JPH0449612A - Ｘ線露光装置 - Google Patents
Ｘ線露光装置Info
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- JPH0449612A JPH0449612A JP2158691A JP15869190A JPH0449612A JP H0449612 A JPH0449612 A JP H0449612A JP 2158691 A JP2158691 A JP 2158691A JP 15869190 A JP15869190 A JP 15869190A JP H0449612 A JPH0449612 A JP H0449612A
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- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 16
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
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- G03F7/70008—Production of exposure light, i.e. light sources
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- G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は露光装置に関し、特に、シンクロトロン放射光
（以下、ＳＯＲ光と称す）を用いて露光が行なわれるＸ
線露光装置に関する。
（以下、ＳＯＲ光と称す）を用いて露光が行なわれるＸ
線露光装置に関する。
［従来の技術］
ＳＯＲ光によって露光が行なわれるＸ線露光装置は、Ｓ
ＯＲ光を発生するシンクロトロン放射光装置と、マスク
やウェハ等を収容する露光チャンバとがビームラインを
介して、超高真空状態に置かれるシンクロトロン放射光
装置と接続される。
ＯＲ光を発生するシンクロトロン放射光装置と、マスク
やウェハ等を収容する露光チャンバとがビームラインを
介して、超高真空状態に置かれるシンクロトロン放射光
装置と接続される。
このように構成されたＸ線露光装置においては、ビーム
ラインや露光チャンバにリークが生じた場合にはシンク
ロトロン放射光装置に大気が侵入してしまう危険性があ
る。このことを防ぐ従来のものとして特開昭６４−６１
７００号公報に記載された第５図に示されるようなもの
がある。
ラインや露光チャンバにリークが生じた場合にはシンク
ロトロン放射光装置に大気が侵入してしまう危険性があ
る。このことを防ぐ従来のものとして特開昭６４−６１
７００号公報に記載された第５図に示されるようなもの
がある。
シンクロトロン放射光装置（不図示）にて発生するＳＯ
Ｒ光５０１は、ビームライン５０３および該ビームライ
ン５０３中に設けられた窓材５０７を通って露光チャン
バ５１３内のマスク５１２およびウェハ５１１を照射す
る。ビームライン５０３には、真空リークにより発生す
る衝撃波の進行を遅らせるための衝撃波遅延管５０２お
よびＳＯＲ光５０１を拡げるためのミラーチャンバ５０
５が径路中に順に設けられ、ミラーチャンバ５０５と窓
材５０７との間には圧力センサ５０６が、また、シンク
ロトロン放射光装置と衝撃波遅延管５０４との間には圧
力センサ５０６の検出状態に応じて動作する緊急遮断弁
５０２が設けられている。露光チャンバ５１３に収容さ
れるマスク５１５およびウェハ５１１は、マスク予備室
５１６内に収容されるマスク５１５およびウェハ予備室
５０９内に収容されるウェハ５１１とゲート弁５１４お
よびゲート弁５１０をそれぞれ介して交換される。
Ｒ光５０１は、ビームライン５０３および該ビームライ
ン５０３中に設けられた窓材５０７を通って露光チャン
バ５１３内のマスク５１２およびウェハ５１１を照射す
る。ビームライン５０３には、真空リークにより発生す
る衝撃波の進行を遅らせるための衝撃波遅延管５０２お
よびＳＯＲ光５０１を拡げるためのミラーチャンバ５０
５が径路中に順に設けられ、ミラーチャンバ５０５と窓
材５０７との間には圧力センサ５０６が、また、シンク
ロトロン放射光装置と衝撃波遅延管５０４との間には圧
力センサ５０６の検出状態に応じて動作する緊急遮断弁
５０２が設けられている。露光チャンバ５１３に収容さ
れるマスク５１５およびウェハ５１１は、マスク予備室
５１６内に収容されるマスク５１５およびウェハ予備室
５０９内に収容されるウェハ５１１とゲート弁５１４お
よびゲート弁５１０をそれぞれ介して交換される。
ビームライン５０３にリークが生じたときや露光チャン
バ５１３にリークが生じて窓材５０７が破損したときは
、これに伴なって圧力センサ５１２の検出圧力が上昇し
て緊急遮断弁５０２が閉じられてシンクロトロン放射光
発生装置に大気が侵入することが防止される。
バ５１３にリークが生じて窓材５０７が破損したときは
、これに伴なって圧力センサ５１２の検出圧力が上昇し
て緊急遮断弁５０２が閉じられてシンクロトロン放射光
発生装置に大気が侵入することが防止される。
［発明が解決しようとする課題］
上述した従来のＸ線露光装置においては、異常圧力を検
出するための圧力センサが窓材よりシンクロトロン放射
光装置側（上流側）に設けられている。したがって、露
光チャンバにリークが発生した場合、これを直接検知す
ることができず、窓材に破損が生じた後に検出されるこ
とになるが、窓材が破損するとその破片が露光チャンバ
およびビームライン中に飛散してしまうため、回復処理
に大変手間がかかり、露光動作再開までの時間も長くか
かるという問題点がある。本発明は、上記従来の技術が
有する問題点に鑑みてなされたもので、露光チャンバに
リークが発生した場合のシンクロトロン放射光装置の保
護を、窓材に破損が生じることなく行なうことのできる
Ｘ線露光装置を実現することを目的とする。
出するための圧力センサが窓材よりシンクロトロン放射
光装置側（上流側）に設けられている。したがって、露
光チャンバにリークが発生した場合、これを直接検知す
ることができず、窓材に破損が生じた後に検出されるこ
とになるが、窓材が破損するとその破片が露光チャンバ
およびビームライン中に飛散してしまうため、回復処理
に大変手間がかかり、露光動作再開までの時間も長くか
かるという問題点がある。本発明は、上記従来の技術が
有する問題点に鑑みてなされたもので、露光チャンバに
リークが発生した場合のシンクロトロン放射光装置の保
護を、窓材に破損が生じることなく行なうことのできる
Ｘ線露光装置を実現することを目的とする。
［課題を解決するための手段］
本発明のＸ線露光装置は、
シンクロトロン放射光を発生するシンクロトロン放射光
装置と、 シンクロトロン放射光装置とビームラインを介して接続
され、該ビームライン中に設けられた窓材を介して入射
されるシンクロトロン放射光により露光処理が行なわれ
る露光チャンバとによって構成されるＸ線露光装置にお
いて、 露光チャンバ内の圧力を検出する圧力検知手段と、 窓材とシンクロトロン放射光装置との間のビームライン
に設けられた遮断弁と、 ビームライン中の、窓材と遮断弁の間の部分と窓材と露
光チャンバの間の部分とを連通させるバイパスと、バイ
パスの径路中に設けられた連通弁と、 ビームライン中の窓材と遮断弁の間の部分の真空排気を
行なうための真空ポンプと、 ビームラインと真空ポンプを結ぶ管路中に設けられたポ
ンプ弁と、 圧力検知手段の検出圧力に応じて遮断弁、連通弁および
ポンプ弁の開閉状態を制御する制御装置とを具備し、 制御装置は、露光動作時の検出圧力が予め定められた所
定の圧力よりも低い定常状態を示すものである場合には
、遮断弁およびポンプ弁を開状態、連通弁を閉状態とし
、露光動作時の検出圧力が予め定められた所定の圧力を
超えた場合には遮断弁およびポンプ弁を閉状態とした後
に連通弁を開状態とするものである。
装置と、 シンクロトロン放射光装置とビームラインを介して接続
され、該ビームライン中に設けられた窓材を介して入射
されるシンクロトロン放射光により露光処理が行なわれ
る露光チャンバとによって構成されるＸ線露光装置にお
いて、 露光チャンバ内の圧力を検出する圧力検知手段と、 窓材とシンクロトロン放射光装置との間のビームライン
に設けられた遮断弁と、 ビームライン中の、窓材と遮断弁の間の部分と窓材と露
光チャンバの間の部分とを連通させるバイパスと、バイ
パスの径路中に設けられた連通弁と、 ビームライン中の窓材と遮断弁の間の部分の真空排気を
行なうための真空ポンプと、 ビームラインと真空ポンプを結ぶ管路中に設けられたポ
ンプ弁と、 圧力検知手段の検出圧力に応じて遮断弁、連通弁および
ポンプ弁の開閉状態を制御する制御装置とを具備し、 制御装置は、露光動作時の検出圧力が予め定められた所
定の圧力よりも低い定常状態を示すものである場合には
、遮断弁およびポンプ弁を開状態、連通弁を閉状態とし
、露光動作時の検出圧力が予め定められた所定の圧力を
超えた場合には遮断弁およびポンプ弁を閉状態とした後
に連通弁を開状態とするものである。
この場合、窓材とシンクロトロン放射光装置との間のビ
ームラインに設けられた遮断弁と同様に開閉状態が制御
される第２の遮断弁を、窓材と露光チャンバとの間のビ
ームラインに設けてもよい。
ームラインに設けられた遮断弁と同様に開閉状態が制御
される第２の遮断弁を、窓材と露光チャンバとの間のビ
ームラインに設けてもよい。
また、窓材と露光チャンバとの間のビームラインに設け
られた遮断弁と制御装置のみの構成とし７てもよい。
られた遮断弁と制御装置のみの構成とし７てもよい。
露光動作時に露光チャンバにリークが生じてしまい、検
出圧力が上昇して所定の圧力を超えた場合には遮断弁と
ポンプ弁が閉じられた後に連通弁が開けられる。連通弁
が開けられる前に遮断弁が閉じられるため、露光チャン
バ内の気体がシンクロトロン放射光装置に侵入すること
はない。この連通弁が開けられることにより、窓材に圧
力が加わらなくなるため、窓材に破損が生じることがな
くなる。また、上記のビームライン中の所定の部分を真
空排気するための真空ポンプが設けられている。露光動
作を再開するときには、連通弁を閉じた後にポンプ弁を
開けて窓材と遮断弁との間に侵入した露光チャンバ内の
気体は真空排気し、この後に遮断弁を開けることにより
遮断弁を閉じたときと同様にシンクロトロン放射光装置
に露光チャンバ内の気体が侵入することを防ぐことがで
きる。
出圧力が上昇して所定の圧力を超えた場合には遮断弁と
ポンプ弁が閉じられた後に連通弁が開けられる。連通弁
が開けられる前に遮断弁が閉じられるため、露光チャン
バ内の気体がシンクロトロン放射光装置に侵入すること
はない。この連通弁が開けられることにより、窓材に圧
力が加わらなくなるため、窓材に破損が生じることがな
くなる。また、上記のビームライン中の所定の部分を真
空排気するための真空ポンプが設けられている。露光動
作を再開するときには、連通弁を閉じた後にポンプ弁を
開けて窓材と遮断弁との間に侵入した露光チャンバ内の
気体は真空排気し、この後に遮断弁を開けることにより
遮断弁を閉じたときと同様にシンクロトロン放射光装置
に露光チャンバ内の気体が侵入することを防ぐことがで
きる。
［実 施 例］
次に、本発明の実施例について図面を参照して説明する
。
。
第１図（ａ）は本発明の第１の実施例の構成を示す図で
ある。
ある。
シンクロトロン放射光装置（不図示）にて発生するＳＯ
Ｒ光１０１は、ビームライン１０３および該ビームライ
ン１０３中に設けられた窓材１０７を通って露光チャン
バ１１３内のマスク１１２およびウェハ１１１を照射す
る。ビームライン１０３には、真空リークにより発生す
る衝撃波の進行を遅らせるための衝撃波遅延管１０２お
よびＳＯＲ光１０１を拡げるためのミラーチャンバ１０
５が径路中に順に設けられ、ミラーチャンバ１０５と窓
材１０７どの間には圧力センサ１０６が、また、シンク
ロトロン放射光装置と衝撃波遅延管１０４との間には圧
力センサ１０６の検出状態に応じて動作する緊急遮断弁
１０２が設けられている。露光チャンバ１１３に収容さ
れるマスク１１５およびウェハ１１１は、マスク予備室
１１６内に収容されるマスク１１５およびウェハ予備室
１０９内に収容されるウェハ１１１とゲート弁１１４お
よびゲート弁１１０をそれぞれ介して交換される。
Ｒ光１０１は、ビームライン１０３および該ビームライ
ン１０３中に設けられた窓材１０７を通って露光チャン
バ１１３内のマスク１１２およびウェハ１１１を照射す
る。ビームライン１０３には、真空リークにより発生す
る衝撃波の進行を遅らせるための衝撃波遅延管１０２お
よびＳＯＲ光１０１を拡げるためのミラーチャンバ１０
５が径路中に順に設けられ、ミラーチャンバ１０５と窓
材１０７どの間には圧力センサ１０６が、また、シンク
ロトロン放射光装置と衝撃波遅延管１０４との間には圧
力センサ１０６の検出状態に応じて動作する緊急遮断弁
１０２が設けられている。露光チャンバ１１３に収容さ
れるマスク１１５およびウェハ１１１は、マスク予備室
１１６内に収容されるマスク１１５およびウェハ予備室
１０９内に収容されるウェハ１１１とゲート弁１１４お
よびゲート弁１１０をそれぞれ介して交換される。
第５図に示した従来例と同様にビームライン１０３にリ
ークが生じたときや露光チャンバ１１３にリークが生じ
て窓材１０７が破損したときは、これに伴なって圧力セ
ンサ１１７の検出圧力が上昇して緊急遮断弁１０２が閉
じられてシンクロトロン放射光発生装置に大気が侵入す
ることが防止される。
ークが生じたときや露光チャンバ１１３にリークが生じ
て窓材１０７が破損したときは、これに伴なって圧力セ
ンサ１１７の検出圧力が上昇して緊急遮断弁１０２が閉
じられてシンクロトロン放射光発生装置に大気が侵入す
ることが防止される。
本実施例のビームライン１０３には上記の各構成のほか
に、露光チャンバ１１３内の圧力を検出するための圧力
検知手段である圧力センサ１１７と、ミラーチャンバ１
０５と窓材１０７どの間を遮断する遮断弁１１８と、該
遮断弁１１８と窓材１０７の間の部位と露光チャンバ１
１３とを連通弁１２０を介してバイパスするバイパス１
１９と、窓材１０７と遮断弁１１８との間の領域を真空
排気する真空排気手段としての真空ポンプ１２３とが設
けられている。該真空ポンプ１２３は開閉弁であるポン
プ弁１２２を介在させた管路によりビームラインの前記
領域に連通されている。圧力センサ１１７は８材１０７
と露光チャンバ１１８との間に設けられ、圧力センサ１
２２は窓材１０７と遮断弁１１８との間に設けられてい
る。また、露光チャンバ１１３には、その室内をポンプ
弁１２６を介して真空排気する真空ポンプ１２５が設け
られている。上記のように構成されたビームライン１０
３、露光チャンバ１１３の外部には各圧力センサ１１７
，１２２の検出する圧力に応じて遮断弁１１８、連通弁
１２０および各ポンプ弁１２４．１２６の動作を制御す
る制御装置１２１が設けられている。
に、露光チャンバ１１３内の圧力を検出するための圧力
検知手段である圧力センサ１１７と、ミラーチャンバ１
０５と窓材１０７どの間を遮断する遮断弁１１８と、該
遮断弁１１８と窓材１０７の間の部位と露光チャンバ１
１３とを連通弁１２０を介してバイパスするバイパス１
１９と、窓材１０７と遮断弁１１８との間の領域を真空
排気する真空排気手段としての真空ポンプ１２３とが設
けられている。該真空ポンプ１２３は開閉弁であるポン
プ弁１２２を介在させた管路によりビームラインの前記
領域に連通されている。圧力センサ１１７は８材１０７
と露光チャンバ１１８との間に設けられ、圧力センサ１
２２は窓材１０７と遮断弁１１８との間に設けられてい
る。また、露光チャンバ１１３には、その室内をポンプ
弁１２６を介して真空排気する真空ポンプ１２５が設け
られている。上記のように構成されたビームライン１０
３、露光チャンバ１１３の外部には各圧力センサ１１７
，１２２の検出する圧力に応じて遮断弁１１８、連通弁
１２０および各ポンプ弁１２４．１２６の動作を制御す
る制御装置１２１が設けられている。
露光チャンバ１１３内に収容されるウェハ１１１は、ビ
ームライン１０３および窓材１０７を通り、マスク１１
２によって部分的に遮光されたＳＯＲ光１０１によって
露光される。この露光時において、マスク１１２にはＳ
ＯＲ光１０１が照射されることによる発熱が生じるため
、露光チャンバ１１３内は必要な熱伝導が生じる程度に
減圧された気体雰囲気（Ｈｅ ： １５０Ｔｏｒｒ）と
されている。また、窓材１０７としてはＳＯＲ光１０１
をよく透過することが必要とされるため、Ｂｅを薄く
（１０ＡＬｍ〜２０μｍ）加工したものが用いられてい
る。上記の露光チャンバ１１３内の圧力ｐ６ （１５０
Ｔｏｒｒ）は、この厚さにおける窓材１０７の耐圧ＰＬ
よりも低く設定されている。
ームライン１０３および窓材１０７を通り、マスク１１
２によって部分的に遮光されたＳＯＲ光１０１によって
露光される。この露光時において、マスク１１２にはＳ
ＯＲ光１０１が照射されることによる発熱が生じるため
、露光チャンバ１１３内は必要な熱伝導が生じる程度に
減圧された気体雰囲気（Ｈｅ ： １５０Ｔｏｒｒ）と
されている。また、窓材１０７としてはＳＯＲ光１０１
をよく透過することが必要とされるため、Ｂｅを薄く
（１０ＡＬｍ〜２０μｍ）加工したものが用いられてい
る。上記の露光チャンバ１１３内の圧力ｐ６ （１５０
Ｔｏｒｒ）は、この厚さにおける窓材１０７の耐圧ＰＬ
よりも低く設定されている。
第５図に示した従来例と同様に、露光に使用されるマス
ク１１２およびウェハ１１１をマスク予備室１１６およ
びウェハ予備室１０９にそれぞれ収容されるマスク１１
５およびウェハ１０８と交換する際には、ウェハ予備室
１０９およびマスク予備室１１６は露光チャンバ１１３
内と同様の雰囲気に置換されたいわゆるロードロックさ
れた状態とされる。
ク１１２およびウェハ１１１をマスク予備室１１６およ
びウェハ予備室１０９にそれぞれ収容されるマスク１１
５およびウェハ１０８と交換する際には、ウェハ予備室
１０９およびマスク予備室１１６は露光チャンバ１１３
内と同様の雰囲気に置換されたいわゆるロードロックさ
れた状態とされる。
露光チャンバ１１３、ウェハ予備室１０９およびマスク
予備室１０６のそれぞれにはすべて図示しないが上記の
ような室内雰囲気を実現するための真空排気手段および
ガス導入手段が設けられ、圧力調整が行なわれるもので
、第１図には露光チャンバ１１３に開閉弁であるポンプ
弁１２６を介在させ管路により連通された真空排気手段
である真空ポンプ１２５のみが示されている。
予備室１０６のそれぞれにはすべて図示しないが上記の
ような室内雰囲気を実現するための真空排気手段および
ガス導入手段が設けられ、圧力調整が行なわれるもので
、第１図には露光チャンバ１１３に開閉弁であるポンプ
弁１２６を介在させ管路により連通された真空排気手段
である真空ポンプ１２５のみが示されている。
通常の露光時において、緊急遮断弁１０２、遮断弁１１
８およびポンプ弁１２２は開状態とされ、連通弁１２０
は閉状態とされて、真空ポンプ１２３によってもビーム
ライン１０３を真空状態とすることが行なわれている。
８およびポンプ弁１２２は開状態とされ、連通弁１２０
は閉状態とされて、真空ポンプ１２３によってもビーム
ライン１０３を真空状態とすることが行なわれている。
露光動作中のビームライン１０３にリークが生じた場合
には、このことは第５図に示した従来例と同様に圧力セ
ンサ１０６により検出され、緊急遮断弁１０２が閉じら
れてシンクロトロン放射光装置の保護がなされる。また
、露光チャンバ１１３に関するリークの検出および窓材
１０７の保護は制御装置１２１の制御により行なわれる
。
には、このことは第５図に示した従来例と同様に圧力セ
ンサ１０６により検出され、緊急遮断弁１０２が閉じら
れてシンクロトロン放射光装置の保護がなされる。また
、露光チャンバ１１３に関するリークの検出および窓材
１０７の保護は制御装置１２１の制御により行なわれる
。
第２図（ａ）は露光動作中の制御装置１２１の動作を示
すフローチャートである。
すフローチャートである。
制御装置１２１は、露光動作時においては圧力センサ１
１７により検出される露光チャンバ１１３内の圧力Ｐが
所定の圧力Ｐ。（Ｐ ＊ ＜ Ｐ。
１７により検出される露光チャンバ１１３内の圧力Ｐが
所定の圧力Ｐ。（Ｐ ＊ ＜ Ｐ。
＜ＰＬ）を超えるものであるかを常時監視しており（ス
テップＳ１）、マスク予備室１０６やウェハ予備室１０
９におけるロードロックの失敗や、露光チャンバ１１３
内の圧力調整が失敗して圧力Ｐが所定の圧力Ｐ。を超え
た場合には遮断弁１１８および各ポンプ弁１２４．１２
６を閉状態としくステップＳ２）、続いて連通弁１２０
を開状態とする（ステップＳ３）。
テップＳ１）、マスク予備室１０６やウェハ予備室１０
９におけるロードロックの失敗や、露光チャンバ１１３
内の圧力調整が失敗して圧力Ｐが所定の圧力Ｐ。を超え
た場合には遮断弁１１８および各ポンプ弁１２４．１２
６を閉状態としくステップＳ２）、続いて連通弁１２０
を開状態とする（ステップＳ３）。
圧力Ｐが窓材１０７の耐圧ＰＬに達するまえに遮断弁１
１８が閉められることにより少なくとも窓材１０７の破
片がビームライン１０３の上流に飛散することを防止す
ることができ、また圧力Ｐが窓材１０７の耐圧ＰＬに達
するまえに連通弁１２２を開けることにより窓材１０７
に圧力が加わることを防止することができ、窓材１０７
が破損することを防ぐことができる。
１８が閉められることにより少なくとも窓材１０７の破
片がビームライン１０３の上流に飛散することを防止す
ることができ、また圧力Ｐが窓材１０７の耐圧ＰＬに達
するまえに連通弁１２２を開けることにより窓材１０７
に圧力が加わることを防止することができ、窓材１０７
が破損することを防ぐことができる。
第２図（ｂ）は、露光チャンバ１１３に生じたリークが
修理され、露光動作再立上げ時における制御装置１２１
の動作を示すフローチャートである。
修理され、露光動作再立上げ時における制御装置１２１
の動作を示すフローチャートである。
制御装置１２１は、再立上げ時にはポンプ弁１２６を開
としくステップＳ４）、真空ポンプ１２５による露光チ
ャンバ１１３内の真空排気を行なわせる。この動作は圧
力センサ１１７が検出する圧力Ｐが所定の値ＰＡ（１０
−”Ｔｏ ｒ ｒ近辺）を下回るまで続けられ（ステッ
プＳ５）、Ｐ＜ＰＡとなると、連通弁１２０を閉じる（
ステップＳ６）。次に、ポンプ弁１２４を開とし、また
、露光チャンバ１１３内へのＨｅの導入を開始する（ス
テップＳ７）、この後、圧力センサ１２２が検出する圧
力Ｐが露光時においてはビームライン１０３に要求され
る真空度１０−’Ｔｏｒｒを下回るものであるかを確認
しくステップＳ８）、さらに、露光チャンバ１１３内の
室内圧力が露光時の所定の圧力であり、露光可能なもの
であるかを確認した後に（ステップＳ９）、遮断弁１１
８を開ける（ステップ５１０）。
としくステップＳ４）、真空ポンプ１２５による露光チ
ャンバ１１３内の真空排気を行なわせる。この動作は圧
力センサ１１７が検出する圧力Ｐが所定の値ＰＡ（１０
−”Ｔｏ ｒ ｒ近辺）を下回るまで続けられ（ステッ
プＳ５）、Ｐ＜ＰＡとなると、連通弁１２０を閉じる（
ステップＳ６）。次に、ポンプ弁１２４を開とし、また
、露光チャンバ１１３内へのＨｅの導入を開始する（ス
テップＳ７）、この後、圧力センサ１２２が検出する圧
力Ｐが露光時においてはビームライン１０３に要求され
る真空度１０−’Ｔｏｒｒを下回るものであるかを確認
しくステップＳ８）、さらに、露光チャンバ１１３内の
室内圧力が露光時の所定の圧力であり、露光可能なもの
であるかを確認した後に（ステップＳ９）、遮断弁１１
８を開ける（ステップ５１０）。
上記のような動作を行なわせることにより、ビームライ
ン１０３中にＨｅが侵入することを防ぐことができ、露
光を円滑に再開することができる。
ン１０３中にＨｅが侵入することを防ぐことができ、露
光を円滑に再開することができる。
第３図は本発明の第２の実施例の構成を示す図である。
本実施例は第１図に示した第１の実施例の構成を簡略化
し、遮断弁３０１をあらたに設けたものであるため、同
様の構成のものには第１図と同一番号を付し、説明は省
略する。
し、遮断弁３０１をあらたに設けたものであるため、同
様の構成のものには第１図と同一番号を付し、説明は省
略する。
本実施例においては第１図中に示した遮断弁１１８、バ
イパス１１９、連通弁１２０、ポンプ弁１２．２および
真空ポンプ１２３が省かれ、露光チャンバ１１３内の窓
材１０７近傍であり、圧力センサ１１７を間にはさむ位
置に制御装置１２１により動作が制御される遮断弁３０
１が設けられている。なお、第３図においては露光チャ
ンバ１１３に設けられる真空ポンプ１２５およびポンプ
弁１２６は不図示とされている。
イパス１１９、連通弁１２０、ポンプ弁１２．２および
真空ポンプ１２３が省かれ、露光チャンバ１１３内の窓
材１０７近傍であり、圧力センサ１１７を間にはさむ位
置に制御装置１２１により動作が制御される遮断弁３０
１が設けられている。なお、第３図においては露光チャ
ンバ１１３に設けられる真空ポンプ１２５およびポンプ
弁１２６は不図示とされている。
制御装置１２１は圧力センサ１１７により検出された圧
力Ｐが所定の圧力Ｐ０を超えたときに遮断弁３０１を閉
じ、窓材１０７にさらに圧力が加わることを防ぐことに
より窓材１０７が破損されることを防止する。
力Ｐが所定の圧力Ｐ０を超えたときに遮断弁３０１を閉
じ、窓材１０７にさらに圧力が加わることを防ぐことに
より窓材１０７が破損されることを防止する。
第４図は本発明の第３の実施例の構成を示す図である。
本実施例は第１の実施例の構成と第２の実施例の構成と
を組み合わせたものであり、第１の実施例のものに、バ
イパス１１９の露光チャンバ１１３側の連通部と露光チ
ャンバ１１３との間に遮断弁３０１を設けたものである
。このため、第１および第２の実施例と同様の構成のも
のには第１図および第３図と同一の番号を付して説明は
省略する。
を組み合わせたものであり、第１の実施例のものに、バ
イパス１１９の露光チャンバ１１３側の連通部と露光チ
ャンバ１１３との間に遮断弁３０１を設けたものである
。このため、第１および第２の実施例と同様の構成のも
のには第１図および第３図と同一の番号を付して説明は
省略する。
本実施例の動作は第２図（ａ）、（ｂ）に示した第１の
実施例とほぼ同様のものであり、遮断弁１１８の開閉動
作と遮断弁３０１の開閉動作どが連動するものとなって
いる。これにより、遮断弁１１８および遮断弁３０１が
閉じられた後には窓材１０７にはリークによる応力がか
かることがなくなるので安全性がさらに向上した。
実施例とほぼ同様のものであり、遮断弁１１８の開閉動
作と遮断弁３０１の開閉動作どが連動するものとなって
いる。これにより、遮断弁１１８および遮断弁３０１が
閉じられた後には窓材１０７にはリークによる応力がか
かることがなくなるので安全性がさらに向上した。
［発明の効果］
本発明は以上説明したように構成されているので、以下
に記載するような効果を奏する。
に記載するような効果を奏する。
請求項１に記載されたものにおいては、露光チャンバの
リークをいち早く検出することができるので露光チャン
バのリークにより、窓材が破損されることおよびシンク
ロトロン放射光装置に露光チャンバ内の気体が侵入する
ことを阻止することができる。
リークをいち早く検出することができるので露光チャン
バのリークにより、窓材が破損されることおよびシンク
ロトロン放射光装置に露光チャンバ内の気体が侵入する
ことを阻止することができる。
請求項２に記載のものにおいては、上記各効果のうちの
窓材の破損防止効果がさらに向上する。
窓材の破損防止効果がさらに向上する。
請求項３に記載したものにおいては、露光チャンバのリ
ークによる窓材の破損防止を簡単な構成にて実現するこ
とができる効果がある。
ークによる窓材の破損防止を簡単な構成にて実現するこ
とができる効果がある。
第１図は本発明の第１の実施例の構成を示す図、第２図
（ａ）、（ｂ）はそれぞれ第１図中の制御装置１２１の
動作を、示すフローチャート、第３図および第４図はそ
れぞれ本発明の第２の実施例および第３の実施例の構成
を示す図、第５図は従来例の構成を示す図である。 １０１・・・ＳＯＲ光、 １０２−・・緊急遮断弁
、１０３・・・ビームライン、１０４−・・衝撃波遅延
管１０５・・・ミラーチャンバ、 １０６．１１７，１２２・・・圧力センサ、１０７・・
・窓材、 １０８、ｌｌ！−・ウェハ、 １０９・・・ウェハ予備室、 １１０．１１４・・・ゲート弁、 １１２．１１５・・・マスク、 １１３・・・露光チャンバ １６・・・マスク予備室、 １８．３０１・・・遮断弁、 １９・・・バイパス、 １２０−・・連通弁、２１・
・・制御装置、 ２４．１２６軸・ポンプ弁、 ２３．１２５・・・真空ポンプ、 １〜ＳＩＯ・・・ステップ。 特許出願人 キャノン株式会社 代 理 人 弁理士 苦杯 忠 第２図（ｂ）
（ａ）、（ｂ）はそれぞれ第１図中の制御装置１２１の
動作を、示すフローチャート、第３図および第４図はそ
れぞれ本発明の第２の実施例および第３の実施例の構成
を示す図、第５図は従来例の構成を示す図である。 １０１・・・ＳＯＲ光、 １０２−・・緊急遮断弁
、１０３・・・ビームライン、１０４−・・衝撃波遅延
管１０５・・・ミラーチャンバ、 １０６．１１７，１２２・・・圧力センサ、１０７・・
・窓材、 １０８、ｌｌ！−・ウェハ、 １０９・・・ウェハ予備室、 １１０．１１４・・・ゲート弁、 １１２．１１５・・・マスク、 １１３・・・露光チャンバ １６・・・マスク予備室、 １８．３０１・・・遮断弁、 １９・・・バイパス、 １２０−・・連通弁、２１・
・・制御装置、 ２４．１２６軸・ポンプ弁、 ２３．１２５・・・真空ポンプ、 １〜ＳＩＯ・・・ステップ。 特許出願人 キャノン株式会社 代 理 人 弁理士 苦杯 忠 第２図（ｂ）
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、シンクロトロン放射光を発生するシンクロトロン放
射光装置と、 前記シンクロトロン放射光装置とビームラインを介して
接続され、該ビームライン中に設けられた窓材を介して
入射されるシンクロトロン放射光により露光処理が行な
われる露光チャンバとによって構成されるＸ線露光装置
において、 前記露光チャンバ内の圧力を検出する圧力検知手段と、 前記窓材と前記シンクロトロン放射光装置との間の前記
ビームラインに設けられた遮断弁と、前記ビームライン
中の、前記窓材と遮断弁の間の部分と前記窓材と露光チ
ャンバの間の部分とを連通させる連通弁を介在させたバ
イパスと、前記ビームライン中の前記窓材と遮断弁の間
の部分の真空排気を行なうための真空排気手段と、前記
ビームラインと真空排気手段とを結ぶ管路中に設けられ
たポンプ弁と、 前記圧力検知手段の検出圧力に応じ、露光動作時の前記
検出圧力が予め定められた所定の圧力よりも低い定常状
態を示すものである場合には、前記遮断弁およびポンプ
弁を開状態、前記連通弁を閉状態とし、露光動作時の前
記検出圧力が予め定められた所定の圧力を超えた場合に
は前記遮断弁およびポンプ弁を閉状態とした後に前記連
通弁を開状態とする制御装置を備えたことを特徴とする
Ｘ線露光装置。 ２、請求項１記載のＸ線露光装置において、窓材とシン
クロトロン放射光装置との間のビームラインに設けられ
た遮断弁と同様に開閉状態が制御される第２の遮断弁が
、窓材と露光チャンバとの間のビームラインに設けられ
ているＸ線露光装置。 ３、シンクロトロン放射光を発生するシンクロトロン放
射光装置と、 前記シンクロトロン放射光装置とビームラインを介して
接続され、該ビームライン中に設けられた窓材を介して
入射されるシンクロトロン放射光により露光処理が行な
われる露光チャンバとによって構成されるＸ線露光装置
において、 前記露光チャンバ内の圧力を検出する圧力検知手段と、 前記窓材と前記露光チャンバとの間の前記ビームライン
に設けられた遮断弁と、 前記圧力検知手段の検出圧力に応じ、露光動作時の前記
検出圧力が予め定められた所定の圧力よりも低い定常状
態を示すものである場合には前記遮断弁を開状態とし、
露光動作時の前記検出圧力が予め定められた所定の圧力
を超えた場合には前記遮断弁を閉状態とする制御装置を
備えたことを特徴とするＸ線露光装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2158691A JP2959579B2 (ja) | 1990-06-19 | 1990-06-19 | Ｘ線露光装置 |
| DE69130009T DE69130009T2 (de) | 1990-06-19 | 1991-06-13 | Röntgenbelichtungsvorrichtung |
| EP91305364A EP0462756B1 (en) | 1990-06-19 | 1991-06-13 | X-ray exposure apparatus |
| US07/716,970 US5170418A (en) | 1990-06-19 | 1991-06-18 | X-ray exposure apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2158691A JP2959579B2 (ja) | 1990-06-19 | 1990-06-19 | Ｘ線露光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0449612A true JPH0449612A (ja) | 1992-02-19 |
| JP2959579B2 JP2959579B2 (ja) | 1999-10-06 |
Family
ID=15677249
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2158691A Expired - Fee Related JP2959579B2 (ja) | 1990-06-19 | 1990-06-19 | Ｘ線露光装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5170418A (ja) |
| EP (1) | EP0462756B1 (ja) |
| JP (1) | JP2959579B2 (ja) |
| DE (1) | DE69130009T2 (ja) |
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|---|---|---|---|---|
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| JP2934185B2 (ja) | 1996-03-15 | 1999-08-16 | 松下電器産業株式会社 | Ｃｄｍａセルラ無線基地局装置および移動局装置および送信方法 |
| JPH11312640A (ja) * | 1998-02-25 | 1999-11-09 | Canon Inc | 処理装置および該処理装置を用いたデバイス製造方法 |
| US7145987B2 (en) * | 2003-07-24 | 2006-12-05 | Nikon Corporation | X-ray-generating devices and exposure apparatus comprising same |
| US7409037B2 (en) * | 2006-05-05 | 2008-08-05 | Oxford Instruments Analytical Oy | X-ray fluorescence analyzer having means for producing lowered pressure, and an X-ray fluorescence measurement method using lowered pressure |
| CN109343101B (zh) * | 2018-09-11 | 2023-03-14 | 东莞中子科学中心 | 用于白光中子源带电粒子探测谱仪的压差平衡控制方法 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62222634A (ja) * | 1986-03-18 | 1987-09-30 | Fujitsu Ltd | Ｘ線露光方法 |
| JPS62291028A (ja) * | 1986-06-10 | 1987-12-17 | Nec Corp | Ｘ線露光装置 |
| JPS639930A (ja) * | 1986-06-30 | 1988-01-16 | Nec Corp | Ｘ線露光装置 |
| JPS6461700A (en) * | 1987-08-31 | 1989-03-08 | Nec Corp | Synchrotron radiation light exposing device |
| JP2627543B2 (ja) * | 1988-09-05 | 1997-07-09 | キヤノン株式会社 | Ｓｏｒ露光システム |
-
1990
- 1990-06-19 JP JP2158691A patent/JP2959579B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1991
- 1991-06-13 DE DE69130009T patent/DE69130009T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1991-06-13 EP EP91305364A patent/EP0462756B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1991-06-18 US US07/716,970 patent/US5170418A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5170418A (en) | 1992-12-08 |
| DE69130009T2 (de) | 1999-01-28 |
| DE69130009D1 (de) | 1998-09-24 |
| EP0462756A2 (en) | 1991-12-27 |
| JP2959579B2 (ja) | 1999-10-06 |
| EP0462756B1 (en) | 1998-08-19 |
| EP0462756A3 (en) | 1993-11-18 |
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