KR970003420A - 마스크 및 기판의 위치맞춤방법 - Google Patents

마스크 및 기판의 위치맞춤방법 Download PDF

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KR970003420A
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KR
South Korea
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mask
detecting
stage
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KR1019960005647A
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마사미추 야나기하라
수수무 모리
히로시 시라수
세이지 미야자키
Original Assignee
오노 시게오
니콘 가부시키가이샤
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    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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    • G03F9/00Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
    • G03F9/70Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
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Abstract

마스크 스테이지상에 탑재된 마스크로 형성된 제1마크를 검출함과 동시에, 기판스테이지에 탑재된 기판에 상기 제1마크에 대응하여 형성된 제2마크를 검출가능한 센서를 구비한 투영노광장치에 사용되는, 상기 마스크와 상기 기판과의 위치맞춤방법에 있어서, 제1마크의 위치를 상기 센서를 사용하여 검출하는 단계와, 제2마크의 위치를 상기 센서를 사용하여 검출하는 단계와, 제1 및 제2마크 중 어느 한쪽의 위치를 검출한 후에, 해당한 쪽의 마크가 탑재되어 있는 스테이지를 해당 다른쪽의 마크와 서로 겹치지 않도록 이동하는 단계와, 이 단계에 있어서 상기 스테이지를 이동한 뒤, 상기 다른쪽의 마크를 검출하는 것이다.

Description

마스크 및 기판의 위치맞춤방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 1실시예와 관계되는 투영노광장치의 개략구성을 나타내는 사시도.

Claims (6)

  1. 마스크 스테이지상에 탑재된 마스크로 형성된 제1마크를 검출함과 동시에, 기판스테이지에 탑재된 기판에 상기 제1마크에 대응하여 형성된 제2마크를 검출가능한 센서를 구비한 투영노광 장치에 사용되는, 상기 마스크와 기판의 위치맞춤방법에 있어서, 상기 제1마크의 위치를 상기 센서를 사용하여 검출하는 단계와, 상기 제2마크의 위치를 상기 센서를 사용하여 검출하는 단계와, 상기 제1 및 제2마크 중 어느 한쪽의 위치를 검출한 후에, 해당 한쪽의 마크가 탑재되어 있는 스테이지를 해당 다른쪽의 마크와 서로 겹쳐지지 않도록 이동하는 단계 및, 해당 스텝에 있어서 상기 스테이지를 이동한 뒤, 상기 다른쪽의 마크를 검출하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 위치맞춤방법.
  2. 마스크 스테이지상에 탑재된 마스크로 형성된 제1마크를 검출함과 동시에, 기판스테이지에 탑재된 기판에 상기 제1마크에 대응하여 형성된 제2마크를 투영광학계를 통해 검출가능한 센서를 구비한 투영노광장치에 사용되는, 상기 마스크와 기판과의 위치맞춤방법에 있어서, 상기 제1마크의 위치를 상기 센서를 사용하여 검출하는 제1단계와, 상기 제1마크가 상기 센서의 검출범위외에 위치하도록 상기 마스크 스테이지를 이동시키는 제2단계와, 상기 센서로 상기 제2마크의 위치를 상기 투영광학계를 통해 검출하는 제3단계 및 상기 제1, 제3단계의 검출결과에 근거하여 상기 마스크와 기판을 위치결정하는 제4단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 위치맞춤방법.
  3. 제2항에 있어서, 상기 제4단계는, 상기 제1단계에서 검출된 상기 제1마크와 상기 제3단계에서 검출된 상기 제2마크가 서로 겹치지 않은 상태이고 또한 양마크가 상기 센서의 검출범위내에 위치하도록, 상기 마스크 스테이지 및 상기 기판스테이지 중 한쪽의 스테이지를 이동시켜 위치결정하는 제5단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 위치맞춤방법.
  4. 제2항에 있어서, 상기 제4단계는, 상기 제1단계에서 검출된 상기 제1마크와 상기 제3단계에서 검출된 상기 제2마크의 상호간의 위치차이량을 구하는 단계와, 상기 위치차이량이 소정의 값이 되도록 상기 마스크 스테이지 및 상기 기판스테이지의 어느것인가 한쪽을 이동시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 위치맞춤방법.
  5. 제2항에 있어서, 상기 제1단계는, 적어도 2장소의 상기 제1마크를 검출하고, 상기 제3단계는, 적어도 2장소의 상기 제2마크를 검출하는 것을 특징으로 하는 위치맞춤방법.
  6. 마스크 스테이지상에 탑재된 마스크로 형성된 제1마크를 검출함과 동시에, 기판스테이지에 탑재된 기판에 상기 제1마크에 대응하여 형성된 제2마크를 투영광학계를 통해 검출가능한 센서를 구비한 주사형투영노광장치에 사용되는, 상기 마스크와 기판과의 위치맞춤방법에 있어서, 상기 제1마크의 위치를 상기 센서를 사용하여 검출하는 제1단계와, 상기 제1마크가 상기 센서의 검출범위외에 위치하도록 상기 마스크 스테이지를 주사방향을 따라서 이동시키는 제2단계와, 상기 센서로 상기 제2마크의 위치를 상기 투영광학계를 통해 검출하는 제3단계 및, 상기 제1, 제3단계의 검출결과에 근거하여 상기 마스크와 상기 기판을 위치결정하는 제4단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 위치맞춤방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019960005647A 1995-06-13 1996-03-05 마스크 및 기판의 위치맞춤방법 KR970003420A (ko)

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