KR950004372A - 노광장치 및 이 장치를 이용한 디바이스의 제조방법 - Google Patents
노광장치 및 이 장치를 이용한 디바이스의 제조방법 Download PDFInfo
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Abstract
본 발명의 노광장치는, 묘화오차를 포함하는 마스크 패턴을 개재해서 기판의 노광영역을 노광하는 노광수단과, 상기 패턴의 묘화오차를 보정해서 해당 패턴을 상기 노광영역에 정확하게 중첩하는 보정수단을 구비하고 있다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 일실시예에 의한 장치를 도시한 개략도, 제2도는 제1도의 장치에 있어서의 주사노광의 태양을 도시한 설명도, 제3도는 반도체디바이스의 제조공정의 순서도, 제4도는 제3도의 웨이퍼프로세스를 도시한 도면.
Claims (17)
- 묘화오차를 포함하는 마스크의 패턴을 개재해서 기판의 노광영역을 노광하는 노광수단과, 상기 패턴의 묘화오차를 보정해서 해당 패턴을 상기 노광영역상에 정확하게 중첩하는 보정수단을 구비한 것을 특징으로 하는 노광장치.
- 제1항에 있어서, 상기 보정수단은 상기 마스크의 디바이스패턴의 복수개의 위치를 계측하는 계측수단을 포함하고, 상기 계측수단의 출력에 의거해서 묘화오차를 검출하는 것을 특징으로 하는 노광장치.
- 제1항에 있어서, 상기 보정수단은 마스크의 복수개의 마크의 위치를 계측하는 계측수단을 포함하고, 상기 계측수단의 출력에 의거해서 묘화오차를 검출하는 것을 특징으로 하는 노광장치.
- 제3항에 있어서, 상기 복수개의 마크는 기판과의 위치정합용의 위치맞춤마크로서도 기능하는 것을 특징으로 하는 노광장치.
- 제4항에 있어서, 상기 위치맞춤마크를 검출하기 위한 위치정합광학계를 또 구비한 것을 특징으로 하는 노광장치.
- 제5항에 있어서, 상기 계측수단과 상기 위치정합광학계는 일부가 공통인 것을 특징으로 하는 노광장치.
- 제1항에 있어서, 상기 노광장치는 마스크와 기판을 노광광에 대해서 주사시키기 위한 주사수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 노광장치.
- 제7항에 있어서, 상기 보정수단은 상기 주사수단을 제어하며 묘화오차를 보정하는 것임을 특징으로 하는 노광장치.
- 제8항에 있어서, 묘화오차가 직고도오차를 포함할 경우, 상기 보정수단은 상기 주사수단으로 하여금 마스크와 기판을 다른 방향으로 주사시키도록 제어하는 것을 특징으로 하는 노광장치.
- 제8항에 있어서, 상기 보정수단은 마스크의 디바이스패턴의 복수개의 부분의 위치를 계측하는 계측수단과, 상기 계측수단의 출력에 의거해서 묘화오차를 검출하는 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 노광장치.
- 제8항에 있어서, 상기 보정수단은 마스크의 복수개의 마크의 위치를 계측하는 계측수단과, 상기 계측수단의 출력에 의거해서 묘화오차를 검출하는 수단을 구비한 것을 특징으로 하는 노광장치.
- 제11항에 있어서, 상기 복수개의 마크는 기판과의 위치정합용의 위치맞춤마크로서도 기능하는 것을 특징으로 하는 노광장치.
- 제12항에 있어서, 상기 위치맞춤마크를 검출하기 위한 위치정합광학계를 또 구비한 것을 특징으로 하는 노광장치.
- 제13항에 있어서, 상기 계측수단과 상기 위치정합광학계는 일부가 공통인 것을 특징으로 하는 노광장치.
- 묘화오차를 포함하는 디바이스 패턴을 이용하는 디바이스 제조방법에 있어서, 묘화요차를 검출하는 공정과, 상기 디바이스패턴의 묘화오차를 보정하면서 기판의 패턴영역을 노광하는 공정을 구비한 것을 특징으로 하는 디바이스 제조방법.
- 묘화오차를 포함하는 디바이스패턴을 이용하는 디바이스제조방법에 있어서, 디바이스패턴의 묘화오차를 검출하는 공정과, 상기 묘화오차를 보정하도록 마스크와 기판을 노광광으로 주사시키는 공정 구비한 것을 특징으로 하는 디바이스 제조방법.
- 제15항 또는 제16항에 기재된 방법을 이용해서 제조된 디바이스.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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