JP2868542B2 - 真空配管 - Google Patents
真空配管Info
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- JP2868542B2 JP2868542B2 JP24329289A JP24329289A JP2868542B2 JP 2868542 B2 JP2868542 B2 JP 2868542B2 JP 24329289 A JP24329289 A JP 24329289A JP 24329289 A JP24329289 A JP 24329289A JP 2868542 B2 JP2868542 B2 JP 2868542B2
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Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、Ｘ線露光装置等、超高真空が必要とされる
配管に関し、特に除振作用が必要とされる真空配管に関
する。
配管に関し、特に除振作用が必要とされる真空配管に関
する。
［従来の技術］ Ｘ線露光装置において、マスクやウエハおよびマスク
とウエハの位置合せステージ等を気密なステージ収納室
に収納し、Ｘ線源と上記ステージ収納室の間に遮断窓を
設け、Ｘ線源から遮断窓までのビームポートは超高真
空、上記ステージ収納室には、Ｘ線の吸収の少ない気体
（例えばHe）を減圧して充填し、露光を行うＸ線露光装
置が特開昭54−24267号等に記載されている。
とウエハの位置合せステージ等を気密なステージ収納室
に収納し、Ｘ線源と上記ステージ収納室の間に遮断窓を
設け、Ｘ線源から遮断窓までのビームポートは超高真
空、上記ステージ収納室には、Ｘ線の吸収の少ない気体
（例えばHe）を減圧して充填し、露光を行うＸ線露光装
置が特開昭54−24267号等に記載されている。
このような露光装置では、ビームポートとステージ収
納室との接続を組立て誤差等を吸収するためのベローズ
を用いて行われる。
納室との接続を組立て誤差等を吸収するためのベローズ
を用いて行われる。
第３図に従来のシンクロトロン軌道放射光からのＸ線
を光源として利用するＸ線露光装置におけるビームポー
トとステージ収納室の接続部の配管概略構成を示す。
を光源として利用するＸ線露光装置におけるビームポー
トとステージ収納室の接続部の配管概略構成を示す。
同図において、１はステージ収納室であり、マスクや
ウエハおよびマスクとウエハの位置合せステージ等（不
図示）が収納される（ステージ収納室は不図示の給排ポ
ンプによって減圧雰囲気を保っている）。
ウエハおよびマスクとウエハの位置合せステージ等（不
図示）が収納される（ステージ収納室は不図示の給排ポ
ンプによって減圧雰囲気を保っている）。
２はステージ収納室１の床からの振動を抑える除振ユ
ニット、３はＸ線を導くビームポート、12はビームポー
ト３とステージ収納室１との差圧に耐える遮断窓、４は
ビームポート３とステージ収納室１とを接続するベロー
ズ、10はＯリング、９は数ｍ〜十数ｍのビームポート３
を支持する支持ポール、18は超高真空ポンプでバルブ17
を介してビームポート３に接続されている。
ニット、３はＸ線を導くビームポート、12はビームポー
ト３とステージ収納室１との差圧に耐える遮断窓、４は
ビームポート３とステージ収納室１とを接続するベロー
ズ、10はＯリング、９は数ｍ〜十数ｍのビームポート３
を支持する支持ポール、18は超高真空ポンプでバルブ17
を介してビームポート３に接続されている。
上記構成においてＸ線露光を行うために、ビームポー
ト３内を超高真空ポンプ18で超高真空以上に保つ。
ト３内を超高真空ポンプ18で超高真空以上に保つ。
またベローズ４は、管内が超高真空で外側は大気圧の
ため、１気圧の差圧に耐え、さらに放出ガスの非常に少
ない材質（例えばステンレス）のベローズを使用する。
ため、１気圧の差圧に耐え、さらに放出ガスの非常に少
ない材質（例えばステンレス）のベローズを使用する。
［発明が解決しようとする課題］ しかしながら、上記従来例で、マスクとウエハの位置
合せステージ等を高精度に保つためには、超高真空ポン
プ18や数ｍ〜十数ｍのビームポート３を支える支持ポー
ル９からビームポート３に伝わってくる振動をステージ
収納室１に入るまでに断ち切らなくてはならない。
合せステージ等を高精度に保つためには、超高真空ポン
プ18や数ｍ〜十数ｍのビームポート３を支える支持ポー
ル９からビームポート３に伝わってくる振動をステージ
収納室１に入るまでに断ち切らなくてはならない。
しかし、従来の構成ではベローズ４が差圧760Torrに
耐えるため、板厚を厚くしなければならないので、上記
ベローズ４で特に半径方向の振動を断ち切ることができ
ない。そこで考えられる手段として、第４図に防振手段
を介して接続されたベローズを示す。同図は、ビームポ
ート３にＯリング10を介してシールし、接続されたベロ
ーズ４とステージ収納室１との間に固定板19により固定
された防振用ゴム20を接続している。
耐えるため、板厚を厚くしなければならないので、上記
ベローズ４で特に半径方向の振動を断ち切ることができ
ない。そこで考えられる手段として、第４図に防振手段
を介して接続されたベローズを示す。同図は、ビームポ
ート３にＯリング10を介してシールし、接続されたベロ
ーズ４とステージ収納室１との間に固定板19により固定
された防振用ゴム20を接続している。
上記構成によりビームポート３からの振動は、断つこ
とができる。しかし振動を断つと同時に超高真空に耐え
るためには、放出ガスが多いゴムを使用することは好ま
しくない。
とができる。しかし振動を断つと同時に超高真空に耐え
るためには、放出ガスが多いゴムを使用することは好ま
しくない。
本発明は上記従来技術の問題点に鑑みてなされたもの
であって、防振すべき容器に対し高真空ポンプ等からの
振動伝達を遮断するとともに高真空状態でガス等を発生
しない薄型のベローズを使用可能とした真空配管の提供
を目的とする。
であって、防振すべき容器に対し高真空ポンプ等からの
振動伝達を遮断するとともに高真空状態でガス等を発生
しない薄型のベローズを使用可能とした真空配管の提供
を目的とする。
［課題を解決するための手段および作用］ 本発明によればベローズ４の外側に防振機能をもった
ゴムを具備した配管を設けて２重構造にし、ベローズの
内側と外側とに連通管を接続する。そして排気シーケン
スはまず、ベローズの内外を共通の真空排気手段により
同時に低真空に引き、その後ベローズの内側だけ超高真
空に引くという順序で行う。これにより、ベローズにか
かる差圧が大きく減り、ベローズの板厚を従来使用して
いた１気圧に耐える超高真空用の板厚の厚いベローズを
使用せず、剛性の非常に小さい板厚の薄いベローズを使
用することができ、防振効果のある放出ガスの少ない超
高真空ベローズを可能としたものである。
ゴムを具備した配管を設けて２重構造にし、ベローズの
内側と外側とに連通管を接続する。そして排気シーケン
スはまず、ベローズの内外を共通の真空排気手段により
同時に低真空に引き、その後ベローズの内側だけ超高真
空に引くという順序で行う。これにより、ベローズにか
かる差圧が大きく減り、ベローズの板厚を従来使用して
いた１気圧に耐える超高真空用の板厚の厚いベローズを
使用せず、剛性の非常に小さい板厚の薄いベローズを使
用することができ、防振効果のある放出ガスの少ない超
高真空ベローズを可能としたものである。
［実施例］ 以下、図面を用いて本発明の実施例を説明する。第１
図は本発明の一実施例に係るＸ線露光装置の配管構成図
である。同図において１はステージ収納室であり、マス
クやウエハおよびマスクとウエハの位置合せステージ等
（不図示）が収納される（ステージ収納室は、不図示の
給排ポンプによって減圧雰囲気を保っている）。
図は本発明の一実施例に係るＸ線露光装置の配管構成図
である。同図において１はステージ収納室であり、マス
クやウエハおよびマスクとウエハの位置合せステージ等
（不図示）が収納される（ステージ収納室は、不図示の
給排ポンプによって減圧雰囲気を保っている）。
２はステージ収納室の床からの振動を抑える除去ユニ
ット、３はＸ線を導くビームポート、このビームポート
３の矢印16の方向からＸ線が入る。
ット、３はＸ線を導くビームポート、このビームポート
３の矢印16の方向からＸ線が入る。
４はビームポート３とステージ収納室１とを接続し、
気体の拡散を防止する板厚の非常に薄いベローズ、10は
Ｏリング、５はビームポート３に接続された配管フラン
ジ、６は配管フランジ５とステージ収納室とを接続し、
且つ除振機能を備えたゴム、また配管フランジ５と、ゴ
ム６の内側を密閉状態に保つためのゴム固定フランジ
７、８が各々配管フランジ５とステージ収納室１とに固
定されている。
気体の拡散を防止する板厚の非常に薄いベローズ、10は
Ｏリング、５はビームポート３に接続された配管フラン
ジ、６は配管フランジ５とステージ収納室とを接続し、
且つ除振機能を備えたゴム、また配管フランジ５と、ゴ
ム６の内側を密閉状態に保つためのゴム固定フランジ
７、８が各々配管フランジ５とステージ収納室１とに固
定されている。
９は十数ｍあるビームポート３を支える支持ポール、
12はビームポート３とステージ収納室１との差圧に耐え
る遮断窓、13はベローズ４の内側とベローズ４、配管フ
ランジ５との間を低真空用バルブ11、21を介して連ぐ連
通管であり油回転ポンプ等の低真空ポンプ14に接続され
ている。
12はビームポート３とステージ収納室１との差圧に耐え
る遮断窓、13はベローズ４の内側とベローズ４、配管フ
ランジ５との間を低真空用バルブ11、21を介して連ぐ連
通管であり油回転ポンプ等の低真空ポンプ14に接続され
ている。
また、15はステージ収納室１に接続された低真空用バ
ルブであり、別の油回転ポンプ等の低真空ポンプ14に接
続されている。
ルブであり、別の油回転ポンプ等の低真空ポンプ14に接
続されている。
17はビームポート３に接続された高真空用バルブ、18
は高真空用バルブ17に接続されたターボ分子ポンプ、イ
オンポンプ、クライオポンプ等の高真空ポンプである。
16はＸ線源からのＸ線の入る方向を示す。
は高真空用バルブ17に接続されたターボ分子ポンプ、イ
オンポンプ、クライオポンプ等の高真空ポンプである。
16はＸ線源からのＸ線の入る方向を示す。
上記構成において超高真空用除振ベローズとするため
の排気手順を追って説明する。
の排気手順を追って説明する。
まず、超高真空用バルブ17と２つの低真空用バルブ1
1、21を閉めておき、超高真空ポンプ18、低真空ポンプ1
4を始動させる。そしてポンプの回転が安定するのを確
かめて、２つの低真空用バルブ11、21を同時に開く。
1、21を閉めておき、超高真空ポンプ18、低真空ポンプ1
4を始動させる。そしてポンプの回転が安定するのを確
かめて、２つの低真空用バルブ11、21を同時に開く。
ビームポート内と配管フランジ５内が所定の圧力（例
えば0.1Torr以下）に引けたことを確認すると、ビーム
ポート３に接続された方の低真空用バルブ11を閉める。
ここで配管フランジに接続された低真空用バルブ21はそ
のまま開いておく。
えば0.1Torr以下）に引けたことを確認すると、ビーム
ポート３に接続された方の低真空用バルブ11を閉める。
ここで配管フランジに接続された低真空用バルブ21はそ
のまま開いておく。
そして最後に超高真空用バルブ17を開いてビームポー
ト３内を超高真空に引く。
ト３内を超高真空に引く。
上記排気手順で真空引きを行うとベローズ４に差圧が
ほとんどかかることなくビームポート３内を超高真空に
引ける。また配管フランジ５とベローズ４の間は、0.1T
orrという低真空でよく、防振材としてゴム等を使用す
ることができ、自由度が大きくなる。
ほとんどかかることなくビームポート３内を超高真空に
引ける。また配管フランジ５とベローズ４の間は、0.1T
orrという低真空でよく、防振材としてゴム等を使用す
ることができ、自由度が大きくなる。
本実施例により、ベローズ内を超高真空に保ち、且つ
ビームポート３を伝わる振動を断ち切れる超高真空用ベ
ローズが得られる。
ビームポート３を伝わる振動を断ち切れる超高真空用ベ
ローズが得られる。
上記実施例は、Ｘ線露光装置におけるビームポートと
ステージ収納室の接続部の例を示したが、超高真空ポン
プと振動を嫌う超高真空用密閉容器との間に配管であっ
てもよい。第２図に本発明の第２の実施例として、超高
真空用密閉容器と超高真空ポンプとを連通する配管構成
図を示す。
ステージ収納室の接続部の例を示したが、超高真空ポン
プと振動を嫌う超高真空用密閉容器との間に配管であっ
てもよい。第２図に本発明の第２の実施例として、超高
真空用密閉容器と超高真空ポンプとを連通する配管構成
図を示す。
22は超高真空用密閉容器であり、超高真空に引くため
ベローズ４、超高真空用パイプ23、超高真空用バルブ24
を介して超高真空ポンプ18に接続されている。
ベローズ４、超高真空用パイプ23、超高真空用バルブ24
を介して超高真空ポンプ18に接続されている。
13は超高真空用密閉容器22とベローズ４、配管フラン
ジ５との間を低真空用バルブ11、21を介して連ぐ連通管
であり、低真空ポンプ14に接続されている。上記構成に
おいてベローズ４に差圧をかけずに、密閉容器22を高真
空に排気するための排気手順を説明する。
ジ５との間を低真空用バルブ11、21を介して連ぐ連通管
であり、低真空ポンプ14に接続されている。上記構成に
おいてベローズ４に差圧をかけずに、密閉容器22を高真
空に排気するための排気手順を説明する。
まず、超高真空用バルブ17と低真空用バルブ11、21を
閉めておき、超高真空ポンプ18、低真空ポンプ14を始動
させる。そしてポンプの回転が安定するのを確かめて２
つの低真空バルブ11、21を同時に開く。
閉めておき、超高真空ポンプ18、低真空ポンプ14を始動
させる。そしてポンプの回転が安定するのを確かめて２
つの低真空バルブ11、21を同時に開く。
配管フランジ５内と超高真空用密閉容器22内が所定の
圧力（例えば0.1Torr以下）に引けたことを確認する
と、低真空用バルブ21を閉める。そして最後に超高真空
用バルブ17を開いて超高真空用密閉容器22を超高真空に
引く。
圧力（例えば0.1Torr以下）に引けたことを確認する
と、低真空用バルブ21を閉める。そして最後に超高真空
用バルブ17を開いて超高真空用密閉容器22を超高真空に
引く。
以上第２の実施例でも第１の実施例と同様の効果が得
られる。また今回の実施例で組み込まれているゴム６
は、除振機能を持ち、大気と低真空との差圧に耐え、低
真空を維持できる材質の配管であれば、ゴムに限定はし
ない。
られる。また今回の実施例で組み込まれているゴム６
は、除振機能を持ち、大気と低真空との差圧に耐え、低
真空を維持できる材質の配管であれば、ゴムに限定はし
ない。
更に、ベローズも超高真空と低真空の差圧に耐え、除
振機能を具備した放出ガスの少ない配管であれば、ベロ
ーズに限定しない。材質も金属に限定しない。
振機能を具備した放出ガスの少ない配管であれば、ベロ
ーズに限定しない。材質も金属に限定しない。
［発明の効果］ 以上説明したように、ガスの放出拡散を防止する薄い
ベローズと、その外側に設けた大気と真空の差圧に耐え
る配管との２重構造にし、外側の配管に防振機能をもっ
たゴムを設けることにより、真空下でガスを発生するこ
となく、超高真空に保つと同時に除振ができるという効
果がある。
ベローズと、その外側に設けた大気と真空の差圧に耐え
る配管との２重構造にし、外側の配管に防振機能をもっ
たゴムを設けることにより、真空下でガスを発生するこ
となく、超高真空に保つと同時に除振ができるという効
果がある。
第１図は、本発明の一実施例であるＸ線露光装置の配管
構成図、 第２図は、本発明の第２の実施例である超高真空用密閉
容器の配管構成図、 第３図は、従来のＸ線露光装置における配管構成図、 第４図は、従来の低真空用除振ベローズの構成図であ
る。 1:ステージ収納室、 2:除振ユニット、 3:ビームポート、 4:ベローズ、 5:配管フランジ、 6:ゴム、 7:ゴム固定フランジ、 8:ゴム固定フランジ、 9:支持ポール、 10:Oリング、 11:低真空用バルブ、 12:遮断窓、 13:連通管、 14:低真空ポンプ、 15:低真空用バルブ、 16:X線入射方向、 17:超高真空用バルブ、 18:超高真空ポンプ、 19:固定板、 20:防振用ゴム、 21:低真空用バルブ、 22:超高真空用密閉容器、 23:超高真空用パイプ。
構成図、 第２図は、本発明の第２の実施例である超高真空用密閉
容器の配管構成図、 第３図は、従来のＸ線露光装置における配管構成図、 第４図は、従来の低真空用除振ベローズの構成図であ
る。 1:ステージ収納室、 2:除振ユニット、 3:ビームポート、 4:ベローズ、 5:配管フランジ、 6:ゴム、 7:ゴム固定フランジ、 8:ゴム固定フランジ、 9:支持ポール、 10:Oリング、 11:低真空用バルブ、 12:遮断窓、 13:連通管、 14:低真空ポンプ、 15:低真空用バルブ、 16:X線入射方向、 17:超高真空用バルブ、 18:超高真空ポンプ、 19:固定板、 20:防振用ゴム、 21:低真空用バルブ、 22:超高真空用密閉容器、 23:超高真空用パイプ。
フロントページの続き (72)発明者 水澤 伸俊 東京都大田区下丸子３丁目30番２号 キ ヤノン株式会社内 (72)発明者 宇田 幸二 東京都大田区下丸子３丁目30番２号 キ ヤノン株式会社内 (72)発明者 鵜澤 俊一 東京都大田区下丸子３丁目30番２号 キ ヤノン株式会社内 (56)参考文献 特開 昭50−124098（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−199962（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−69383（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) G21K 1/00 - 7/00 H05H 3/00 - 15/00
Claims (3)
- 【請求項１】防振すべき容器と真空通路とをベローズお
よび該ベローズの外周を気密的に覆う外側配管を含む二
重継手構造を介して連結した構成を備えた真空配管にお
いて、前記外側配管は防振機能を持ったゴムを介して前
記容器と真空通路とを連結すると共に、前記ベローズと
外側配管との間の気密空間およびベローズの内側の空間
の各々をバルブを介して共通の真空排気手段に接続した
ことを特徴とする真空配管。 - 【請求項２】前記真空通路は高真空バルブを介して高真
空ポンプに接続され、前記気密空間およびベローズの内
側の空間は各々低真空バルブを介して共通の低真空ポン
プに接続されており、前記高真空バルブを閉じ前記各低
真空バルブを開いて前記低真空ポンプを駆動し前記ベロ
ーズの外側の気密空間およびベローズの内側を同時に真
空排気し、次に前記気密空間に連通する低真空バルブを
開けたままベローズ内側に連通する低真空バルブを閉じ
るとともに前記高真空バルブを開いて高真空ポンプによ
り前記真空通路を高真空状態にすることを特徴とする請
求項１記載の真空配管。 - 【請求項３】前記容器はＸ線露光装置のステージ収容室
であり、前記真空通路はＸ線を導くビームポートである
ことを特徴とする請求項１記載の真空配管。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24329289A JP2868542B2 (ja) | 1989-09-21 | 1989-09-21 | 真空配管 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24329289A JP2868542B2 (ja) | 1989-09-21 | 1989-09-21 | 真空配管 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03107800A JPH03107800A (ja) | 1991-05-08 |
| JP2868542B2 true JP2868542B2 (ja) | 1999-03-10 |
Family
ID=17101673
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24329289A Expired - Fee Related JP2868542B2 (ja) | 1989-09-21 | 1989-09-21 | 真空配管 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2868542B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4691802B2 (ja) * | 2001-02-28 | 2011-06-01 | ソニー株式会社 | 電子ビーム照射装置 |
| JP4556035B2 (ja) * | 2005-06-21 | 2010-10-06 | 独立行政法人 日本原子力研究開発機構 | 陽子加速器用配管着脱装置 |
| JP5535879B2 (ja) * | 2010-11-11 | 2014-07-02 | 住友重機械工業株式会社 | 荷電粒子線照射装置、荷電粒子線照射方法、及び輸送ラインの着脱方法。 |
-
1989
- 1989-09-21 JP JP24329289A patent/JP2868542B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03107800A (ja) | 1991-05-08 |
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