KR970012019A - 노광방법 및 장치 - Google Patents

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KR970012019A
KR970012019A KR1019960033652A KR19960033652A KR970012019A KR 970012019 A KR970012019 A KR 970012019A KR 1019960033652 A KR1019960033652 A KR 1019960033652A KR 19960033652 A KR19960033652 A KR 19960033652A KR 970012019 A KR970012019 A KR 970012019A
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KR
South Korea
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KR1019960033652A
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Inventor
히데미 가와이
Original Assignee
오노 시게오
니콘 가부시키가이샤
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    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F9/00Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
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Abstract

이 발명의 방법을 실시하는 노광장치에선 레티클 얼라이먼트 현미경내에 지표 마크를 설치하고 레티클의 하부에 얼라이먼트 조명광을 조광하는 셔터를 설치한다. 레티클 얼라이먼크 현미경에 의해 1매의 레티클의 기준 마크부재에 대한 위치 어긋남량을 구하고 얼라이먼트 센서의 베이스라인을 구하고 레티클의 패턴 중심의 위치와 지표 마크의 중심 위치와의 차를 기억한다. 2매 이후의 레티클에 대해서 셔터를 폐쇄한 상태에서 레티클측의 동작 및 웨이퍼측의 동작을 병행해서 행한다. 이 경우 레티클 얼라이먼트 현미경에 의해 레티클의 패턴 중심의 위치와 지표 마크의 중심위치와의 차이분을 구하고 이 차이분으로 이미 구한 베이스 라인량을 보정한다.

Description

노광방법 및 장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 이 발명에 의한 얼라이먼트 방법의 실시의 형태에서 사용되는 투영노광장치의 1예를 도시하는 개략구성도.

Claims (4)

  1. 전사되어야 할 패턴과 얼라이먼트마크를 갖는 마스크를 지지하고 그 마스크의 자리매김을 행하는 마스크스테이지와 상기 마스크의 패턴이 전사되는 기관의 자리매김을 행하는 동시에 소정의 기준 마크가 형성된 기준 마크부재를 구비한 기판 스테이지를 갖는 노광 장치를 써서 복수매의 마스크의 패턴을 복수개의 기판에 순차 전사하는 노광방법에 있어서, 상기 복수개의 마스크의 1매째의 마스크 패턴을 제1의 기판상에 전사할 때 그1매째의 마스크를 상기 마스크 스테이지상에 재배치하고 얼라이먼트 센서를 써서 계측용의 조명광을 상기 마스크를 통해서 조사하고 그 마스크의 얼라이먼트 마크와 상기 기판 스테이지상의 상기 기준 마크와의 위치 어긋남량을 검출하고 그 검출 결과에 의거해서 상기 기준 마크에 대한 상기 마스크의 상대적 위치를 결정하고 동시에 상기 마스크의 얼라이먼트 마크의 상기 얼라이먼트 센서에 대한 어긋남량을 검출하고, 상기 복수매의 마스크중 2매째 이후의 마스크를 상기 마스크 스테이지에 재배치하고 그 패턴의 노광을 행할 때 상기 얼라이먼트센서를 써서 해당 마스크 스테이지상의 새로운 마스크를 조사해서 그 마스크의 얼라이먼트 마크의 상기 얼라이먼트 센서에 대한 위치 어긋남량을 검출하고 이것에 의해서 상기 상대적위치에 보정하는 것을 특징으로 하는 노광 방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 복수개의 마스크의 2매째 이후의 마스크를 상기 마스크 스테이지에 재배치하고 그 패턴의 노광을 행할 때, 제2의 기판을 상기 기판 스테이지에 재치하고 상기 새로운 마스크의 얼라이먼트 마크의 상기 얼라이먼트 센서에 대한 위치 어긋남량의 검출에 병행하고 그 새로운 마스크와 상기 제2의 기판과의 사이에서 상기 계측용의 조명광을 차광한 상태에서 상기 기판 스테이지에 대한 기판의 위치의 검출을 행하는 것을 특징으로 하는 노광 방법.
  3. 얼라이먼크 마크를 가진 마스크의 자리매김을 행하는 마스크 스테이지와 상기 마스크의 패턴이 전사되는 기판의 자리매김을 행하는 동시에 소정의 기준 마크가 형성된 기준 마크부재를 구비한 기판 스테이지를 갖는 노광장치에 있어서, 상기 마스크 스테이지상에 재배치되는 마스크를 통해서 계측용의 조명광을 조사해서 그 마스크의 얼라이먼트 마크와 상기 기판 스테이지상의 상기 기준 마크와 위치 어긋남량을 검출하는 얼라이먼트 센서와 상기 마스크 스테이지상에 재배치되는 마스크와 상기 기판 스테이지와의 사이에 삽탈 지재로 배치되며 그 마스크와 상기 기판 스테이지와의 사이에 배치된 때 상기 계측용의 조명광을 차광하는 셔터 부재를 설치한 것을 특징으로 하는 노광장치.
  4. 제3항에 있어서, 상기 얼라이먼트 센서엔 상기 마스크 스테이지상에 재배치되는 마스크의 얼라이먼트 마크와 상기 얼라이먼트 센서간의 위치 어긋남량을 검출하기 위해 지표 마크가 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019960033652A 1995-08-18 1996-08-14 노광방법 및 장치 KR970012019A (ko)

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