CN107111224B

CN107111224B - 表膜附接设备

Info

Publication number: CN107111224B
Application number: CN201580062459.7A
Authority: CN
Inventors: F·范德穆伦; 马尔滕·M·M·詹森; 约根·M·阿泽雷L; 德克·S·G·布龙; 马克·布鲁因; J·德克尔斯; 保罗·詹森; R·H·G·克莱默; M·克鲁兹恩卡; R·G·M·兰斯勃根; M·H·A·李德斯; 埃里克·洛劳夫·鲁普斯卓; G·范德博世; J·F·S·V·范罗; B·L·M-J·K·韦伯罗根; 安吉洛·恺撒·皮特·德克勒克; J·M·丁斯; M·L·J·杨森; R·J·J·克尔斯滕斯; M·J·M·克斯特斯
Original assignee: ASML Netherlands BV
Current assignee: ASML Netherlands BV
Priority date: 2014-11-17
Filing date: 2015-11-16
Publication date: 2021-05-07
Anticipated expiration: 2035-11-16
Also published as: TW201619692A; CA2968151A1; US10539886B2; JP2017534077A; JP2023143925A; KR20230146669A; JP2021076871A; TWI724622B; JP7318040B2; JP6769954B2; KR20170088379A; JP7123206B2; CN117826520A; JP2020024470A; JP6882431B2; CA2968159A1; WO2016079051A3; KR102589077B1; WO2016079051A2; TW201619693A

Abstract

用于适合于光刻过程中使用的掩模组件的加工，所述掩模组件包括：图案形成装置；和表膜框架，被配置用以支撑表膜且利用安装件而安装于所述图案形成装置上；其中所述安装件在所述图案形成装置与所述表膜框架之间提供可释放式的可接合附接。

Description

表膜附接设备

相关申请的交叉引用

本申请主张2014年11月17日提交的美国申请62/080,561，2015年1月27日提交的美国申请62/108,348，2015年2月2日提交的美国申请62/110,841，2015年2月27日提交的美国申请62/126,173，2015年4月17日提交的美国申请62/149,176，和2015年6月23日提交的美国申请62/183,342的优先权，并且它们通过援引而全文合并到本发明中。

技术领域

本发明涉及设备。所述设备可结合用于光刻设备的表膜而使用。

背景技术

光刻设备是被构造用以将所需图案施加至衬底上的机器。光刻设备可用于例如集成电路(IC)的制造中。光刻设备可例如将图案从图案形成装置(例如，掩模)投影到设置于衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上。

由光刻设备所使用以将图案投影至衬底上的辐射的波长确定出能够形成于所述衬底上的特征的最小尺寸。与常规的光刻设备(其可例如使用具有193nm波长的电磁辐射)相比，使用作为具有在4nm至20nm的范围内的波长的电磁辐射的EUV辐射的光刻设备可被用于在衬底上形成较小特征。

用于将图案赋予给光刻设备中的辐射束的图案形成装置(例如，掩模)可形成掩模组件的部分。掩模组件可包括保护所述图案形成装置免受颗粒污染的表膜。表膜可由表膜框架支撑。

可能需要提供避免或减少与现有技术相关联的一个或更多个问题的设备。

发明内容

根据本发明的第一方面，提供一种表膜附接设备，包括：支撑结构，被配置成支撑表膜框架；和表膜运输系统，被配置成将表膜放置至所述表膜框架上，其中所述设备还包括致动器，所述致动器被配置成在将所述表膜放置于所述表膜框架上之前提供所述表膜框架与所述表膜之间的相对移动。

所述致动器允许在将所述表膜放置于所述表膜框架上之前实现在所述表膜框架与所述表膜之间的对准，因此允许所述表膜相对于所述表膜框架的准确定位。

所述致动器可被配置成相对于所述表膜来移动所述支撑结构且因此移动所述表膜框架。

所述表膜运输系统可包括被配置用以保持所述表膜的支撑臂。

每个支撑臂可包括导管，所述导管被配置成将真空传递至所述臂的底脚。

所述底脚可被确定尺寸以容纳所述表膜的边界的部分。

所述支撑臂可从连接器臂向下延伸，所述连接器臂从所述表膜运输系统的框架延伸。

所述连接器臂可包括允许所述连接器臂在大致竖直方向上移动的一个或更多个板簧。

可调整式末端止挡件可从所述表膜运输系统框架突出，且防止所述连接器臂的向下移动超出预定位置。

波纹管可延伸于所述支撑臂与所述表膜运输系统框架之间，所述波纹管将所述支撑臂中的所述导管连接至所述框架中的导管。

所述支撑结构可包括被定位用以允许表膜边界边缘和/或表膜框架边缘从所述支撑结构的相对侧可见的窗。

成像传感器可被设置于所述窗的一侧上，且被配置成透视所述窗来观察在所述窗的相反侧上的所述表膜边界边缘和/或表膜框架边缘。

对准标记可被提供于所述窗上。

所述表膜附接设备还可包括臂，所述臂被配置成当所述表膜已经放置于所述表膜框架上时向下按压于所述表膜上，由此在所述表膜与所述表膜框架之间的界面处的胶的固化期间将所述表膜保持于所述表膜框架上。

每个臂可设置有配重。由所述臂施加至所述表膜的向下压力是由所述配重的沉重性/重量(heaviness)确定。

每个臂可包括被配置成挤压抵靠所述表膜的向下延伸指状件。

所述指状件可相对于所述臂的其他部分是横向地可移动的。

每个臂可从支撑框架延伸，且包括相对于所述支撑框架在大致竖直方向上可移动的部分。

每个臂可包括限制所述臂的所述可移动部分相对于所述臂的固定部分的移动的末端止挡件。

根据本发明的第二方面，提供一种表膜框架附接设备，被配置成容纳图案形成装置和包括表膜框架和表膜的表膜组件，所述表膜附接设备包括被配置用以对设置于表膜框架上的子安装台的接合机构进行操作的操纵器，其中所述操纵器突出穿过设置于分隔区中的开口或从所述开口突出，所述分隔区使容纳表膜组件的受控环境与所述表膜框架附接设备的其他部分分离。

所述分隔区包括经定位以允许所述图案形成装置上的表膜边界边缘、表膜框架边缘和/或对准标记从所述分隔区的相对侧可见的窗。

成像传感器可被设置于所述窗的一侧上。所述成像传感器被配置成透视所述窗来观察所述图案形成装置上的所述表膜边缘、表膜框架边缘和/或对准标记。

对准标记可被设置于所述窗上。

所述操纵器可包括连接至致动器的销，所述致动器被配置成在大致竖直方向上移动所述销。

所述销可相对于一对钩形臂是可移动的。

所述一对钩形臂可被连接至致动器。所述致动器可配置成在大致水平方向上移动所述钩形臂。

所述一对钩形臂可被固定至所述分隔区，且所述致动器被配置成一起地移动所述分隔区和所述一对钩形臂。

可提供额外销，所述额外销相对于所述可移动销在所述大致竖直方向上是可移动的。

所述额外销可相对于所述可移动销被弹性地偏压。

所述分隔区可连接至支撑结构的一部分或形成支撑结构的一部分。

所述操纵器的末端可设置有坚固材料的涂层。

所述表膜框架附接设备可包括在所述受控环境中的气体出口，所述气体出口被配置成在高于所述分隔区的相对侧上的气体压力的压力下供应气体。

根据本发明的第三方面，提供一种螺柱附接设备，包括被配置成保持图案形成装置的支撑结构和被配置成使螺柱接触所述图案形成装置的螺柱操纵器，其中所述螺柱操纵器由分隔区而与容纳图案形成装置的受控环境分离，所述分隔区包括所述螺柱可突出穿过以便与所述图案形成装置接触的孔。

所述螺柱操纵器可以是多个螺柱操纵器中之一，且所述分隔区中的所述孔是多个孔中之一。

所述螺柱附接设备可包括在所述受控环境中的气体出口，所述气体出口被配置成在高于所述分隔区的相对侧上的气体压力的压力下供应气体。

可围绕所述螺柱操纵器设置密封件。所述密封件在使用中可提供相对于所述图案形成装置的密封以使所述图案形成装置的螺柱容纳部分与所述图案形成装置的其他部分隔离。

可提供至少一个气体传递通道和至少一个气体提取通道，经由至少一个气体传递通道和至少一个气体提取通道可向所述图案形成装置的所述螺柱容纳部分提供气体流以及从所述螺柱容纳部分提供气体流。

所述密封件可以是泄露式密封件。

所述螺柱操纵器可包括加热器。

所述分隔区可包括被定位以允许所述图案形成装置上的对准标记从所述分隔区的相对侧可见的窗。

成像传感器可被设置于所述窗的一侧上，且被配置成透视所述窗来观察所述图案形成装置上的所述对准标记。

运动学连接件可被设置于所述螺柱操纵器与所述支撑结构之间。

根据本发明的第四方面，提供一种螺柱移除设备，包括：支撑结构，被配置成保持图案形成装置；螺柱夹持器，被配置成容纳和固持从所述图案形成装置突出的螺柱的远端头部；致动器，被配置成相对于所述螺柱和所述图案形成装置来移动所述螺柱夹持器；和加热器。

所述螺柱夹持器可包括具有分离件的一对凸缘，所述分离件比所述螺柱的颈部更宽且比所述螺柱的远端头部更窄。

所述螺柱移除设备还可包括连接至所述螺柱夹持器且在所述螺柱夹持器上向下拉动的配重。

所述螺柱移除设备还可包括相对于所述螺柱夹持器在大致水平方向上是可移动的推动器臂，所述推动器臂被配置成在已从图案形成装置移除螺柱之后将所述螺柱推出所述螺柱夹持器。

所述螺柱移除设备还可包括被配置成引导已被从所述螺柱夹持器推出的螺柱的滑槽。

所述螺柱移除设备还可包括定位于所述滑槽的出口处的螺柱容器。

根据本发明的第五方面，提供一种光刻系统，包括：表膜框架附接设备，被配置成容纳图案形成装置、表膜框架和表膜并且将所述表膜框架附接至所述图案形成装置以便形成掩模组件，其中所述表膜框架支撑邻近于所述图案形成装置的所述表膜；光刻设备，包括：支撑结构，被配置成从所述表膜框架附接设备接纳所述掩模组件且支撑所述掩模组件；照射系统，被配置成调节辐射束且利用调节后的辐射束来照射所述掩模组件，所述掩模组件的所述图案形成装置被配置成在所述调节后的辐射束的横截面中赋予图案给调节后的辐射束以形成图案化辐射束；衬底台，被构造用以保持衬底；和投影系统，被配置成将所述图案化辐射束投影至所述衬底上；所述光刻系统还包括掩模组件输送装置，配置成将所述掩模组件从所述表膜框架附接设备输送至所述光刻设备以供在所述光刻设备中使用。

所述表膜框架附接设备可被配置成在密封环境中将所述表膜框架附接至所述图案形成装置。

所述表膜框架附接设备可包括被配置成将所述表膜框架附接设备的所述密封环境泵吸至真空压力状态的真空泵。

所述掩模组件输送装置可被配置成在密封环境中将所述掩模组件从所述表膜框架附接设备输送至所述光刻设备。

所述掩模组件输送装置可包括被配置成将所述掩模组件附接设备的所述密封环境泵吸至真空压力状态的真空泵。

所述光刻系统还可包括检查设备，配置成针对污染或缺陷中的至少一个检查所述表膜、所述表膜框架和所述图案形成装置中的一个或更多个。

所述表膜框架附接设备可被配置成容纳附接至表膜框架的表膜，且将所述表膜框架与附接至图案形成装置的所述表膜附接。

所述照射系统可被配置用以调节EUV辐射束。

所述表膜框架附接设备可被配置成容纳对EUV辐射实质上透明的表膜。

根据本发明的第六方面，提供一种表膜附接设备，被配置成容纳表膜和表膜框架、将所述表膜附接至所述表膜框架以形成表膜组件，且在密封的封装内密封所述表膜组件，所述密封的封装适合于在所述密封的封装内输送所述表膜组件。

所述表膜附接设备可被配置成在密封环境中将所述表膜附接至所述表膜框架。

所述表膜附接设备还可包括被配置成将所述密封环境泵吸至真空压力状态的真空泵。

所述表膜附接设备还可包括被配置成针对污染或缺陷中的至少一个检查所述表膜和所述表膜框架中之一或两者的检查设备。

根据本发明的第七方面，提供一种将表膜附接至表膜框架的方法，所述方法包括：使用表膜框架运输系统以将所述表膜框架放置于支撑结构上；将胶涂覆至所述表膜框架；使用表膜运输系统将表膜保持于所述表膜框架上方；对准所述表膜框架与所述表膜；和将所述表膜放置至所述表膜框架上。

可通过移动支撑所述表膜框架的所述支撑结构而实现所述表膜框架与所述表膜的对准。

所述方法还可包括使用臂而向下按压至所述表膜上，由此在所述胶的固化期间将所述表膜保持于所述表膜框架上。

所述胶可被设置于间隔开的部位处。臂在每个间隔开的部位处向下按压至所述表膜上。

根据本发明的第八方面，提供一种将表膜组件附接至图案形成装置的方法，所述表膜组件包括表膜框架和表膜，所述方法包括：将所述表膜组件放置于所述支撑结构的第一部分上；将所述图案形成装置放置于所述支撑结构的第二部分上，其中所述图案形成装置的螺柱面朝所述表膜组件；

从所述支撑结构提升所述表膜组件，之后移动所述表膜组件以使所述表膜组件相对于所述图案形成装置对准；和

使用操纵器以操作设置于所述表膜框架上的子安装台的接合机构，所述操纵器将所述接合机构与从所述图案形成装置突出的所述螺柱接合。

所述操纵器可包括钩形臂和操纵器销，用以相对于每个接合机构的支撑臂来移动每个接合机构的接合臂，以便产生空间来容纳所述螺柱中的一个螺柱的远端头部。

所述钩形臂可保持所述接合机构的所述支撑臂，而所述操纵器销向上推动所述接合机构的接合臂。

可使用额外销来执行所述表膜组件的提升。

根据本发明的第九方面，提供一种将螺柱附接至图案形成装置的方法，所述方法包括：将所述螺柱放置在设置于支撑结构上的螺柱操纵器中；

将胶涂覆至所述螺柱；

将所述图案形成装置放置于所述螺柱上方且其中图案化表面朝向下；和

向上移动所述螺柱操纵器以将所述螺柱移动成接触所述图案形成装置。

所述方法还可包括使用所述螺柱操纵器中的加热器来加热所述螺柱，以便固化所述胶。

可围绕每个螺柱操纵器设置密封件，且其中气体被传递至所述螺柱操纵器且之后从所述螺柱操纵器移除，以便从所述密封件的附近带走污染物。

所述密封件可以是泄露式密封件。

根据本发明的第十方面，提供一种从图案形成装置移除螺柱的方法，所述方法包括：使用支撑件来支撑所述图案形成装置，其中所述图案形成装置被定向成使得所述螺柱从所述图案形成装置向下突出；相对于所述螺柱来移动螺柱夹持器且由此容纳和固持所述螺柱的远端头部；加热所述螺柱夹持器且由此加热所述螺柱以融化定位于所述螺柱与所述图案形成装置之间的胶；和使用所述螺柱夹持器来向下拉动所述螺柱，使得所述螺柱当所述胶融化时与所述图案形成装置分离。

所述螺柱可由连接至所述螺柱夹持器且在所述螺柱夹持器上向下拉动的配重向下拉动。

所述方法还可包括使用推动器臂以在已从图案形成装置移除所述螺柱之后将所述螺柱推出所述螺柱夹持器。

所述方法还可包括使用滑槽以将所述螺柱引导至螺柱容器。

应了解，在以下描述中上文所描述或提及的一个或更多个方面或特征可与一个或更多个其他方面或特征相组合。

附图说明

现在将参考所附的示意图而仅作为示例来描述本发明的实施例，在附图中：

图1是包括有光刻设备和辐射源的光刻系统的示意性图示；

图2是根据本发明的实施例的各种设备和光刻设备的示意性图示；

图3是根据本发明的实施例的掩模组件的透视图；

图4是图3的掩模组件的部件的横截面图；

图5描绘形成图3的掩模组件的部件的接合机构；

图6示意性地描绘根据本发明的实施例的表膜附接设备；

图7更详细地描绘表膜附接设备的部件；

图8是描绘根据本发明的实施例的运输系统的透视图；

图9更详细地描绘图8的运输系统的部件；

图10示意性地描绘从上方所观察的表膜附接设备的部件；

图11是描绘表膜附接设备的臂的横截面；

图12示意性地描绘根据本发明的实施例的表膜框架附接设备；

图13是表膜框架附接设备的部件的透视图；

图14更详细地示出表膜框架附接设备的部件；

图15示意性地描绘表膜框架附接设备的不同部件之间的相互关系；

图16和图17示意性地描绘由表膜框架附接设备对接合机构进行的操作；

图18更详细地描绘由表膜框架附接设备对所述接合机构进行的操作；

图19示意性地描绘根据本发明的实施例的螺柱附接设备；

图20是螺柱附接设备的透视图；

图21是描绘螺柱附接设备的部件的横截面；

图22描绘从上方所观察的螺柱附接设备的部件；

图23描绘从上方所观察的螺柱附接设备，但其中分隔区已被移除；

图24描绘呈部分拆卸状态的螺柱附接设备的部件；

图25是根据本发明的实施例的形成螺柱移除设备的部件的螺柱移除器的透视图；

图26是更详细地螺柱移除器的部件的透视图；和

图27至图29是螺柱移除器的部件的横截面图。

具体实施方式

图1示出根据本发明的实施例的包括掩模组件的光刻系统。所述光刻系统包括辐射源SO和光刻设备LA。辐射源SO被配置用以产生极紫外线(EUV)辐射束B。光刻设备LA包括照射系统IL、被配置用以支撑包括图案形成装置MA(例如，掩模)的掩模组件15的支撑结构MT、投影系统PS和被配置用以支撑衬底W的衬底台WT。照射系统IL被配置用以在辐射束B入射于图案形成装置MA上之前调节所述辐射束B。投影系统被配置用以将辐射束B(当前通过所述图案形成装置MA而被图案化)投影至衬底W上。衬底W可包括之前形成的图案。在此种情况下，光刻设备将图案化的辐射束B与之前形成于衬底W上的图案对准。

辐射源SO、照射系统IL和投影系统PS可全部被构造且被布置用以使得它们可与外部环境隔离。处于低于大气压力的压力下的气体(例如，氢气)可被提供于辐射源SO中。可在照射系统IL和/或投影系统PS中提供真空。在充分低于大气压力的压力下的少量气体(例如，氢气)可被提供于照射系统IL和/或投影系统PS中。

图1中所示出的辐射源SO属于可被称作激光产生等离子体(LPP)源的类型。可例如为CO₂激光器的激光器1被布置用以经由激光束2而将能量积聚到从燃料发射器3提供的燃料(诸如锡(Sn))中。尽管在以下描述中提及锡，但可使用任何合适的燃料。燃料可例如呈液态形式，且可例如是金属或合金。燃料发射器3可包括喷嘴，所述喷嘴被配置用以沿着朝向等离子体形成区4的轨迹而导向例如呈液滴的形式的锡。激光束2在等离子体形成区4处入射于锡上。激光能量至锡中的积聚会在等离子体形成区4处产生等离子体7。在等离子体的离子的去激发和再结合期间，从等离子体7发射包括EUV辐射的辐射。

EUV辐射由近正入射辐射收集器5(有时更通常被称作正入射辐射收集器)收集和聚焦。收集器5可具有被布置用以反射EUV辐射(例如，具有诸如13.5nm的所需波长的EVU辐射)的多层结构。收集器5可具有椭圆形构造，其具有两个椭圆焦点。第一焦点可处于等离子体形成区4处，且第二焦点可处于中间焦点6处，如下文所论述。

在激光产生的等离子体(LPP)源的其他实施例中，收集器5可以是所谓的掠入射收集器，其被配置用以以掠入射角接收EUV辐射且将EUV辐射聚焦在中间焦点处。例如，掠入射收集器可以是巢式收集器，其包括多个掠入射反射器。掠入射反射器可在光轴O周围设置成轴向对称。

辐射源SO可包括一个或更多个污染物截留器(未示出)。例如，污染物截留器可位于等离子体形成区4与辐射收集器5之间。污染物截留器可例如为旋转翼片截留器或翼片阱，或可以是任何其他合适形式的污染物截留器。

激光器1可与辐射源SO分离。在此种状况下，激光束2可借助于包括例如合适的定向反射镜和/或束扩展器和/或其他光学装置的束传递系统(未示出)从激光器1传递至辐射源SO。激光器1和辐射源SO可一起被认为是辐射系统。

由收集器5反射的辐射形成辐射束B。辐射束B被聚焦在点6处以形成充当用于照射系统IL的虚拟辐射源的等离子体形成区4的图像。辐射束B被聚焦的点6可被称作中间焦点。辐射源SO被布置用以使得中间焦点6位于辐射源的围封结构9中的开口8处或附近。

辐射束B从辐射源SO传递至照射系统IL内，所述照射系统IL被配置用以调节辐射束。照射系统IL可包括琢面场反射镜器件10和琢面光瞳反射镜器件11。琢面场反射镜器件10和琢面光瞳反射镜器件11一起向辐射束B提供所需截面形状和所需角分布。辐射束B从照射系统IL传递且入射于由支撑结构MT保持的掩模组件15上。掩模组件15包括图案形成装置MA和表膜19，表膜由表膜框架17保持在适当的位置。图案形成装置MA反射所述辐射束B且对辐射束B实现图案形成或图案化。除了琢面场反射镜器件10和琢面光瞳反射镜器件11以外、或代替琢面场反射镜器件10和琢面光瞳反射镜器件11，照射系统IL可包括其他反射镜或器件。

在从图案形成装置MA反射之后，图案化的辐射束B进入投影系统PS。投影系统包括多个反射镜，所述多个反射镜被配置用以将辐射束B投影至由衬底台WT保持的衬底W上。投影系统PS可将减少因子应用于辐射束，形成具有比图案形成装置MA上的对应特征更小的特征的图像。例如，可应用为4的减少因子。尽管在图1中投影系统PS具有两个反射镜，但投影系统可包括任何数目的反射镜(例如，6个反射镜)。

光刻设备可例如用于扫描模式中，其中在将赋予至辐射束的图案投影至衬底W上时，同步地扫描支撑结构(例如，掩模台)MT和衬底台WT(即，动态曝光)。可通过投影系统PS的缩小率和图像反转特性来确定衬底台WT相对于支撑结构(例如，掩模台)MT的速度和方向。入射于衬底W上的图案化的辐射束可包括辐射带。辐射带可被称作曝光狭缝。在扫描曝光期间，衬底台WT和支撑结构MT的移动可使得曝光狭缝行进经过衬底W的曝光场上。

图1中所示出的辐射源SO和/或光刻设备可包括未图示的部件。例如，光谱滤光器可设置于辐射源SO中。光谱滤光器可实质上透射EUV辐射，但实质上阻挡其他波长的辐射，诸如，红外线辐射。

在光刻系统的其他实施例中，辐射源SO可呈其他形式。例如，在替代实施例中，辐射源SO可包括一个或更多个自由电子激光器。所述一个或更多个自由电子激光器可被配置用以发射可提供至一个或更多个光刻设备的EUV辐射。

如上文简要地描述的，掩模组件15包括邻近于图案形成装置MA而设置的表膜19。表膜19设置于辐射束B的路径中使得辐射束B在其从照射系统IL接近图案形成装置MA时、以及在其由图案形成装置MA朝向投影系统PS反射时的两种情况下穿过表膜19。表膜19包括实质上对于EUV辐射而言是透明的薄膜(尽管其将吸收少量EUV辐射)。在本发明中EUV透明表膜或对于EUV辐射实质上透明的薄膜意思是表膜19透射EUV辐射的至少65％，优选地EUV辐射的至少80％，且更优选地EUV辐射的至少90％。表膜19起作用以保护图案形成装置MA受到颗粒污染。

尽管可努力维持光刻设备LA内部的清洁环境，但颗粒仍可存在于光刻设备LA内。在不存在表膜19的情况下，颗粒可沉积至图案形成装置MA上。图案形成装置MA上的颗粒可不利地影响赋予至辐射束B的图案和传递至衬底W的图案。表膜19有利地在图案形成装置MA与光刻设备LA中的环境之间提供阻挡件以便防止颗粒沉积在图案形成装置MA上。

表膜19被定位在与图案形成装置MA相隔足够远使得入射于表膜19的表面上的任何颗粒不在辐射束B的焦平面中的距离处。介于表膜19与图案形成装置MA之间的这一间隔用以减少表膜19的表面上的任何颗粒将图案赋予至辐射束B的范围/程度。应了解，在颗粒存在于辐射束B中但不在辐射束B的焦平面中(即，不在图案形成装置MA的表面处)的位置处的情况下，于是所述颗粒的任何图像将不在衬底W的表面处聚焦。在没有其它考虑的情况下，可能期望的是将表膜19定位在与图案形成装置MA远离的相当大距离处。然而，实际上，由于存在其它部件，在光刻设备LA中可用以容纳所述表膜的空间是有限的。在一些实施例中，介于表膜19与图案形成装置MA之间的间隔可例如是大约介于1mm与10mm之间，例如介于1mm与5mm之间，更优选地介于2mm与2.5mm之间。

可通过将表膜附接至表膜框架且通过将表膜框架附接至图案形成装置来制备掩模组件以供在光刻设备中使用。可与光刻设备LA远程地制备包括图案形成装置MA和由表膜框架支撑邻近于所述图案形成装置的表膜的掩模组件，且掩模组件可被输送至光刻设备LA以供在光刻设备LA中使用。例如，在图案被赋予至图案形成装置上的地点处，可将支撑表膜的表膜框架附接至图案形成装置，以便形成掩模组件。掩模组件可之后被输送至光刻设备LA所处的分离开的地点，且掩模组件可被提供至光刻设备LA以供在光刻设备LA中使用。

表膜由表膜框架保持于适当位置中的掩模组件可以是易损的，且掩模组件的输送可能有对表膜造成损坏的风险。将分离环境中的掩模组件组装至光刻设备LA可另外引起掩模组件被暴露至多种压力状况。例如，掩模组件可在周围或环境压力状况下被输送至光刻设备。可之后经由被泵吸至真空压力状况的负载锁(loadlock)将掩模组件装载至光刻设备LA中。掩模组件被暴露于的压力状况的改变可造成跨越整个表膜存在的压力差，这可造成表膜弯曲且可存在造成对表膜的损坏的风险。在实施例中，光刻系统可包括连接至表膜框架附接设备的光刻设备LA。在此状况下，可将包括掩模和表膜的掩模组件直接地从表膜框架附接设备转移至光刻设备，同时保持于受控环境(例如，真空环境)中。

图2是适合于组装掩模组件15且将所述掩模组件转移至光刻设备LA的设备的示意性图示。图2描绘可用以将表膜19附接至表膜框架17的表膜附接设备855，和可用以输送表膜组件的表膜组件输送装置881。另外，描绘了螺柱附接设备840，其可用以将螺柱51附接至图案形成装置MA。螺柱51允许表膜框架17(和表膜19)与图案形成装置MA的可释放的附接。也描绘了可用以对具有附接后的螺柱的掩模进行输送的掩模输送装置880。也描绘表膜框架附接设备857，其可用以将表膜框架17(和表膜19)附接至图案形成装置MA，由此形成掩模组件15。也示出可用以将掩模组件15从表膜框架附接设备857输送至光刻设备LA的掩模组件输送装置853。

表膜附接设备855可位于与光刻设备所处的地点不同的地点。螺柱附接设备840可位于与光刻设备LA所处的地点不同的地点。替代地，表膜附接设备855和螺柱附接设备840中的任一个或两者可定位于与光刻设备LA所处的地点相同的地点处(例如，在光刻车间中)。

表膜附接设备855容纳表膜19、表膜框架17和接合机构(未图示)。表膜19和表膜框架17可被手动地放置于表膜附接设备855中。胶备分配于表膜框架17中的接合机构容纳开口(例如，下文进一步所描述的部位)处。胶分配可以是手动的，或可以是自动化的(或部分地自动化的)。使接合机构与表膜框架17相对于彼此而对准(例如，使用光学对准设备)，且之后将接合机构插入至表膜框架中的开口中。

胶也被分配至表膜框架17上(例如，在围绕表膜框架17的间隔开的部位处)。胶分配可以是手动的，或可以是自动化的(或部分地自动化的)。使用光学对准系统以使表膜19相对于表膜框架17而对准，且之后所述表膜被挤压抵靠表膜框架。

将表膜19在室温下保持受挤压抵靠表膜框架17持续足以允许胶固化的时间段，由此将表膜固定至表膜框架。之后移除表膜19上的压力。之后使用固化炉(其可形成表膜附接设备的部件)来执行胶在升高温度下的额外固化。这也将固化将接合机构附接至表膜框架17的胶。在一替代方案中，当表膜19正被保持抵靠表膜框架时，可应用某一加热以固化所述胶(代替允许在室温下进行固化)。

尽管上文描述使用胶以将表膜19附接至表膜框架17，但可使用任何合适类型的接合(包括不使用胶)将表膜附接至表膜框架。

使用颗粒检查工具来检查所得的表膜组件16。颗粒检查工具可形成表膜附接设备855的部件(或可以是分离工具)。颗粒检查工具可被配置用以检查置于表膜19和/或表膜框架17上的颗粒。例如，颗粒检查工具可拒绝具有颗粒数目大于给定颗粒阈值的表膜组件。颗粒检查工具也可用以在表膜19与表膜框架17胶合在一起之前检查所述表膜和/或所述表膜框架。

表膜附接设备855可被配置成在检查之后将表膜组件16密封于表膜组件输送装置881(密封盒)中。如所图示，表膜组件输送装置881可被布置用以在表膜19位于表膜框架17下方的方向上保持表膜组件。因为输送装置881被密封，所以可在表膜组件16不会受到污染的情况下输送表膜组件。可在输送装置881中将表膜组件16输送至表膜框架附接设备857。

表膜附接设备855可包括清洁环境以便减小密封环境内部的颗粒的数目，由此减小可沉积于表膜19上的颗粒或所述颗粒的数目。例如，表膜附接设备855可处于表膜被制造的地点。在一些实施例中，可将表膜19直接地从表膜19被制造的表膜制造工具(未示出)提供至表膜附接设备855。例如，可将表膜19从表膜制造工具提供至表膜附接设备855，同时保持表膜19在清洁环境内部。这可减小表膜19在被提供至表膜附接设备855之前受到污染或损坏的机会。例如，清洁环境可以是密封环境(即，与外部环境完全地隔离)。可泵吸密封环境以便在密封环境中维持真空。

可控制所述表膜19至表膜框架17的附接以便在表膜19中实现理想张力。例如，可在表膜19至表膜框架17的附接期间或之后测量表膜19中的张力，且可响应于所述测量而调整所述张力以便在表膜19中实现所需张力。可例如通过将向外力施加至表膜框架17的部件以便拉伸表膜19而维持表膜19中的张力。例如，可通过使用表膜框架与表膜之间的热膨胀系数差来维持表膜19中的张力。

在实施例中，图案形成装置(可被称作掩模)MA可设置有由接合机构容纳的突起部(例如，如下文进一步所描述的)。例如，图案形成装置可容纳四个突起部(在本发明中被称作螺柱)。如图2所描绘，螺柱附接设备840可用以将螺柱51附接至图案形成装置MA。

螺柱51和图案形成装置MA可手动地放置于螺柱附接设备840中。图案形成装置MA可被保持在与螺柱附接设备840的其余部分相分离的受控环境841中。间隔可由具有螺柱51可突出穿过以便与图案形成装置MA接触的开口的分隔区842提供。受控环境841相比于螺柱附接设备840的其他部件可被保持于较高压力(例如，通过穿过所述受控环境中的出口而传递气体)。这将禁止或防止污染颗粒从螺柱附接设备的其他部分穿过进入受控环境841中。

螺柱附接设备840可包括螺柱操纵器(未图示)，诸如用于准确地放置螺柱的机器人或致动器。用于将螺柱放置至图案形成装置上的合适致动器的实例是洛伦兹(Lorentz)致动器(未图示)。螺柱附接设备840也可包括用于将给定量的胶或粘合剂自动地提供给待附接至图案形成装置MA的螺柱表面的装置(尽管涂覆胶或粘合剂也可预先手动地进行)。由来自胶或粘合剂的污染物对掩模MA的污染是由从分隔区842上方至所述分隔区下方的受控环境的空气流来防止或减小(所述空气流是由于所述分隔区上方的压力高于所述分隔区下方的压力而造成)。

螺柱附接设备840还可包括使螺柱相对于存在于掩模版上以便准确地定位螺柱的对准标识而对准的光学对准系统。例如，通常设置于图案形成装置MA上且用于图案对准的对准标识也可用于使螺柱对准。

螺柱附接设备可包括在X-Y-Z和Rz方向上可移动以用于调整图案形成装置MA的位置的支撑结构。保持所述图案形成装置MA的支撑结构的位置可以是借助于粗和精细机械调整装置或使用自动化(或半自动化)致动器或适合于对准和定位的任何其他类型的装置而可手动地调整的，所述这些装置联接至图案形成装置台。

一旦螺柱51与图案形成装置MA已对准，所述螺柱随后就被挤压抵靠图案形成装置MA。螺柱51可在室温下被保持抵靠图案形成装置MA持续足以允许胶固化的时间段，由此将螺柱固定至掩模。替代地，可加热螺柱51以便加速胶的固化。可之后使用固化炉(其可形成螺柱附接设备840的部件或一部分)来执行胶在升高温度下的额外固化。

可使用颗粒检查工具(其可形成螺柱附接设备840的部件或一部分)来检查图案形成装置MA和螺柱51。

螺柱附接设备840将图案形成装置MA和螺柱51密封于图案形成装置MA输送装置880(密封盒)中。因为掩模输送装置880被密封，所以可在掩模不会受到污染的情况下输送所述图案形成装置MA和螺柱51。可在输送装置880中将图案形成装置MA和螺柱输送至表膜框架附接设备857。

在实施例中，在密封盒中将掩模提供至螺柱附接设备840(以减小污染风险)。所述盒可保持密封直至正好在螺柱51待附接至图案形成装置MA之前，由此最小化污染物可行进至掩模的时间。

螺柱附接设备840的受控环境841可部分地由随后形成图案形成装置MA输送装置880(密封盒)的一部分的外壳提供。所述外壳可形成输送装置880的壁和顶板，其中所述输送装置的底板是由在螺柱51已被附接之后(例如，紧随此后)装配的板所形成。以此方式使用外壳可辅助防止污染物入射于图案形成装置MA上。外壳可包括舱(pod)的罩盖。螺柱附接设备840的掩模台可被配置成用以容纳外壳。

相似地，表膜附接设备855也可部分地由随后形成表膜组件输送装置881的一部分的外壳形成。

输送装置881中的表膜组件16和输送装置880中的图案形成装置MA(和螺柱51)二者都输送至表膜框架附接设备857。表膜框架附接设备857可被设置于一个或更多个光刻设备也被提供的车间中。

表膜框架附接设备857被配置成将表膜组件16的表膜框架17附接至图案形成装置MA上的螺柱51，以便形成掩模组件15。表膜框架附接设备857可包括与所述表膜框架附接设备的其余部分相分离的受控环境860。间隔可由具有操纵器延伸穿过(图2中未图示)的开口的分隔区862所提供。操纵器可由控制系统870(下文进一步所描述)操作。可使受控环境860维持为清洁环境以便减小所述受控环境内部的颗粒的数目，由此减小可沉积于掩模组件15上的颗粒的数目。受控环境860相比于表膜框架附接设备857的其他部件可被保持于较高压力(例如，通过穿过所述受控环境中的出口而传递气体)。这将禁止或防止污染颗粒从表膜框架附接设备857的其他部件传递至受控环境860中。

在掩模组件输送装置853中将由表膜框架附接设备857所组装的掩模组件15从所述表膜框架附接设备输送至光刻设备LA。掩模组件输送装置853可包括掩模组件15被输送所处的密封且清洁的环境。这减小掩模组件15在所述掩模组件的输送期间受到污染或损坏的机会。例如，可将密封且清洁的环境泵吸至真空。

表膜框架附接设备857可用来将表膜组件16安装至图案形成装置、从图案形成装置拆除、或重新安装至图案形成装置。表膜框架附接设备857可包括被布置用以对表膜框架的接合机构进行操纵的操纵器(如下文进一步所描述的)。

例如，图案形成装置MA可设置有对准标记。表膜框架17可相对于图案形成装置上的对准标记而定位。使表膜框架17相对于图案形成装置上的对准标记而对准可有利地增加表膜框架17在表膜框架17至图案形成装置MA的附接期间定位于图案形成装置MA上的准确度。

在一些实施例中，可在表膜框架附接设备857中清洁所述图案形成装置MA，例如，用以从图案形成装置MA移除颗粒。在其他实施例中，可在专用清洁工具中执行图案形成装置MA的清洁。

尽管所图示的实施例示出表膜框架附接于掩模的前面，但在其他实施例中，表膜框架可被附接于掩模的其他部分。例如，表膜框架可附接至掩模的侧部。这可例如使用在表膜框架与掩模的侧部之间提供可释放式的可接合附接的子安装台而实现。在替代布置中，表膜框架可经由掩模的侧部上的一些附接部位与掩模的前部上的一些附接部位的组合而附接至掩模。例如，附接可由可释放地将所述表膜框架与掩模接合的子安装台提供。

在一些实施例中，表膜框架附接设备857可包括颗粒检查工具(未图示)。颗粒检查工具可被配置成用以针对设置于掩模组件15上的颗粒来检查掩模组件15。例如，颗粒检查工具可拒绝其上设置的颗粒数目大于给定颗粒阈值的掩模组件15。

在一些实施例中，表膜框架附接设备857可包括检查图案形成装置上的图案的任何缺陷的图案检查系统。图案检查系统可在表膜框架17附接至图案形成装置MA之前和/或之后检测图案形成装置上的图案。

可控制表膜框架17至图案形成装置MA的附接以便在表膜19中实现所需张力。例如，可在表膜框架17至图案形成装置MA的附接期间测量表膜19中的张力，且可响应于所述测量而调整所述张力以便在表膜19中实现所需张力。

例如，所述光刻设备LA可与图1所描绘的光刻设备LA对应。光刻装置LA可包括被配置用以从掩模组件输送装置853容纳掩模组件15且将掩模组件15装载至光刻设备LA的支撑结构MT上的部件。可利用由照射系统IL提供的调节后的辐射束B来照射所述掩模组件15。掩模组件15的图案形成装置MA可在调节后的辐射束的横截面中给调节后的辐射束赋予图案以形成图案化的辐射束。图案化辐射束可由投影系统PS投影至由衬底台WT保持的衬底W上。例如，调节后的辐射束可包括EUV辐射。在调节后的辐射束包括EUV辐射的实施例中，掩模组件15的表膜19可对EUV辐射来说实质上是透明的。

在一些实施例中，可将表膜组件16附接至图案形成装置MA，以便在表膜框架附接设备857中在真空状况下形成掩模组件15。可随后由掩模组件输送装置853在真空状况下将掩模组件15输送至光刻设备LA，且可在真空状况下保持于光刻设备LA中。掩模组件15可因此贯穿其在表膜框架附接设备857中的组装和在光刻设备LA中的使用而暴露于大致相同压力状况。这有利地减小掩模组件15被暴露于的任何压力改变，且因此减小可跨越整个表膜19产生的任何压力差。

在一些实施例中，可在表膜框架附接设备857中检查图案形成装置MA和/或表膜19的颗粒和/或缺陷，同时使所述部件被保持于真空中。图案形成装置MA和/或表膜19因此在与它们在光刻设备LA中的使用期间被暴露于的压力状况相似的压力状况下被有利地检查。这由于可在表膜框架附接设备857中检测可在泵吸降低至真空状况的期间堆积至图案形成装置MA和/或表膜上的任何颗粒而是有利的。

在一些实施例中，光刻系统LS可还包括被配置成用以检查掩模组件15的一个或更多个部件的颗粒和/或缺陷的分离的检查设备(未图示)。例如，掩模组件15可在被组装于表膜框架附接设备857中之后以及在将掩模组件15输送至光刻设备LA之前输送至检查设备(例如，由掩模组件输送装置853)。

如上文所描述的本发明的实施例有利地允许在自动化(或半自动化)过程中将掩模组件15组装和传递至光刻设备LA。掩模组件15的组装和输送可全部在可例如被泵吸至真空压力状况的密封清洁环境中进行。这可减小掩模组件15的部件在掩模组件15用于光刻设备LA中之前受到污染或损坏的机会。

一般而言，表膜19的可用寿命可小于图案形成装置MA的可用寿命。可因此需要从图案形成装置MA移除表膜组件16且利用新表膜组件来替换所述表膜组件，以便允许持续使用图案形成装置MA。例如，可在表膜框架附接设备857中执行表膜组件16的替换。例如，在用于光刻装置LA中之后，可使用掩模组件输送装置853将掩模组件15传递回至表膜框架附接设备857以用于表膜框架附接设备857中的表膜组件替换。在已移除表膜组件16之后，可使图案形成装置MA经受清洁过程以便从图案形成装置MA移除污染物。可在使图案形成装置MA经受清洁过程之前从所述图案形成装置MA移除螺柱51。

将注意到，在图2所描绘的各种操作期间向下引导所述图案形成装置MA的图案化侧。维持图案形成装置MA的图案化侧朝向下是有利的，因为这减小污染颗粒入射于图案上的可能性。较大污染颗粒由于重力而趋向于向下降落，且因此将入射于掩模的相对侧上。较小污染颗粒较不受到重力影响，且可代替地受到其他输送物理学影响。本发明的实施例的设备可包括旨在处理这种情形的装置。例如，所述设备可包括离子发生器以移除静电荷且由此减小造成颗粒变得附接至表膜的静电学的风险。

图3至图5中图示根据本发明的实施例的掩模组件。在此实施例中，表膜框架和表膜相对于图案形成装置(例如，掩模)而悬置。表膜框架与图案形成装置能够可释放式地接合。可释放式接合是由包括多个子安装台(例如，2个、3个、4个或甚至更多的子安装台)的安装台提供。所述安装台允许以容易且便利的方式从图案形成装置移除表膜框架(和表膜)。表膜框架和表膜从图案形成装置的移除可以是清洁的，即，可实质上不产生污染颗粒。一旦已从图案形成装置移除表膜框架，就可使用检查工具来检查(且可在必要时被清洁的)图案形成装置。表膜框架和表膜可随后被容易地重新附接至图案形成装置，或可利用新表膜框架和表膜来加以替换。

首先参看图3，表膜19附接至表膜框架17。例如，表膜19可胶接至表膜框架17。表膜框架17设置有四个接合机构50A至50D。每个接合机构50A至50D被配置成用以容纳从图案形成装置延伸(如下文结合图4所描述的)的突起部(其可例如被称作螺柱)。两个接合机构50A、50B被设置于表膜框架17的一侧上，且两个接合机构50C、50D被设置于所述表膜框架的相对侧上。其他组合也可以是可能的，诸如四个框架侧中的每个上一个接合机构，等等。接合机构被设置于将在用于光刻设备中期间被定向于扫描方向(根据常规标注法，在图3中被指示成y方向)上的表膜框架17的侧部上。然而，接合机构也可被设置于将在用于光刻设备中期间被定向为垂直于扫描方向(根据常规标注法，在图3中被指示成x方向)的表膜框架17的侧部上。

由接合机构50A至50D所容纳的突起部可定位于图案形成装置的前表面上。另外或替代地，突起部可定位于图案形成装置的侧部上。突起部可从图案形成装置的侧部向上延伸。在这种布置中，突起部可每个具有扁平化的横向表面以便利于固定接合至图案形成装置的侧部。

图3描绘固定至表膜框架17的四个接合机构50A至50D。两个子安装台50A、50D被配置成允许在y方向上的移动(即，提供在y方向上的柔性或顺应性)。两个子安装台50B、50C被配置成允许在x方向上的移动(即，提供在x方向上的柔性或顺应性)。然而，全部四个子安装台50A至50D被配置成允许经由在y方向上的移动而在所述子安装台与突起部(未描绘)之间实现接合，且因此，如可看出，全部四个子安装台包括在y方向上延伸的接合臂80。这种配置的可能缺点是：在y方向扫描移动期间的突然减速可造成接合机构50A至50D滑动脱离与突起部的附接(由于表膜框架17的惯性)。这可例如在掩模支撑结构MT(参见图1)的“碰撞(crash)”的情况下发生。在替代布置中，全部四个子安装台可包括在x方向(即，非扫描方向)上延伸的接合臂。使接合臂全部在非扫描方向上延伸是有利的，因为这避免突然y方向减速造成接合机构的断开接合的可能性。一般而言，每个子安装台的接合臂可全部在实质上相同方向上延伸。

为了允许在x方向上的移动/柔性，对两个子安装台50B、50C的锁定构件加以支撑的臂62在y方向上延伸。这些臂在x方向上是弹性柔性的，且因此提供在x方向上的移动/柔性。因此，两个子安装台50B、50C的接合臂80大致平行于所述子安装台的臂62而延伸。为了允许在y方向上的移动/柔性，对其他两个子安装台50A、50D的锁定构件加以支撑的臂62在x方向上延伸。这些臂在y方向上是弹性柔性的，且因此提供在y方向上的移动/柔性。因此，两个子安装台50A、50D的接合臂80大致垂直于所述子安装台的臂62而延伸。当发生温度改变时，由子安装台50A至50D所提供的移动/柔性在需要时允许表膜框架17相对于图案形成装置MA的挠曲。这因为其避免潜在地损坏表膜框架17中出现的热应力而是有利的。

子安装台50A至50D被描绘成具有凸片56，凸片56具有与图5所描绘的凸片56不同的配置。然而，所述凸片提供促成子安装台50A至50D与表膜框架17之间的接合的相同功能。可使用具有任何合适配置的凸片。

图4描绘一个接合机构50B以及从图案形成装置MA突出的突起部51的横截面。可被称作螺柱的突起部51可例如被胶粘接至图案形成装置MA，或可通过其他接合方式(光学接触、磁性或范德华(vanderWaals)力等等)而被附接。接合机构50B和突起部51一起形成子安装台10。突起部51包括定位于从基部57延伸的轴55上的远端头部53。基部57例如通过使用胶而固定至图案形成装置MA。轴55和远端头部53可以是圆柱形，或他们可具有任何其他合适的横截面形状。

子安装台10相对于图案形成装置MA悬置表膜框架17，使得在所述表膜框架与所述图案形成装置之间存在间隙G(其可被认为是狭缝)。可由介于接合机构50B的顶盖66与突起部51的远端头部53之间的接合(或由某一其他移动限制部件)而维持间隙G。间隙G可足够宽以允许外部环境与介于表膜与图案形成装置之间的空间之间的压力均衡。间隙G也可足够窄，使得其提供污染颗粒从外部环境至介于表膜与图案形成装置之间的空间的潜在/可能路线的所希望的限制。例如，间隙G可以是至少100微米，以便允许外部环境与介于表膜与图案形成装置之间的空间之间的压力均衡。例如，间隙G可小于500微米，更优选地小于300微米。例如，间隙G可介于200微米与300微米之间。

图5更详细地描绘图4的子安装台10。图5中未描绘附接至接合机构50B的表膜框架。相似地，图5中未描绘从其突起部51突出的图案形成装置。图5A示出从下方所观察的子安装台10，且图5B以透视图示出从下方所看到的子安装台。

接合机构50B包括被容纳于表膜框架(参见图3)中的开口中的矩形外壁60。一对臂62跨越由外壁60限定的空间在y方向上延伸。连接构件63在臂62的远侧之间延伸。臂62是弹性构件的实例。可使用其他弹性构件。臂62和连接构件63一起形成大致U形支撑件。锁定构件70被连接至大致U形支撑件的远端。锁定构件70与突起部51(其可被称作螺柱)接合，由此将表膜框架固定至图案形成装置。

锁定构件70包括设置有接合凸片81的一对接合臂80，且还包括顶盖66。在图5B中可最佳地看出，当锁定构件70与突起部51接合时，接合凸片81挤压抵靠所述突起部的远端头部53的下表面，且顶盖66挤压抵靠远端头部53的外表面。接合凸片81和顶盖66抵靠突起部51的远端头部53的这种挤压将接合机构50B牢固固定至所述突起部以提供固定的子安装台10。这在表膜框架与图案形成装置之间提供固定连接。

顶盖66和接合臂80从中间臂82a、82b延伸。中间臂82a、82b从连接构件63延伸，且返回跨越大致由外壁60限定的空间在y方向上延伸。连接构件83延伸于中间臂82a、82b之间。中间臂82a、82b和连接构件83一起形成大致U形支撑件。

因此，由臂62和连接构件63所形成的第一大致U形支撑件跨越大致由外壁60限定的空间在y方向上延伸，且由支撑臂82a、82b和连接构件83所形成的第二U形支撑件返回跨越所述空间而延伸。

形成第一大致U形支撑件的臂62具有在x方向上的一定柔性，且这允许锁定构件70在x方向上的某一移动。因此，子安装台10在所述子安装台的部位处允许表膜框架相对于图案形成装置在x方向上的某一移动。臂62是由弹性材料形成，且因此趋向于返回至它们的初始方向。子安装台10可被认为是运动学子安装台。臂62在z方向上相比于在x方向上显著地较厚(如最佳在图5B中所见)，且因此，与所述臂在x方向上的弯曲相比较，所述臂在z方向上的显著较少弯曲是可能的。由于臂在y方向上延伸，则它们不会提供在y方向上的显著移动。臂62可因此防止或实质上防止表膜框架在y和z方向上的局部移动，同时允许在x方向上的某一移动。

顶盖66从第一支撑臂82a延伸，且接合臂80从第二支撑臂82b延伸。第一支撑臂82a相比于臂62而言在x方向上显著地较厚，且因此允许相对于臂62在x方向上的显著移动。第二支撑臂82b在x方向上具有与臂62的厚度相似的厚度，但延伸于中间臂82a、82b之间的连接构件83阻止或抑制第二支撑臂82b在x方向上的移动，这是因为这种移动仅能够在第一支撑臂82a也移动的情况下发生。

接合臂80在顶盖66的总体方向上从第二支撑臂82b延伸。接合臂80的近端沿着第二支撑臂82b的大部分延伸(由此实质上防止接合臂80在大致平行于图案形成装置的图案化表面的方向上挠曲)。接合臂80随着它们在顶盖66的总体方向上延伸而渐缩。接合凸片81从接合臂80的远端向内延伸以与突起部51的远端头部53的下表面接合。块体54被设置于接合凸片81上方，且提供致动器容纳表面，如下文进一步所解释。接合臂80在z方向上是弹性地可变形的。接合臂80可以是足够薄的，使得它们在z方向上弯曲。另外或替代地，可由凹槽59促成接合臂80在z方向上的某一弯曲，凹槽59在y方向上在所述接合臂80连接至支撑臂82b的点处延伸。

凸片56从外壁60向外延伸。所述凸片可用以将接合机构50B固定至表膜框架。图3中描绘此情形，但其凸片具有不同配置。

图6以截面示意性地描绘可用以将表膜19附接至表膜框架17的表膜附接设备855。表膜附接设备855可与图2所描绘的表膜附接设备对应。表膜框架17是由支撑结构101支撑。支撑结构101包括凸起部分102，表膜框架17置于凸起部分102上。表膜19由从框架(未描绘)向下突出的支撑臂103保持。成像传感器105(例如，摄相机)被设置于支撑结构101下方，且透视穿过设置于所述支撑结构的上表面中的窗107。对准标记109被设置于所述窗上。对准标记109允许成像传感器105确定框架17和表膜19二者的位置(如下文结合图7所讨论)。致动器111被连接至支撑结构101，且可操作以相对于基部(未描绘)来移动所述支撑结构101。致动器111被配置成在x、y和z方向上移动所述支撑结构101(在本文中，x和y可指示两个正交水平方向，且z可指示竖直方向)。致动器也被配置成使支撑结构101绕z轴旋转。致动器111允许移动所述支撑结构101，以便在表膜19附接至框架17之前相对于所述表膜来定位所述框架。

图7更详细地示意性地描绘图6的表膜附接设备的部件，包括表膜19和表膜框架17。可在图7中看到成像传感器105、窗107、表膜框架17和表膜19的相对位置。表膜框架17部分地突出于窗107上方，且因此，框架17的边缘对于成像传感器105是可见的。这允许相对于设置在窗107上的对准标记109来准确地确定框架17的位置。表膜19具有围绕其外周界的边界20，其显著地比表膜19的主部分更厚。这种边界20被附接至表膜框架17。另外，这种边界20是由支撑臂103(图6所描绘)处置。如从图7可看出，边界20突出超越框架17的内边缘，且因此，所述边界的内边缘对于成像传感器105是可见的。这允许相对于窗107中的对准标记109来准确地定位所述边界20(且因此，一般而言，准确地定位所述表膜19)。这继而允许相对于框架17来准确地定位所述边界20(和表膜)(因为所述框架被相对于窗107中的对准标记109准确地定位)。

成像传感器105和窗107可被定位于支撑结构101中的拐角位置(即，框架17的拐角在使用中被定位的位置)处。成像传感器105可定位于相对拐角位置处。通过看到框架17的相对拐角，成像传感器105允许准确地确定所述框架的位置。

图8是可用以输送所述表膜19的运输系统113的透视图。具有相同配置的运输系统也可用以输送所述表膜框架17。

运输系统113的支撑臂103保持所述表膜19的边界20。所述支撑臂由连接器臂115连接至运输系统框架117。运输系统框架117在x和y方向上固定，但在z方向上是可移动的。真空源(未描绘)经由端口120而连接至运输系统框架的导管119。将导管119分成两个部分，且沿着运输系统框架117的每个臂而行进。每个支撑臂103包含导管(未描绘)，导管终止于设置在所述支撑臂的底部处的底脚104中的开口处。每个导管经由波纹管121而连接至运输系统框架117中的导管119。以此方式，施加于端口120处的真空经由导管119和波纹管121而连接至支撑臂103的底脚104中的开口。当施加真空时，其朝向每个支撑臂103的底脚104抽吸所述表膜19的边界20，且因此将边界20固定至所述支撑臂。每个底脚104被确定尺寸以容纳所述表膜19的边界20(例如，具有与所述边界的宽度对应的宽度)。当移除真空时，所述边界20不再被朝向支撑臂103的底脚104抽吸，但代替地被从所述支撑臂释放。

图9是运输系统113的部件的更详细的透视图，尽管连接器臂115与图8所描绘的连接器臂相比具有经修改的配置。每个连接器臂115包括一对板簧123，所述板簧从运输系统框架117延伸至支撑臂103。板簧123提供在z方向(即，竖直方向)上的柔性，但在x和y方向上很少提供或几乎不提供柔性。这是由在z方向上比在x和y方向上显著地较薄的板簧而实现。用以将真空传送至支撑臂103的波纹管121是柔性的，且因此准许所述支撑臂103相对于运输系统框架117的相对移动。

移动限制臂125从支撑臂103朝向运输系统框架117突出。可调整式末端止挡件127(例如，保持于螺纹孔中的螺栓)被装配至运输系统框架117。可调整式末端止挡件127限制所述移动限制臂125的向下移动(即，在负z方向上的移动)。可调整式末端止挡件127因此防止表膜19的超越预定位置的向下移动。

当表膜待附接至表膜框架时，在第一步骤中，使用运输系统以拾取所述框架。所述运输系统(未描绘)可与上文结合图8和图9所描述的运输系统大致相同。每个支撑臂的底部处的底脚可具有与将接触所述底脚的框架的部分对应的大小和形状。

一旦已由运输系统提升表膜框架17，就将支撑结构101定位于所述表膜框架下方。降低所述表膜框架17直至其比支撑结构101高几毫米。再次参看图6和图7，之后使用致动器111来移动支撑结构101直至其相对于表膜框架17被准确地定位(如使用成像检测器105所确定的)。之后将表膜框架17降低至支撑结构101上。之后释放将表膜框架17保持至运输系统的真空，且移动所述运输系统远离开所述表膜框架17。之后将胶设置于表膜框架17上。可将胶设置于围绕框架的间隔开的部位处(而非提供围绕所述框架而延伸呈一直线的胶)。

由如上文所描述的运输系统113提升表膜19。之后将支撑结构101(连同所述框架17一起)定位于表膜19下方。使用运输系统113来降低表膜19直至其比支撑结构101高几毫米。之后使用致动器111来移动支撑结构101直至其相对于表膜边界20被准确地定位。之后将表膜降低至表膜框架上。一旦表膜19已定位于框架17上，就从支撑臂103释放真空，且移动所述支撑臂103远离开所述表膜19。

图10从上方示意性地描绘在表膜框架17上位于适当位置的表膜19，表膜框架17继而被保持于支撑结构101上。图10示意性地描绘臂130，其将向下压力施加至表膜边界20，由此将表膜保持于框架17上的适当位置中，同时进行将表膜附接至表膜框架17的胶的固化。胶可被提供于表膜框架17上的间隔开的部位处，且臂130可被定位以将压力施加于胶已被提供的部位处。

图11以横截面描绘所述臂130之一。臂130包括连接至支撑部分134的配重部分132，支撑部分134从支撑框架136延伸。配重部分132包括设置有竖直孔口140的突出138。突出138突出至支撑部分134中的开口142中。销144从开口142的顶部延伸至底部，且穿过孔口140。因为销144和孔口140二者被定向于竖直方向(z方向)上，所以销和孔口布置允许配重部分132相对于臂130的支撑部分134的某一垂直(或大致垂直)移动。配重部分132相对于支撑部分134的竖直移动的范围受到设置于开口142的口部处的末端止挡件146限制。所述末端止挡件被布置用以接触突出138且由此防止配重部分132的进一步竖直移动。

指状件148从臂130的配重部分132向下延伸。顶盖150被设置于指状件148的底端处。顶盖150可具有在尺寸上大致对应于(或大于)被设置于表膜框架17上的胶的区域的最下部表面。指状件148包括在最上端处固定至臂130的配重部分132的竖直杆152。竖直杆152向下延伸且穿过设置于配重部分132中的开口154。开口154显著地比杆152更宽，且因此准许进行所述杆的底端的某一横向移动(且因此准许指状件的端部的横向移动)。这是有利的，因为其允许顶盖150置于表膜19的边界20上而不会向所述表膜施加显著的横向力(在杆152相对于臂130的配重部分132在横向方向上没有自由地移动的情况下所发生的那样)。

在使用中，所述支撑框架136保持所述臂130远离开表膜19直至需要所述臂时为止。支撑框架136之后向下移动所述臂130直至所述臂的向下突出的指状件148接触所述表膜19的边界20。支撑框架136的向下运动在配重部分132的突出138接触所述支撑部分134的上端止挡件146之前停止。因此，配重部分132置靠于边界20上，从而经由指状件146而挤压在所述边界20上，且不由支撞框架136支撑。

由配重部分132施加于边界20上的向下压力由所述配重部分的重量确定。配重部分132可因此被构造成具有所需重量以便将所需压力施加至边界20。配重部分132可包括配重容纳凹部149，配重可放置至配重容纳凹部149中。配重部分132可包括任何合适配重容纳容器或突出。

再次参看图10，臂130用以将压力施加于围绕表膜19的边界20的所需部位处。使所述臂的配重部分132被保留在适当位置中持续足以允许进行胶在框架17与边界20之间的某一固化的时间段。之后向上移动所述支撑框架136以便从边界20移除配重臂132。可之后将框架17和表膜19(它们一起可被称作表膜组件16)转移至炉以便进一步固化胶。

图12至图15中描绘表膜框架附接设备857的实施例。表膜框架附接设备857可与图2所示出的表膜框架附接设备对应。图12以横截面示意性地示出表膜框架附接设备857。图13示出从上方所观察的表膜框架附接设备857的分隔区862。图14是表膜框架附接设备的销1090、钩形构件1091和操纵器销1092(它们可共同地被称作操纵器)的透视图。所述操纵器突出穿过分隔区862中的孔895。图15示意性地描绘销1090、钩形构件1091和操纵器销1092能够相对于彼此而移动的方式。

首先参看图12，表膜组件16包括设置有表膜框架17和表膜(未描绘)的图案形成装置MA。框架17设置有与上文结合图3至图5进一步所描述的接合机构对应的四个接合机构50。表膜框架附接设备857的销1090突出穿过分隔区862中的孔895。分隔区862可与支撑结构101对应，或定位于支撑结构101的顶部上。支撑结构101可与形成表膜附接设备(参见图6)的部分的支撑结构101相同。替代地，支撑结构101可不同于但可视情况具有与形成所述表膜附接设备的部分的支撑结构101相同的特征。窗893、894定位于支撑结构101中，且成像传感器105、106定位于所述窗下方。对准标记109设置于窗893、894上。

额外支撑结构97设置于表膜框架附接设备857的外周界处。所述额外支撑结构可具有固定位置(如所描绘)，且在本发明中被称作固定支撑结构97。中间支撑结构98设置于固定支撑结构97的顶部上。中间支撑结构98从固定支撑结构97向内延伸，如所描绘。中间支撑结构98在表膜框架17至图案形成装置MA的附接之前支撑所述表膜框架和所述图案形成装置二者。介于中间支撑结构98与其他实体之间的接触部99可例如是运动学连接件。接触部99可设置有PEEK涂层。

表膜框架附接设备857包括可用以调整表膜组件16在x、y和z方向上的位置且使所述表膜组件绕z方向旋转的致动器111。两个成像传感器105(例如，摄相机)被定位以观察表膜的部分(例如，表膜的边界的拐角)。两个其他成像传感器106(图12中描绘其中的仅一个)被定位以观察设置于图案形成装置MA(其可以是图案形成装置MA)上的对准标记。两个实体使用对准标记的对准在本领域中是公知的，且此处不进一步描述。致动器111和成像传感器105、106可共同地被称作控制系统870。

气体出口(未描绘)可被配置成将气体供应于分隔区862的表膜框架17侧部上。可在比分隔区的相对侧上的气体压力更高的压力下传递气体。

图13更详细地描绘分隔区862。可看出，分隔区862设置有四个窗。两个窗893被定位以允许成像传感器106观察设置于图案形成装置MA上的对准标记。其他两个窗894被定位以允许成像传感器105观察表膜框架17(例如，观察所述表膜框架的拐角)。例如，窗893、894可由石英形成。

分隔区862进一步设置有孔895，所述孔被定位以与表膜组件16的接合机构50的位置对应。图14中更详细地描绘所述孔895之一。孔895被确定尺寸以允许销1090和操纵器销1092突出穿过所述孔。钩形构件1091从孔的侧部突出。或者说，钩形构件1091被固定至分隔区862且从所述分隔区突出。图12、图13和图15中也描绘销1090、钩形构件1091和操纵器销1092。

在使用中，将表膜组件16装载至表膜框架附接设备857上。可在不将表膜组件16暴露于污染的情况下将其转移至表膜框架附接设备857。例如，可将表膜组件输送装置881容纳于表膜框架附接设备857内的负载锁(未描绘)中，且可从所述负载锁内的输送装置移除表膜组件16。可之后将表膜组件16转移至分隔区862上方的受控环境857。

在实施例中，可例如使用如图8所描绘的运输系统而相对于表膜框架附接设备857来手动地定位表膜组件16。之后将表膜组件16放置至中间支撑结构98上。可在不将图案形成装置MA(具有螺柱51)暴露于污染的情况下将其转移至表膜框架附接设备857。例如，可将掩模输送装置881容纳于表膜框架附接设备857内的负载锁(未描绘)中，且可从所述负载锁内的输送装置移除图案形成装置MA。可之后将图案形成装置MA转移至分隔区862上方的受控环境857。在实施例中，可例如使用大致如图8所描绘的运输系统而相对于表膜框架附接设备857来手动地定位图案形成装置MA。之后将图案形成装置放置至中间支撑结构98上。

如上文进一步所提及，分隔区862上方的受控环境859可被保持在比所述分隔区下方的压力更高的压力(例如，通过在所述分隔区上方传递气体)。从图12至图15将了解，分隔区862中的开口895相对小，因此限制污染通过所述开口而传递至受控环境中的可能性。此可能性是由受控环境859相对于进料分隔区862中的环境而言的较高压力而进一步减小。较高压力确保空气向下流动通过孔895，由此从表膜19带走污染物。

当将表膜组件16固定至图案形成装置MA时，使用成像传感器105、106以监测所述表膜组件相对于图案形成装置MA的位置。这是在表膜框架17已由销1090从中间支撑结构98提升之后发生。使用致动器111来调整所述表膜框架17的位置。这移动所述支撑结构101，且因此相对于图案形成装置MA来移动所述表膜框架17。致动器111的操作可以是手动的，或可由自动化控制器控制。支撑结构101的移动可继续直至所述表膜框架17相对于图案形成装置MA而对准。

一旦表膜框架17已相对于图案形成装置MA正确地定位，销1090、钩形构件1091和操纵器销1092就被用以将接合机构50接合至从图案形成装置MA突出的螺柱51。

图15中示意性地图示销1090、钩形构件1091和操纵器销1092能够相对于彼此而移动的方式。如上文所提及，钩形构件从支撑结构101延伸，且因此不能够相对于所述支撑结构而移动。如上文所解释，支撑结构自身101可被移动，包括在大致竖直方向(z方向)上的移动。操纵器销1092由致动器320而在大致竖直方向(z方向)上是可移动的。操纵器销1092都被固定至致动器320且因此都一起移动。支撑表膜框架17的销1090相对于操纵器销1092而言不是主动地可移动的。销1090是经由弹簧322而连接至致动器320。因此，致动器320的向上和向下移动将造成销1090的对应移动，除非所述销接触表膜框架17。如果销1090接触所述表膜框架17，则致动器320的进一步向上移动将不造成所述销的进一步向上移动，但将代替地造成弹簧322的压缩。一旦弹簧322已被压缩，致动器320的向下移动就将不造成销1090的向下移动，直至弹簧322已扩展至松弛配置。

图16和图17示意性地描绘使接合机构50与突起部51(其也可被称作螺柱)接合的方式。两个图都以横截面示出从一个侧部所观察和也从下方所观察的接合机构和突起部。首先参看图16，使用推靠所述接合臂80的远端的操纵器销(未描绘)来推动所述接合臂远离开顶盖66。从图16可看出，此时在接合机构50与突起部51之间不存在接触。

接合机构在x方向上移动直至突起部51的远端头部53定位于从接合臂80突出的接合凸片81上方。此移动是通过移动所述接合机构50被固定至的表膜框架而实现，且因此一起地移动全部接合机构。

一旦接合机构50位于适当位置，就移除正推动所述接合臂80从突起部51的远端头部53远离开的操纵器销。因为接合臂80是弹性的，则它们向下移动并且推靠所述远端头部53的内表面。接合凸片81因此挤压所述远端头部53抵靠顶盖66，由此将接合机构50固定至突起部51。图17中描绘此情形。

可需要从图案形成装置MA移除表膜组件16(例如，如果已在表膜上检测到污染)。这种移除可由表膜框架附接设备857执行。颠倒上述的顺序以便使接合机构50从突起部51断开连接。

销1090、钩形构件1091和操纵器销1092的操作可以是手动的、自动化的、或半自动化的。

例如，销1090、钩形构件1091和操纵器销1092可由钢形成。与接合机构50接触的销1090、钩形构件1091和操纵器销1092的表面可设置有诸如聚醚醚酮(PEEK)的材料或某一其他坚固材料的涂层。替代地，接触表面可以仅是销1090、钩形构件1091和操纵器销1092的抛光后的表面。

一旦表膜组件16和图案形成装置MA已连接在一起以形成掩模组件15，就可将所述掩模组件放置于掩模组件输送装置853中以供输送至光刻设备LA(参见图2)。

图18A至图18H更详细地描绘所述接合机构50可与突起部51接合的一种方式。首先参看图18A，销1090在z方向上移动直至其接触所述接合机构50的顶盖66。销1090在z方向上进一步移动以提升起所述接合机构50。由于接合机构被固定至框架17(参见图3)，这提升整个表膜组件16。销1090是四个销(参见图12和图13)之一，且所述销一起地移动。表膜组件16因此由四个销1090提升，且由上述销支撑。之后使用致动器111(参见图12)来调整表膜组件16的位置直至所述表膜组件相对于图案形成装置MA而对准。

参看图18B，两个钩形构件之后在z方向上移动直至它们的远端超出第一支撑臂82a的最上表面。钩形构件1091之后在x方向上移动直至所述钩形构件的远端位于支撑臂82a的拐角板1089上方。

如图18C所描绘，钩形构件1091之后向下移动直至它们接触所述支撑臂82a的拐角板1089。销1090和钩形构件1091一起夹持所述接合机构50以允许所述接合机构的后续操作。

参看图18D，操纵器销1092在大致竖直方向上移动且推动抵靠设置在接合臂80的远端处的块体54处。操纵器销1092向上推动接合臂80，由此扩大介于接合凸片81与顶盖66之间的空间。接合臂80在图18D中由于用以生成所述图的软件的限制而不向上弯曲。

参看图18E和图18F，接合机构50之后在x方向上移动直至突起部51的远端53定位于顶盖66上方且定位于接合凸片81下方。

如上文进一步所提及，全部接合机构50A至50D经由销1090的移动而一起地移动(参见图3)。在替代布置中，可代替移动所述表膜框架而全部移动所述图案形成装置和突起部51。一般而言，在突起部与接合机构之间的横向相对移动全都是需要的。横向移动的方向将取决于所述接合臂80的定向(且可例如是y方向，而非x方向)。

参看图18F，一旦所述顶盖66定位于远端头部53下方且所述接合凸片81位于远端头部53上方，则操纵器销1092缩回。接合臂80的弹性使得它们返回朝向它们的初始位置且因此挤压所述接合凸片81抵靠所述远端头部53。接合凸片81挤压所述远端头部53抵靠顶盖66。这将接合机构50固定至突起部51。

参看图18G，钩形构件1091向上移动，且之后在x方向上移动直至它们被定位远离所述支撑臂82a的拐角板1089。钩形构件1091之后缩回。

参看图18H，在最终步骤中，销1090缩回。参看图12，当销1090缩回时，表膜框架17不再由所述销支撑，但代替地由其与从图案形成装置MA突出的突起部51的连接件支撑。或者说，表膜框架17被附接至图案形成装置MA且由图案形成装置MA支撑。

接合机构50被固定至突起部51且因此提供用于表膜框架的固定子安装台10(参见图3)。表膜框架因此固定地附接至图案形成装置。表膜、表膜框架和图案形成装置(它们可一起被称作掩模组件)可之后放置于输送装置853中以供输送至光刻设备LA(参见图2)。

颠倒图18A至图18H所描绘的步骤以便使接合机构50从突起部51脱离且由此使表膜框架从图案形成装置脱离。

接合机构50被固定至突起部51所经由的步骤中没有步骤需要部件之间的任何滑动移动。或者说，不需要表面在滑动运动中抵靠彼此的摩擦。这是是有利的，因为这种摩擦可易于造成不期望的微粒污染。

可使用步骤的替代顺序(未描绘)以将接合机构50附接至突起部51。在此替代的顺序中，在使用销以升高表膜框架之前将钩形构件1091移动至接合凸片1089上方的位置中。一旦钩形构件1091位于适当位置，就之后向上移动所述销1090以挤压抵靠所述接合机构。接合机构因而由钩形构件1091和销1090夹持。之后通过向上移动钩形构件1091和销1090而提升所述接合机构50。针对其他接合机构执行相同动作，且因此提升表膜组件。之后使用致动器101和成像传感器105、106(参见图12)来使表膜组件相对于图案形成装置而被对准。剩余步骤可如上文参考图18A至图18H所描述的那样。

现在结合图19至图27来描述螺柱附接和螺柱移除设备的实施例。

图19以横截面示意性地描绘根据本发明的实施例的螺柱附接设备840。螺柱附接设备840与图6所描绘的表膜附接设备855和图12所描绘的表膜框架附接设备857具有相似性。螺柱附接设备840的部件可与上述其他设备的部件对应。

螺柱附接设备840包括支撑结构101和螺柱操纵器1100，该螺柱操纵器1100被配置用以垂直地移动突起部51(其也可被称作螺柱)，使得它们接触所述图案形成装置。窗107、108设置于支撑结构101中，且成像传感器105、106(例如，摄影机)被定位以朝向图案形成装置MA透视所述窗。对准标记109被设置于窗上且可用以使支撑结构101相对于图案形成装置MA而对准。提供致动器111以移动所述支撑结构101，且因此移动由支撑结构101所保持的螺柱51。致动器111能够使支撑结构在x、y和z方向上移动，且也能够使支撑结构绕z方向旋转。致动器111可以是自动化的、手动的或半自动化的(即，部分地自动化的、以及部分地手动的)。螺柱附接设备840还包括被配置用以支撑所述图案形成装置MA的额外支撑结构97。这种额外支撑结构可以是固定的，且在本发明中被称作固定式支撑结构97。

在使用中，胶被设置于每个螺柱51的基部上，同时由支撑结构保持所述螺柱。之后将图案形成装置MA放置至固定式支撑结构97上，使得将图案形成装置MA定位成比支撑结构101高几毫米。致动器111用以移动支撑结构101直至设置于窗107、108中的对准标记109与设置于图案形成装置MA上的对准标记对准。螺柱51由螺柱操纵器1100保持，且具有相对于支撑结构101在x和y方向上的固定位置。螺柱51(实际上可以是四个螺柱)之间的间隔是固定的预定间隔。螺柱51之间的间隔与介于接合构件50A至50D之间的间隔对应，该接合构件50A至50D被设置在将被附接至图案形成装置MA的表膜框架17(参见图3)上。

一旦支撑结构101已相对于图案形成装置MA正确地定位，就向上且较靠近于所述图案形成装置来移动所述支撑结构。之后使用螺柱操纵器1100以将螺柱51从所述螺柱的基部不与图案形成装置MA接触的位置向上移动至所述螺柱的基部挤压抵靠所述图案形成装置的位置。之后使用加热器以加热螺柱51，以便促进在螺柱51的基部与图案形成装置MA之间的界面处的胶的固化。

图20以部分透明的透视图描绘螺柱附接设备840。描绘分隔区842，其使致动器(不可见的)与图案形成装置被设置于其中的受控环境分离。致动器被设置在定位于分隔区842下方的盒843中。形成用于使螺柱与所述图案形成装置对准的对准测量系统844的一部分的成像传感器105、106也被设置于分隔区842下方(如作为所述对准系统的其他部分)。

图20中也描绘可用以升高和降低掩模支撑件的提升单元845，掩模支撑件用以将图案形成装置放至固定式支撑件97(参见图19)上。掩模支撑件可包括外壳879，所述外壳879将形成掩模输送装置880(上文结合图2进一步所描述)的部分。图案形成装置(不可见的)和外壳879连同提升单元845一起可被设置于受控环境(其壁未被描绘)中。受控环境可被保持于比分隔区842的相对侧上的压力更高的压力，使得禁止污染物流动通过所述分隔区中的开口和流动至受控环境中。受控环境可设置有来自入口的气体流，且可包括气体可流动所通过的出口(所述流动受到足够约束，使得受控环境中的压力可被保持于比分隔区842下方的压力更高的水平)。这种气体流可有助于从受控环境移除污染物。收集污染物的过滤器可被设置于气体入口处以防止或抑制污染物进入受控环境。

掩模接触所述螺柱附接设备840的点可设置有PEEK或某一其他坚固材料的涂层。相似地，掩模接触所述外壳879的点可设置有PEEK或某一其他坚固材料的涂层。

图21中更详细地描绘螺柱附接设备840的一部分。描绘所述螺柱操纵器1100连同螺柱51和图案形成装置MA(例如，掩模)。也描绘分隔区842，所述分隔区842使图案形成装置被设置于其中的环境与螺柱操纵器1100被设置于其中的环境分离。螺柱操纵器1100包括杯状件1102，所述杯状件1102被确定尺寸以容纳螺柱51(螺柱51也可被称作突起部)，使得螺柱51的底面从所述杯状件朝向外。例如，杯状件1102可由PEEK或某一其他坚固材料形成。杯状件1102被保持于操纵器头部1104中，操纵器头部1104继而被支撑于操纵器主体1106上。弹簧1108被容纳抵靠设置于所述操纵器主体上的凸缘1109，且向上偏压所述操纵器头部1104和螺柱51。使用图19所描绘的成像传感器105、106和致动器111来实现螺柱51相对于掩模的对准。当致动器已使螺柱51对准图案形成装置MA时，向上移动所述螺柱操纵器1100以挤压所述螺柱抵靠所述图案形成装置。螺柱操纵器1100是由同时向上移动全部四个螺柱操纵器的致动器(未描绘)向上移动。当螺柱操纵器1100挤压所述螺柱51抵靠所述图案形成装置MA时，弹簧1108被压缩。弹簧1108部分地确定螺柱51被挤压抵靠图案形成装置MA所利用的力。较弱弹簧将减小螺柱被挤压抵靠图案形成装置所利用的力，而较强弹簧将增加螺柱被挤压抵靠图案形成装置所利用的力。因此，螺柱51被挤压抵靠图案形成装置MA所利用的力是经由对于具有所需强度的弹簧1108的选择而是(至少部分地)可选择的。例如，弹簧1108可被预载有向上推动螺柱操纵器1100和螺柱51的力。例如，预载的力可小于5牛顿。

螺柱操纵器1100推动所述螺柱51抵靠图案形成装置，且由此允许所述螺柱被固定至掩模。如上文所提及，螺柱可在其基部上设置有胶或粘合剂，且螺柱操纵器1100可挤压所述螺柱51抵靠图案形成装置MA直至胶或粘合剂已硬化。一旦已进行此情形，螺柱操纵器1100可被移动远离所述图案形成装置MA(和/或所述图案形成装置可被移动远离螺柱操纵器1100)。

在实施例中，螺柱操纵器1100可包括被配置用以加热所述螺柱51的加热器1111。加热器1111可呈电加热器(例如，电阻性电加热器)的形式。当螺柱51正被保持抵靠图案形成装置MA时，加热器1111用以加热所述螺柱。由加热器1111所提供的螺柱51的局部化加热是有利的，这是因为其加速所述胶或粘合剂的固化。这增加螺柱附接设备840的生产率。通过加热所述螺柱51而提供的固化可以是预固化或可以是完全固化。在使用预固化的情况下，可将图案形成装置MA和螺柱51转移至炉以供固化。在加热所述螺柱51会提供完全固化的情况下，无需将掩模和螺柱转移至炉。这是有利的，因为炉可以是污染颗粒的源。

在实施例中，螺柱操纵器1100可包括可操作以挤压螺柱51抵靠图案形成装置MA的致动器(未描绘)(除了弹簧1108以外，或代替弹簧1108)。另外，一旦螺柱51已被固定至图案形成装置MA，所述致动器就可移动杯状件1102远离所述螺柱。

密封件1112围绕操纵器头部1104的外周界而延伸。在图22中最清楚地看到密封件1112，图22描绘如从上方所观察的螺柱操纵器1100的一部分(透视所述图案形成装置MA，其在图22中出于易于图示的目的而是大致透明的)。如从图22可看出，在所图示实施例中，密封件1112的形状是环形。然而，所述密封件可具有任何合适形状。

再次参看图21，密封件1112是由弹性材料(例如，PEEK)形成，且突出于分隔区842上方和螺柱51上方。因此，当螺柱被挤压抵靠图案形成装置MA时，密封件1112被向下推动。密封件1112的弹性性质意思是所述密封件挤压抵靠图案形成装置且由此形成抵靠所述图案形成装置的密封。这将图案形成装置MA的部分密封在密封件1112的周界内，且将其与在所述密封件的周界外部的图案形成装置MA的部分相隔离。

气体提取通道1114被设置于操纵器头部1104中，所述气体提取通道延伸远离开所述操纵器头部的外面。额外气体提取路线是由围绕操纵器头部1104的环形空间1115提供。气体传递通道1118被设置于密封件1112的一侧上，且允许将气体传递至定位于所述密封件内的图案形成装置MA的区域。图21中由箭头示意性地描绘此情形。气体经由操纵器头部中的气体提取通道1114和围绕操纵器头部的环形空间1115而被提取。气体提取通道1114围绕操纵器头部1104而分布，如在图22中最佳地看出。提供将使污染物输送出气体提取通道1114和环形空间1115且由此防止那些污染物贴附至图案形成装置MA的表面的气体流。例如，污染物可以是从设置于螺柱51上的胶或来自所述胶的化学蒸汽得到的微粒。当加热所述胶以供固化时，可尤其产生化学蒸汽。使用气体辉光来移除污染物是有利的，这是因为，如在另外地所解释的，图案形成装置MA的表面上的微粒或其他污染物可在由光刻设备投影至衬底上的图案中造成误差。例如，气体可以是空气。

在实施例中，密封件1112可以是完整密封件，即，没有气体流动经过所述密封件。在替代实施例中，密封件1112可形成抵靠图案形成装置MA的不完整密封件，使得一些气体能够在所述密封件与掩模之间流动。这可被称作泄露式密封件(即，密封件1112是泄露式密封件)。例如，密封件1112可不接触图案形成装置，使得在所述密封件与图案形成装置之间存在间隙。密封件内的气体的压力可低于密封件外部的气体的压力，且因此，气体将从密封件外部流动至密封件内部且之后通过气体提取通道1114和环形空间1115而流出。这是有利的，因为污染颗粒将由气体流从在密封件1112外部的图案形成装置MA的区域输送、传递通过所述密封件、且流出所述提取通道1114。泄露式密封件配置的另外优势在于，避免在密封件1112与图案形成装置MA之间的接触会防止污染物从所述密封件转移至所述图案形成装置。

图23是设置于支撑结构101上的四个螺柱51的透视图，每个螺柱由密封件1112环绕。每个密封件1112被保持于固定至支撑结构101的密封件支撑板1113上。图23中也示出成像传感器106(参见图19)可观察图案形成装置MA(未描绘)所通过的两个窗108。

每个密封件支撑板1113与关联的密封件1112一起是从支撑结构101可移除的(例如，以允许替换磨损的密封件)。图24描绘从支撑结构101移除的一个密封件支撑板1113和密封件1112。如可看出，定位销1120从支撑结构101向上延伸。这些定位销1120被容纳于密封件支撑板1113中的孔(其中的一个在图21中是可见的)中，且由此确保所述密封件支撑板被正确地定位于支撑结构101上。

固持臂1122从块体1124延伸。固持臂1122被定位于密封件支撑板1113上方，且挤压抵靠从支撑结构101向上延伸的销1126。固持臂1122被弹性地偏压抵靠所述销1126且挤压抵靠所述销1126，由此将密封件支撑板1113固定地保持于支撑结构上的适当位置。可通过将相对的臂朝向彼此移动而手动地使弹性固持臂1122与销1126断开接合，由此允许移除密封件支撑板1113(和密封件1112)。

仅螺柱51(以及在不使用泄露式密封件的情况下是密封件1112)接触所述图案形成装置。螺柱操纵器1100柔性地连接至支撑结构101以允许所述螺柱操纵器当螺柱51被挤压至图案形成装置MA上时相对于所述支撑结构而移动。这种柔性连接经由弹簧1108而提供。因此，当螺柱51被挤压抵靠图案形成装置MA时，螺柱操纵器1100可相对于支撑结构101移动。这是有利的，因为其避免将显著横向力施加到介于螺柱51与图案形成装置MA之间的界面处，由此避免例如所述螺柱在所述图案形成装置的表面上方的滑动移动(这种移动将会产生污染且是不期望的)。

运动学连接件被设置于螺柱操纵器1100与支撑结构101之间。运动连接件使得螺柱操纵器1100能够当螺柱51不接触图案形成装置时挤压抵靠支撑结构，但当螺柱51接触图案形成装置时允许所述螺柱操纵器容易地从支撑结构101断开连接。再次参看图24，具有圆形头部的三个突起部1130从螺柱操纵器1100突出且围绕所述螺柱操纵器而分布。三个突起部1130中的一个是在图21中可见的。突起部1130与密封件支撑板1113的倾斜的内表面1132接合。倾斜的内表面1132是大致扁平的，而如上文所提及，突起部1130具有圆形上表面。这种表面组合是有利的，因为其在突起部1130与倾斜的内表面1132之间提供极小接触面积。其他两个突起部以相同方式接触所述密封件支撑板的倾斜的内表面。

在使用中，当螺柱51不接触图案形成装置MA时，弹簧1108挤压所述突起部1130抵靠所述密封件支撑板1113的倾斜的内表面1132。这在螺柱操纵器1100与支撑结构101之间提供连接件。所述连接件可以是运动学连接件。当螺柱51被挤压抵靠图案形成装置MA时，弹簧1108被压缩，由此移动所述突起部1130远离开所述密封件支撑结构101的倾斜的内表面1132。例如，如果在图案形成装置MA与支撑结构101之间存在相对倾斜，则三个突起部1130可不全部在完全相同时间与倾斜的内表面1132分离。代替地，一个将分离，之后是第二个，且接着是第三个。运动学连接件允许进行这种一串分离，且允许螺柱51被保持实质上垂直于图案形成装置MA。或者说，运动学连接件避免强制所述螺柱51具有由支撑结构101确定的定向，且代替地允许所述螺柱具有由图案形成装置MA确定的定向。

可能需要从图案形成装置MA移除螺柱51。可使用螺柱移除设备来执行这种移除。所述螺柱移除设备可具有与螺柱附接设备840(例如，如图19示意性地所描绘)大致对应的形式。例如，螺柱移除设备可包括使图案形成装置MA在螺柱移除期间被保持于其中的受控环境与螺柱移除器和其他部件分离的分隔区。所述受控环境相比于所述设备的其他部分可具有较高压力。例如，螺柱移除工具可包括成与图19所示出的配置对应的配置的螺柱移除器。由于螺柱移除器与螺柱51的相对粗对准足以允许实现移除，则在实施例中，成像传感器105、106和窗107、108可不存在于螺柱移除设备中。可使用手动、半自动化或自动化系统来执行加热器和致动器与螺柱的对准。

图25是根据本发明的实施例的形成螺柱移除设备的部分的螺柱移除器1149的透视图。螺柱移除器1149包括连接至支撑板1155的螺柱夹持器1154。配重1157从螺柱夹持器1154向下延伸。一对板簧1159从支撑板1155向下延伸，且被配置成允许螺柱夹持器1154在x方向上的移动(所述板簧允许在大致竖直方向上的移动)。

致动器1161连接至从支撑板1155向下突出的凸缘1163。所述致动器包括臂1164，该臂1164穿过板簧1159之一的开口，且连接抵靠与配重1157相接触的钩形构件1165。提供介于钩形构件1165与配重1157之间的脊和凹槽连接件1175，其允许所述配重相对于所述钩形构件竖直地移动，但防止所述钩形构件和所述配重在x和y方向上的相对移动。因此，使用致动器1161来使臂1163在x方向上移动将造成钩形构件1165和配重1157在x方向上移动。

第二对板簧1167(其中的仅一个是在图25中可见的)允许螺柱夹持器1154在y方向上的移动。未提供y方向致动器。代替地，随着螺柱移动至螺柱夹持器1154中，可发生在y方向上的某一被动移动(如下文所解释)。

致动器1169被定位在经由脊和凹槽连接件1175而连接至配重1157的钩形构件1165下方(所述配重继而连接至螺柱夹持器1154)。致动器1169可操作以使螺柱夹持器1154在竖直方向(在此状况下被表示成z方向)上移动。

因此，由螺柱移除器1149提供螺柱夹持器1154在x、y和z方向上的移动。

例如，配重1157可以是至少1公斤。例如，所述配重可以是大约3公斤。

容器1173被设置成邻近于z方向致动器1169，且被配置用以容纳已从图案形成装置移除的螺柱。

图26和图27更详细地以透视图和横截面描绘螺柱移除器1149的部分。图27也包括螺柱51和图案形成装置MA(例如，掩模)。螺柱夹持器1154包括一对对置型的凸缘1156，其朝向彼此而延伸以建立比螺柱51的颈部更宽但比所述螺柱的远端头部853更窄的间隙。在对置型的凸缘1156下方，设置比螺柱51的远端头部更宽且可因此容纳所述螺柱的远端头部的凹部1158。螺柱51的远端头部在图26和图27中不是清楚地可见的，这是因为所述头部延伸进和延伸出所述图的平面。凹部1158和对置型的凸缘1156在螺柱夹持器1154的一个端部处向外张开。

螺柱移除器1149包括定位于螺柱夹持器1154下方的加热器1188。所述加热器是电加热器(例如，电阻性加热器)，且被配置用以将热局部地施加至螺柱夹持器1154。螺柱移除器还包括连接至致动器1202的推动器臂1200。推动器臂1200被配置用以在一旦从图案形成装置MA移除螺柱51的情况下就将螺柱51推动至滑槽1204中。滑槽1204通向容器1173(参见图25)。

电线1206从加热器1188向下延伸，且连接至配重1157(参见图25)。

在使用中，致动器螺柱夹持器1154最初位于在螺柱的左侧且不突出于所述设备的分隔区1142上方的位置。接着使用竖直致动器1169(参见图25)将螺柱夹持器1154移动至图27所示出的位置。螺柱夹持器因此邻近于、但不接触图案形成装置MA。x方向致动器1161(参见图25)接着使螺柱夹持器1154在x方向上移动，使得螺柱51的远端头部853经由所述螺柱夹持器的张开端部而进入所述螺柱夹持器且接着被定位于非张开部分中(如图28所描绘)。这可涉及螺柱夹持器1154在y方向上的某一被动移动。竖直致动器1169接着向下移动，使得支撑板1155不再支撑螺柱夹持器1154，所述螺柱夹持器代替地是由配重1157向下拉动。经由螺柱夹持器1154将热从加热器1188传递至螺柱51，以便融化将所述螺柱固定至图案形成装置MA的胶或粘合剂。一旦胶或粘合剂已融化，则螺柱51变成从图案形成装置MA脱离。螺柱51由于正向下拉动的所述配重而向下移动。

推动器臂1200接着在x方向上移动，如图29所描绘。其将螺柱51从螺柱夹持器1154推动至滑槽1204中。螺柱接着降落至容器1173中。在图29中，在三个位置中示出螺柱51以便图示所述螺柱的移动。

针对图案形成装置MA上的每个螺柱51执行以上过程。可连续地(也即，接连地)移除螺柱。替代地，可全部一起移除螺柱。连续地移除所述螺柱的优势是：施加至图案形成装置的力限于用以移除一个螺柱所需要的力。这继而限制施加至对图案形成装置进行支撑的支撑件的力，由此最小化损坏上述支撑件的风险(且也最小化损坏图案形成装置的风险)。

如上文所提及，分隔区1142使螺柱移除设备的大部分与图案形成装置MA被被设置于其中的受控环境分离。然而，没有密封件围绕螺柱51所设置于其中的图案形成装置MA的区域延伸。密封件将会提供很少益处，这是因为将在已移除螺柱51之后清洁所述图案形成装置MA，且因此在螺柱移除期间将污染添加至所述图案形成装置不会造成显著问题。在需要时可提供密封件(例如，泄露式密封件)。

螺柱移除设备可还包括额外的螺柱夹持器1154和相关联的元件。例如，可提供四个螺柱夹持器和其他元件，针对图案形成装置MA上的每个螺柱提供一个。所述螺柱移除设备可在形式上与图21所描绘的螺柱附接设备840大致对应。例如，致动器可用以调整螺柱夹持器在x、y、z和Rz方向上的位置。致动器可以是自动化的、手动的或半自动化的(即，部分地自动化的和部分地手动的)。分隔区1142可使致动器与掩模被设置于其中的受控环境分离。致动器可被设置在定位于分隔区1142下方的盒中。对准测量系统也可被设置于分隔区842下方。例如，对准测量系统可包括用以确保螺柱夹持器1154在它们与螺柱51接合之前定位于正确部位处的成像系统。

掩模接触螺柱移除设备1150的点可设置有PEEK或某一其他坚固材料的涂层。相似地，掩模接触外壳的点可设置有PEEK或某一其他坚固材料的涂层。

螺柱附接设备840和螺柱移除设备1150可设置为单一设备，或可设置为分离的设备。

提升单元845和外壳仅被描绘于图20中，且被示出设置为螺柱附接设备840的部件。然而，提升单元可相似地设置为表膜框架附接和/或移除设备的部件，和/或可相似地设置为螺柱移除设备的部件。提升单元可被配置成用以升高和降低可形成掩模输送装置的部件的外壳。图案形成装置(例如，掩模)可由所述外壳保持。掩模、外壳和提升单元可被设置于受控环境中。

在一实施例中，代替使用配重以从图案形成装置MA移除螺柱51，可使用致动器以将向下力施加至所述螺柱。例如，致动器可以是洛伦兹致动器。洛伦兹致动器可被配置成仅在z方向上拉动螺柱。

在一实施例中，代替加热所述螺柱51，可加热所述图案形成装置MA(例如，使用定位于所述图案形成装置上方的加热器)。此方案的优点是：胶将趋向于在其与图案形成装置的界面处断裂，由此一旦已移除螺柱就使显著较少的残余胶留在图案形成装置上。

在实施例中，代替加热所述胶以使其融化，可经由施加合适的溶剂而溶解所述胶。

可使用清洁设备而从图案形成装置MA清洁掉胶。清洁设备可形成螺柱移除设备的部件，或可被提供为分离的设备。图案形成装置MA可被放置至密封盒中以供输送至清洁设备。清洁设备可被配置成从掩模移除污染(这可包括从掩模移除胶)。

尽管参考螺柱描述本发明的一些实施例，但在上下文允许的情况下本发明的实施例可使用任何形式的突起。

尽管在所描述的实施例中使框架17和安装台50在表膜19附接至所述框架之前彼此附接，但可以按任何合适次序来进行这些元件的附接。例如，可将框架17和表膜19固定在一起，此后可将安装台50附接至所述框架。可使用与表膜附接设备855大致对应的附接设备将安装台50附接至框架17。

在本文中，对掩模的指代可被解释为对图案形成装置的指代(掩模是图案形成装置的实例)。

在本文中，对胶的指代可被解释成大致是指粘合剂。

尽管可在本文中在光刻设备的情况下对本发明的实施例作出具体参考，但可在其他设备中使用本发明的实施例。本发明的实施例可形成掩模检查设备、量测设备或测量或处理诸如晶片(或其他衬底)或掩模(或其他图案形成装置)的物体的任何设备的一部分。这些设备通常可被称作光刻工具。这种光刻工具可使用真空状况或环境(非真空)状况。

术语“EUV辐射”可被视为包括电磁辐射，所述电磁辐射具有在4至20nm的范围内(例如在13至14nm的范围内)的波长。EUV辐射可具有小于10nm的波长，例如在4至10nm的范围内，诸如6.7nm或6.8。

尽管可在本文中具体地参考在IC制造中使用光刻设备，但应理解，本发明所描述的光刻设备可具有其他应用。可能其他应用包括制造集成光学系统、用于磁畴存储器的引导和检测图案、平板显示器、液晶显示器(LCD)、薄膜磁头，等等。

上文已描述本发明的特定实施例，但应了解，可以用与所描述的方式不同的其它方式来实践本发明。以上的描述是图示性的，而不是限制性的。因此，对本领域的技术人员显而易见的是，在不背离下面阐述的权利要求书的范围的情况下，可以对所描述的本发明进行修改。

Claims

1.一种表膜附接设备，包括：支撑结构，所述支撑结构被配置成支撑表膜框架；和表膜运输系统，所述表膜运输系统被配置成将表膜放置至所述表膜框架上，其中所述设备还包括致动器，所述致动器被配置成在将所述表膜放置于所述表膜框架上之前提供介于所述表膜框架与所述表膜之间的相对移动，

其中所述表膜附接设备还包括第一臂，所述第一臂被配置成当所述表膜已放置于所述表膜框架上时向下按压于所述表膜上，由此在所述表膜与所述表膜框架之间的界面处的胶的固化期间将所述表膜保持于所述表膜框架上，

其中多个所述第一臂位于所述支撑结构的外面并且配置成围绕所述界面按压所述表膜。

2.根据权利要求1所述的表膜附接设备，其中所述致动器被配置成相对于所述表膜来移动所述支撑结构且因此移动所述表膜框架。

3.根据权利要求1所述的表膜附接设备，其中所述表膜运输系统包括被配置用以保持所述表膜的支撑臂。

4.根据权利要求3所述的表膜附接设备，其中每个支撑臂包括导管，所述导管被配置成将真空传递至所述支撑臂的底脚。

5.根据权利要求4所述的表膜附接设备，其中所述底脚被确定尺寸以容纳所述表膜的边界的部分。

6.根据权利要求4所述的表膜附接设备，其中所述支撑臂从连接器臂向下延伸，所述连接器臂从所述表膜运输系统的框架延伸。

7.根据权利要求6所述的表膜附接设备，其中所述连接器臂包括允许所述连接器臂在大致竖直方向上移动的一个或更多个板簧。

8.根据权利要求7所述的表膜附接设备，其中可调整式末端止挡件从所述表膜运输系统框架突出，且防止所述连接器臂的向下移动超出预定位置。

9.根据权利要求6至8中任一项所述的表膜附接设备，其中波纹管延伸于所述支撑臂与所述表膜运输系统框架之间，所述波纹管将所述支撑臂中的所述导管连接至所述框架中的导管。

10.根据权利要求1-8中任一项所述的表膜附接设备，其中所述支撑结构包括被定位用以允许表膜边界边缘和/或表膜框架边缘从所述支撑结构的相对侧可见的窗。

11.根据权利要求10所述的表膜附接设备，其中成像传感器被设置于所述窗的一侧上，且被配置成透视所述窗来观察所述表膜边界边缘和/或表膜框架边缘。

12.根据权利要求10所述的表膜附接设备，其中对准标记被提供于所述窗上。

13.根据权利要求1所述的表膜附接设备，其中每个第一臂设置有配重，且其中由所述第一臂施加至所述表膜的向下压力是由所述配重的重量确定。

14.根据权利要求13所述的表膜附接设备，其中每个第一臂包括被配置成挤压抵靠所述表膜的向下延伸指状件。

15.根据权利要求14所述的表膜附接设备，其中所述指状件相对于所述第一臂的其他部分是横向地可移动的。

16.根据权利要求13至15中任一项所述的表膜附接设备，其中每个第一臂从支撑框架延伸，且包括相对于所述支撑框架在大致竖直方向上可移动的部分。

17.根据权利要求16所述的表膜附接设备，其中每个第一臂包括限制所述第一臂的所述可移动部分相对于所述第一臂的固定部分的移动的末端止挡件。

18.一种将表膜附接至表膜框架的方法，所述方法包括：

使用表膜框架运输系统以将所述表膜框架放置于支撑结构上；

将胶涂覆至所述表膜框架；

使用表膜运输系统将表膜保持于所述表膜框架上方；

对准所述表膜框架与所述表膜；和

将所述表膜放置至所述表膜框架上，

其中所述方法还包括使用第一臂而向下按压至所述表膜上，由此在所述表膜与所述表膜框架之间的界面处的胶的固化期间将所述表膜保持于所述表膜框架上，

19.根据权利要求18所述的方法，其中通过移动支撑所述表膜框架的所述支撑结构而实现所述表膜框架与所述表膜的对准。

20.根据权利要求18所述的方法，其中所述胶被设置于间隔开的部位处，且其中第一臂在每个间隔开的部位处向下按压至所述表膜上。