JP3070085B2 - Sor光装置の光取り出しライン - Google Patents

Sor光装置の光取り出しライン

Info

Publication number
JP3070085B2
JP3070085B2 JP2280815A JP28081590A JP3070085B2 JP 3070085 B2 JP3070085 B2 JP 3070085B2 JP 2280815 A JP2280815 A JP 2280815A JP 28081590 A JP28081590 A JP 28081590A JP 3070085 B2 JP3070085 B2 JP 3070085B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light extraction
window
extraction line
sor
mirror
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2280815A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH04157399A (ja
Inventor
元治 丸下
Original Assignee
石川島播磨重工業株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 石川島播磨重工業株式会社 filed Critical 石川島播磨重工業株式会社
Priority to JP2280815A priority Critical patent/JP3070085B2/ja
Publication of JPH04157399A publication Critical patent/JPH04157399A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3070085B2 publication Critical patent/JP3070085B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058Mask illumination systems
    • G03F7/70075Homogenization of illumination intensity in the mask plane by using an integrator, e.g. fly's eye lens, facet mirror or glass rod, by using a diffusing optical element or by beam deflection
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70808Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
    • G03F7/70841Constructional issues related to vacuum environment, e.g. load-lock chamber
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70858Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
    • G03F7/709Vibration, e.g. vibration detection, compensation, suppression or isolation

Landscapes

  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Atmospheric Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Particle Accelerators (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、SOR光(シンクロトロン放射光)装置の
光取り出しラインに関し、斜入射ミラーを垂直方向に揺
動させるためのミラー揺動装置の軸受が光取り出しライ
ン内に入らないようにして、滑らかな揺動を実現すると
とものに、SOR光取り出し窓とX線マスクメンブレン窓
を薄く小さくできるようにしたものである。
〔従来の技術〕
近年、シンクロトロン装置は、SOR光装置として、超
々LSI回路の作成、医療分野における診断、分子解析、
構造解析等様々な分野への適用が期待されている。
SOR光装置の概要を第2図に示す。SOR光装置1におい
て、電子発生装置(電子銃等)10で発生した電子ビーム
は直線加速器(ライナック)12で光速近くに加速され、
ビーム輸送部14の偏向電磁石16で偏向されて、インフレ
クタ18を介してシンクロトロンの蓄積リング22内に入射
される。蓄積リング22に入射された電子ビームは高周波
加速空洞21でエネルギを与えられながら収束電磁石23で
収束され、偏向電磁石24で偏向されて真空ダクト22内を
周回し続ける。偏向電磁石24で偏向される時に発生する
SOR光29は光取り出しライン26を通して出射されて、例
えば露光装置28に送られて超々LSI回路作成用の光源等
として利用される。
従来における光取り出しライン26の構造を第3図に縦
断面図で示す。光取り出しライン26の途中には、斜入射
ミラー30が配設されている。斜入射ミラー30は、無酸素
銅、 SiC、Au、Pt等の平面鏡または曲面鏡で構成され、SOR光
29を反射して光取り出しライン26の端部のベリリウム等
の薄板で作られた窓32から出射させる。
斜入射ミラー30は軸34を支点として、上下方向に揺動
自在に支持されている。斜入射ミラー30の端部31にはミ
ラー揺動機構36のロッド38が取り付けられている。ロッ
ド38はモータ40で駆動されるカム42の回転により上下方
向に動作し、斜入射ミラー30を上下方向に揺動して、SO
R光29を上下方向に揺動させる。
蓄積リング22(第2図)から出射されたSOR光29は本
来垂直方向の広がりが小さいが、この斜入射ミラー30の
揺動により垂直方向に拡大されて、LSI露光用の露光面
積が確保される。
〔発明が解決しようとする課題〕
前記第3図のミラー揺動装置では、ミラーの回動支点
34やロッド38と斜入射ミラー30の連結部31に軸受が必要
となるが、これらは光取り出しライン中にあるので、高
真空中でのガス発生を防止するために潤滑油を使用する
ことができない。このため軸受がかみ合って、揺動不能
になるおそれがあった。
また、斜入射ミラー30を揺動させてSOR光29を垂直方
向に拡大するため、光取り出しライン26の端部のベリリ
ウム等の薄板で作られた窓32を大きくしなければなら
ず、薄く大きくすることによる強度上の問題や厚く強く
することによる透過率の問題がある。
この発明は、前記従来の技術における問題点を解決し
て、光取り出しライン中にミラー揺動のための軸受が入
らないようにして、軸受のかみ合いによる揺動不能が生
じないようにするとともに、光取り出しラインの端部の
窓の強度と透過率の向上を図ることができるSOR光装置
の光取り出しラインを提供しようとするものである。
〔課題を解決するための手段〕 この発明は、SOR光装置の光取り出しラインの途中に
この光取り出しラインと連通状態に挿入されたミラーチ
ャンバーと、このミラーチャンバー内に固定されて、前
記光取り出しラインを通過するSOR光を反射して光取り
出しラインの端部に導く斜入射ミラーと、前記ミラーチ
ャンバーの両側の前記光取り出しラインにそれぞれ挿入
されて、このミラーチャンバーを前記光取り出しライン
に対して上下方向に揺動可能に連結させるベローズと、
前記ミラーチャンバーを上下方向に揺動させる揺動装置
と、前記光取り出しラインの先端部にベローズを介して
連結されSOR光を取り出すSOR光取り出し窓とX線を取り
出すX線マスクメンブレン窓とで密閉されたキャビティ
と、このキャビティを前記ミラーチャンバーの上下方向
の揺動に同期して前記SOR光取り出し窓および前記X線
マスクメンブレン窓を上下方向に揺動させる窓部揺動装
置とを具備してなるものである。
〔作 用〕
この発明によれば、光取り出しラインに連通状態に挿
入されたミラーチェンバー内に斜入射ミラーを固定し
て、ミラーチェンバー自体をその両側のベローズを介し
て揺動させるようにしたので、揺動のための軸受を光取
り出しラインの外に配設することができる。したがっ
て、高真空中でのガス発生の問題がなくなり、軸受に潤
滑油を使用することができるので、軸受のかみ合いが防
止され、滑らかに揺動させることができる。
また、この発明によれば、光取り出しラインの先端部
にベローズを介して連結されSOR光を取り出すSOR光取り
出し窓とX線を取り出すX線マスクメンブレン窓とで密
閉されたキャビティを設け、このキャビティを前記ミラ
ーチャンバーの上下方向の揺動に同期して窓部揺動装置
で前記SOR光取り出し窓および前記X線マスクメンブレ
ン窓を上下方向に揺動させるようにしたので、薄く小さ
い窓であっても必要な露光面積を確保でき、強度上や透
過率の問題を解消することができる。
〔実施例〕
この発明が適用された光取り出しラインの一実施例を
第1図に縦断面図で示す。SOR光装置の蓄積リング22
(第1図)の偏向位置から接線方向に放射されたSOR光2
9は、光取り出しライン26の固定ダクト33、ミラーチェ
ンバー揺動用2重ベローズ35、ミラーチェンバー37、ミ
ラーチェンバー揺動用2重ベローズ39、固定ダクト41、
窓部揺動用2重ベローズ76および窓部48を介して出射さ
れ、フォトマスク基板43を介して半導体ウェハ45へ照射
されて露光が行なわれる。2重ベローズ35,39,76と固定
ダクト33,41およびミラーチェンバー37とはフランジを
介して着脱自在に連結される。この連結部にはゲートバ
ルブ70がそれぞれ介挿されており、光取り出しライン26
を真空封止した状態でベローズ35,39,76を交換できるよ
うに構成されている。
2重ベローズ35は径の異なる2つの円筒状のベローズ
8,80を同心状に配して、それぞれの端部をフランジ72,7
4に気密に取り付けて構成されている。内周側のベロー
ズ78の内周面は光取り出しライン26内に臨み、その中を
SOR光29が通過する。外周側ベローズ80の外周面は大気
に臨んでいる。内周側ベローズ78と外周側ベローズ80の
間には、光取り出しライン26とも大気とも遮断された空
気層82が形成されている。空気層82内は光取り出しライ
ン26の圧力(高真空)よりもわずかに、高い圧力で密閉
されている。この空気層82にはポート84が連通して設け
られ、このポート84には圧力検出器として真空計86が接
続されて、空気層82の圧力を常時監視している。
内周側および外周側のベローズ78,80のいずれにも亀
裂等の破損が生じていない時は、空気層82内は光取り出
しライン26内の圧力(高真空)よりもわずかに高い圧力
に密閉されているので、この圧力値が真空計86で検出さ
れる。
揺動の繰り返しにより内周側のベローズ78に破損が生
じると、空気層82の気体が光取り出しライン26内に漏出
するので、圧力が低下する。また、外周側のベローズ80
に破損が生じると、外気が空気層82内に浸入するので、
圧力が上昇する。したがって、空気層82の圧力が当初の
設定値よりも低下したかまたは上昇してかにより内外周
のベローズ78,80のいずれかが破損したかがわかる。
ベローズ78,80のいずれかの破損が検出されたら、両
側のゲートバルブ70を閉じて、2重ベローズ35を固定ダ
クト33およびミラーチェンバー37から外して交換する。
このようにして、ベローズ78または80に破損が生じても
光取り出しライン26に真空破壊を生じる以前にこれを検
知して、修理または交換することができる。
ミラーチェンバー37内には、斜入射ミラー30が固定配
設されている。斜入射ミラー30は無酸素銅、SiC、Au、P
t等の平面鏡または曲面鏡で構成され、SOR光29を反射し
て光取り出しライン26の端部に導く。
ミラーチェンバー37は、固定部49に固定された6軸ア
ライメント装置51の先端部の回動支点34に垂直方向に揺
動自在に支持されている。6軸アライメント装置は、X,
Y,ZおよびθX,θY,θZの各方向にミラーチェンバー37
の位置および角度を調整する。回動支点34には軸受が用
いられている。この軸受は光取り出しライン26の外側に
配設されているので、ガス発生の問題はなく、潤滑油を
使用することができるので、滑らかな揺動が可能とな
る。
ミラーチェンバー37の端部には、ミラー揺動装置を構
成するミラー揺動機構36のロッド38が取り付けられてい
る。ロッド38はモータ40で駆動されるカム42の回転によ
り上下方向に動作し、斜入射ミラー30ごとミラーチェン
バー37を上下方向に揺動して、SOR光29を上下方向に揺
動させて上下方向の必要な露光面積を確保する。ロッド
38と連結部31にも軸受が設けられるが、この軸受は光取
り出しライン26の外側に配設されるので、ガス発生の問
題はなく、潤滑油を使用することができるので、滑らか
な揺動が可能となる。
ミラーチェンバー37の底部にはゲートバルブ70を介し
て2重ベローズ53が取り付けられている。2重ベローズ
35の下端部には、ゲートバルブ70を介して真空ポンプ55
が連結されて、光り取り出しライン26内を真空排気す
る。2重ベローズ53は、前記ベローズ35と同様に構成さ
れ、真空計86で破損を常時監視して、破損が生じた場合
はゲートバルブ70を閉じて交換される。
ミラーチェンバー37と固定ダクト41の間の2重ベロー
ズ39も前記2重ベローズ35と同様に構成され、真空計86
で破損を常時監視している。2重ベローズ35,39によ
り、ミラーチェンバー37は揺動自在に光取り出しライン
26に連結される。
窓部揺動装置を構成する窓部揺動機構52の窓揺動用の
2重ベローズ76も前記2重ベローズ35と同様に構成さ
れ、真空計86で破損を常時監視している。2重ベローズ
76の右端部のフランジには、窓板50が取り付けられてい
る。
窓板50の中央部には窓44が取り付けられている。窓44
はベリリウム等の薄板で構成され、光取り出しライン26
の内部の高真空と外部の低1空を遮断した状態でSOR光2
9を出射する。
窓44は、SOR光29の揺動に同期して揺動してSOR光29を
出射させる。したがって、窓44は上下方向の幅がSOR光2
9の揺動範囲(つまり、全露光範囲)よりも狭く形成す
ることができるので、面積を小さくすることができ、し
たがって、薄く形成しても十分な機械的強度が確保さ
れ、その分SOR光29の透過率を高めることができる。
窓板50の外側には円筒状容器90が取り付けられ、さら
に円筒状容器90の開口端部は窓板92で封止されて、円筒
状容器90内にその外側の大気と遮断されたキャビティ94
を形成している。このキャビティ94内には大気圧または
大気圧より減圧された不活性ガスとしてX線透過率の高
いヘリウムガス100が配管101から流されて、ベリリウム
窓44を大気との接触による腐食から護るとともに冷却し
ている。
窓板92の中央部には、X線マスクメンブレン窓96が設
けられている。X線マスクメンブレン窓96は例えば窒化
シリコン,窒化ボロン,SiC,ポリイミド等の腐食をしな
いまたはしにくいX線マスク基板材料で作られ、その厚
さはヘリウムガスを封止するのに必要な厚さだけあれば
よく、例えば1μm程度にすることができる。キャビテ
ィ94を通過してきたSOR光29はX線マスクメンブレン窓9
6から出射され、大気中に置かれたX線マスク43を介し
て半導体ウェハ45に照射されて、露光が行なわれる。
X線メンブレン窓96は、ベリリウム窓44と同様に、上
下方向の幅がSOR光29の揺動範囲(つまり、全露光範
囲)より狭く形成されている。
2重ベローズ76には、窓部揺動機構52のロッド54が取
り付けられている。ロッド54はモータ56で駆動されるカ
ム58の回転により上下方向に動作し、窓部48を2重ベロ
ーズ76を介して上下方向に揺動させる。
前記ミラー揺動機構36のカム42の回転位置は、パルス
エンコーダ等の位置検出器60で検出される。また、窓部
揺動機構52のカム58の回転位置は、パルスエンコーダ等
の位置検出器62で検出される。
揺動制御手段64は、位置検出器60,62の検出に基づ
き、サーボアンプ66,68を介してモータ40,56を同期駆動
することにより、斜入射ミラー30および窓部48を連動さ
せる。これにより、SOR光29の位置に窓44,96が移動し
て、SOR光29が出射される。
ミラー揺動機構36および窓部揺動機構52の動作を第4
図に示す。(a)のように斜入射ミラー30の右部がミラ
ーチェンバー37ごと上方向に揺動している時は窓部48も
上方向に揺動して、上方向に揺動しているSOR光29を窓4
4,96から出射させる。また、(b)のように斜入射ミラ
ー30の右部がミラーチェンバー37ごと下方向に揺動して
いる時は窓部48も下方向に揺動して、下方向に揺動して
いるSOR光29を窓44,96から出射させる。
〔変更例1〕 前記実施例では2重ベローズを使用した場合について
説明したが1重または3重以上にすることもできる。
〔変更例2〕 第5図に示すように、内周側ベローズ78と外周側ベロ
ーズ80との間にこれらが互いに当ってかみ合わないよう
に、円筒状の薄板で構成されるフィン(インナースリー
ブ)200を例えば外周側ベローズ80の内周面に一端を固
定するなどして配置することもできる。
〔発明の効果〕
以上説明したように、この発明によれば、光取り出し
ラインに連通状態に挿入されたミラーチェンバー内に斜
入射ミラーを固定して、ミラーチェンバー自体をその両
側のベローズを介して揺動させるようにしたので、揺動
のための軸受を光取り出しラインの外に配設することが
できる。したがって、高真空中でのガス発生の問題がな
くなり、軸受に潤滑油を使用することができるので、軸
受のかみ合いが防止され、滑らかに揺動させることがで
きる。
また、この発明によれば、光取り出しラインの先端部
にベローズを介して連結されSOR光を取り出すSOR光取り
出し窓とX線を取り出すX線マスクメンブレン窓とで密
閉されたキャビティを設け、このキャビティを前記ミラ
ーチャンバーの上下方向の揺動に同期して窓部揺動装置
で前記SOR光取り出し窓および前記X線マスクメンブレ
ン窓を上下方向に揺動させるようにしたので、薄く小さ
い窓であっても必要な露光面積を確保でき、強度上や透
過率の問題を解消することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、この発明の一実施例を示す光取り出しライン
の縦断面図および揺動機構の制御系統を示すブロック図
である。 第2図は、SOR光装置の概要を示す平面図である。 第3図は、従来の光取り出しラインの構造を示す縦断面
図である。 第4図は、第1図の揺動機構の揺動動作を示す縦断面図
である。 第5図は、この発明の変更例を示す縦断面図である。 1……SOR光装置、26……光取り出しライン、29……SOR
光、30……斜入射ミラー、36……ミラー揺動機構(揺動
装置)、52……窓部揺動機構(窓部揺動装置)、64……
揺動制御手段、70……ゲートバルブ、35,39……2重ベ
ローズ、37……ミラーチェンバー。

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】SOR光装置の光取り出しラインの途中にこ
    の光取り出しラインと連通状態に挿入されたミラーチャ
    ンバーと、 このミラーチャンバー内に固定されて、前記光取り出し
    ラインを通過するSOR光を反射して光取り出しラインの
    端部に導く斜入射ミラーと、 前記ミラーチャンバーの両側の前記光取り出しラインに
    それぞれ挿入されて、このミラーチャンバーを前記光取
    り出しラインに対して上下方向に揺動可能に連結させる
    ベローズと、 前記ミラーチャンバーを上下方向に揺動させる揺動装置
    と、 前記光取り出しラインの先端部にベローズを介して連結
    されSOR光を取り出すSOR光取り出し窓とX線を取り出す
    X線マスクメンブレン窓とで密閉されたキャビティと、 このキャビティを前記ミラーチャンバーの上下方向の揺
    動に同期して前記SOR光取り出し窓および前記X線マス
    クメンブレン窓を上下方向に揺動させる窓部揺動装置と を具備してなるSOR光装置の光取り出しライン。
JP2280815A 1990-10-19 1990-10-19 Sor光装置の光取り出しライン Expired - Fee Related JP3070085B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2280815A JP3070085B2 (ja) 1990-10-19 1990-10-19 Sor光装置の光取り出しライン

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2280815A JP3070085B2 (ja) 1990-10-19 1990-10-19 Sor光装置の光取り出しライン

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH04157399A JPH04157399A (ja) 1992-05-29
JP3070085B2 true JP3070085B2 (ja) 2000-07-24

Family

ID=17630363

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2280815A Expired - Fee Related JP3070085B2 (ja) 1990-10-19 1990-10-19 Sor光装置の光取り出しライン

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3070085B2 (ja)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6937316B2 (en) 2001-08-15 2005-08-30 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus, device manufacturing method and device manufactured thereby
EP1284444A1 (en) * 2001-08-15 2003-02-19 ASML Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
EP1533832A1 (en) * 2002-06-25 2005-05-25 Nikon Corporation Optical unit and x-ray exposure system
JP5839672B2 (ja) * 2011-09-28 2016-01-06 株式会社日立製作所 低真空軟x線実験装置
WO2016046583A1 (en) * 2014-09-23 2016-03-31 Fmb Feinwerk- Und Messtechnik Gmbh Adjustment system for aligning optical elements or samples in vacuum

Also Published As

Publication number Publication date
JPH04157399A (ja) 1992-05-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3070085B2 (ja) Sor光装置の光取り出しライン
JP4063201B2 (ja) 電子ビーム照射装置
JP3727222B2 (ja) 真空チャンバと共に使用する絶縁マウントおよびリソグラフ投影装置内での使用
JPH0754960Y2 (ja) Sor光装置におけるsor光出射用窓装置
JPH0616484B2 (ja) X線リソグラフイ装置及び処理方法
JP2013175376A (ja) 荷電粒子線装置及び荷電粒子線照射方法
JPH04282499A (ja) Sor光装置におけるsor光出射用窓装置
JPH04359200A (ja) Sor光装置におけるsor光出射用窓装置
CN102722020B (zh) 一种等离子体诊断用显微镜调焦装置及其应用
JPH04282500A (ja) Sor光装置におけるsor光出射用窓装置
JP4314648B2 (ja) ステージ装置およびそれを備えた光学装置
JPH04225199A (ja) Sor光装置におけるsor光出射用窓装置
JP2868542B2 (ja) 真空配管
JPH04125500A (ja) Sor光装置におけるsor光出射用窓装置
EP0869703B1 (en) Acoustic delay line with movable partition plates
US20240105414A1 (en) Water Cooled, Air Bearing Based Rotating Anode X-ray Illumination Source
JP3058603B2 (ja) X線リソグラフィ用ビームライン
Okada et al. Development of highly reliable synchrotron radiation lithography beamline
JPH01181518A (ja) X線露光装置用ヘリウムチャンバ
JPH04194800A (ja) X線リソグラフィにおける露光方法
JPH05297148A (ja) 粒子加速器のスクリーンモニタ装置
JPH06295800A (ja) 粒子加速器のビームライン
JPS62296516A (ja) X線露光装置
JPH06251898A (ja) 粒子加速器における真空悪化検知装置
JPH11260298A (ja) 電子線測長装置

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees