JP3090708B2

JP3090708B2 - シンクロトロン放射光照射装置及びｘ線露光装置

Info

Publication number: JP3090708B2
Application number: JP03111961A
Authority: JP
Inventors: 利夫広川; 憲男内田; 理桑原; 信孝菊入
Original assignee: Toshiba Corp
Current assignee: Toshiba Corp
Priority date: 1990-05-31
Filing date: 1991-05-16
Publication date: 2000-09-25
Anticipated expiration: 2015-09-25
Also published as: JPH04230900A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、シンクロトロン（ＳＯ
Ｒ）の放射光及び放射光中のＸ線を利用した照射技術に
係わり、特に反射ミラーを振動させて照射領域の拡大を
はかったシンクロトロン放射光照射装置及びこれを用い
たＸ線露光装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、ＬＳＩのパターンを形成するには
光露光装置が用いられているが、ＬＳＩのパターンが益
々微細化されるに伴い、このようなパターンを光露光装
置で形成するのは限界に近くなっている。そこで最近、
光露光装置よりも微細なパターンを形成することが可能
なＸ線露光装置が開発されている。Ｘ線露光装置では、
高輝度のＸ線源が必要となるが、このようなＸ線源とし
てＳＯＲが注目されている。

【０００３】図１０は、Ｘ線源としてＳＯＲを用いた従
来のＸ線露光装置を示す概略構成図である。ＳＯＲ１か
ら放射されたＸ線ビーム２はＸ線反射ミラー３で反射さ
れ、Ｘ線取り出し窓４を通してＸ線マスク５に照射され
る。そして、Ｘ線マスク５を通してウェハ６上にＸ線を
照射することにより、ウェハ６にマスクパターンを露光
するものとなっている。ここで、ＳＯＲ１からのＸ線ビ
ーム２は一例として、略５ｍｍ×２５ｍｍの長方形であ
り、半導体製造装置の露光光として使用するには、Ｘ線
照射領域を露光領域と同じく２５ｍｍ×２５ｍｍ程度の
正方形に拡大する必要がある。このため、ミラー３を振
動させＸ線照射領域を拡大するようにしている。

【０００４】しかしながら、この種の装置にあっては、
次のような問題があった。即ち、ＳＯＲのビームライン
と露光装置のチャンバ（通常の作業エリア）を隔てるＸ
線取り出し窓は、一般にベリリウムの薄膜で形成され
る。このＸ線取り出し窓において、露光領域をカバーす
る２５ｍｍ×２５ｍｍ以上の大きさで、高真空のビーム
ラインと大気圧（又は低真空）のチャンバとの圧力差に
耐える強度を有するためには、ベリリウムの薄膜を厚く
する必要がある。Ｘ線に対するベリリウムの透過率はさ
ほど大きいものではないため、ベリリウムの膜厚を厚く
すると、Ｘ線の減衰が大きくなる。このため、露光時間
が長くなり、全体のスループットが低下することにな
る。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】このように従来、ＳＯ
Ｒを用いたＸ線照射技術においては、Ｘ線照射領域を拡
大するにはＸ線反射ミラーを振動させればよいが、十分
な露光領域を確保するためにＸ線取り出し窓の面積を大
きくするとベリリウム薄膜の膜厚を厚くせざるを得ず、
このためＸ線の減衰が大きくなる問題があった。また、
Ｘ線露光装置に適用した場合、Ｘ線の減衰が大きくなる
ことから、全体のスループットが低下する問題があっ
た。

【０００６】本発明は、上記事情を考慮してなされたも
ので、その目的とするところは、放射光取り出し窓の面
積を大きくすることなく十分な照射領域を確保すること
ができ、取り出し窓におけるシンクロトロン放射光の減
衰を少なくすることのできるシンクロトロン放射光照射
装置を提供することにある。

【０００７】また、本発明の他の目的は、Ｘ線取り出し
窓の面積を大きくすることなく十分な露光領域を確保す
ることができ、Ｘ線取り出し窓におけるＸ線の減衰を少
なくしてスループットの向上をはかり得るＸ線露光装置
を提供することにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明の骨子は、放射光
取り出し窓の面積を大きくする代わりに、取り出し窓を
放射光ビームの移動と共に移動させることにより、取り
出し窓の面積を大きくすることなく十分な照射領域を確
保することにある。

【０００９】即ち本発明は、シンクロトロンから放射さ
れたシンクロトロン放射光を反射する反射ミラーと、こ
の反射ミラーを動かしてシンクロトロン放射光の照射領
域を拡大するミラー駆動機構と、反射ミラーで反射され
たシンクロトロン放射光を真空外に取り出す取り出し窓
とを備えたシンクロトロン放射光照射装置において、取
り出し窓を反射ミラーを収容したシンクロトロン側ベー
スに柔軟構造物を介して接続すると共に、取り出し窓を
反射ミラーの動きに同期してシンクロトロン放射光照射
位置の移動と共に移動させる窓駆動機構を設け、取り出
し窓を通して取り出されたシンクロトロン放射光をシン
クロトロン側ベースに接続された被照射体上に照射する
ようにしたものである。さらに、取り出し窓を被照射体
の近傍に配置し、該窓とシンクロトロン側ベースに接続
され窓駆動機構により駆動される部分との間に延長管を
接続するようにしたものである。

【００１０】また本発明は、シンクロトロンから放射さ
れたＸ線を反射するＸ線反射ミラーと、このＸ線反射ミ
ラーを動かしてＸ線照射領域を拡大するミラー駆動機構
と、Ｘ線反射ミラーを収容したシンクロトロン側ベース
に柔軟構造物を介して接続され、Ｘ線反射ミラーで反射
されたＸ線を真空外に取り出すＸ線取り出し窓と、この
Ｘ線取り出し窓をＸ線反射ミラーの動きに同期して動か
し、該窓をＸ線照射位置の移動と共に移動させる窓駆動
機構とを備えたＸ線露光装置であり、Ｘ線取り出し窓を
通して取り出されたＸ線をシンクロトロン側ベースに接
続されたＸ線マスクに照射し、該マスクを通過したＸ線
を試料上に照射して該試料上にマスクパターンを露光す
るようにしたものである。さらに、Ｘ線取り出し窓をＸ
線マスクの近傍に配置し、該窓とシンクロトロン側ベー
スに接続され窓駆動機構により駆動される部分との間に
延長管を接続するようにしたものである。

【００１１】

【作用】本発明によれば、反射ミラーの動き（振動）に
同期して放射光取り出し窓を振動させることにより、放
射光ビームの移動と共に取り出し窓を移動させることが
できる。このため、反射ミラーからの放射光ビームは常
に取り出し窓を通して取り出されることになり、その結
果、取り出し窓を放射光照射領域と同じ面積まで大きく
したのと同様に、広い面積（露光領域全体）に亙って放
射光ビームを取り出すことができる。

【００１２】ここで、ベリリウム薄膜に対する放射光中
のＸ線の透過率は、膜の厚みに対して指数関数的に低下
する。２５ｍｍ×２５ｍｍ（直径３６ｍｍ）の露光領域
をカバーするベリリウムの薄膜の窓が、大気圧に耐える
には約３０μｍの厚みが必要であり、そこでのＸ線の透
過率は約２０％といわれており、高エネルギーのＸ線と
いえどもスループットへの影響が大きい。一方、ベリリ
ウム薄膜の窓をＳＯＲの放射光と同形の５ｍｍ×２５ｍ
ｍにした場合、大気圧に耐える必要な厚みは約２０μｍ
であり、そのときの透過率は３０〜４０％まで増加す
る。従って、取り出し窓の大きさをＸ線ビームと略同形
にして、Ｘ線ビームの移動と共に取り出し窓を移動させ
ることにより、取り出し窓におけるＸ線の減衰を少なく
することができる。これにより、露光時間が短縮され、
大幅なスループットの改善が期待できる。また、ベリリ
ウムの薄膜が小面積で済むことから、製造が容易となり
コストダウンにつながる。

【００１３】また、大気やヘリウム雰囲気に対するＸ線
透過率も無視できず、５０ｃｍのヘリウム雰囲気でのＸ
線の透過率６０％が、２５ｃｍでは８０％まで改善され
る。従って、露光時間短縮のためには取り出し窓からＸ
線マスク（被照射体）までの距離を短くするとよい。こ
のとき、取り出し窓の振動がマスク側に伝わると、マス
ク・ウェハの位置合わせに悪影響を及ぼすと共に露光ブ
レを招くが、取り出し窓を、シンクロトロン側のベース
に柔軟構造物を介して接続し、且つＸ線マスクをＸ線取
り出し窓とは別にシンクロトロン側ベースに接続するこ
とにより、この問題を解決することが可能である。

【００１４】

【実施例】以下、本発明の詳細を図示の実施例によって
説明する。

【００１５】図１は、本発明の第１の実施例に係わるＸ
線露光装置を模式的に示す概略構成図である。図中１１
はＸ線源としてのシンクロトロン（ＳＯＲ）であり、こ
のＳＯＲ１１から放射されたＸ線ビーム１２はＸ線反射
ミラー１３で反射され、Ｘ線取り出し窓１４を通して、
高真空のビームラインから通常の作業エリアへ導かれ
る。そして、Ｘ線マスク１５を通してＸ線レジストが塗
布されたウェハ１６上に照射される。ここで、Ｘ線反射
ミラー１３は、Ｘ線の照射領域を拡大するために、圧電
素子等のミラー駆動機構（図示せず）により振動される
ようになっている。また、Ｘ線取り出し窓１４は柔軟構
造物としてのベローズ１７によりビームライン側に接続
され、窓駆動機構１８によりＸ線反射ミラー１３の振動
に同期して振動されるものとなっている。

【００１６】図２は、図１の要部構成を拡大して示す断
面図である。前記ＳＯＲ１１から放射されＸ線反射ミラ
ー１３で反射されたＸ線ビーム１２は紙面左方向から入
射する。紙面左側のＳＯＲのベース２１には、柔軟構造
物としてのベローズ１７を介してＸ線取り出し窓１４が
接続されている。ＳＯＲ側のベース２１の内部２２は高
真空に保持され、マスク側のチャンバ２３の内部２４は
ほぼ大気圧のヘリウム雰囲気となってる。

【００１７】Ｘ線取り出し窓１４は、周辺に矩形リング
等を配置して補強されたベリリウム薄膜からなるもの
で、この窓１４は駆動棒２５に接続されている。駆動棒
２５はチャンバ２３のヘリウム雰囲気内で軸受け２６に
より上下方向に移動可能に支持されており、またチャン
バ２３の外に配置された窓駆動機構１８により上下方向
に移動されるものとなっている。なお、本実施例では、
ＳＯＲ１１からのＸ線ビーム１２の形状を５ｍｍ×２５
ｍｍの長方形とし、Ｘ線取り出し窓１４の大きさもこれ
と略同じとした。

【００１８】チャンバ２３にはマスク保持具３１が接続
され、このマスク保持具３１にＸ線マスク１５が取り付
けられている。そして、このマスク１５の右方にウェハ
ステージ３２に保持されたウェハ１６が対向配置されて
いる。なお、図２において、２７はベース２１及びチャ
ンバ２３を支持するコンクリート等の支持台、３３はマ
スク保持具３１及びウェハステージ３２を載置した防振
架台を示している。

【００１９】このような構成であれば、ＳＯＲ１１から
放射されたＸ線ビーム１２は、Ｘ線反射ミラー１３で反
射されると共に、ミラー１３の振動により紙面上下方向
に振られる。Ｘ線取り出し窓１４の大きさはＸ線ビーム
１２と略同じであるが、窓１４がミラー１３の振動に同
期して上下方向に振動されるので、Ｘ線ビーム１２は窓
１４以外の部分で遮られることはなく、常に窓１４を通
して取り出されることになる。Ｘ線取り出し窓１４を通
して取り出されたＸ線ビーム１２は、Ｘマスク１５に照
射され、Ｘ線マスク１５のパターンに応じたＸ線がウェ
ハ１６に照射される。ウェハ１６上にはＸ線レジストが
塗布されているので、このレジストにはマスクパターン
が露光されることになる。

【００２０】ここで、本実施例ではＸ線取り出し窓１４
をＸ線反射ミラー１３の振動に同期して振動させてい
る。このため、Ｘ線取り出し窓１４の面積をＸ線ビーム
１２の大きさと略同じとしても、上下方向に振られるＸ
線ビーム１２を遮ることなく常にＸ線取り出し窓１４に
通すことができる。即ち、Ｘ線取り出し窓１４の面積の
数倍の露光領域を確保することができる。そしてこの場
合、Ｘ線取り出し窓１４の面積を大きくする必要がない
ことから、Ｘ線取り出し窓１４としてのベリリウム薄膜
の膜厚を薄くすることができ、Ｘ線透過率を上げること
ができる。これにより、露光時間の短縮、つまり露光ス
ループットの向上をはかることが可能となる。

【００２１】また、ベリリウムの面積が小さくてよいこ
とから、ベリリウム薄膜を均一に形成することが容易で
あり、露光ムラの発生を未然に防止することができる。
さらに、Ｘ線取り出し窓１４をＳＯＲ側のベース２１に
ベローズ１７を介して接続しているので、Ｘ線取り出し
窓１４の振動がマスク１５やウェハ１６等に伝わるのを
防止することができる。このことから、Ｘ線取り出し窓
１４からマスク１５までの距離を短くすることができ、
これによりヘリウム雰囲気内におけるＸ線の減衰をも低
減することが可能となる。図３は、本発明の第２の実施
例の要部構成を示す断面図である。なお、図２と同一部
分には同一符号を付して、その詳しい説明は省略する。

【００２２】この実施例が先に説明した第１の実施例と
異なる点は、Ｘ線取り出し窓１４を支持する軸受け２６
を通常の作業エリアの外に出したものである。即ち、Ｘ
線取り出し窓１４の駆動棒２５をチャンバ２３の外に引
き出し、大気中で駆動棒２５を軸受け２６により支持し
ている。このような構成であっても、先の第１の実施例
と同様の効果が得られる。図４は、本発明の第３の実施
例の要部構成を示す断面図である。なお、図２と同一部
分には同一符号を付して、その詳しい説明は省略する。

【００２３】この実施例が第１及び第２の実施例と異な
る点は、窓駆動機構１８，軸受け２６を共にヘリウム雰
囲気２４内に収容したことにある。この場合、駆動棒２
５のシールが不要となり、より簡便な構成で、第１，第
２の実施例と同様の効果が得られる。図５は、本発明の
第４の実施例の要部構成を示す断面図である。なお、図
２と同一部分には同一符号を付して、その詳しい説明は
省略する。

【００２４】この実施例が先の第２の実施例と異なる点
は、ＳＯＲ側のビームラインと通常の作業エリアとの間
に柔軟構造物としてのベローズ２８を設けたものであ
る。このようにビームラインと作業エリアとをベローズ
２８を介して接続することにより、Ｘ線取り出し窓１４
の振動がマスク側に伝達するのをより確実に防止するこ
とができる。

【００２５】図６は、本発明の第５の実施例の要部構成
を示す断面図である。なお、図２と同一部分には同一符
号を付して、その詳しい説明は省略する。この実施例
は、Ｘ線の減衰を極力少なくするために、Ｘ線取り出し
窓１４をＸ線マスク１５に近付けたものである。

【００２６】Ｘ線取り出し窓１４を窓駆動機構１８，軸
受け２６を含めてＸ線マスク１５の近くに設けることは
そのスペースの関係から無理があり、かつ振動を遮断す
る意味からも窓駆動機構１８及び軸受け２６はあまり近
付けない方が良い。しかし、Ｘ線の減衰を考えると、Ｘ
線がヘリウム雰囲気２４を通過する距離は短いほど良い
ため、Ｘ線取り出し窓１４はＸ線マスク１５に近い方が
良い。そこで本実施例では、駆動棒２５に延長管３５の
一端を接続し、延長管３５の他端にＸ線取り出し窓１４
を接続している。これにより、Ｘ線減衰の減少と振動遮
断の双方を満足させることができる。

【００２７】図７は本発明の第６の実施例で、Ｘ線露光
装置が関与するＳＯＲ利用施設における全体構成を示す
ブロック図である。なお、図１と同一部分には同一符号
を付して、その詳しい説明は省略する。

【００２８】ＳＯＲは露光装置のみならず、後述するよ
うな各種の用途に利用することができ、また１台のＳＯ
Ｒで複数のＸ線を取り出すことが可能であり、中央制御
装置６０の管理の下に複数のＸ線露光装置７０が設置さ
れることになる。より具体的には、中央制御装置６０の
管理の下にＳＯＲ制御装置６１があり、このＳＯＲ制御
装置６１によりＳＯＲ部がコントロールされる。さら
に、Ｘ線露光装置７０では、駆動制御装置７１によりＸ
線取り出し部の各駆動機構１３，１８がコントロールさ
れ、露光制御装置７２により露光部のウェハステージ３
２がコントロールされるものとなっている。

【００２９】なお、本発明は上述した各実施例に限定さ
れるものではない。実施例では、長方形の窓を上下方向
に振動させたが、この代りに図８（ａ）に示すように、
円板体５１の一部にＸ線取り出し窓１４を設け、この円
板体５１を往復運動させるようにしてもよい。この円板
体５１の外周部に磁性流体シール５２を設置すれば、窓
１４の可動性と気密性を十分に確保することができる。
また、実施例ではＸ線反射ミラー１３の振動に同期し
て、Ｘ線取り出し窓１４を振動させるようにしたが、必
ずしも同期させる必要はなく、ミラー１３の振動よりも
短い周期で振動させるようにしてもよい。但し、この場
合はＸ線が窓以外の部分で遮られる時間帯が存在するの
で、全体としてのＸ線透過効率は低下する。さらに、Ｘ
線透過効率の低下を許容するのであれば、図８（ｂ）に
示すように、円板体５１に複数のＸ線取り出し窓１４を
設けておき、円板体５１を回転させるようにしてもよ
い。この場合、Ｘ線透過効率は低下するものの、Ｘ線取
り出し窓１４は往復運動の代わりに回転運動となるの
で、窓１４の運動に起因する振動の発生を極めて小さく
することが可能となる。

【００３０】また、実施例ではＸ線反射ミラー１３の振
動（回動）に同期してＸ線取り出し窓１４を振動させる
ようにしたが、図９に示すように、Ｘ線反射ミラー１３
を平行移動と共に傾きを変えるように駆動することによ
り、Ｘ線取り出し窓１４を振動させる必要がなくなる。
また、Ｘ線取り出し窓に用いる材料はベリリウムに限る
ものではなく、Ｘ線透過率が高く、且つ真空と大気又は
減圧雰囲気との圧力差に絶え得るものであればよい。さ
らに、Ｘ線取り出し窓の窓駆動機構としては、モータや
圧電素子等を用いることができる。その他、本発明の要
旨を逸脱しない範囲で、種々変形して実施することがで
きる。

【００３１】なお、以上の説明ではＳＯＲからの放射光
としてのＸ線領域の放射光（Ｘ線）を利用して、Ｘ線リ
ソグラフィ用の装置を示したが、本発明の適用範囲は、
このＸ線露光装置に限定されるものではなく、Ｘ線を利
用するＸ線顕微鏡にも同様に適用できる。即ち、Ｘ線リ
ソグラフィと同様の手法を取る密着Ｘ線顕微鏡や、Ｘ線
反射鏡のような光学系を用いて試料を透過しＸ線の像を
拡大投影する投影型Ｘ線顕微鏡、また特にＸ線を試料の
一点に集光しその点を走査してＸ線透過率を測定する走
査型Ｘ線顕微鏡は、走査中に試料位置が変位しない方が
望ましいため本発明は有効である。

【００３２】また、Ｘ線を利用する医学診断用，生命科
学，物質科学，材料評価技術用の高輝度Ｘ線照射装置と
しても適用が可能である。さらには、ＳＯＲからの放射
光として自由電子レーザ（大出力，高効率，広い波長可
変性といった特徴を持つ）を利用し、光ＣＶＤの照射装
置或いはレーザ加工，レーザ加速器、また慣性核融合ド
ライバーやトマカクプラズマ加熱源，同位体分離に代表
される原子力の分野、原子，分子の基盤的研究分野等へ
の適用も考えられる。

【００３３】

【発明の効果】以上詳述したように本発明によれば、Ｘ
線取り出し窓の面積を大きくする代わりに、Ｘ線取り出
し窓をＸ線反射ミラーの動きに同期して移動させること
によって、Ｘ線取り出し窓の面積を大きくすることなく
十分なＸ線照射領域を確保することができる。従って、
Ｘ線取り出し窓におけるＸ線の減衰を少なくして全体と
しての露光スループットの向上をはかることが可能とな
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施例に係わるＸ線露光装置を
模式的に示す概略構成図、

【図２】第１の実施例装置の要部構成を拡大して示す断
面図、

【図３】本発明の第２の実施例の要部構成を示す断面
図、

【図４】本発明の第３の実施例の要部構成を示す断面
図、

【図５】本発明の第４の実施例の要部構成を示す断面
図、

【図６】本発明の第５の実施例の要部構成を示す断面
図、

【図７】本発明の第６の実施例の概略構成を模式的に示
すブロック図、

【図８】本発明の変形例を説明するための斜視図、

【図９】本発明の別の変形例を説明するための断面図、

【図１０】従来のＸ線露光装置を示す概略構成図。

【符号の説明】

１１…シンクロトロン（ＳＯＲ）、１２…Ｘ線ビーム、１３…Ｘ線反射ミラー、１４…Ｘ線取り出し窓、１５…Ｘ線マスク、１６…ウェハ、１７，２８…ベローズ（柔軟構造物）、１８…窓駆動機構、２１…ＳＯＲ側のベース、２３…チャンバ、２５…駆動棒、２６…軸受け。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者菊入信孝神奈川県川崎市幸区小向東芝町１番地株式会社東芝総合研究所内 (56)参考文献特開平２−184799（ＪＰ，Ａ) 特開平２−234498（ＪＰ，Ａ) 特開平４−118600（ＪＰ，Ａ) 実開平４−57800（ＪＰ，Ｕ) 実開平４−64800（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) G21K 5/02 G21K 5/00 H05H 13/04

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】シンクロトロンから放射されたシンクロト
ロン放射光を反射する反射ミラーと、この反射ミラーを
動かしてシンクロトロン放射光の照射領域を拡大するミ
ラー駆動機構と、前記反射ミラーを収容したシンクロト
ロン側ベースに接続されて前記シンクロトロン放射光を
照射すべき被照射体に近接配置され、前記反射ミラーで
反射されたシンクロトロン放射光を真空外に取り出す取
り出し窓と、一方が前記シンクロトロン側ベースに柔軟
構造物を介して接続され、他方が前記取り出し窓に接続
された延長管と、この延長管を前記反射ミラーの動きに
同期して上下方向に平行移動させ、前記窓をシンクロト
ロン放射光照射位置の移動と共に移動させる窓駆動機構
とを具備してなり、前記取り出し窓を通して取り出され
たシンクロトロン放射光を前記被照射体上に照射するこ
とを特徴とするシンクロトロン放射光照射装置。
【請求項２】シンクロトロンから放射されたＸ線を反射
するＸ線反射ミラーと、このＸ線反射ミラーを動かして
Ｘ線照射領域を拡大するミラー駆動機構と、前記Ｘ線反
射ミラーを収容したシンクロトロン側ベースに接続され
て前記Ｘ線を照射すべきＸ線マスクに近接配置され、前
記Ｘ線反射ミラーで反射されたＸ線を真空外に取り出す
Ｘ線取り出し窓と、一方が前記シンクロトロン側ベース
に柔軟構造物を介して接続され、他方が前記Ｘ線取り出
し窓に接続された延長管と、この延長管を前記Ｘ線反射
ミラーの動きに同期して上下方向に平行移動させ、前記
窓をＸ線照射位置の移動と共に移動させる窓駆動機構と
を具備してなり、前記Ｘ線取り出し窓を通して取り出さ
れたＸ線を前記Ｘ線マスクに照射し、該マスクを通過し
たＸ線を試料上に照射して該試料上にマスクパターンを
露光することを特徴とするＸ線露光装置。
【請求項３】前記Ｘ線取り出し窓は、真空と大気の圧力
差に耐える圧力隔壁の役割を果たすもので、ベリリウム
の薄膜からなるものであることを特徴とする請求項２記
載のＸ線露光装置。
【請求項４】前記シンクロトロンから前記Ｘ線取り出し
窓までが高真空で、前記Ｘ線取り出し窓から前記Ｘ線マ
スクまでが略大気圧又は減圧されたヘリウム雰囲気にあ
り、前記Ｘ線取り出し窓はＸ線取り出し窓からＸ線マス
クまでの雰囲気内又は外に配置された軸受けで支持さ
れ、且つ前記窓駆動機構はＸ線取り出し窓からＸ線マス
クまでの雰囲気内又は外に配置されていることを特徴と
する請求項２又は３に記載のＸ線露光装置。