ウェーハ移載ステージ7上にカセッ
ト10が載置され、該カセット10からウェーハ11が
前記ウェーハ移載機8により前記ボートエレベータ4に
移載される様になっている。
【0010】前記ウェーハ移載ステージ7の上方にカセ
ット棚13が設けられ、該カセット棚13及び前記ウェ
ーハ移載ステージ7の近傍にカセットローダ14が設け
られている。該カセットローダ14は前記ウェーハ移載
ステージ7を挟んで前記ウェーハ移載機8の反対側に位
置している。
【0011】前記筐体2の正面に開口部16が設けら
れ、該開口部16と前記カセットローダ14との間にカ
セット搬送装置17が設置されている。前記カセット1
0は図示しない外部搬送装置により前記開口部16を通
過し、前記カセット10は前記カセット搬送装置17に
2個載置される。
【0012】前記カセット10は開口部が上向きの状態
で前記カセット搬送装置17上に載置された後、ウェー
ハ整列機構29により前記ウェーハ11のオリエンテー
ションフラットを利用して該ウェーハ11が整列され、
前記カセット搬送装置17により前記カセット10が9
0度回転され、前記ウェーハ11が水平の状態にされ
る。
【0013】前記カセット10は前記カセットローダ1
4により前記カセット棚13に移載され、又前記カセッ
トローダ14により前記カセット棚13から前記ウェー
ハ移載ステージ7に移載される。前記カセット10内の
ウェーハ11は水平状態にあり、該ウェーハ11は前記
ウェーハ移載機8により前記ボート5に装填され、該ボ
ート5は前記ボートエレベータ4により前記熱処理炉3
に装入され、該熱処理炉3内で前記ウェーハ11が基板
処理される。
【0014】基板処理後、前記ボート5が前記熱処理炉
3から引出され、前記ボート5内の処理済ウェーハが前
記ウェーハ移載機8により前記カセット10内に移載さ
れる。該カセット10は前記カセットローダ14により
前記カセット棚13に移載される。
【0015】又、前記カセット10を縦型拡散CVD装
置1外に搬出する場合は、前記カセット10は前記カセ
ットローダ14により前記カセット棚13から前記カセ
ット搬送装置17に移載される。該カセット搬送装置1
7により前記カセット10が90度回転され、開口部が
上向きの姿勢にされた後、前記カセット10は前記筐体
2外へ搬送される。
【0016】前記カセット搬送装置17を図12及び図
13に示す。
【0017】該カセット搬送装置17はカセット姿勢変
換機構とウェーハ整列機構を具備している。
【0018】前記カセット姿勢変換機構は以下の通りで
ある。
【0019】フレーム18の両側に支持アーム19,1
9が上方に突出する様取付けられ、該支持アーム19は
前記フレーム18の正面側端部に位置している。該支持
アーム19の上端部端面にカセット載置台21が枢着さ
れている。該カセット載置台21は前記カセット10を
2個載置することができ、前記カセット載置台21にウ
ェーハ整列用孔(図示せず)が2箇所穿設されている。
【0020】前記フレーム18の正面内部側に水平部材
22が取付けられ、該水平部材22は前記フレーム18
の略中間の高さに位置しており、前記水平部材22の中
央部下面側に回転駆動用シリンダ23が取付けられてい
る。該回転駆動用シリンダ23は垂直方向に延び回転駆
動用ロッド24を有し、該回転駆動用ロッド24は前記
水平部材22を貫通し、水平ブロック25は中間部に於
いて前記回転駆動用ロッド24に直角に連結され、前記
水平ブロック25の両端部にリンク26,26が枢着さ
れ、該リンク26の他端は前記カセット載置台21の下
面に枢着されている。
【0021】前記ウェーハ整列機構29は図示しないロ
ーラとウェーハ検出器とを2組具備しており、前記ロー
ラはローラ駆動部31により回転され、前記ウェーハ整
列機構29は昇降用第1エアシリンダ27及び昇降用第
2エアシリンダ28により二段階に伸縮される様になっ
ている。
【0022】前記回転駆動用ロッド24が突出される
と、該回転駆動用ロッド24先端の水平ブロック25が
前記リンク26と共に上昇され、該リンク26により前
記カセット載置台21が押上げられ、該カセット載置台
21は前記支持アーム19との枢着点を中心として回転
し、前記カセット載置台21が水平になる。2個の前記
カセット10は外部搬送装置により前記開口部16迄運
ばれ、前記カセット10は前記開口部16を通過され、
前記カセット載置台21上に置かれる。
【0023】前記昇降用第1エアシリンダ27のロッド
が突出され、更に前記昇降用第2エアシリンダ28のロ
ッドが突出されて前記ウェーハ整列機構29が上昇され
る。ウェーハ検出器(図示せず)によりウェーハカセッ
ト内の各スロットに対してのウェーハの有無が検出さ
れ、又ローラ(図示せず)を介してウェーハが回転さ
れ、オリエンテーションフラットを利用して前記ウェー
ハ11が整列される。
【0024】前記昇降用第2エアシリンダ28のロッド
が引込まれると共に前記昇降用第1エアシリンダ27の
ロッドも引込まれると、前記ウェーハ整列機構29は二
段階に下降され、前記カセット載置台21の下方に空ス
ペースができる。
【0025】前記回転駆動用ロッド24が引込まれる
と、前記水平ブロック25及び前記リンク26が下降さ
れると共に前記カセット載置台21が前記支持アーム1
9との枢着点を中心として下方に90度回転され、前記
カセット載置台21及び2個のカセット10が前記空ス
ペースに納まる。前記カセット10は姿勢が90度変更
され、前記ウェーハ11は垂直状態から水平状態に変更
される。
【0026】前記カセット10は前記カセットローダ1
4により前記カセット棚13に搬送され、該カセット棚
13に収納され、或は前記カセットローダ14により前
記ウェーハ移載ステージ7に搬送される。前記ウェーハ
11は前記ウェーハ移載機8により前記ボート5に装填
され、基板処理が完了した処理済ウェーハが前記ボート
5から前記カセット10に戻される。
【0027】
【発明が解決しようとする課題】然し、前記カセット載
置台21の回転が開始される際は、前記回転駆動用シリ
ンダ23から前記回転駆動用ロッド24が急激に引込ま
れ、或は突出される為、前記カセット載置台21が突然
動き始め、而も速く動くので、起動時の衝撃により前記
ウェーハ11が前記スロット内でばたついてしまい、前
記ウェーハ11と前記スロットとが擦れてパーティクル
が発生し、該パーティクルにより前記ウェーハ11が汚
染される虞れがある。
【0028】本発明は斯かる実情に鑑み、カセット載置
台の始動を緩やかに行い、カセット内に於けるウェーハ
のばたつきを防止し、パーティクルの発生を抑制するも
のである。
【0029】
【課題を解決するための手段】本発明は、装置内部のカ
セット搬送過程でカセットを所定角度反転するカセット
搬送装置を具備する基板処理装置に於いて、前記カセッ
ト搬送装置が回転可能なカセット載置台と、該カセット
載置台を所要角度回転させる回転手段とを有し、該回転
手段が前記カセット載置台を低速、高速の2速で回転可
能とした基板処理装置に係り、又前記カセット載置台に
カセットが載置された状態からθ度傾斜する迄低速回転
し、θ度から90度迄を高速回転する基板処理装置に係
り、又前記カセット載置台の回転をθ度で拘束可能な位
置決めユニットを設け、前記回転手段は位置決めユニッ
トに拘束される迄前記カセット載置台を低速回転させ、
前記位置決めユニットの拘束解除と同期して高速回転す
る基板処理装置に係り、又前記カセット載置台に全行程
で作用するダンパを連結すると共に行程両端近傍で作用
するショックアブソーバを設けた基板処理装置に係り、
更に基板処理装置内部のカセット搬送過程でカセットを
所要角度回転するカセット搬送方法に於いて、カセット
を変速して回転させるカセット搬送方法に係り、更に又
カセット内で被処理基板が安定する迄低速で、それ以降
を高速で回転すると共に低速から高速に移行する過程で
カセットの回転を一旦停止するカセット搬送方法に係る
ものである。
【0030】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照しつつ本発明の
実施の形態を説明する。
【0031】図1〜図9に於いて本発明の実施の形態を
説明する。
【0032】尚、図1〜図9中、図10〜図13中と同
等のものには同符号を付してある。
【0033】図1は本発明の基板処理装置の一例である
縦型拡散CVD装置1の概略部分側面図である。
【0034】筐体2に開口部16が設けられ、該開口部
16に臨接してカセット搬送装置35が設置され、該カ
セット搬送装置35の上方に予備カセット棚36が配設
され、前記カセット搬送装置35の近傍であって前記筐
体2の内部側にカセットローダ14が立設され、該カセ
ットローダ14はロボットアーム37を有し、該ロボッ
トアーム37は昇降自在及び進退自在となっている。前
記カセットローダ14に対向し前記筐体2の内部側にカ
セット棚13が設置され、更に前記筐体2内に図示しな
いウェーハ移載ステージ、ウェーハ移載機、ボートエレ
ベータ、熱処理炉等が配設されている。
【0035】前記カセット搬送装置35について図2を
参照して説明する。
【0036】左側板38及び右側板39の下部に前板4
1及び後板42が固着されてフレーム43が構成され、
該フレーム43の下部は角筒状となっている。
【0037】前記右側板39の外側面であって前記前板
41側端部にヒンジ32が上下に2個固着されている。
前記開口部16に近接した筐体2にヒンジ33が2個固
着され、該ヒンジ33がヒンジピン34により連結さ
れ、該ヒンジピン34に前記ヒンジ32が回転自在に嵌
合し、前記カセット搬送装置35は筐体2に対して回転
可能に取付けられている。
【0038】回転支持軸49、回転駆動軸51を介して
前記左側板38、前記右側板39にカセット載置台44
が枢支されている。該カセット載置台44は回転プレー
ト45,45、内部授受ステージ46及び外部授受ステ
ージ47を具備し、前記回転支持軸49,回転駆動軸5
1は前記回転プレート45,45に固着され、前記カセ
ット載置台44は前記回転支持軸49、回転駆動軸51
を中心に矢印cの如く回転可能になっている。前記回転
プレート45,45は補強プレート48により連結さ
れ、該補強プレート48に前記内部授受ステージ46が
固着されている。該内部授受ステージ46、外部授受ス
テージ47にはカセット10が2個載置可能である。
【0039】図6に示す如く、前記回転プレート45,
45の内側面に傾斜リニアガイド52が設けられてい
る。該傾斜リニアガイド52は前記回転プレート45,
45の下部に傾斜して設けられ、前記傾斜リニアガイド
52は前記内部授受ステージ46側が高くなっている。
【0040】前記外部授受ステージ47にウェーハ整列
用孔53が2個所要の間隔で穿設され、前記外部授受ス
テージ47の長手方向両端部にスライド機構固定板54
が固着されている。
【0041】該ブロック54は前記外部授受ステージ4
7に対し垂設され、前記スライド機構がブロック54に
固着されている。該ブロック54の直角を構成する長辺
の長さは前記外部授受ステージ47の幅と同等であり、
前記長辺側が前記外部授受ステージ47の下面に当接さ
れ、短辺側が前記カセット搬送装置35の前面側に位置
している。
【0042】前記ブロック54の斜辺面にスライドブロ
ック56が2個ずつ固着され、該スライドブロック56
は前記リニアガイド52に摺動自在に嵌合し、前記外部
授受ステージ47が前記回転プレート45にスライド移
動可能に取付けられ、前記外部授受ステージ47は矢印
d方向に移動可能になっている。
【0043】前記前板41の内面側にスライド用エアシ
リンダ58が取付けられ、該スライド用エアシリンダ5
8に水平移動自在な可動ブロック59が取付けられてい
る。該可動ブロック59はスライド用エアシリンダ58
により矢印e方向に水平移動される様になっている。前
記可動ブロック59に昇降用エアシリンダ61が固着さ
れ、該昇降用エアシリンダ61は昇降用ロッド(図示せ
ず)を有し、該昇降用ロッドの先端に支持板62が固着
され、該支持板62上にウェーハ整列機57が取付けら
れ、ウェーハ整列機57は前記昇降用エアシリンダ61
により昇降される様になっている。
【0044】前記回転駆動軸51の突出端部に制動ユニ
ット63が装着される。該制動ユニット63は角筒状ブ
ロック66、一対のショックアブソーバ67,68及び
位置決めユニット69を有している。
【0045】前記角筒状ブロック66は左右一対の軸受
プレート70,71が固定板72,73により所要の間
隔で連結され、該固定板72,73は前記軸受プレート
70,71の上下端後部に位置し、前記軸受プレート7
0,71の間に回転用レバー64が前記回転駆動軸51
に固着される。前記軸受プレート70,71の下端前部
にピン受座75,75が形成されている。該ピン受座7
5,75は水平面と垂直面を有し、前記水平面の高さに
より前記回転用レバー64の回転角度θ度が調節され
る。
【0046】前記角筒状ブロック66は前記右側板39
の外側に固定され、前記角筒状ブロック66に前記回転
駆動軸51が回転自在に嵌合され、該回転駆動軸51に
前記回転用レバー64が固着され、該回転用レバー64
は矢印f方向に回転可能になっている。
【0047】前記固定板72,73に取付金具74が固
着されている。該取付金具74は鈍角(135度)に折
曲げられており、該折曲部は前記カセット搬送装置35
の前側を向いており、前記折曲部の中央を貫通する様に
前記ショックアブソーバ67,68が螺着されている。
該ショックアブソーバ67,68の先端から緩衝ロッド
76が突出し、該緩衝ロッド76先端は前記回転用レバ
ー64の回転平面内に位置している。前記ショックアブ
ソーバ67,68は回転することで軸心方向の位置が調
節可能になっている。
【0048】次に位置決めユニット69を説明する。
【0049】該位置決めユニット69はロータリアクチ
ュエータ77とカップリング78とストッパピン79と
を具備している。
【0050】前記ロータリアクチュエータ77は前記軸
受プレート71に固着され、前記ロータリアクチュエー
タ77は図示しない出力軸を有しており、該出力軸は回
転可能で且つ上方に向いており、該出力軸に前記カップ
リング78が取付けられ、該カップリング78にはスト
ッパとしてストッパピン79が取付けられ、該ストッパ
ピン79は水平になっている。前記カップリング78は
上下のプレートを有し、該上下のプレートに前記ストッ
パピン79がスプリング(図示せず)を介在して挾持さ
れ、上下方向に弾性変位可能となっている。
【0051】前記ロータリアクチュエータ77の駆動に
より前記ストッパピン79は水平面内を図3に於ける矢
印g方向に回転される様になっており、該ストッパピン
79の回転面は前記回転用レバー64の回転面と直角に
交差し、前記ストッパピン79は前記ピン受座75に当
接し、前記ストッパピン79は水平に回転するのを拘束
されると共に上方向に移動するのを拘束される様になっ
ている。
【0052】前記右側板39の外側面に駆動用エアシリ
ンダ65が取付けられ、該駆動用エアシリンダ65は前
記カセット搬送装置35の前側下部に位置し、駆動用ロ
ッド81を有し、該駆動用ロッド81は上向きとなって
おり、該駆動用ロッド81の先端に前記回転用レバー6
4の一端が連結されている。
【0053】又、前記右側板39の外側面にダンパ82
が取付けられ、該ダンパ82は前記カセット搬送装置3
5の後部側端部に位置しており、前記ダンパ82はロッ
ド83を有し、該ロッド83は上向きとなっており、該
ロッド83の先端に前記回転用レバー64の他端が連結
されている。
【0054】前記回転駆動部の制御用エア回路を図5に
示す。
【0055】前記駆動用エアシリンダ65はロッド側ポ
ート84及びピストン側ポート86を有し、前記ロッド
側ポート84にエアパイプ85が接続されると共に、前
記ピストン側ポート86にエアパイプ87が接続され
る。前記エアパイプ85に絞り弁89及び前記エアパイ
プ87には絞り弁88が取付けられ、該絞り弁88,8
9は可変絞りと逆止弁とが並列に接続され、該逆止弁は
排出側の流れを遮断する様になっている。
【0056】前記エアパイプ85,87の他端側は電磁
切替弁91に接続され、該電磁切替弁91に圧縮エア供
給パイプ92及び大気開放パイプ93,94が接続され
ている。
【0057】前記電磁切替弁91と前記絞り弁88との
間に於いて、前記エアパイプ87は低速駆動用エアパイ
プ95と高速駆動用エアパイプ96とに分岐され、前記
低速駆動用エアパイプ95に低速駆動用絞り弁97が取
付けられ、前記高速駆動用エアパイプ96には高速駆動
用絞り弁98が取付けられている。
【0058】前記低速駆動用絞り弁97は低速駆動用絞
りと逆止弁とが並列に接続され、該逆止弁は供給側を遮
断する様になっており、前記低速駆動用絞りは絞りが強
められている。前記高速駆動用絞り弁98は高速駆動用
絞りと逆止弁とが並列に接続され、該逆止弁は供給側の
流れを遮断する様になっており、前記高速駆動用絞りは
絞りが弱められている。
【0059】前記高速駆動用エアパイプ96に電磁弁9
9が取付けられ、該電磁弁99は前記高速駆動用絞り弁
98と前記電磁切替弁91との間に位置している。前記
電磁弁99はON−OFF弁であり、前記位置決めユニ
ット69と同期して駆動される様になっている。
【0060】以下、作用について説明する。
【0061】カセット10には処理前のウェーハ11が
装填されており、前記カセット10は図示しない外部搬
送装置により筐体2正面に運ばれ、前記カセット10は
開口部16を通過され、前記カセット10はカセット搬
送装置35上に2個載置される。前記カセット10内の
前記ウェーハ11は垂直状態にある。
【0062】前記カセット10は前記カセット搬送装置
35上に載置された後、前記カセット10はθ度回転さ
れ、ウェーハ整列機57によりオリエンテーションフラ
ットを利用して前記ウェーハ11が整列され、次に前記
カセット10が90度迄回転され、前記ウェーハ11が
水平の状態になる。
【0063】前記カセット10はカセットローダ14に
よりカセット棚13に移載され、又前記カセット10は
前記カセットローダ14により前記カセット棚13から
図示しないウェーハ移載ステージ7に移載される。前記
カセット10内のウェーハ11は水平状態にあり、該ウ
ェーハ11はウェーハ移載機によりボートに装填され、
該ボートはボートエレベータにより熱処理炉(いずれも
図示せず)に装入され、該熱処理炉内で前記ウェーハ1
1が基板処理される。
【0064】前記基板処理後、前記ボートが前記熱処理
炉から引出され、前記ボート内の処理済ウェーハが前記
ウェーハ移載機により前記カセット10内に移載され
る。前記カセット10は前記カセットローダ14により
前記カセット棚13に移載される。
【0065】又、前記カセット10を縦型拡散CVD装
置1外に搬出する場合は、前記カセット10をカセット
ローダ14により前記カセット棚13から前記カセット
搬送装置35に移載する。該カセット搬送装置35によ
り前記カセット10が90度回転され、該カセット10
の前記開口部16が上向きの姿勢に回転され、前記ウェ
ーハ11が垂直状態にされた後、前記カセット10は前
記筐体2外へ搬送される。
【0066】前記カセット搬送装置35に於ける前記カ
セット10の回転作動を更に詳しく説明する。
【0067】前記カセット10は外部授受ステージ47
上に載置される(図6参照)。前記カセット10は始動
時からθ度迄を低速回転し、該θ度から90度迄を高速
回転することにより姿勢変更される。
【0068】始動時からθ度迄の低速回転駆動操作は以
下の通りである。
【0069】前記カセット10の姿勢変更前に於いて、
電磁切替弁91はb側に切替えられており、前記駆動用
エアシリンダ65は駆動用ロッド81をストロークエン
ド迄引込み、前記回転用レバー64は前下がりになって
いる。前記外部授受ステージ47は水平であり、ロータ
リアクチュエータ77は図示しない出力軸が回転され
て、ストッパピン79が前記回転用レバー64の回転面
に交叉している。前記電磁弁99には弁位置切替指令信
号が送られており、前記電磁弁99はa側に切替えられ
ている。
【0070】スライドブロック56が図示しないスライ
ド手段により傾斜リニアガイド52に沿って内部授受ス
テージ46側に移動されると、ブロック54、前記外部
授受ステージ47及び前記カセット10が一体となって
前記内部授受ステージ46側に移動され、前記カセット
10は前記内部授受ステージ46側に押付けられた状態
でロックされる(図7参照)。
【0071】前記電磁切替弁91がa側に切替えられる
と、圧縮エア供給パイプ92と低速駆動用エアパイプ9
5及び高速駆動用エアパイプ96とが連通される。前記
電磁弁99はa側にあり、前記高速駆動用エアパイプ9
6は遮断されたままとなり、前記高速駆動用エアパイプ
96に圧縮エアは流れない。圧縮エアは前記低速駆動用
エアパイプ95を通り、前記圧縮エアは前記低速駆動用
絞り弁97を流れる。該低速駆動用絞りは大きく絞られ
ているので、前記圧縮エアの流量は少ない。該少量の圧
縮エアは前記エアパイプ87を通り前記絞り弁88に至
る。前記圧縮エアは逆止弁を流れ、前記圧縮エアは前記
ピストン側ポート86から前記駆動用エアシリンダ65
に供給される。
【0072】又、該駆動用エアシリンダ65のロッド側
ポート84から圧縮エアが前記エアパイプ85に流れ、
該圧縮エアは前記絞り弁89を通過する。前記圧縮エア
は逆止弁を通過せず、前記圧縮エアは可変絞りにより流
量制限されて前記電磁切替弁91に至り、前記圧縮エア
は大気開放パイプ93を通って大気中に放出される。
【0073】而して、圧縮エアは少量ずつ前記駆動用エ
アシリンダ65に供給され、前記駆動用ロッド81がゆ
っくり突出される。
【0074】該駆動用ロッド81が緩やかに突出される
と、前記回転用レバー64も緩やかに回転される。該回
転用レバー64に回転駆動軸51が固定され、該回転駆
動軸51及び回転支持軸49にカセット載置台44が固
着されているので、該カセット載置台44も緩やかに回
転される。
【0075】前記カセット10内のウェーハ11は略垂
直であるが、前記スロットの溝幅は前記ウェーハ11の
厚みよりも大きい為、個々のウェーハ11は前記スロッ
ト内で傾いており、傾く方向もウェーハ11毎に異なっ
ている。
【0076】前記駆動用ロッド81が緩やかに更に突出
されると、前記回転用レバー64がθ度迄回転してスト
ッパピン79に当接し、該ストッパピン79は上方に弾
性変位され、前記回転用レバー64と前記ストッパピン
79との接触時の衝撃が該ストッパピン79の弾性変位
により吸収される。更に該ストッパピン79はピン受座
75に当接され、前記回転用レバー64は確実に停止さ
れる。前記外部授受ステージ47及び前記カセット10
もθ度回転されるので、該カセット10内の全ウェーハ
11は垂直状態からθ度前記内部授受ステージ46側に
傾く(図8参照)。而して、前記ウェーハ11は前記ス
ロット内で緩やかに傾斜して安定な状態になる。
【0077】前記ウェーハ11が前記スロット内を傾動
する速度は遅いので、前記ウェーハ11と前記スロット
との摩擦も少なく、該摩擦によるパーティクルの発生も
抑制され、該パーティクルにより前記ウェーハ11が汚
染される虞れもなくなる。
【0078】スライド用エアシリンダ58により可動ブ
ロック59が水平移動され、ウェーハ整列機57が前記
カセット10の下方に移動され、昇降用エアシリンダ6
1により前記ウェーハ整列機57が上昇され、該ウェー
ハ整列機57はウェーハ整列用孔53を通過し、前記ウ
ェーハ整列機57は前記カセット10内に挿入され、前
記ウェーハ11のオリエンテーションフラットが下端に
揃えられる。
【0079】一方のカセット10に於けるウェーハ11
の整列が終了すると、前記昇降用エアシリンダ61によ
り前記ウェーハ整列機57が下降され、スライド用エア
シリンダ58により前記ウェーハ整列機57が水平移動
されて他のカセット10の下方に至る。該他のカセット
10は前記と同様の操作によりウェーハ11が整列され
る。その後前記昇降用エアシリンダ61により前記ウェ
ーハ整列機57は下降される(図8参照)。
【0080】前記θ度から90度迄の高速回転駆動操作
は以下の通りである。
【0081】前記ロータリアクチュエータ77が作動し
て図示しない出力軸が回転され、前記ストッパピン79
が前記ピン受座75から外れて外方向に回転される。
【0082】前記ロータリアクチュエータ77の作動と
同期して前記電磁弁99に弁位置切替指令信号が送ら
れ、前記電磁弁99はb側に切替えられる。
【0083】前記電磁弁99がb側になると、前記高速
駆動用エアパイプ96に圧縮エアが流れる様になり、前
記低速駆動用絞り弁97を流れると同時に圧縮エアは高
速駆動用絞り弁98を通過する。前記圧縮エアは逆止弁
を流れず高速駆動用絞りを流れる。該高速駆動用絞りは
絞り量が少ないので、圧縮エアの流量は多い。多量の圧
縮エアは前記エアパイプ87に合流され前記絞り弁88
に至る。前記多量の圧縮エアは逆止弁を流れ、前記圧縮
エアはピストン側ポート86から前記駆動用エアシリン
ダ65に供給される。而して、多量の圧縮エアにより前
記駆動用ロッド81の突出速度が増速される。
【0084】該駆動用ロッド81の突出速度が速くなる
と、前記回転用レバー64の回転速度も速くなり、前記
カセット載置台44及びカセット10の回転も前記θ度
以降速くなる。前記カセット10内のウェーハ11は前
記θ度経過時点で傾斜安定状態にある為、その後前記カ
セット10が速く回転されても、前記ウェーハ11が前
記スロット内で移動することはなく、前記パーティクル
は発生しない。
【0085】前記回転用レバー64の回転によりダンパ
82が作動し、前記回転用レバー64の回転が急激に増
速するのを防止する。更に、前記回転用レバー64はス
トロークエンドに近付くと緩衝ロッド76に当接し、該
緩衝ロッド76が押込まれ、ショックアブソーバ67が
作動して停止時の衝撃を吸収し、前記回転用レバー64
は回転角度90度の位置で確実に且つ緩やかに停止され
る。而して、前記カセット載置台44及びカセット10
も回転角度90度の位置で停止され、前記ウェーハ11
はばたつくことなく前記傾斜安定化状態から水平安定化
状態に移行される(図9参照)。
【0086】前記カセット10はロボットアーム37に
より保持され、前記カセット10は前記カセットローダ
14により前記カセット棚13に移載される。
【0087】前記処理済ウェーハが挿入されたカセット
10は上記と逆の手順で縦型拡散CVD装置1外に搬出
される。
【0088】前記カセットローダ14によりカセット1
0が前記カセット載置台44上に移載される。前記カセ
ット10内の処理済ウェーハは水平安定化状態にある
(図9参照)。
【0089】前記電磁切替弁91がb側に切替えられる
と、前記圧縮エア供給パイプ92と前記エアパイプ85
とが連通され、圧縮エアは前記圧縮エア供給パイプ92
から前記絞り弁を通り、前記圧縮エアは前記ロッド側ポ
ート84を通って前記駆動用エアシリンダ65に供給さ
れる。該駆動用エアシリンダ65は前記駆動用ロッド8
1が高速で引込まれる。
【0090】前記駆動用エアシリンダ65から圧縮エア
が前記ピストン側ポート86、前記絞り弁88、前記低
速駆動用絞り弁97、高速駆動用絞り弁98の逆止弁を
通って前記電磁切替弁91に至り、前記圧縮エアは大気
中に放出される。
【0091】前記駆動用ロッド81が高速で引込まれる
と、該駆動用ロッド81により前記回転用レバー64が
引下げられ、前記カセット載置台44及び前記カセット
10が回転される。該カセット10内の処理済ウェーハ
は水平安定化状態から傾斜安定化状態へばたつくことな
く速やかに移行される(図8参照)。
【0092】前記回転用レバー64の回転により前記ダ
ンパ82が作動し、該ダンパ82により前記回転用レバ
ー64の回転が急激に増速するのを全行程で防止する。
更に前記回転用レバー64のストロークエンドに近付く
と前記ショックアブソーバ68が作動して停止時の衝撃
を吸収し、前記回転用レバー64が緩やかに且つ確実に
停止され、前記カセット10は90度回転され、前記処
理済ウェーハは垂直になる(図6参照)。
【0093】上記した前記カセット10の搬出過程に於
いて、前記処理済ウェーハはばたつくことなく静かに姿
勢変更され、前記パーティクルの発生が抑止され、パー
ティクルによりウェーハが汚染されることなく、ウェー
ハの歩留りが向上する。
【0094】前記カセット10は前記外部搬送装置によ
り前記開口部16から搬出されると共に、別のカセット
10が外部から搬送されて前記カセット搬送装置35に
載置される。
【0095】前記ストッパピン79が前記右側板39側
に回転され、前記ストッパピン79が前記回転用レバー
64の回転軸を横断し、前記ロータリアクチュエータ7
7からの弁位置切替指令信号により前記電磁弁99はa
側に切替えられる。以下前述と同様の操作により、前記
カセット10が搬送される。
【0096】前記カセット搬送装置35に於けるカセッ
ト回転用の前記回転用レバー64、駆動用エアシリンダ
65、制動ユニット63及び制御用エア回路は大掛かり
とならず、装置の組立が容易で、装置のコストも低減さ
れる。
【0097】尚、本発明の基板処理装置及びカセット搬
送方法は、上述の実施の形態に於けるカセット搬送装置
に限定されるものではなく、カセット数は1個又は3個
以上でもよいこと、ウェーハ整列機構はウェーハ整列機
構及びウェーハマッピングセンサを2組備えて2個のカ
セット内ウェーハを同時に整列する様にしてもよいこ
と、カセットがカセット載置台に載置された後ウェーハ
の整列が行われ、次いで前記カセットの回転が行われる
様にしてもよいこと、又バッチ式或は枚葉式のいずれの
基板処理装置にも適用できることは勿論である。
【0098】又、搬出の際のカセットの90度回転(戻
り動作)は搬入の際に行った低速高速の切替えを行わ
ず、全行程での回転速度を絞り弁88のみで調整しても
よい。カセットの戻り動作では速度を一定としても、ウ
ェーハは安定であることが、実験により確認されてい
る。
【0099】
【発明の効果】以上述べた如く本発明によれば、カセッ
トの回転を始動時に低速で行い、途中で停止し、次いで
高速回転するので、被処理基板が不安定な時は低速回転
され、前記被処理基板が安定化した後高速回転されるの
で、前記被処理基板に衝撃が与えられることがなく、前
記被処理基板が保護される。
【0100】又、前記カセットがθ度迄低速回転される
と、前記カセット内容物は安定化され、その後高速回転
されても前記被処理基板に損傷はなく、能率的である。
【0101】更に、パーティクルの発生が低減され、該
パーティクルによる前記被処理基板の汚染も減少し、処
理基板の歩留りが向上する。
【0102】更に又、装置の構造が簡潔で組立が容易
で、装置のコストも低減される等種々の優れた効果を発
揮する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態を示す概略部分側面図であ
る。
【図2】該実施の形態に於けるカセット搬送装置の斜視
図である。
【図3】該実施の形態に於ける制動ユニットの斜視図で
ある。
【図4】該実施の形態に於けるショックアブソーバの斜
視図である。
【図5】該実施の形態に於ける回転駆動部の制御用エア
回路図である。
【図6】該実施の形態に於けるカセットの回転動作を示
し、前記カセットの載置時を示す断面図であり、図6
(A)は図6(B)のX−X矢視図、図6(B)は図6
(A)のY矢視図である。
【図7】該実施の形態に於けるカセットの回転動作を示
す図であり、前記カセットのロック時を示す断面図であ
る。
【図8】該実施の形態に於けるカセットの回転動作を示
す図であり、前記カセットのθ度回転時を示す断面図で
ある。
【図9】該実施の形態に於けるカセットの回転動作を示
す図であり、前記カセットの回転完了時を示す断面図で
ある。
【図10】従来例の斜視図である。
【図11】該従来例に於けるカセット搬送装置の側面図
である。
【図12】該従来例に於いてカセット搬送装置にカセッ
トが載置された状態を示す側面図である。
【図13】該従来例に於いてカセット搬送装置によりカ
セットが回転された状態を示す側面図である。
【符号の説明】
10 カセット 11 ウェーハ 14 カセットローダ 16 開口部 35 カセット搬送装置 37 ロボットアーム 43 フレーム 44 カセット載置台 45 回転プレート 46 内部授受ステージ 47 外部授受ステージ 49 回転支持軸 51 回転駆動軸 52 傾斜リニアガイド 56 スライドブロック 57 ウェーハ整列機 61 昇降用エアシリンダ 63 制動ユニット 64 回転用レバー 65 駆動用エアシリンダ 67 ショックアブソーバ 68 ショックアブソーバ 69 位置決めユニット 76 緩衝ロッド 77 ロータリアクチュエータ 78 カップリング 79 ストッパピン 81 駆動用ロッド 82 ダンパ 84 ロッド側ポート 86 ピストン側ポート 88 絞り弁 89 絞り弁 91 電磁切替弁 92 圧縮エア供給パイプ 95 低速駆動用エアパイプ 96 高速駆動用エアパイプ 97 低速駆動用絞り弁 98 高速駆動用絞り弁 99 電磁弁

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 装置内部のカセット搬送過程でカセット
    を所定角度反転するカセット搬送装置を具備する基板処
    理装置に於いて、前記カセット搬送装置が回転可能なカ
    セット載置台と、該カセット載置台を所要角度回転させ
    る回転手段とを有し、該回転手段が前記カセット載置台
    を低速、高速の2速で回転可能としたことを特徴とする
    基板処理装置。
  2. 【請求項2】 前記カセット載置台にカセットが載置さ
    れた状態からθ度傾斜する迄低速回転し、θ度から90
    度迄を高速回転する請求項1の基板処理装置。
  3. 【請求項3】 基板処理装置内部のカセット搬送過程で
    カセットを所要角度回転するカセット搬送方法に於い
    て、カセットを変速して回転させることを特徴とするカ
    セット搬送方法。
  4. 【請求項4】 カセット内で被処理基板が安定する迄低
    速で、それ以降を高速で回転すると共に低速から高速に
    移行する過程でカセットの回転を一旦停止する請求項3
    のカセット搬送方法。
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