JP2627543B2 - Ｓｏｒ露光システム - Google Patents
Ｓｏｒ露光システムInfo
- Publication number
- JP2627543B2 JP2627543B2 JP63220488A JP22048888A JP2627543B2 JP 2627543 B2 JP2627543 B2 JP 2627543B2 JP 63220488 A JP63220488 A JP 63220488A JP 22048888 A JP22048888 A JP 22048888A JP 2627543 B2 JP2627543 B2 JP 2627543B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- exposure
- sor
- port
- ports
- vacuum
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
- G03F7/70491—Information management, e.g. software; Active and passive control, e.g. details of controlling exposure processes or exposure tool monitoring processes
- G03F7/70525—Controlling normal operating mode, e.g. matching different apparatus, remote control or prediction of failure
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
- G03F7/70841—Constructional issues related to vacuum environment, e.g. load-lock chamber
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
- G03F7/70883—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature of optical system
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
- G03F7/709—Vibration, e.g. vibration detection, compensation, suppression or isolation
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70991—Connection with other apparatus, e.g. multiple exposure stations, particular arrangement of exposure apparatus and pre-exposure and/or post-exposure apparatus; Shared apparatus, e.g. having shared radiation source, shared mask or workpiece stage, shared base-plate; Utilities, e.g. cable, pipe or wireless arrangements for data, power, fluids or vacuum
Landscapes
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Public Health (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Atmospheric Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Computer Networks & Wireless Communication (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Particle Accelerators (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は半導体製造工程等に適したSOR露光システム
に関し、特にリーク時における露光装置部の保護を向上
させ、さらには地震による不良な露光を防止したSOR露
光システムに関する。
に関し、特にリーク時における露光装置部の保護を向上
させ、さらには地震による不良な露光を防止したSOR露
光システムに関する。
［従来の技術］ 第２図（ａ）は、従来例であり、また本発明の適用対
象例でもあるSOR（シンクロトロン放射光）露光システ
ムの装置構成を示す。
象例でもあるSOR（シンクロトロン放射光）露光システ
ムの装置構成を示す。
同図において、８はSOR光を発生させるためのSORリン
グである。６はSORリング８へ電子ビームのエネルギを
注入するための電子ビームを発生し加速するリニアック
（電子直線加速器）、７はビーム輸送路である。13a〜1
3fはSORリング８からSOR光をとりだすためのポート、14
はSORリング８の蓄積エネルギまたはSOR光量をモニタす
るビームモニタ、15a〜15eは露光装置である。ここで、
各装置は個別に制御装置を持っている。
グである。６はSORリング８へ電子ビームのエネルギを
注入するための電子ビームを発生し加速するリニアック
（電子直線加速器）、７はビーム輸送路である。13a〜1
3fはSORリング８からSOR光をとりだすためのポート、14
はSORリング８の蓄積エネルギまたはSOR光量をモニタす
るビームモニタ、15a〜15eは露光装置である。ここで、
各装置は個別に制御装置を持っている。
SORリング８は、リニアック６から電子ビームが入射
される入射部10、電子ビームが環状にまわるためのリン
グ状の超高真空槽９、これを真空に引くための不図示の
真空ポンプ、電子ビームを曲げるための偏向電磁石12a
〜12h、入射時の電子ビームの軌道および定常状態の軌
道を修正するためのキッカーコイル16、電子ビームが１
回転して速度低下するためこれを加速し定速を維持する
ための高周波加速空胴11から構成される。そして、SOR
光は偏向電磁石12a〜12hにより電子ビームが曲げられる
所で発生する。なお、SORリング８は実際にはさらに複
雑な構成であるが、ここでは主要部分のみ図示してい
る。
される入射部10、電子ビームが環状にまわるためのリン
グ状の超高真空槽９、これを真空に引くための不図示の
真空ポンプ、電子ビームを曲げるための偏向電磁石12a
〜12h、入射時の電子ビームの軌道および定常状態の軌
道を修正するためのキッカーコイル16、電子ビームが１
回転して速度低下するためこれを加速し定速を維持する
ための高周波加速空胴11から構成される。そして、SOR
光は偏向電磁石12a〜12hにより電子ビームが曲げられる
所で発生する。なお、SORリング８は実際にはさらに複
雑な構成であるが、ここでは主要部分のみ図示してい
る。
第２図（ｂ）に示すようにSORリング８からSOR光をと
りだすポート13aから露光装置15aまでについては、順に
緊急遮断弁17a、衝撃遅延管18a、ミラーチャンバ19aが
配置されていて、露光装置15aの直前にはベリリウム窓2
0aがある。ミラーチャンバ19aは内部にSOR光を面分布光
に広げるためのＸ線ミラーが配置されていて、チャンバ
内は高真空に保たれる。ベリリウム窓20aは露光装置15a
が大気圧雰囲気またはHe雰囲気の露光の場合に、前記ミ
ラーチャンバ19a内の真空雰囲気を圧力的に隔壁する目
的、およびSOR光から露光に必要な波長のみを取り出す
フィルターの目的で設けられたものである。また、緊急
遮断弁17aおよび衝撃波遅延器18aは、ミラーおよび露光
装置側からの真空リークに対してSOR側の超高真空を保
護する目的を有する。以上の構成はポート13b〜13fの各
ポートについても同様である。SORリング８、リニアッ
ク６および露光装置15a〜15eにはそれぞれをコントロー
ルする制御部分1,2,4a〜4eがあるが、各制御部分間を通
信ケーブル５で接続している。
りだすポート13aから露光装置15aまでについては、順に
緊急遮断弁17a、衝撃遅延管18a、ミラーチャンバ19aが
配置されていて、露光装置15aの直前にはベリリウム窓2
0aがある。ミラーチャンバ19aは内部にSOR光を面分布光
に広げるためのＸ線ミラーが配置されていて、チャンバ
内は高真空に保たれる。ベリリウム窓20aは露光装置15a
が大気圧雰囲気またはHe雰囲気の露光の場合に、前記ミ
ラーチャンバ19a内の真空雰囲気を圧力的に隔壁する目
的、およびSOR光から露光に必要な波長のみを取り出す
フィルターの目的で設けられたものである。また、緊急
遮断弁17aおよび衝撃波遅延器18aは、ミラーおよび露光
装置側からの真空リークに対してSOR側の超高真空を保
護する目的を有する。以上の構成はポート13b〜13fの各
ポートについても同様である。SORリング８、リニアッ
ク６および露光装置15a〜15eにはそれぞれをコントロー
ルする制御部分1,2,4a〜4eがあるが、各制御部分間を通
信ケーブル５で接続している。
［発明が解決しようとする課題］ ところで、上述の従来例においては、SOR側あるいは
ミラー部を含んだポート側の真空のリークが生じると露
光装置に取り付けられたベリリウム窓が差圧（大気圧と
He圧）に耐えられなくなって破損し、そのベリリウムの
破へん等により露光装置側が汚染されるという問題が生
じる。
ミラー部を含んだポート側の真空のリークが生じると露
光装置に取り付けられたベリリウム窓が差圧（大気圧と
He圧）に耐えられなくなって破損し、そのベリリウムの
破へん等により露光装置側が汚染されるという問題が生
じる。
さらには、従来例のように１台のSORリングに複数の
露光装置がつながっている場合には、１台の露光装置の
ポートの真空異常によりSORリングそのものの真空破壊
および他のポートへの連動した真空リークにより他の複
数台の露光装置のベリリウム窓破損による汚染が生じる
可能性がある。
露光装置がつながっている場合には、１台の露光装置の
ポートの真空異常によりSORリングそのものの真空破壊
および他のポートへの連動した真空リークにより他の複
数台の露光装置のベリリウム窓破損による汚染が生じる
可能性がある。
本発明の目的は、以上の問題点に鑑み、ポートに真空
破壊が起きてもベリリウム窓に差圧がかからないように
するとともに、他の露光装置への被害を防止することに
ある。
破壊が起きてもベリリウム窓に差圧がかからないように
するとともに、他の露光装置への被害を防止することに
ある。
また、SOR露光システムとしては、SORリング、ミラー
ポートおよび露光装置間での位置合せが維持されている
必要があり、特にミラーポートと露光装置間では重要で
ある。この位置関係は通常ある範囲内におさまるように
設定されるかまたは制御されているが地震等の原因で個
々の位置が恒久的にずれてしまうと、露光の転写ひずみ
の点で露光が不可能になる。
ポートおよび露光装置間での位置合せが維持されている
必要があり、特にミラーポートと露光装置間では重要で
ある。この位置関係は通常ある範囲内におさまるように
設定されるかまたは制御されているが地震等の原因で個
々の位置が恒久的にずれてしまうと、露光の転写ひずみ
の点で露光が不可能になる。
そこで、本発明の他の目的はSORリング、ミラーポー
トおよび露光装置間の位置ずれの可能性を地震計により
検知して露光装置を停止させて、不良な露光ショットを
抑えることにある。
トおよび露光装置間の位置ずれの可能性を地震計により
検知して露光装置を停止させて、不良な露光ショットを
抑えることにある。
［課題を解決するための手段および作用］ 上記目的を達成するため本発明のSOR露光システム
は、SORリングと、該SORリングからの放射光により露光
を行う複数の露光装置と、該SORリングと該複数の各露
光装置間を高真空経路で接続する複数のポートと、前記
複数ポートのそれぞれにSORリングから露光装置に向か
って順に設けた、第１の緊急遮断弁、衝撃波遅延管、ミ
ラーチャンバー、第２の緊急遮断弁、および圧力隔壁窓
とを有し、いずれかのポートの真空リークが検出された
ら前記複数ポートの全ての第２の緊急遮断弁を閉じるこ
とを特徴とする。またさらに、前記複数ポートの全ての
第２の緊急遮断弁を閉じるために信号を送信する通信手
段を有し、この通信手段は、地震計による地震の検出信
号も伝達するものであることを特徴とする。
は、SORリングと、該SORリングからの放射光により露光
を行う複数の露光装置と、該SORリングと該複数の各露
光装置間を高真空経路で接続する複数のポートと、前記
複数ポートのそれぞれにSORリングから露光装置に向か
って順に設けた、第１の緊急遮断弁、衝撃波遅延管、ミ
ラーチャンバー、第２の緊急遮断弁、および圧力隔壁窓
とを有し、いずれかのポートの真空リークが検出された
ら前記複数ポートの全ての第２の緊急遮断弁を閉じるこ
とを特徴とする。またさらに、前記複数ポートの全ての
第２の緊急遮断弁を閉じるために信号を送信する通信手
段を有し、この通信手段は、地震計による地震の検出信
号も伝達するものであることを特徴とする。
この構成において、いずれかのポートの真空リークが
検出されると、そのリークによる衝撃波は、衝撃波遅延
管によって遅延され、その衝撃波が第２緊急遮断弁に伝
わる前に、第２緊急遮断弁は閉じられる。これにより、
そのポートの圧力隔壁窓の破損や、その破片による露光
装置の汚染が防止される。また、その第２緊急遮断弁の
閉塞と同時に、他のポートの第２緊急遮断弁も閉じられ
る。これにより、前記真空リークの波及による他のポー
トの圧力隔壁窓の破損や露光装置の汚染が、確実に防止
される。また、地震計が地震を検出したときは、その検
出信号が通信手段を介してすべてのポートに送信され
る。したがって、各露光装置は、その信号に基づいて、
露光を停止する等により、不良な露光ショットを抑える
ことができる。
検出されると、そのリークによる衝撃波は、衝撃波遅延
管によって遅延され、その衝撃波が第２緊急遮断弁に伝
わる前に、第２緊急遮断弁は閉じられる。これにより、
そのポートの圧力隔壁窓の破損や、その破片による露光
装置の汚染が防止される。また、その第２緊急遮断弁の
閉塞と同時に、他のポートの第２緊急遮断弁も閉じられ
る。これにより、前記真空リークの波及による他のポー
トの圧力隔壁窓の破損や露光装置の汚染が、確実に防止
される。また、地震計が地震を検出したときは、その検
出信号が通信手段を介してすべてのポートに送信され
る。したがって、各露光装置は、その信号に基づいて、
露光を停止する等により、不良な露光ショットを抑える
ことができる。
［実施例］ 以下、図面を用いて本発明の実施例を説明する。
本実施例は、第２図の構成のSOR露光システムに本発
明を適用したものである。第１図は本発明の一実施例に
係るSOR露光システムのうち、ポートから露光装置への
部分を示している。同図において、21aはベリリウム窓2
0aの直前のミラー側におかれた緊急遮断弁、22aはミラ
ーチャンバ19a内およびベリリウム窓20aまでのビームラ
イン部の真空度を計測する真空計、24aおよび25aはそれ
ぞれ緊急遮断弁17aおよび21aを駆動する駆動装置であ
る。26aはポート制御部であり、真空計22a、駆動装置24
a,25a等はこのポート制御部26aに接続されており、また
ポート制御部、26aは通信ケーブル５を介して露光装置
制御部4aとを相互に通信している。なお、以上の同図の
構成は、第２図のポート13b〜13eから露光装置15b〜15e
までの各ポートについても同様であり、ポート制御部26
aは他のポート制御部26b〜26eおよび露光装置制御部4b
〜4eならびにリニアック制御部１およびSORリング制御
部２に通信ケーブル５を介してつながっていて、いずれ
か１つの制御部との通信が可能である。また、29aは露
光装置15a本体内の圧力を計測する真空計露光装置制御
部4aとつながっている。27aはベリリウム窓20aの両側を
連通させるバイパスバルブで、28aはその駆動回路であ
る。
明を適用したものである。第１図は本発明の一実施例に
係るSOR露光システムのうち、ポートから露光装置への
部分を示している。同図において、21aはベリリウム窓2
0aの直前のミラー側におかれた緊急遮断弁、22aはミラ
ーチャンバ19a内およびベリリウム窓20aまでのビームラ
イン部の真空度を計測する真空計、24aおよび25aはそれ
ぞれ緊急遮断弁17aおよび21aを駆動する駆動装置であ
る。26aはポート制御部であり、真空計22a、駆動装置24
a,25a等はこのポート制御部26aに接続されており、また
ポート制御部、26aは通信ケーブル５を介して露光装置
制御部4aとを相互に通信している。なお、以上の同図の
構成は、第２図のポート13b〜13eから露光装置15b〜15e
までの各ポートについても同様であり、ポート制御部26
aは他のポート制御部26b〜26eおよび露光装置制御部4b
〜4eならびにリニアック制御部１およびSORリング制御
部２に通信ケーブル５を介してつながっていて、いずれ
か１つの制御部との通信が可能である。また、29aは露
光装置15a本体内の圧力を計測する真空計露光装置制御
部4aとつながっている。27aはベリリウム窓20aの両側を
連通させるバイパスバルブで、28aはその駆動回路であ
る。
次に、第１図および第２図を参照して、本実施例の装
置の動作を説明する。いま、SORリング８の超高真空槽
９は、超高真空状態、例えば、10-10Torr程度である
が、この状態にあるとすると、ポート13（ポート13a〜1
3eの各ポートを意味する。以下同様）から開状態にある
緊急遮断弁17および衝撃波遅延管18を介してミラーチャ
ンバ19内が真空状態例えば10-8Torrに達している。図示
していないが、ポート13からミラーチャンバ19の間は複
数台の真空ポンプにより排気されている。さらに、ミラ
ーチャンバ19から先は、緊急遮断弁21の開閉状態に応じ
てベリリウム窓20の直前までが高真空に引かれるか否か
が決まる。露光装置15の本体内部の圧力は真空計29によ
り計測されるが、この圧力Vcと真空計22により計測され
るミラーチャンバ19内の圧力VMRによりポート制御部26
は、ベリリウム窓20にかかる差圧を判定し、バイパスバ
ルブ27の開閉を行なう。具体的には、（１）Vc＝150Tor
r、VMR＝760Torr、および（２）Vc＝760Torr、VMR＝10
-7Torrの場合のベリリウム窓20への差圧状態が禁止さ
れ、このときは、緊急遮断弁21を閉としてバイパスバル
ブ27を開とし、差圧を零にする。
置の動作を説明する。いま、SORリング８の超高真空槽
９は、超高真空状態、例えば、10-10Torr程度である
が、この状態にあるとすると、ポート13（ポート13a〜1
3eの各ポートを意味する。以下同様）から開状態にある
緊急遮断弁17および衝撃波遅延管18を介してミラーチャ
ンバ19内が真空状態例えば10-8Torrに達している。図示
していないが、ポート13からミラーチャンバ19の間は複
数台の真空ポンプにより排気されている。さらに、ミラ
ーチャンバ19から先は、緊急遮断弁21の開閉状態に応じ
てベリリウム窓20の直前までが高真空に引かれるか否か
が決まる。露光装置15の本体内部の圧力は真空計29によ
り計測されるが、この圧力Vcと真空計22により計測され
るミラーチャンバ19内の圧力VMRによりポート制御部26
は、ベリリウム窓20にかかる差圧を判定し、バイパスバ
ルブ27の開閉を行なう。具体的には、（１）Vc＝150Tor
r、VMR＝760Torr、および（２）Vc＝760Torr、VMR＝10
-7Torrの場合のベリリウム窓20への差圧状態が禁止さ
れ、このときは、緊急遮断弁21を閉としてバイパスバル
ブ27を開とし、差圧を零にする。
以上が通常時におけるバルブの動作であるが、異常時
の場合は以下の動作を行なう。
の場合は以下の動作を行なう。
まず、SORリング８あるいはポート13側がリークした
場合、SORリング側のポートに取り付けられた真空計23
によりリークが検知される。この検出信号はポート制御
部26を介して駆動装置25を駆動し、緊急遮断弁21を閉に
する。このときリークによる衝撃波は遅延管18とベリリ
ウム窓20までの実際の距離、例えば10mとにより伝播が
遅れ、衝撃波より遮断弁21の閉動作が先行可能である。
場合、SORリング側のポートに取り付けられた真空計23
によりリークが検知される。この検出信号はポート制御
部26を介して駆動装置25を駆動し、緊急遮断弁21を閉に
する。このときリークによる衝撃波は遅延管18とベリリ
ウム窓20までの実際の距離、例えば10mとにより伝播が
遅れ、衝撃波より遮断弁21の閉動作が先行可能である。
次に、露光装置15側あるいはミラーチャンバ19側がリ
ークした場合には、リークは、ミラーチャンバ19の真空
計22により検知される。先の場合と同様にこの検出信号
により直接ポート側の緊急遮断弁17が閉じる。衝撃波遅
延管18は双方向に遅延特性を有しているので、この場合
も衝撃波に先行して閉動作が行なわれる。
ークした場合には、リークは、ミラーチャンバ19の真空
計22により検知される。先の場合と同様にこの検出信号
により直接ポート側の緊急遮断弁17が閉じる。衝撃波遅
延管18は双方向に遅延特性を有しているので、この場合
も衝撃波に先行して閉動作が行なわれる。
以上により、SORポート側および露光装置側のいずれ
についても２ケ所の緊急遮断弁により、リークをおさえ
ることが可能であるが、次に、SORリング８に接続した
複数個の露光装置15a〜15e相互のリークプロテクトにつ
いて説明する。
についても２ケ所の緊急遮断弁により、リークをおさえ
ることが可能であるが、次に、SORリング８に接続した
複数個の露光装置15a〜15e相互のリークプロテクトにつ
いて説明する。
まず、ポート側のリーク時であるが、例えばポート13
aでのリークすなわち真空計23aがリークを検知すると、
その信号値通信ケーブル５を介して、各ポートのポート
制御部26a〜26eに送信し、すべての露光装置側の緊急遮
断弁21a〜21eを閉じる。この場合はSOR側のリークであ
るため、全ポートがリーク異常となる可能性が高く、各
ポート毎に独自にリークを検出して遮断弁を動作させる
よりも確実であり、信頼性が高い。
aでのリークすなわち真空計23aがリークを検知すると、
その信号値通信ケーブル５を介して、各ポートのポート
制御部26a〜26eに送信し、すべての露光装置側の緊急遮
断弁21a〜21eを閉じる。この場合はSOR側のリークであ
るため、全ポートがリーク異常となる可能性が高く、各
ポート毎に独自にリークを検出して遮断弁を動作させる
よりも確実であり、信頼性が高い。
露光装置側のリークの場合には、リークの発生したポ
ートを緊急遮断弁17で切り離すことになるが、これと同
時に各露光装置側の緊急遮断弁21a〜21eを閉じてしま
う。これにより緊急遮断弁17でリークを止めることがで
きなかった最悪の場合にも確実にベリリウム窓21および
露光装置15を保護することができる。
ートを緊急遮断弁17で切り離すことになるが、これと同
時に各露光装置側の緊急遮断弁21a〜21eを閉じてしま
う。これにより緊急遮断弁17でリークを止めることがで
きなかった最悪の場合にも確実にベリリウム窓21および
露光装置15を保護することができる。
第３図はSOR露光システムの異常信号として、さらに
地震計からの信号をも扱うようにした場合の実施例を示
している。同図において、30はSOR露光システムが設置
された同一の地盤上に置かれた地震計であり、31は地震
計30からの信号をある設定値と比較して、所定の場合に
異常信号として警報を発し、通信ケーブル５へ送信する
ための通信コントロール部を含んだ信号処理部である。
地震計からの信号をも扱うようにした場合の実施例を示
している。同図において、30はSOR露光システムが設置
された同一の地盤上に置かれた地震計であり、31は地震
計30からの信号をある設定値と比較して、所定の場合に
異常信号として警報を発し、通信ケーブル５へ送信する
ための通信コントロール部を含んだ信号処理部である。
露光システムの異常振動が検出された場合には、露光
システムとしてはポート側の緊急遮断弁17から露光装置
側の緊急遮断弁21までのミラーポート部と露光装置15と
の位置合せ状態がずれている可能性があるので、露光途
中のウエハについては、即座に露光を中止する必要があ
る。従って、地震信号処理部31からの異常信号を通信ケ
ーブル５を介して受信すると、露光装置制御部４は全露
光装置の露光を中断させる。中断したあとの露光の再開
は、所定のミラーポート部と露光装置間の位置合せ状態
を確認する手順を経てから行なう。また、先の地震計30
からの異常信号を受信すると、リニアック制御部１およ
びSORリング制御部２は、SORリング８部分の駆動を停止
させることも行なう。したがって、この部分の再開も所
定の点検手続を経てから行なうことになる。なお、通信
ケーブル５は単一の通信ラインでもよいが、異常信号専
用のラインを含む複数の通信ラインを有していてもよ
い。
システムとしてはポート側の緊急遮断弁17から露光装置
側の緊急遮断弁21までのミラーポート部と露光装置15と
の位置合せ状態がずれている可能性があるので、露光途
中のウエハについては、即座に露光を中止する必要があ
る。従って、地震信号処理部31からの異常信号を通信ケ
ーブル５を介して受信すると、露光装置制御部４は全露
光装置の露光を中断させる。中断したあとの露光の再開
は、所定のミラーポート部と露光装置間の位置合せ状態
を確認する手順を経てから行なう。また、先の地震計30
からの異常信号を受信すると、リニアック制御部１およ
びSORリング制御部２は、SORリング８部分の駆動を停止
させることも行なう。したがって、この部分の再開も所
定の点検手続を経てから行なうことになる。なお、通信
ケーブル５は単一の通信ラインでもよいが、異常信号専
用のラインを含む複数の通信ラインを有していてもよ
い。
以上説明したように、本実施例によれば、露光装置側
に配設されたベリリウム窓の手前のミラーチャンバ側に
緊急遮断弁を設置することにより、緊急リーク発生時に
ベリリウム窓にかかる差圧をなくすことができ、ベリリ
ウムの破損、さらにはベリリウムの破片による露光装置
のメインチャンバ内の汚染を防ぐことが可能となる。
に配設されたベリリウム窓の手前のミラーチャンバ側に
緊急遮断弁を設置することにより、緊急リーク発生時に
ベリリウム窓にかかる差圧をなくすことができ、ベリリ
ウムの破損、さらにはベリリウムの破片による露光装置
のメインチャンバ内の汚染を防ぐことが可能となる。
また、各ミラーポート制御部ならびに各露光装置を通
信ラインにより接続することにより、１つのポートでの
リーク検出時に同時に全てのポートの緊急遮断弁を閉じ
ることが可能となり、全露光装置の破損等の危険を防ぐ
ことができる。
信ラインにより接続することにより、１つのポートでの
リーク検出時に同時に全てのポートの緊急遮断弁を閉じ
ることが可能となり、全露光装置の破損等の危険を防ぐ
ことができる。
また、SORリング、ミラーポートおよび露光装置間の
位置ずれに関して地震計から異常信号を通信ラインによ
り全ての露光装置へ通信し、露光を停止することによ
り、不良ショットを最小に抑えることができる。
位置ずれに関して地震計から異常信号を通信ラインによ
り全ての露光装置へ通信し、露光を停止することによ
り、不良ショットを最小に抑えることができる。
［発明の効果］ 以上説明したように本発明によれば、いずれかのポー
トの真空リークが発生しても、そのポートの圧力隔壁窓
の破損や、その破片による露光装置の汚染を防止するこ
とができると共に、その真空リークの波及による他のポ
ートの圧力隔壁窓の破損や露光装置の汚染も、確実に防
止することができる。また、地震が起こったときは、地
震の検出信号を通信手段を介してすべてのポートに送信
することにより、各露光装置における不良な露光ショッ
トの発生を抑制することができる。
トの真空リークが発生しても、そのポートの圧力隔壁窓
の破損や、その破片による露光装置の汚染を防止するこ
とができると共に、その真空リークの波及による他のポ
ートの圧力隔壁窓の破損や露光装置の汚染も、確実に防
止することができる。また、地震が起こったときは、地
震の検出信号を通信手段を介してすべてのポートに送信
することにより、各露光装置における不良な露光ショッ
トの発生を抑制することができる。
【図面の簡単な説明】 第１図は本発明の一実施例に係るSOR露光システムの主
要部の装置構成図、 第２図（ａ）および（ｂ）は、従来例に係るSOR露光シ
ステムの装置構成図、そして 第３図は、本発明の他の実施例に係るSOR露光システム
の装置構成図である。 1:リニアック制御部、2:SORリング制御部、4a〜4e:露光
装置制御部、5:通信ケーブル、6:リニアック、7:ビーム
輸送路、8:SORリング、13a〜13e:ポート、15a〜15e:露
光装置、17a〜17e:緊急遮断弁、18a〜18e:衝撃波遅延
管、19a〜19e:ミラーチャンバ、20a〜20e:ベリリウム
窓、21a〜21e:緊急遮断弁、22a〜22e:真空計、23a〜23
e:真空計、24a〜24e:緊急遮断弁駆動装置、25a〜25e:緊
急遮断弁駆動装置、26a〜26e:ポート制御部、27a〜27e:
バイパスバルブ、28a〜28e:駆動装置、29a〜29e:真空
計、30:地震計、31:信号処理部。
要部の装置構成図、 第２図（ａ）および（ｂ）は、従来例に係るSOR露光シ
ステムの装置構成図、そして 第３図は、本発明の他の実施例に係るSOR露光システム
の装置構成図である。 1:リニアック制御部、2:SORリング制御部、4a〜4e:露光
装置制御部、5:通信ケーブル、6:リニアック、7:ビーム
輸送路、8:SORリング、13a〜13e:ポート、15a〜15e:露
光装置、17a〜17e:緊急遮断弁、18a〜18e:衝撃波遅延
管、19a〜19e:ミラーチャンバ、20a〜20e:ベリリウム
窓、21a〜21e:緊急遮断弁、22a〜22e:真空計、23a〜23
e:真空計、24a〜24e:緊急遮断弁駆動装置、25a〜25e:緊
急遮断弁駆動装置、26a〜26e:ポート制御部、27a〜27e:
バイパスバルブ、28a〜28e:駆動装置、29a〜29e:真空
計、30:地震計、31:信号処理部。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 下田 勇 東京都大田区下丸子３丁目30番２号 キ ヤノン株式会社内 (72)発明者 鵜澤 俊一 東京都大田区下丸子３丁目30番２号 キ ヤノン株式会社内 (56)参考文献 特開 昭63−138732（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−9929（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−240900（ＪＰ，Ａ)
Claims (2)
- 【請求項１】SORリングと、該SORリングからの放射光に
より露光を行う複数の露光装置と、該SORリングと該複
数の各露光装置間を高真空経路で接続する複数のポート
と、前記複数ポートのそれぞれにSORリングから露光装
置に向かって順に設けた、第１の緊急遮断弁、衝撃波遅
延管、ミラーチャンバー、第２の緊急遮断弁、および圧
力隔壁窓とを有し、いずれかのポートの真空リークが検
出されたら前記複数ポートの全ての第２の緊急遮断弁を
閉じることを特徴とするSOR露光システム。 - 【請求項２】前記複数ポートの全ての第２の緊急遮断弁
を閉じるために信号を送信する通信手段を有し、この通
信手段は、地震計による地震の検出信号も伝達するもの
であることを特徴とする請求項１記載のSOR露光システ
ム。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63220488A JP2627543B2 (ja) | 1988-09-05 | 1988-09-05 | Ｓｏｒ露光システム |
| US07/401,791 US5001734A (en) | 1988-09-05 | 1989-09-01 | SOR exposure system |
| EP89308922A EP0358426B1 (en) | 1988-09-05 | 1989-09-04 | SOR exposure system |
| DE68925604T DE68925604T2 (de) | 1988-09-05 | 1989-09-04 | S.O.R.-Belichtungssystem |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63220488A JP2627543B2 (ja) | 1988-09-05 | 1988-09-05 | Ｓｏｒ露光システム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0268919A JPH0268919A (ja) | 1990-03-08 |
| JP2627543B2 true JP2627543B2 (ja) | 1997-07-09 |
Family
ID=16751856
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63220488A Expired - Fee Related JP2627543B2 (ja) | 1988-09-05 | 1988-09-05 | Ｓｏｒ露光システム |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5001734A (ja) |
| EP (1) | EP0358426B1 (ja) |
| JP (1) | JP2627543B2 (ja) |
| DE (1) | DE68925604T2 (ja) |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2728898B2 (ja) * | 1988-10-05 | 1998-03-18 | キヤノン株式会社 | 露光装置 |
| US5168512A (en) * | 1990-03-13 | 1992-12-01 | Canon Kabushiki Kaisha | Method of manufacture of semiconductor devices |
| JP2959579B2 (ja) * | 1990-06-19 | 1999-10-06 | キヤノン株式会社 | Ｘ線露光装置 |
| JP3336436B2 (ja) * | 1991-04-02 | 2002-10-21 | 株式会社ニコン | リソグラフィシステム、情報収集装置、露光装置、及び半導体デバイス製造方法 |
| JPH0661000A (ja) * | 1992-08-07 | 1994-03-04 | Hitachi Ltd | 円形加速器及び円形加速器の運転方法並びに半導体露光装置 |
| JP3210145B2 (ja) | 1993-07-14 | 2001-09-17 | キヤノン株式会社 | 走査型露光装置及び該装置を用いてデバイスを製造する方法 |
| US5920398A (en) * | 1996-03-01 | 1999-07-06 | Canon Kabushiki Kaisha | Surface position detecting method and scanning exposure method using the same |
| JP3138253B2 (ja) * | 1997-03-27 | 2001-02-26 | キヤノン株式会社 | Ｘ線装置およびこれを用いたｘ線露光装置ならびにデバイス製造方法 |
| UA59495C2 (uk) * | 2000-08-07 | 2003-09-15 | Мурадін Абубєкіровіч Кумахов | Рентгенівський вимірювально-випробувальний комплекс |
| JP5042082B2 (ja) * | 2008-03-17 | 2012-10-03 | 三菱電機株式会社 | 粒子線治療装置 |
| DE102012212503B4 (de) * | 2012-07-17 | 2014-11-20 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Lithographieanlage und verfahren |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6032050A (ja) * | 1983-08-02 | 1985-02-19 | Canon Inc | 露光装置 |
| US4788698A (en) * | 1984-04-15 | 1988-11-29 | Hitachi, Ltd. | X-ray exposure system |
| JPS62222634A (ja) * | 1986-03-18 | 1987-09-30 | Fujitsu Ltd | Ｘ線露光方法 |
| JPS639929A (ja) * | 1986-06-30 | 1988-01-16 | Nec Corp | Ｘ線露光装置 |
| JPS63116424A (ja) * | 1986-11-05 | 1988-05-20 | Nec Corp | Ｘ線露光装置 |
| JP2611762B2 (ja) * | 1986-12-01 | 1997-05-21 | キヤノン株式会社 | Ｓｏｒ露光装置 |
| JPS6461700A (en) * | 1987-08-31 | 1989-03-08 | Nec Corp | Synchrotron radiation light exposing device |
| JPH1088400A (ja) * | 1996-09-12 | 1998-04-07 | Okuno Chem Ind Co Ltd | 銀の電解剥離剤及び剥離液並びに電解剥離方法 |
-
1988
- 1988-09-05 JP JP63220488A patent/JP2627543B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1989
- 1989-09-01 US US07/401,791 patent/US5001734A/en not_active Expired - Lifetime
- 1989-09-04 EP EP89308922A patent/EP0358426B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1989-09-04 DE DE68925604T patent/DE68925604T2/de not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0358426B1 (en) | 1996-02-07 |
| DE68925604T2 (de) | 1996-07-11 |
| EP0358426A2 (en) | 1990-03-14 |
| JPH0268919A (ja) | 1990-03-08 |
| EP0358426A3 (en) | 1991-04-17 |
| DE68925604D1 (de) | 1996-03-21 |
| US5001734A (en) | 1991-03-19 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2627543B2 (ja) | Ｓｏｒ露光システム | |
| EP0422814A2 (en) | Exposure apparatus | |
| JP5160054B2 (ja) | 排気可能なマグネトロンチャンバ | |
| US6313596B1 (en) | Detection system for substrate clamp | |
| JP2880262B2 (ja) | ウエハ保持装置 | |
| JPS61130485A (ja) | 真空モニタ装置 | |
| JP2959579B2 (ja) | Ｘ線露光装置 | |
| JP3070085B2 (ja) | Ｓｏｒ光装置の光取り出しライン | |
| CN220542354U (zh) | 一种金刚石窗运行状态的在线监测装置 | |
| JP6117352B2 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
| JPH0449613A (ja) | Ｘ線露光装置 | |
| JPH0679159A (ja) | 真空室用ガス導入装置 | |
| JPH0511920B2 (ja) | ||
| JPH0449614A (ja) | Ｘ線露光装置 | |
| JPH0250422A (ja) | 半導体製造装置 | |
| JP2886185B2 (ja) | 被駆動体の動作検出機構 | |
| US6392737B1 (en) | Processing apparatus and method of control | |
| JPH04123799A (ja) | リング状荷電粒子加速器 | |
| KR19980014084A (ko) | 이온주입설비의 웨이퍼 위치 감지시스템 및 웨이퍼 감지방법 | |
| JPH04282499A (ja) | Ｓｏｒ光装置におけるｓｏｒ光出射用窓装置 | |
| TW202228225A (zh) | 抽真空系統及其風險管理裝置 | |
| KR20220002198A (ko) | 반도체 웨이퍼 보호를 위한 역류 방지 방법 및 이를 위한 장치 | |
| JPH07114158B2 (ja) | 粒子加速器の真空保護装置 | |
| JPH03182097A (ja) | 粒子加速器の真空保護装置 | |
| JPS60105931A (ja) | ガス配管、ガス機器の漏洩検知装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |