JP2022066392A5 - - Google Patents

Claims (15)

1. リソグラフィ工程における使用に適したマスクアセンブリであって、
   パターニングデバイスと、
   （ａ）ペリクルを支持するように構成されマウントを用いて前記パターニングデバイスに搭載されたペリクルフレームであって、（ｂ）前記マウントは、前記ペリクルフレームと前記パターニングデバイスとの間に間隙が存在するように前記ペリクルフレームを前記パターニングデバイスに対して懸架するように構成されている、ペリクルフレームと、を備え、
   前記マウントは、前記パターニングデバイスと前記ペリクルフレームとの間の取り外し可能に係合可能な取り付けを提供し、
   前記マウントは、複数のサブマウントを備え、
   各サブマウントは、前記パターニングデバイス又は前記ペリクルフレームのうち一方に取り付けられた突起と、前記パターニングデバイス又は前記ペリクルフレームのうち他方に取り付けられた係合機構と、を備え、前記係合機構は、前記突起を収容するとともに前記突起と係合するように構成されている、マスクアセンブリ。
2. 前記マウントは、前記ペリクルフレームと前記パターニングデバイスとの間に運動学的連結を提供する、請求項１のマスクアセンブリ。
3. 各サブマウントは、運動学的サブマウントである、請求項１又は２のマスクアセンブリ。
4. 各サブマウントは、そのサブマウントにおける前記パターニングデバイスに対する前記ペリクルフレームの一区画の移動を可能にするように構成された弾性の構成要素を含む、請求項１から３の何れか一項のマスクアセンブリ。
5. 各サブマウントは、そのサブマウントにおける少なくとも１つの方向の移動が防止されるように、そのサブマウントにおける前記パターニングデバイスに対する前記ペリクルフレームの移動を限られた数の自由度に抑制するように構成されている、請求項４のマスクアセンブリ。
6. 前記係合機構は、前記突起に対する前記係合機構のいくらかの移動を可能にするように構成された１つ以上の弾性部材を備える、請求項１から５の何れか一項のマスクアセンブリ。
7. 前記係合機構は、前記ペリクルフレームが前記パターニングデバイスに接触するのを防止する移動制限構成要素をさらに備える、請求項１から６の何れか一項のマスクアセンブリ。
8. 前記係合機構は、前記ペリクルフレームと前記パターニングデバイスとの間の前記間隙を維持する移動制限構成要素をさらに備える、請求項１から７の何れか一項のマスクアセンブリ。
9. 前記移動制限構成要素は、前記突起の前記遠位面と係合するように構成されたキャップを備える、請求項８のマスクアセンブリ。
10. 前記マウントは、３つ以上のサブマウントを備える、請求項１から９の何れか一項のマスクアセンブリ。
11. 前記マウントは、４つのサブマウントを備える、請求項１０のマスクアセンブリ。
12. 前記マスクアセンブリの一側部に２つのサブマウントが設けられ、
    前記マスクアセンブリの反対の側部に２つのサブマウントが設けられる、請求項１１のマスクアセンブリ。
13. 前記ペリクルフレームの各側部は、第１の方向の移動を可能にするサブマウントと、前記第１の方向に略垂直である第２の方向の移動を可能にするサブマウントと、を備える、請求項１から１２の何れか一項のマスクアセンブリ。
14. 前記サブマウントは、前記ペリクルフレームの対向する側部の等価な位置に、相補対として設けられる、請求項１３のマスクアセンブリ。
15. 放射ビームを調整するように構成された照明システムと、
    請求項１から１４の何れか一項によるマスクアセンブリであってパターニングされた放射ビームを形成するべく前記放射ビームの断面にパターンを付与するように構成されたマスクアセンブリを支持する支持構造と、
    基板を保持するように構築された基板テーブルと、
    前記パターニングされた放射ビームを前記基板上に投影するように構成された投影システムと、
    を備える、リソグラフィ装置。