JPS63220143A - フオトマスク - Google Patents
フオトマスクInfo
- Publication number
- JPS63220143A JPS63220143A JP62053455A JP5345587A JPS63220143A JP S63220143 A JPS63220143 A JP S63220143A JP 62053455 A JP62053455 A JP 62053455A JP 5345587 A JP5345587 A JP 5345587A JP S63220143 A JPS63220143 A JP S63220143A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photomask
- pellicle
- accuracy
- sticking
- tensioning
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/62—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof
- G03F1/64—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof characterised by the frames, e.g. structure or material, including bonding means therefor
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、露光装置に用いるフォトマスクに関するもの
であり、特にフォトマスク上に張り付けるフォトマスク
用ペリクルの張シ付けに関するものである。
であり、特にフォトマスク上に張り付けるフォトマスク
用ペリクルの張シ付けに関するものである。
本発明は、フォトマスクに張シ付けるフォトマスク用ペ
リクルの張υ付け位置及び張υ付け精度を測定するパタ
ーン（以下ペリクル用アライメントマーク）を形成し、
フォトマスク用ペリクルの張シ付け精度を向上させるも
のである。
リクルの張υ付け位置及び張υ付け精度を測定するパタ
ーン（以下ペリクル用アライメントマーク）を形成し、
フォトマスク用ペリクルの張シ付け精度を向上させるも
のである。
従来の技術は、フォトマスク用ペリクルをフォトマスク
に張シ付けるための特別なマークの形成はしていなかっ
た。このため、人手又は、張シ付け用治具を用いて張シ
付けていた。フォトマスク用ペリクルをフォトマスクに
張シ付ける場合、目測か、治具についている目盛を用い
て張シ付ける位置をだいたい決定し張シ付けていた。こ
のために張り、付け精度は閣単位であり再現性は良くな
く最終的判断は、露光装置に装着してみないことに、は
できない状況であった。
に張シ付けるための特別なマークの形成はしていなかっ
た。このため、人手又は、張シ付け用治具を用いて張シ
付けていた。フォトマスク用ペリクルをフォトマスクに
張シ付ける場合、目測か、治具についている目盛を用い
て張シ付ける位置をだいたい決定し張シ付けていた。こ
のために張り、付け精度は閣単位であり再現性は良くな
く最終的判断は、露光装置に装着してみないことに、は
できない状況であった。
また、最近は、１：１反射投影型露光装置のみならず、
解像度の非宮に良い縮小投影露光装置にもフォトマスク
用ペリクルを張シ付けることも為されるようになり、こ
の場合フォトマスクの両面に張シ付けるものであるが、
この両面に張ってあるフォトマスク用ペリクルの各々の
張シ付け精度自身はプラスマイナス０．３μｍ以内の精
度を必要とされており、従来の技術では十分に精度良く
張シ付けられなかＯた。このため、フォトマスク１枚の
値段にも匹敵するペリクルの張）替えをすることもしば
しば発生し、大きな損失を出していたまた、従来の技術
では、はどよいパターンがフォトマスクに形成されてお
れば、まだ張シ付けしやすかったわけであるが、パター
ンが少なくほとんどフォトマスク基板そのものの透明で
あったり１００％クロムで被覆されて全くどの位置にフ
ォトマスク用ペリクルを張るのか判断できないものもあ
り、非常に労力がかかり効率は悪く張シ直しの率も高く
損失は大きかった。゛ 〔発明が解決しようとする問題点〕 従来の技術では、フォトマスクにフォトマスク用ペリク
ルを精度よく、効率よく張シ付けることは困難であった
。そのため、張シ替えの数も増え、損失も大きいもので
あった。
解像度の非宮に良い縮小投影露光装置にもフォトマスク
用ペリクルを張シ付けることも為されるようになり、こ
の場合フォトマスクの両面に張シ付けるものであるが、
この両面に張ってあるフォトマスク用ペリクルの各々の
張シ付け精度自身はプラスマイナス０．３μｍ以内の精
度を必要とされており、従来の技術では十分に精度良く
張シ付けられなかＯた。このため、フォトマスク１枚の
値段にも匹敵するペリクルの張）替えをすることもしば
しば発生し、大きな損失を出していたまた、従来の技術
では、はどよいパターンがフォトマスクに形成されてお
れば、まだ張シ付けしやすかったわけであるが、パター
ンが少なくほとんどフォトマスク基板そのものの透明で
あったり１００％クロムで被覆されて全くどの位置にフ
ォトマスク用ペリクルを張るのか判断できないものもあ
り、非常に労力がかかり効率は悪く張シ直しの率も高く
損失は大きかった。゛ 〔発明が解決しようとする問題点〕 従来の技術では、フォトマスクにフォトマスク用ペリク
ルを精度よく、効率よく張シ付けることは困難であった
。そのため、張シ替えの数も増え、損失も大きいもので
あった。
本発明の解決しようとする問題点は前述のフォトマδり
にフォトマスク用ペリクルを精度よく、効率よく張シ付
け、損失を小さくすることである〔問題点を解決するた
めの手段〕 本発明はフォトマスクにフォトマスク用ペリクルの張り
付け位置および張シ付け精度を測定するペリクル用アラ
イメントマークを形成し前述の問題点を解決しようとす
るものである。
にフォトマスク用ペリクルを精度よく、効率よく張シ付
け、損失を小さくすることである〔問題点を解決するた
めの手段〕 本発明はフォトマスクにフォトマスク用ペリクルの張り
付け位置および張シ付け精度を測定するペリクル用アラ
イメントマークを形成し前述の問題点を解決しようとす
るものである。
第１図に本発明によるペリクル用アライメントマークの
図を示す、第２図に縮小投影露光装置用フォトマスク（
レチクル）にペリクル用アライメントマークを８ケ所に
配置形成した概観図を示す第１図のαは、フォトマスク
用ペリクルの張シ付け精度の許容値であり、本実施例で
は０．５μｍである。また、計８ケ所に配置したのは、
特に−辺に２ケ配置することにより回転方向の張シ付け
精度を確認しやすくするためである。最低−辺に２＋配
置すればよいのであるがペリクルの大きさの精度も測定
するために８ケとした。
図を示す、第２図に縮小投影露光装置用フォトマスク（
レチクル）にペリクル用アライメントマークを８ケ所に
配置形成した概観図を示す第１図のαは、フォトマスク
用ペリクルの張シ付け精度の許容値であり、本実施例で
は０．５μｍである。また、計８ケ所に配置したのは、
特に−辺に２ケ配置することにより回転方向の張シ付け
精度を確認しやすくするためである。最低−辺に２＋配
置すればよいのであるがペリクルの大きさの精度も測定
するために８ケとした。
この実施例のように行なえばペリクルは、手でも十分に
所定の位置に張シ付ける事は非常に容易に行なう事がで
きた。又、張シ付けた精度もこのペリクル用アライメン
トマークそのものが張シ付け精度の許容範囲を示したも
のであり、これまた、非常に簡単に判断判定することが
可能であったさらにこのペリクル用アライメントマーク
はフォトマスクのＣｒを抜いて形成しており検査は反射
光でも、透過光でも両方とも可であり、非常に扱いやす
いものであった。
所定の位置に張シ付ける事は非常に容易に行なう事がで
きた。又、張シ付けた精度もこのペリクル用アライメン
トマークそのものが張シ付け精度の許容範囲を示したも
のであり、これまた、非常に簡単に判断判定することが
可能であったさらにこのペリクル用アライメントマーク
はフォトマスクのＣｒを抜いて形成しており検査は反射
光でも、透過光でも両方とも可であり、非常に扱いやす
いものであった。
以上、実施例のように、わずかなペリクル用アライメン
トマークを形成する事により、非常に大きな効果を得る
ことが可能となった。
トマークを形成する事により、非常に大きな効果を得る
ことが可能となった。
本発明の効果は、フォトマスクにフォトマスク用ペリク
ルを容易に、正しい位置に装置することを可能にした。
ルを容易に、正しい位置に装置することを可能にした。
また、フォトマスク用ペリクルの張シ付け精度を測定で
きるようにした。特に、実施例のαを数種類配置するこ
とにより、より細かく張シ付け精度を測定することは可
能゛となる。又、検査を反射光でも、透過光でも可能と
した。このことは縮小投影露光装置のようにフォトマス
ク用ペリクルをフォトマスクの両面に張シ付ける場合特
に有効となった。
きるようにした。特に、実施例のαを数種類配置するこ
とにより、より細かく張シ付け精度を測定することは可
能゛となる。又、検査を反射光でも、透過光でも可能と
した。このことは縮小投影露光装置のようにフォトマス
ク用ペリクルをフォトマスクの両面に張シ付ける場合特
に有効となった。
さらに、フォトマスク上のパターンの多少に関係なく、
フォトマスク基板そのものでも、Ｏｒが１００％あって
もパターンを形成することによりフォトマスク用ペリク
ルを張シ付ける事は容易となった。
フォトマスク基板そのものでも、Ｏｒが１００％あって
もパターンを形成することによりフォトマスク用ペリク
ルを張シ付ける事は容易となった。
以上のように、本発明の効果は非常に大きいものがある
０本発明の効果はフォトマスクにフォトマスク用ペリク
ルの張シ付け位置及び張シ付け精度を測定するペリクル
用アライメントマークな形成する事により得られるもの
であり、そのパターンの形状や個数は自由に選択できる
非常に有効かつ有用な物である。
０本発明の効果はフォトマスクにフォトマスク用ペリク
ルの張シ付け位置及び張シ付け精度を測定するペリクル
用アライメントマークな形成する事により得られるもの
であり、そのパターンの形状や個数は自由に選択できる
非常に有効かつ有用な物である。
さらには、本発明の効果は、実施例のようにＣｒパター
ンの形成によらずに、フォトマスク基板そのものにエツ
チング等を施しても形成できるものである。
ンの形成によらずに、フォトマスク基板そのものにエツ
チング等を施しても形成できるものである。
第１図は本発明の実施例によるペリクル用アライメント
マークとフォトマスク用ペリクルの平面図。 第２図は本発明の実施例によるペリクル用アライメント
マークのフォトマスク（レチクル）への配置図。 １・・・・・・・・・ペリクル用アライメントマーク２
・・・・・・・・・フォトマスク ３・・・・・・・・・フォトマスク用ペリクルα・・・
・・・・・・張シ付け許容精度域１図 填２図
マークとフォトマスク用ペリクルの平面図。 第２図は本発明の実施例によるペリクル用アライメント
マークのフォトマスク（レチクル）への配置図。 １・・・・・・・・・ペリクル用アライメントマーク２
・・・・・・・・・フォトマスク ３・・・・・・・・・フォトマスク用ペリクルα・・・
・・・・・・張シ付け許容精度域１図 填２図
Claims (1)
- フォトマスク用ペリクルの張り付け位置及び張り付け精
度を測定するパターンを有することを特徴とするフォト
マスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62053455A JPS63220143A (ja) | 1987-03-09 | 1987-03-09 | フオトマスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62053455A JPS63220143A (ja) | 1987-03-09 | 1987-03-09 | フオトマスク |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63220143A true JPS63220143A (ja) | 1988-09-13 |
Family
ID=12943331
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62053455A Pending JPS63220143A (ja) | 1987-03-09 | 1987-03-09 | フオトマスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63220143A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0571856U (ja) * | 1991-05-10 | 1993-09-28 | 株式会社写真化学 | 露光用マスク |
| KR20190135562A (ko) * | 2014-11-17 | 2019-12-06 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 장치 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61124943A (ja) * | 1984-11-22 | 1986-06-12 | Hitachi Ltd | マスク |
-
1987
- 1987-03-09 JP JP62053455A patent/JPS63220143A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61124943A (ja) * | 1984-11-22 | 1986-06-12 | Hitachi Ltd | マスク |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0571856U (ja) * | 1991-05-10 | 1993-09-28 | 株式会社写真化学 | 露光用マスク |
| KR20190135562A (ko) * | 2014-11-17 | 2019-12-06 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 장치 |
| JP2020024470A (ja) * | 2014-11-17 | 2020-02-13 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． | 装置 |
| US10969701B2 (en) | 2014-11-17 | 2021-04-06 | Asml Netherlands B.V. | Pellicle attachment apparatus |
| US11003098B2 (en) | 2014-11-17 | 2021-05-11 | Asml Netherlands B.V | Pellicle attachment apparatus |
| US11009803B2 (en) | 2014-11-17 | 2021-05-18 | Asml Netherlands B.V. | Mask assembly |
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