JP3058603B2 - Ｘ線リソグラフィ用ビームライン - Google Patents
Ｘ線リソグラフィ用ビームラインInfo
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- JP3058603B2 JP3058603B2 JP9124699A JP12469997A JP3058603B2 JP 3058603 B2 JP3058603 B2 JP 3058603B2 JP 9124699 A JP9124699 A JP 9124699A JP 12469997 A JP12469997 A JP 12469997A JP 3058603 B2 JP3058603 B2 JP 3058603B2
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- Japan
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- beam line
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- radiation
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
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- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Public Health (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はシンクロトロン放射光を
用いるＸ線リソグラフィ用ビームラインに関する。
用いるＸ線リソグラフィ用ビームラインに関する。
【０００２】
【従来の技術】シンクロトロン放射光によるＸ線露光シ
ステムは一般に図２ないし図３に示す構成からなってい
る。図３ないし図４において３１は模式的に示されたシ
ンクロトロンで、超高真空中で電子ビーム３２を周回運
動させ、周回軌道の接線方向にシンクロトロン放射光３
３を発生させる。シンクロトロン３１から出た放射光３
３は真空ダクト３４に導入される。真空ダクト３４には
図示していないが、放射光をブロックするブロックシャ
ッタ、真空の遮断弁や真空排気ポンプ等が設置されてい
る。そして、真空ダクト３４の下流にはミラーボックス
３５が接続されている。
ステムは一般に図２ないし図３に示す構成からなってい
る。図３ないし図４において３１は模式的に示されたシ
ンクロトロンで、超高真空中で電子ビーム３２を周回運
動させ、周回軌道の接線方向にシンクロトロン放射光３
３を発生させる。シンクロトロン３１から出た放射光３
３は真空ダクト３４に導入される。真空ダクト３４には
図示していないが、放射光をブロックするブロックシャ
ッタ、真空の遮断弁や真空排気ポンプ等が設置されてい
る。そして、真空ダクト３４の下流にはミラーボックス
３５が接続されている。
【０００３】前記ミラーボックス３５の中にはＸ線ミラ
ー３６が入射光に対して１〜２度の角度で配置されてい
る。Ｘ線ミラー３６の形状は平面、円筒、円環（トロイ
ダル）面等種々の形状のものが用いられており、表面は
通常、金、白金等でコーティングされ、入射光のほぼ６
０〜７０％を反射し下流に伝送するとともに、Ｘ線露光
に不適当な短波長成分（硬Ｘ線）を除去するフィルター
機能を有している。そして、該Ｘ線ミラー３６は駆動装
置３７により反射基準点Ｏを中心に揺動可能となってい
る。その理由は、放射光は水平方向には３６０度方向に
放射されるが、垂直方向には±１mrad（ミリラシ゛アン）程度
の広がりしかないのでＸ線ミラー３６を揺動することに
より反射光を垂直方向に振り照射野を拡大するためであ
る。
ー３６が入射光に対して１〜２度の角度で配置されてい
る。Ｘ線ミラー３６の形状は平面、円筒、円環（トロイ
ダル）面等種々の形状のものが用いられており、表面は
通常、金、白金等でコーティングされ、入射光のほぼ６
０〜７０％を反射し下流に伝送するとともに、Ｘ線露光
に不適当な短波長成分（硬Ｘ線）を除去するフィルター
機能を有している。そして、該Ｘ線ミラー３６は駆動装
置３７により反射基準点Ｏを中心に揺動可能となってい
る。その理由は、放射光は水平方向には３６０度方向に
放射されるが、垂直方向には±１mrad（ミリラシ゛アン）程度
の広がりしかないのでＸ線ミラー３６を揺動することに
より反射光を垂直方向に振り照射野を拡大するためであ
る。
【０００４】ミラーボックス３５の下流には真空ダクト
３８からなるビームラインが接続されており、ビームラ
インのの最終端には放射光取出窓となるフランジ３９に
接合されたベリリウム薄膜４０が取り付けられている。
ベリリウム薄膜４０の厚さは３０μｍ程度で、放射光を
真空中から大気中に取り出す機能とＸ線露光に不適当な
長波長成分（真空紫外線）を除去するフィルター機能を
有している。
３８からなるビームラインが接続されており、ビームラ
インのの最終端には放射光取出窓となるフランジ３９に
接合されたベリリウム薄膜４０が取り付けられている。
ベリリウム薄膜４０の厚さは３０μｍ程度で、放射光を
真空中から大気中に取り出す機能とＸ線露光に不適当な
長波長成分（真空紫外線）を除去するフィルター機能を
有している。
【０００５】ベリリウム薄膜４０から大気中に取り出さ
れた放射光はＸ線露光用マスク４１を通ってウエハ４２
の表面に塗布されたレジスト（感光材）を感光させＸ線
露光用マスク４１に描かれたパターンを転写する。ベリ
リウム薄膜４０の外側の通称大気部分は大気圧または減
圧状態の空気または、Ｘ線を透過しやすいヘリウムガス
にさらされている。Ｘ線露光用マスク４１とウエハ４２
の間隔は１０〜２０μｍで、Ｘ線ステッパ４３に保持さ
れ、１回の露光ごとにウエハの感光位置を移動し、逐次
露光を行なうものである。
れた放射光はＸ線露光用マスク４１を通ってウエハ４２
の表面に塗布されたレジスト（感光材）を感光させＸ線
露光用マスク４１に描かれたパターンを転写する。ベリ
リウム薄膜４０の外側の通称大気部分は大気圧または減
圧状態の空気または、Ｘ線を透過しやすいヘリウムガス
にさらされている。Ｘ線露光用マスク４１とウエハ４２
の間隔は１０〜２０μｍで、Ｘ線ステッパ４３に保持さ
れ、１回の露光ごとにウエハの感光位置を移動し、逐次
露光を行なうものである。
【０００６】ところで、Ｘ線リソグラフィに要求される
露光面積は、半導体メモリ（ＤＲＡＭ）が６４メガビッ
トの世代では２５ｍｍ×２５ｍｍ程度であり、放射光取
出窓となるベリリウム薄膜４０の寸法は直径約４０ｍｍ
または３０ｍｍ×３０ｍｍ角あればよい。そして、ベリ
リウム薄膜４０は１気圧の圧力差と放射光の吸収による
温度上昇に耐える強度が必要である。ベリリウムの膜厚
が３０μｍでは放射光取出窓の直径が４０ｍｍでもなん
とか耐えることが経験的に知られている。しかし、Ｘ線
リソグラフィが本格的に用いられると予想される４ギガ
ビットの世代では５０ｍｍ×５０ｍｍの露光面積が必要
になるとみられているが図３に示すようなビームライン
３８を固定している従来装置ではベリリウム薄膜４０を
大きくしなければならないが、ベリリウム薄膜４０を大
きくすることは前記したとおり強度的に困難である。
露光面積は、半導体メモリ（ＤＲＡＭ）が６４メガビッ
トの世代では２５ｍｍ×２５ｍｍ程度であり、放射光取
出窓となるベリリウム薄膜４０の寸法は直径約４０ｍｍ
または３０ｍｍ×３０ｍｍ角あればよい。そして、ベリ
リウム薄膜４０は１気圧の圧力差と放射光の吸収による
温度上昇に耐える強度が必要である。ベリリウムの膜厚
が３０μｍでは放射光取出窓の直径が４０ｍｍでもなん
とか耐えることが経験的に知られている。しかし、Ｘ線
リソグラフィが本格的に用いられると予想される４ギガ
ビットの世代では５０ｍｍ×５０ｍｍの露光面積が必要
になるとみられているが図３に示すようなビームライン
３８を固定している従来装置ではベリリウム薄膜４０を
大きくしなければならないが、ベリリウム薄膜４０を大
きくすることは前記したとおり強度的に困難である。
【０００７】そこで、図４に示すようにＸ線ミラー３６
で放射光をスキャンする際の光の形状に合わせて狭小の
ベリリウム薄膜４０を有するビームライン３８をＸ線ミ
ラー３６のスキャンと同期させて上下方向に揺動させて
対応する着想も特開平２ー１８４７９９号公報に開示さ
れているように公知である。なお、４４は真空ベローズ
である。
で放射光をスキャンする際の光の形状に合わせて狭小の
ベリリウム薄膜４０を有するビームライン３８をＸ線ミ
ラー３６のスキャンと同期させて上下方向に揺動させて
対応する着想も特開平２ー１８４７９９号公報に開示さ
れているように公知である。なお、４４は真空ベローズ
である。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】本発明は狭小のベリリ
ウム薄膜を有するビームラインの揺動装置をＸ線露光用
マスク４１、ウエハ４２の設置場所から隔離して揺動装
置から発生する塵埃がウエハへの露光時の妨げにならな
いようにするとともに、ビームラインが揺動するときベ
リリウム薄膜の外側に対向して配置されている薄膜のＸ
線露光用マスク４１に圧力変動を及ぼさないようにした
ビームラインを提供することを目的とする。
ウム薄膜を有するビームラインの揺動装置をＸ線露光用
マスク４１、ウエハ４２の設置場所から隔離して揺動装
置から発生する塵埃がウエハへの露光時の妨げにならな
いようにするとともに、ビームラインが揺動するときベ
リリウム薄膜の外側に対向して配置されている薄膜のＸ
線露光用マスク４１に圧力変動を及ぼさないようにした
ビームラインを提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】シンクロトロンからの放
射光を垂直方向に揺動するＸ線ミラーで反射させ、該反
射光をウエハに露光するＸ線リソグラフィ用ビームライ
ンにおいて、ビームライン外筒部１内に前記Ｘ線ミラー
で反射された放射光を包被する内筒２を設置し、該内筒
２の放射光出口端はビームラインから突設せる真空ベロ
ーズ５に接続せる放射光取出窓３に取付けられ、放射光
入口端はビームライン外筒端部または、さらに上流側ま
で突出して設置されており、該内筒２を前記ビームライ
ン外筒部１に設置した駆動装置６によりＸ線ミラーの揺
動に同期して揺動させることを特徴とする。
射光を垂直方向に揺動するＸ線ミラーで反射させ、該反
射光をウエハに露光するＸ線リソグラフィ用ビームライ
ンにおいて、ビームライン外筒部１内に前記Ｘ線ミラー
で反射された放射光を包被する内筒２を設置し、該内筒
２の放射光出口端はビームラインから突設せる真空ベロ
ーズ５に接続せる放射光取出窓３に取付けられ、放射光
入口端はビームライン外筒端部または、さらに上流側ま
で突出して設置されており、該内筒２を前記ビームライ
ン外筒部１に設置した駆動装置６によりＸ線ミラーの揺
動に同期して揺動させることを特徴とする。
【００１０】また、ビームライン外筒部１の大径フラン
ジ１'の外側に真空ベローズ５および放射光取出窓３を
囲んで段付ドラム１７の一端部が連結されており、該段
付ドム１７の他端部にはその内径が前記放射光取出窓３
の移動を許容できる大きさを有する円環板１８が連結さ
れ、放射光取出窓３の周縁部に前記円環板１８に対向
し、微小間隙を保持して円環板２１が連結されており、
一端部が大径フランジ１'に連結され前記段付ドラム１
７を囲み、他端部はＸ線露光装置を設置しているクリー
ンルームに接続されている気体室２２を設け、前記段付
ドラム１７の段部１９にドラム１７内と気体室２２を連
通する連通口２０を設けたことを特徴とする。
ジ１'の外側に真空ベローズ５および放射光取出窓３を
囲んで段付ドラム１７の一端部が連結されており、該段
付ドム１７の他端部にはその内径が前記放射光取出窓３
の移動を許容できる大きさを有する円環板１８が連結さ
れ、放射光取出窓３の周縁部に前記円環板１８に対向
し、微小間隙を保持して円環板２１が連結されており、
一端部が大径フランジ１'に連結され前記段付ドラム１
７を囲み、他端部はＸ線露光装置を設置しているクリー
ンルームに接続されている気体室２２を設け、前記段付
ドラム１７の段部１９にドラム１７内と気体室２２を連
通する連通口２０を設けたことを特徴とする。
【００１１】
【発明の実施の形態】図１は本発明に係るビームライン
の説明図である。１はミラーボックス３５の下流側に接
続されているビームラインの外筒部である。２は放射光
の光路の外側を包被する断面形状を有し、前記外筒部１
の中心軸付近に設置されている内筒であって、その一端
部にはフランジ３'により放射光取出窓３が結合されて
おり、他端部はビームラインの上流側に開放されてい
る。また、前記内筒２の上下面には外筒部１内空間に連
通する連通孔となる多数の孔２'、２'・・が穿設されて
いる。そして、放射光取出窓３の内筒２が当接している
箇所は放射光の断面形状に合わせて矩形または円弧状の
貫通口が穿設されており、表面にベリリウム薄膜４が溶
接または蝋付けされている。
の説明図である。１はミラーボックス３５の下流側に接
続されているビームラインの外筒部である。２は放射光
の光路の外側を包被する断面形状を有し、前記外筒部１
の中心軸付近に設置されている内筒であって、その一端
部にはフランジ３'により放射光取出窓３が結合されて
おり、他端部はビームラインの上流側に開放されてい
る。また、前記内筒２の上下面には外筒部１内空間に連
通する連通孔となる多数の孔２'、２'・・が穿設されて
いる。そして、放射光取出窓３の内筒２が当接している
箇所は放射光の断面形状に合わせて矩形または円弧状の
貫通口が穿設されており、表面にベリリウム薄膜４が溶
接または蝋付けされている。
【００１２】放射光取出窓３はフランジ３=により真空
ベローズ５の一端に連結されており、真空ベローズ５の
他端はフランジ１=によりビームライン外筒部１の大径
フランジ１'に連結されている。６は前記外筒部１の胴
部の両端下方側に設置され、内筒２をＸ線ミラー３６の
運動と同期して垂直方向に駆動するための駆動装置であ
る。駆動装置６はそれぞれ直線案内軸受け７を内装せる
軸受ケース８、先端部にフォーク９を有する案内軸１
０、軸受ケース８に設置せるリニアーアクチュエータ１
１、該アクチュエーター１１と案内軸１０とを連結する
連結板１２、真空ベローズ１３から構成されており、外
筒部１の胴部下方側のフランジ部１４、１４に各駆動装
置の軸受ケース８が設置されている。そして、内筒２の
連結板１５と案内軸１０のフォーク９とをピン１６で連
結している。なお、駆動装置６は放射光取出窓３にかか
る圧力差により内管２にかかる横荷重を支承している。
また、内筒２を揺動させるために図示の例では駆動装置
６を２個使用しているが、内筒２の放射光入口部がＸ線
ミラー３６の近傍まで延伸されておれば、駆動装置は１
個だけでもよい。
ベローズ５の一端に連結されており、真空ベローズ５の
他端はフランジ１=によりビームライン外筒部１の大径
フランジ１'に連結されている。６は前記外筒部１の胴
部の両端下方側に設置され、内筒２をＸ線ミラー３６の
運動と同期して垂直方向に駆動するための駆動装置であ
る。駆動装置６はそれぞれ直線案内軸受け７を内装せる
軸受ケース８、先端部にフォーク９を有する案内軸１
０、軸受ケース８に設置せるリニアーアクチュエータ１
１、該アクチュエーター１１と案内軸１０とを連結する
連結板１２、真空ベローズ１３から構成されており、外
筒部１の胴部下方側のフランジ部１４、１４に各駆動装
置の軸受ケース８が設置されている。そして、内筒２の
連結板１５と案内軸１０のフォーク９とをピン１６で連
結している。なお、駆動装置６は放射光取出窓３にかか
る圧力差により内管２にかかる横荷重を支承している。
また、内筒２を揺動させるために図示の例では駆動装置
６を２個使用しているが、内筒２の放射光入口部がＸ線
ミラー３６の近傍まで延伸されておれば、駆動装置は１
個だけでもよい。
【００１３】ビームライン外筒部１の大径フランジ１'
の外側に前記真空ベローズ５を囲んで段付円筒状ドラム
１７の一端部が連結され、他端部には内径が放射光取出
窓３の移動を許容できる内径を有する円環板１８が連結
されており、段部１９には連通口２０、２０が穿設され
ている。２１は放射光取出窓３の周縁部に連結されてい
る円環板で、放射光取出窓３の揺動時に前記円環板１８
に接触しない程度の微小間隙を保持している。２２は一
端部が大径フランジ１'に連結され、前記段付円筒状ド
ラム１７を囲み、他端部はＸ線露光用マスク、ウエハ等
の露光装置を設置しているクリーンルームに接続されて
いる気体室で内部には露光部分の雰囲気ガス（空気、Ｈ
ｅなど）が充満されている。したがって、円筒状段付き
ドラム１７内と前記気体室２２とは前記連通口２０、２
０で連通されている。
の外側に前記真空ベローズ５を囲んで段付円筒状ドラム
１７の一端部が連結され、他端部には内径が放射光取出
窓３の移動を許容できる内径を有する円環板１８が連結
されており、段部１９には連通口２０、２０が穿設され
ている。２１は放射光取出窓３の周縁部に連結されてい
る円環板で、放射光取出窓３の揺動時に前記円環板１８
に接触しない程度の微小間隙を保持している。２２は一
端部が大径フランジ１'に連結され、前記段付円筒状ド
ラム１７を囲み、他端部はＸ線露光用マスク、ウエハ等
の露光装置を設置しているクリーンルームに接続されて
いる気体室で内部には露光部分の雰囲気ガス（空気、Ｈ
ｅなど）が充満されている。したがって、円筒状段付き
ドラム１７内と前記気体室２２とは前記連通口２０、２
０で連通されている。
【００１４】
【発明の効果】本発明は上記のように、ビームライン外
筒部１内に放射光を案内する内筒２を設置し、Ｘ線ミラ
ー３６の動きに同期して内筒２を揺動させる駆動装置６
は気体室２２により最も清浄度を要求される露光装置と
隔離して設置されているため、塵埃の発生源である駆動
装置からの塵埃が、露光装置近辺に飛散することを防止
できる。また、内筒２の揺動時真空ベローズ５が連動し
ても段付円筒状ドラム１７により、雰囲気の圧力変動を
嫌うＸ線露光用マスク周辺雰囲気の圧力変動が抑制され
る。
筒部１内に放射光を案内する内筒２を設置し、Ｘ線ミラ
ー３６の動きに同期して内筒２を揺動させる駆動装置６
は気体室２２により最も清浄度を要求される露光装置と
隔離して設置されているため、塵埃の発生源である駆動
装置からの塵埃が、露光装置近辺に飛散することを防止
できる。また、内筒２の揺動時真空ベローズ５が連動し
ても段付円筒状ドラム１７により、雰囲気の圧力変動を
嫌うＸ線露光用マスク周辺雰囲気の圧力変動が抑制され
る。
【図１】本発明装置の実施態様の要部の断面図。
【図２】図１におけるＡ−Ａ断面図。
【図３】公知のシンクロトロン放射光によるＸ線露光装
置の概略説明図。
置の概略説明図。
【図４】公知の他のシンクロトロン放射光によるＸ線露
光装置の概略説明図。
光装置の概略説明図。
１ ビームライン外筒部 ２
内筒 ３ 放射光取出窓 ４
ベリリウム薄膜 ５ 真空ベローズ ６
駆動装置 ７ 直線案内軸受 ８
軸受ケース ９ フォーク １０
案内軸 １１ リニアーアクチュエータ １３
真空ベローズ １４ フランジ部 １５
連結板 １６ ピン １７
段付ドラム １８ 円環板 １９
段部 ２０ 連通口 ２１
円環板 ２２ 気体室 ３１
シンクロトロン ３２ 電子ビーム ３３
放射光 ３４ 真空ダクト ３５
ミラーボックス ３６ Ｘ線ミラー ３７
駆動装置 ３８ 真空ダクト ３９
フランジ ４０ ベリリウム薄膜 ４１
Ｘ線露光用マスク ４２ ウエハ ４３
Ｘ線ステッパ
内筒 ３ 放射光取出窓 ４
ベリリウム薄膜 ５ 真空ベローズ ６
駆動装置 ７ 直線案内軸受 ８
軸受ケース ９ フォーク １０
案内軸 １１ リニアーアクチュエータ １３
真空ベローズ １４ フランジ部 １５
連結板 １６ ピン １７
段付ドラム １８ 円環板 １９
段部 ２０ 連通口 ２１
円環板 ２２ 気体室 ３１
シンクロトロン ３２ 電子ビーム ３３
放射光 ３４ 真空ダクト ３５
ミラーボックス ３６ Ｘ線ミラー ３７
駆動装置 ３８ 真空ダクト ３９
フランジ ４０ ベリリウム薄膜 ４１
Ｘ線露光用マスク ４２ ウエハ ４３
Ｘ線ステッパ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平４−230900（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−194800（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−184300（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−172300（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−157399（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−125500（ＪＰ，Ａ) 特開 平８−292299（ＪＰ，Ａ) 特開 平９−61599（ＪＰ，Ａ) 特開 平10−282299（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G21K 5/02 G21K 1/06 H01L 21/027
Claims (3)
- 【請求項１】シンクロトロンからの放射光を垂直方向に
揺動するＸ線ミラーで反射させ、該反射光をウエハに露
光するＸ線リソグラフィ用ビームラインにおいて、ビー
ムライン外筒部（１）内に前記Ｘ線ミラーで反射された
放射光を包被する内筒（２）を設置し、該内筒（２）の
放射光出口端はビームライン外筒部（１）から突設せる
真空ベローズ（５）に接続せる放射光取出窓（３）に取
付けられ、前記ビームライン外筒部（１）に設置した駆
動装置（６）により、前記内筒（２）をＸ線ミラーの揺
動に同期して揺動させることを特徴とするＸ線リソグラ
フィ用ビームライン。 - 【請求項２】駆動装置（６）はビームライン外筒部
（１）から突設せるフランジ（１４）に固着されている
軸受ケース（８）、該軸受ケース（８）内をリニアアク
チュエータ（１１）により往復動する案内軸（１０）、
該案内軸（１０）を真空シールする真空ベローズ（１
３）、案内軸先端部を内筒（２）にピン（１６）で連結
した構造であることを特徴とする請求項１記載のＸ線リ
ソグラフィ用ビームライン。 - 【請求項３】ビームライン外筒部（１）の大径フランジ
（１'）の外側に真空ベローズ（５）および放射光取出
窓（３）を囲んで段付ドラム（１７）の一端部が連結さ
れており、該段付ドラム（１７）の他端部にはその内径
が前記放射光取出窓（３）の移動を許容できる大きさを
有する円環板（１８）が連結され、放射光取出窓（３）
の周縁部に前記円環板（１８）に対向し、微小間隙を保
持して円環板（２１）が連結されており、一端部が大径
フランジ（１'）に連結され前記段付ドラム（１７）を
囲み、他端部はＸ線露光装置を設置しているクリーンル
ームに接続されている気体室（２２）を設け、前記段付
ドラム（１７）の段部（１９）に段付ドラム（１７）内
と気体室（２２）を連通する連通口（２０）を設けたこ
とを特徴とする請求項１または請求項２記載のＸ線リソ
グラフィ用ビームライン。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9124699A JP3058603B2 (ja) | 1997-04-30 | 1997-04-30 | Ｘ線リソグラフィ用ビームライン |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9124699A JP3058603B2 (ja) | 1997-04-30 | 1997-04-30 | Ｘ線リソグラフィ用ビームライン |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10300898A JPH10300898A (ja) | 1998-11-13 |
| JP3058603B2 true JP3058603B2 (ja) | 2000-07-04 |
Family
ID=14891913
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9124699A Expired - Fee Related JP3058603B2 (ja) | 1997-04-30 | 1997-04-30 | Ｘ線リソグラフィ用ビームライン |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3058603B2 (ja) |
-
1997
- 1997-04-30 JP JP9124699A patent/JP3058603B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| JPH10300898A (ja) | 1998-11-13 |
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