JP4880941B2 - 真空搬送装置およびこれを備えた荷電粒子線検査装置 - Google Patents
真空搬送装置およびこれを備えた荷電粒子線検査装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4880941B2 JP4880941B2 JP2005224270A JP2005224270A JP4880941B2 JP 4880941 B2 JP4880941 B2 JP 4880941B2 JP 2005224270 A JP2005224270 A JP 2005224270A JP 2005224270 A JP2005224270 A JP 2005224270A JP 4880941 B2 JP4880941 B2 JP 4880941B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- hand
- arm
- vacuum
- sample
- rotation
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- Length-Measuring Devices Using Wave Or Particle Radiation (AREA)
Description
ところで、このように減圧雰囲気下で半導体ウェハなどの検査処理などを行う半導体検査装置では、スループットの向上、省フットプリント化(省フットスペース化)などが要求される。
この理由は、スループット向上による半導体デバイスの量産(生産歩留りの向上)および省フットプリント化によるクリーンルームの占有面積の削減を可能にすることが、半導体デバイスのコスト低減に大きく貢献できる点があるからである。
このような構成にすることによって、真空試料室内を大気圧(常圧)に戻すことなく、半導体ウェハなどを真空試料室内に搬入・搬出することを可能にし、検査装置のスループットの向上を図っている。つまり、半導体ウェハなどを真空試料室内に搬入・搬出する毎に、真空試料室内を大気圧に戻すと、再び真空試料室内を減圧状態まで立ち上げて処理を開始するまでに多くの時間を要し、スループットの低下を招くことになる。
従来の搬送装置は、一般的に多関節アーム方式が知られており、この搬送装置は、大気側に置かれた駆動源の動力を、ベルトおよびプーリなどを用いて伝達して、それぞれ屈曲可能に直列に接続されている例えば3本のアームからなるアーム部全体を伸縮させるように構成されている。また、他の形態の搬送装置としては、いわゆる蛙の足のように屈曲可能な回転部を有するフロッグレッグ方式の搬送装置も知られている(例えば、特許文献1および特許文献2)。
また、交換作業の際に、始めに未検査ウェハを試料載置アームの一端載置部に載置させた後に、旋回アームを所定の角度だけ旋回させて、試料載置アームの空の他端載置部を真空試料室側に向ける。この状態で回転アームを旋回アームに対して回転伸張させて試料載置アームの他端載置部を真空試料室に侵入させ、他端載置部で検査済ウェハを受け取る。
その後、回転アームを旋回アームに対して重なるように回転縮退させることにより試料載置アームを真空試料室から予備排気室に一旦退避(後退)させ、予備排気室で試料載置アームを180度回転させて未検査ウェハが載置されている試料載置アームの一端載置部を真空試料室側に向ける。この状態で再度、回転アームを旋回アームに対して回転伸張させて未検査ウェハを真空試料室に搬入させる動作が必要となる。つまり、旋回アームに対する回転アームの回転伸縮と試料載置アームを単独で180度回転させる2段階の回転動作が必要となる。
このように、特許文献3に記載の搬送装置は、試料載置アームの回転半径分に相当する占有面積の予備排気室が必要であることから、予備排気時間が長引く、しかも、検査済ウェハと未検査ウェハとの交換作業に時間が掛かり、結果として、必ずしもスループットの向上に優れているとはいえないものであった。
また、旋回用、伸縮用、回転用の3つの駆動源とそれぞれの動力伝達機構が必要であることから、構造の複雑化を招く。
また、真空試料室から一方の搬送アームにより検査済ウェハを受け取った後、一方の搬送アームを予備排気室に縮退させて装置全体を180度回転させるなどの2段階の動作が必要となり、結果として、検査済ウェハと未検査ウェハとの交換作業に時間が掛かり、必ずしもスループットの向上に優れているとはいえないものであった。
すなわち、試料載置アームの回転動力は、駆動源からの動力によって直接回転させられる回転アームの回転が、中間アームの回転を経由して伝達される。
したがって、中間アームの回転を試料載置アームに伝達するために、中間アームの回転部から試料載置アームの回転部に渡り備えられる動力伝達機構(両回転部に備えられるプーリと、この両プーリに渡り巻回状に張架される無端状のベルト)に空回りなどの伝達不良が生じると、回転アームの回転が中間アームを経由して試料載置アームに正確に伝達されず、該試料載置アームの回転に、回転のズレが生じる。
たとえば、一方の試料載置アームを真空試料室に回転侵入させて検査済ウェハを受け取る方向に回転アームが回転しても、中間アームの回転に伴って試料載置アームが検査済ウェハを受け取る位置まで正確に回転侵入されないなどの伝達不良による故障を引き起こす恐れがあり、信頼性の面で必ずしも優れているとはいえないものであった。
図1は、第1の発明に係る真空搬送装置の一実施例を示す斜視図であり、図2は、同真空搬送装置の概略断面図であり、図3は、同真空搬送装置における動力伝達機構の一例を示す概略斜視図である。
真空搬送装置26は、図1に示されているように、大気M側(図2参照)に置かれる回転と上下との2つの駆動源2,10によって回転と上下動作が可能に支持されるアーム1を真空N側(図2参照)に備えている。このアーム1の両端には第1のハンド22および第2のハンド23がそれぞれ回転可能に支持されており、アーム1の回転に伴って回転して半導体ウェハ21などの試料を搬送するようにしている。アーム1の回転は、後記する動力伝達機構を介して第1のハンド22および第2のハンド23にそれぞれ伝達されて、第1のハンド22および第2のハンド23は、アーム1の回転に伴って回転するように構成されている。
回転駆動源2は、アーム1を時計方向と反時計方向に回転させる正逆回転切換えを可能とするモータなどからなり、図2に示されているように、大気M側に配置され、この大気M側において同軸上に配されるカップリング3と、大気M側と真空N側とを仕切る仕切り壁Sに貫通状に設けられるシール4と、を介して真空N側に回転動力が導入されるようにしている。
ちなみに、シール4は、主に磁性体と蒸気圧の低い油の混成となる磁性流体シールであり、以下においてシール4を磁性流体シール4とも称する場合がある。
また、回転駆動軸5は、真空N側に設けられるアーム支持部7に上下方向に移動が自由で、回転方向に拘束(係合)されて支持されている。つまり、回転駆動軸5とアーム支持部7との間にはボールスプライン構造が備えられており、このボールスプライン構造によって回転駆動軸5が上下方向に自由で、回転方向に拘束(係合)された状態でアーム支持部7に支持されて、このアーム支持部7に回転動力を伝達するようにしている。
また、アーム支持部7にはアーム支持部7の回転を動力伝達機構の後記する第1のプーリ17に伝える回転フランジ8が同軸上に備えられており、この回転フランジ8は、アーム支持部7に対して回転方向に自由で、上下方向に拘束(係合)された状態で転がり軸受9を介してアーム支持部7に支持されている。そして、この回転フランジ8に第1のプーリ17が同軸上に取り付けられている。
上下駆動源10は、アーム1が回転動作する際はアーム1を下降させ、そして、アーム1の回転に伴って回転する第1のハンド22および第2のハンド23によって半導体ウェハ21(後記する検査済ウェハ27および未検査ウェハ28)などの試料をそれぞれ受け取ったり、受け渡すなどの際には上昇と下降とを繰り返すようになっている。
上下駆動源10は、図2に示されているように、回転駆動源2と同様に大気M側に配置されるモータなどからなり、大気M側において同軸上に配されるカップリング3と、大気M側と真空N側とを仕切る仕切り壁Sに貫通状に設けられる磁性流体シール4と、を介して真空N側に回転動力を導入し、回転動力を同軸上に配されるアーム上下駆動用のボールネジ11に回転させるようにしている。
そして、ボールネジ11は、図2に示されているように、ベースプレート14に直立に取り付けられているガイドベース13に直動ガイド部材16によって上下方向に移動可能に取り付けられたプーリベース15に鍔付きナット部材11aを介して連結されて、プーリベース15を上下方向に移動させるようにしている。つまり、ボールネジ11の回転がプーリベース15を上下させる上下動作に変換されることにより、アーム1を上昇させたり、下降させるように構成されている。(後記の図8および図9参照)
図2に示されているように、アーム1は、その長さ方向中央部位をアーム支持部7に結合され、このアーム支持部7を介して回転駆動軸5に回転と上下動作が可能に支持されている。そして、このアーム1の両端には転がり軸受20を介して第1のハンド22および第2のハンド23のそれぞれの回転軸18,19が回転自由で、上下方向に拘束された状態で取り付けられている。
なお、第1のハンド22と第2のハンド23との上下の離間間隔は特に限定されるものではないが、半導体ウェハ21の厚みより大きい程度とすることが望ましい。
動力伝達機構の概略は図3に示されているように、第1のプーリ17と第2のプーリ24とにスチールなどからなるベルト25の両端を固定することによって、第1のプーリ17の回転に伴い第2のプーリ24が回転するようにしている。そして、第1のプーリ17と第2のプーリ24との回転比は1:2となるように、第1のプーリ17は第2のプーリ24の2倍のピッチ径を有している。
ベルト25は、アーム1が時計方向に回転した場合の回転を第1のハンド22および第2のハンド23に伝える正転側ベルトと、アーム1が反時計方向に回転した場合の回転を第1のハンド22および第2のハンド23に伝える逆転側ベルトと、を備え、この正転側ベルトと逆転側ベルトのそれぞれの端部を第1のプーリ17と第2のプーリ24に固定することによって、アーム1の回転に伴い第1のハンド22および第2のハンド23を回転させるようにしている。
このように構成することにより、ベルト25と第1のプーリ17および第2のプーリ24との間で滑り現象などを生じることはなく、高い位置再現性を確保することが可能となる。
つぎに、以上の基本構成からなる真空搬送装置26の動作を簡単に説明する。
大気側に置かれた回転駆動源2を回転させると、回転動力は磁性流体シール4を介して真空N側に配置されたアーム1の回転駆動軸5に伝達される。
回転駆動軸5が回転すると、それに伴いアーム支持部7が回転するため、アーム支持部7に取り付けられているアーム1がアーム支持部7の回転方向に応じて回転する。すると、アーム1両端の第1のハンド22の回転軸18および第2のハンド23の回転軸19にそれぞれに取り付けられている第2のプーリ24と、アーム支持軸7に回転フランジ8を介して取り付けられている第1のプーリ17に、端部がそれぞれ固定されて架け渡されているベルト25の一方が引っ張られ、第2のプーリ24を回転させる。このとき、ベルト25の他方側は緩み、第2のプーリ24に巻き取られることで、第1のハンド22および第2のハンド23は回転される。
これにより、第1のハンド22および第2のハンド23に載置保持されている半導体ウェハ21(検査済ウェハ27および未検査ウェハ28)などの試料を搬送することができる(後記の図4参照)。
ボールネジ11が回転すると、それに伴いガイドベース13に直動ガイド部材16を介して上下移動可能に支持されているプーリベース15がボールネジ11の回転方向に応じて上下移動することで、プーリベース15に取り付けられている第1のプーリ17、この第1のプーリ17に取り付けられている回転フランジ8、この回転フランジ8と回転方向が自由で、上下方向に拘束された状態で支持されているアーム支持部7、このアーム支持部7に取り付けられているアーム1、このアーム1の両端に回転可能に支持されている第1のハンド22および第2のハンド23も上下に移動する。
これにより、検査済ウェハ27および未検査ウェハ28などの試料を上げたり、下げたりする上下移動が可能になる(後記の図8および図9参照)。
図4は、第1の発明に係る真空搬送装置におけるウェハ交換シーケンスの一例を示す図である。
次に、本実施形態の真空搬送装置26のウェハ交換シーケンスについて、図4を参照しながら説明する。なお、ここでは半導体ウェハ21を、検査済ウェハ27と未検査ウェハ28とに表現を変えて説明する。また、後記する図7、図8および図9をも参照する。
動作を開始する前においてアーム1は、通常、回転角度約90度の状態で停止している。この状態は、アーム1上に、第1のハンド22および第2のハンド23が重なった状態になり、この状態が最も占有面積が小さくなる。この状態を図4(a)に示す。また、アーム1は下降した状態になっている(後記の図8参照)。
以後は、図4(a)の状態から前記した動作順によりシーケンスは繰り返される。
これにより、半導体検査装置などに適用した場合には後記する真空試料室34からの検査済ウェハ27の搬出、そして予備排気室38から真空試料室34への未検査ウェハ28の搬入受け渡し交換が同時に行うことができ、搬送時間を大幅に短縮することができることから、スループットの向上が図られる。
また、従来装置のように、リフトピンなどにより半導体ウェハ21を上げ下げするための昇降駆動部などを必要とせずに、第1のハンド22と第2のハンド23とを両端に回転可能に支持させたアーム1の回転と上下動作の制御のみによって、検査済ウェハ27の搬出と未検査ウェハ28の搬入とを同時に行うことができることから、塵や埃などの異物の発生よる汚染の原因を低減することができる。
図5は、アームを上下動作させる上下駆動源の他の実施形態を示す真空搬送装置の縦断面図である。
なお、斯かる実施形態においてはアーム1を上下動作させる上下駆動源の構成形態が異なるのみで、他の構成部分においては前記した実施形態と基本的に同じことから、同じ構成部分に同じ符号を用いることで重複説明は省略する。
このように、上下駆動源としてエアーシリンダ42を使用することにより、機構部品を大幅に削減でき、装置の小型化、コスト削減が期待できる。
図6は、動力伝達機構の他の実施形態を示す概略斜視図である。
なお、斯かる実施形態においては動力伝達機構の構成形態が異なるのみで、他の構成部分においては前記した実施形態と基本的に同じことから、同じ構成部分に同じ符号を用いることで重複説明は省略する。
このテンション機構は、第1のプーリ17および第2のプーリ24の間にテンションプーリ45を配している。このテンションプーリ45はプッシュアーム46の一端に回転自由に支持され、プッシュアーム46はプッシュアーム回転軸47により回転可能に支持されている。
そして、プッシュアーム46の他端には弾性部材である押しバネ48の一端が取り付けられており、この押しバネ48の他端はプッシュアームベース49に支持されて、ベルト50に張力を与えるように構成されている。ここで、押しバネ48によってベルト50に与えられる張力は、第1のハンド22および第2のハンド23の起動トルクに対して十分な値となるように設定し構成することが望ましい。
このように構成することにより、ベルト50には常に一定の張力を与えることができ、ベルト50と第1のプーリ17および第2のプーリ24での回転位置ズレなどが生じることがなくなる。
図7は、第1の発明の真空搬送装置を備えた荷電粒子線検査装置の一実施例を示す斜視図であり、図8および図9は、同検査装置の一部を示した拡大断面図である。
ここでは、荷電粒子線検査装置の代表的な実施形態として電子線を用いた半導体検査装置の例を挙げて説明する。
図7に示されているように、半導体検査装置は、未検査ウェハ28を特定の位置まで移動する試料ステージ35を内部に備える真空試料室34上に、電子光学系29を備えており、この電子光学系29からの電子線の照射によって発生する二次粒子(二次電子)を検出する二次粒子検出器37を電子光学系29の鏡体31に備えている。そして、真空試料室34とゲートバルブ39を介して開閉可能に連通させた予備排気室38が真空試料室34に隣接させて備えており、さらに、予備排気室38と真空試料室34との間で検査済ウェハ27と未検査ウェハ28との受け渡し交換を行うために、真空試料室34内に、第1の発明において説明した真空搬送装置26を備えて構成されている。
ここで、未検査ウェハ28を特定の位置まで移動する試料ステージ35のその特定位置とは、電子光学系29からの電子線の走査範囲を意味する。つまり、電子光学系29の真下に位置する真空試料室34の内部位置のことである。
電子光学系29は、図7に示されているように、真空試料室34に連通された状態で該真空試料室34上に設けられる鏡体31の最上部に電子銃30を備え、この電子銃30から照射される電子線を真空試料室34内の試料ステージ35に真空搬送装置26により搬入載置された未検査ウェハ28上に細く収束させる収束レンズ32、対物レンズ33などの電子レンズを鏡体31に備えて構成されている。
電子線は、真空試料室34内の試料ステージ35に前記した第1の発明の真空搬送装置26により搬入載置された未検査ウェハ28上に細く収束されている。
図7、図8および図9に示されているように、真空試料室34内に、前記した第1の発明に係る真空搬送装置26が配設されており、未検査ウェハ28と検査済ウェハ27の搬送受け渡し交換を行うようになっている。そして、真空試料室34に隣接させて真空搬送装置26のみを配設させるための設置スペース51が設けられている。
このように構成されていることにより、ゲートバルブ39による開口52の閉鎖によって真空試料室34を大気開放状態にすることなく、予備排気室38に備えられているゲートバルブ40を開いて予備排気室38のみを大気開放にした状態で、該予備排気室38に対する未検査ウェハ28の搬入、そして、検査済ウェハ27の搬出を可能にしている。
予備排気室38には、図7、図8および図9に示されているように、未検査ウェハ28を搬入、そして、検査済ウェハ27を搬出するための出し入れ用の開口53が開けられており、この開口53にはゲートバルブ40が取り付けられている。そして、この予備排気室38の底部には、未検査ウェハ28および検査済ウェハ27を受け渡し交換する際、真空搬送装置26との干渉を避けるために必要最低限の深さで適宜の開口形状を有する掘り込み54が設けられている。つまり、真空搬送装置26の第1のハンド22および第2のハンド23を掘り込み54に入り込ませることで、未検査ウェハ28を上昇により受け取ったり、検査済ウェハ27を下降により予備排気室38に戻すようにしている。
試料ステージ35には、図7、図8および図9に示されているように、未検査ウェハ28および検査済ウェハ27を受け渡し交換する際、真空搬送装置26との干渉を避けるために、未検査ウェハ28および検査済ウェハ27を受け渡し交換する際、各ウェハ28,27を上下に移動させるリフトピン41が設けられている。
また、図示を省略しているが、真空試料室34と予備排気室38は、排気手段によって減圧真空雰囲気に吸引排気されるようにしている。
次に、本実施形態における半導体検査装置のウェハ交換シーケンスについて、前記の図4、図8および図9を参照しながら説明する。
通常、半導体検査装置はライン検査のため、真空試料室34内には未検査ウェハ28があり電子線を用いて検査している場合が多い。この時、ゲートバルブ39は閉じられた状態であり、真空搬送装置26は図4(a)の状態にある。この間にゲートバルブ40が開けられ、外部から予備排気室38に次の未検査ウェハ28が供給される。その後、ゲートバルブ40は閉じられ予備排気室38は不図示の排気手段によって所定の減圧雰囲気まで吸引排気される。
未検査ウェハ28が試料ステージ35上に受け渡し載置され、検査済ウェハ27が予備排気室38に戻されて、真空搬送装置26が図4(i)の状態なると、ゲートバルブ39によって開口52が閉じられ、予備排気室38が大気圧になるまで窒素ガスが供給される。予備排気室38が大気圧に戻されると、ゲートバルブ40によって閉じられていた開口53が開けられ、検査済ウェハ27は搬出回収され、予備排気室38には新しい未検査ウェハ28が搬入供給される。
以後、前記した動作が繰り返されることで、検査済ウェハ27の搬出と未検査ウェハ28の搬入が行なわれるものである。
また、予備排気室38にリフトピンなどの昇降駆動部が存在しないので、汚染の原因となる塵や埃などの異物の発生を抑えたクリーンな予備排気室38を実現することができる。それによって、異物の付着などによる半導体ウェハの品質の低下をも大幅に削減することができる。
たとえば、真空試料室34内での検査時間が予備排気室38の排気時間よりも短い場合、試料ステージ35は試料交換位置で予備排気室38が排気されるまで待つ必要があり、スループットの低下を招く問題がある。この場合は、真空試料室34に複数の予備排気室38と真空搬送装置26を備えるなどが挙げられる。
また、前記した実施形態においては、半導体ウェハの搬送と受け渡し交換の例について説明したが、ウェハ以外のたとえばマスク基盤などの他の試料の場合にも適用することができる。また、試料の搬送のみならず試料保持機を搬送する搬送手段としても適用することが可能である。
2,10 駆動源
17 第1のプーリ
21 半導体ウェハ(試料)
22 第1のハンド
23 第2のハンド
24 第2のプーリ
25,50 ベルト
26 真空搬送装置
27 検査済ウェハ(試料)
28 未検査ウェハ(試料)
29 電子光学系(荷電粒子線光学系)
30 電子銃
31 鏡体
32 収束レンズ
33 対物レンズ
34 真空試料室
35 試料ステージ
36 偏向器
37 二次粒子検出器
38 予備排気室
42 エアーシリンダ(上下駆動源)
44 真空ベローズ(上下駆動源)
45 テンションプーリ
46 プッシュアーム
47 プッシュアーム回転軸
48 押しバネ(弾性部材)
49 プッシュアームベース
Claims (6)
- 回転と上下の駆動源と、
前記回転と上下の駆動源によって回転動作と上下動作が可能に支持されるアームと、
前記アームの一端に回転可能に支持されて、前記アームの回転に伴って回転しその上に試料が載置される第1のハンドと、
前記アームの他端に回転可能に支持されて、前記アームの回転に伴って回転しその上に試料が載置される第2のハンドと、
前記アームの回転を、該アームの回転駆動軸から前記第1のハンドおよび前記第2のハンドのそれぞれの回転軸に伝達することによって、前記第1のハンドと第2のハンドを、真空試料室と、当該真空試料室に試料を搬入するときに予備排気を行う予備排気室との間で移動させる動力伝達機構と、を備えてなり、
前記第1のハンドと前記第2のハンドとは互いに上下方向に離間されて支持されると共に、前記真空試料室と予備排気室との間の開口が閉鎖されているときには、前記アーム、第1のハンド、及び第2のハンドは、前記真空試料室に位置し、
前記真空試料室と予備排気室との間の開口を開閉するゲートバルブを、前記開口の開放時、前記予備排気室の空間外に配置し、
かつ、
前記予備排気室は、その下壁に前記第1のハンドとその関節部および前記第2のハンドとその関節部を内部に入り込ませる掘り込みが設けられ、
前記予備排気室の下面に載置された未検査ウェハを、前記掘り込み内に入り込んだ前記第1のハンドまたは前記第2のハンドが、上昇することにより受け取り前記真空試料室に搬送する一方、前記真空試料室から前記第1のハンドまたは前記第2のハンドで前記予備排気室内に搬送した検査済ウェハを、前記第1のハンドまたは前記第2のハンドを前記掘り込み内に下降させることで前記予備排気室の下面に載置して前記予備排気室に戻す
ことを特徴とする真空搬送装置。 - 請求項1に記載の前記アームと前記第1のハンドおよび前記アームと前記第2のハンドとの回転比は1:2の関係に設定され、
かつ、前記アームの回転駆動軸から前記第1のハンドの回転軸および前記第2のハンドの回転軸までの軸間と、前記第1のハンドの回転軸と前記第1のハンドの試料載置中心位置および前記第2のハンドの回転軸と第2のハンドの試料載置中心位置との距離が等しく設定されており、前記第1のハンドと第2のハンドとにそれぞれ載置された試料が直線的に搬送されるように構成されていることを特徴としている真空搬送装置。 - 請求項1に記載の動力伝達機構は、前記アームの回転駆動軸に備えられる第1のプーリと、前記第1のハンドと第2のハンドとの回転軸にそれぞれ備えられる第2のプーリと、ベルトと、で構成され、
前記ベルトの両端は、前記第1のプーリと前記第2のプーリにそれぞれ固定されていることを特徴とする真空搬送装置。 - 請求項1に記載の動力伝達機構は、前記アームの回転駆動軸に備えられる第1のプーリと、前記第1のハンドと第2のハンドとの回転軸にそれぞれ備えられる第2のプーリと、前記第1のプーリと前記第2のプーリとに掛け渡されるベルトと、前記アームにそれぞれ装着されて前記ベルトに張力を与えるテンション機構と、で構成され、
前記テンション機構は、テンションプーリと、このテンションプーリを一端に回転可能に支持するプッシュアームと、このプッシュアームの他端側を回転可能に支持するプッシュアーム回転軸と、前記プッシュアームを弾圧する弾性部材と、を備えていることを特徴とする真空搬送装置。 - 請求項1に記載の上下駆動源が、エアーシリンダと、このエアーシリンダの動力を真空内に導入させる真空ベローズと、を備えていることを特徴とする真空搬送装置。
- 荷電粒子線を照射し、荷電粒子線を偏向後、試料上に収束する機能を有する荷電粒子線光学系と、
前記荷電粒子線の照射によって発生する二次粒子を検出する二次粒子検出器と、
前記試料が搬入される真空試料室と、
前記真空試料室に前記試料を搬入・搬出するように隣接して備えられる予備排気室と、
前記真空試料室内で搬入載せられた前記試料を特定の位置にまで移動させる試料ステージと、を有する荷電粒子線検査装置であって、
前記予備排気室と真空試料室との間で、前記試料の搬送受け渡しを行なうために、請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の真空搬送装置を設けて構成したことを特徴とする荷電粒子線検査装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005224270A JP4880941B2 (ja) | 2005-08-02 | 2005-08-02 | 真空搬送装置およびこれを備えた荷電粒子線検査装置 |
US11/497,244 US7531816B2 (en) | 2005-08-02 | 2006-08-02 | Vacuum conveying apparatus and charged particle beam equipment with the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005224270A JP4880941B2 (ja) | 2005-08-02 | 2005-08-02 | 真空搬送装置およびこれを備えた荷電粒子線検査装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007042799A JP2007042799A (ja) | 2007-02-15 |
JP4880941B2 true JP4880941B2 (ja) | 2012-02-22 |
Family
ID=37800520
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005224270A Active JP4880941B2 (ja) | 2005-08-02 | 2005-08-02 | 真空搬送装置およびこれを備えた荷電粒子線検査装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4880941B2 (ja) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4599405B2 (ja) * | 2004-08-17 | 2010-12-15 | マットソン テクノロジイ インコーポレイテッド | ウェハ処理システムのための、ウェハ移送装置及びウェハ移送方法 |
JP5492027B2 (ja) * | 2010-08-31 | 2014-05-14 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 有機elデバイス製造装置及び製造方法 |
KR102223624B1 (ko) | 2010-11-10 | 2021-03-05 | 브룩스 오토메이션 인코퍼레이티드 | 기판 처리 장치 |
JP5243585B2 (ja) * | 2011-09-09 | 2013-07-24 | 中外炉工業株式会社 | 基板供給装置 |
JP6435669B2 (ja) * | 2014-07-04 | 2018-12-12 | 三星ダイヤモンド工業株式会社 | 基板加工装置 |
JP6837433B2 (ja) | 2014-11-17 | 2021-03-03 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | ペリクル取り付け装置及びペリクル取り付け方法 |
JP2017035743A (ja) * | 2015-08-07 | 2017-02-16 | 日東電工株式会社 | 搬送装置 |
JP6588303B2 (ja) * | 2015-10-26 | 2019-10-09 | 東方晶源微電子科技(北京)有限公司 | 検査装置 |
US11270904B2 (en) | 2016-07-12 | 2022-03-08 | Brooks Automation Us, Llc | Substrate processing apparatus |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63288677A (ja) * | 1987-05-22 | 1988-11-25 | 株式会社東芝 | ウエハ搬送装置 |
JPH09159583A (ja) * | 1995-12-11 | 1997-06-20 | Jeol Ltd | 試料交換装置 |
JPH1133971A (ja) * | 1997-07-24 | 1999-02-09 | Yaskawa Electric Corp | 多関節ロボット |
JPH11186361A (ja) * | 1997-12-25 | 1999-07-09 | Jeol Ltd | 試料搬送装置 |
JPH11198070A (ja) * | 1998-01-12 | 1999-07-27 | Shin Meiwa Ind Co Ltd | 搬送装置 |
JPH11284048A (ja) * | 1998-03-31 | 1999-10-15 | Shibaura Mechatronics Corp | ロボット装置および処理装置 |
JP3463599B2 (ja) * | 1998-04-20 | 2003-11-05 | 株式会社日立製作所 | 試料保持機,半導体製造装置,半導体検査装置,回路パターン検査装置,荷電粒子線応用装置,校正用基板,試料の保持方法,回路パターン検査方法、および、荷電粒子線応用方法 |
JP2000001218A (ja) * | 1998-06-15 | 2000-01-07 | Hitachi Ltd | 搬送装置 |
-
2005
- 2005-08-02 JP JP2005224270A patent/JP4880941B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2007042799A (ja) | 2007-02-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4880941B2 (ja) | 真空搬送装置およびこれを備えた荷電粒子線検査装置 | |
US7531816B2 (en) | Vacuum conveying apparatus and charged particle beam equipment with the same | |
JP4244555B2 (ja) | 被処理体の支持機構 | |
EP1168421B1 (en) | Liquid processing apparatus | |
US8758516B2 (en) | Apparatus for manufacturing flat-panel display | |
JP5336885B2 (ja) | 基板搬送装置及び基板搬送方法 | |
CN101459101B (zh) | 翻转式晶圆自动传输装置 | |
JP5729148B2 (ja) | 基板搬送容器の開閉装置、蓋体の開閉装置及び半導体製造装置 | |
US9011075B2 (en) | Substrate processing method | |
US7428850B2 (en) | Integrated in situ scanning electronic microscope review station in semiconductor wafers and photomasks optical inspection system | |
CN101459100A (zh) | 紧凑式晶圆自动传输装置 | |
JPH06104326A (ja) | 処理システム | |
JP4645696B2 (ja) | 被処理体の支持機構及びロードロック室 | |
JP3350234B2 (ja) | 被処理体のバッファ装置、これを用いた処理装置及びその搬送方法 | |
US20080251019A1 (en) | System and method for transferring a substrate into and out of a reduced volume chamber accommodating multiple substrates | |
KR20230018449A (ko) | 웨이퍼 반송 장치 및 웨이퍼 반송 방법 | |
CN101465309A (zh) | 平移翻转式晶圆自动传输装置 | |
JPH09102526A (ja) | 真空内基板搬送装置 | |
JPH10296666A (ja) | 搬送用ロボット | |
KR100773263B1 (ko) | 진공처리장치 | |
JP2004146714A (ja) | 被処理体の搬送機構 | |
CN201374322Y (zh) | 平移翻转式晶圆自动传输装置 | |
CN113314447A (zh) | 晶片转移装置、腔体装置、晶片处理设备 | |
JPH0982780A (ja) | 基板搬送装置 | |
KR19990024052A (ko) | 엘씨디 카셋트 운송용 수송 대차 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20071001 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20091110 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20091112 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100106 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20100202 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100506 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20100507 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20100527 |
|
A912 | Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912 Effective date: 20100723 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111031 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20111202 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4880941 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141209 Year of fee payment: 3 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |