KR970016838A - 마스크와 작업편의 위치맞춤 방법 및 장치 - Google Patents
마스크와 작업편의 위치맞춤 방법 및 장치 Download PDFInfo
- Publication number
- KR970016838A KR970016838A KR1019960040863A KR19960040863A KR970016838A KR 970016838 A KR970016838 A KR 970016838A KR 1019960040863 A KR1019960040863 A KR 1019960040863A KR 19960040863 A KR19960040863 A KR 19960040863A KR 970016838 A KR970016838 A KR 970016838A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- mask
- workpiece
- alignment mark
- work piece
- light irradiation
- Prior art date
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
- G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
Abstract
고정밀도의 위치맞춤을 할 수 있고, 순차 노광에 적용하는데 적합한 마스크와 작업편의 위치맞춤 방법 및 장치를 제공하기 위해 작업편 스테이지(4)상의 작업편 고정영역과 떨어진 위치에 반사부재(4a)를 설치한다. 그리고 노광광 조사장치(1)로부터 노광광을 마스크(M)에 조사하여, 상기 반사부재(4a)에 마스크(M)의 얼라인먼트·마크를 투영하고, 투영상을 수상하여 그 상대위치를 기억한다. 이어서 상기 노광광의 조사를 정지하고, 작업편(W)이 적재된 작업편 스테이지(4)를 마스크(M)의 얼라인먼트·마크가 작업편(W)상에 투영되는 위치로 이동시켜, 비노광광을 작업편(W)의 얼라인먼트·마크에 조사하고, 작업편의 얼라인먼트·마크를 수상하여 그 상대위치를 검출한다. 그리고, 양 얼라이먼트·마크의 위치가 중첩되도록 작업편(W) 및/또는 마스크(M)를 이동시킨다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 제1실시예를 도시하는 도면이다.
Claims (4)
- 제1광조사부로부터 노광광을 마스크의 얼라이먼트·마크에 조사하고, 작업편 스테이지상에서 작업편 고정영역으로부터 떨어진 위치에 설치된 반사부재에 마스크의 얼라이먼트·마크를 투영하여 상기 투영상을 수상 화상처리하여 그 상대위치를 검출/기억하고, 제1광조사부로부터의 노광광의 방출을 정지한 후, 작업편이 적재된 작업편 스테이지를 마스크상의 얼라이먼트·마크가 상기 작업편상에 투영되는 위치로 이동시켜, 상기 제1광조사부 혹은 제2광 조사부로부터 비노광광을 작업편의 얼라이먼트·마크로 조사하고, 작업편의 얼라이먼트·마크를 수상 화상처리하여 상대위치를 검출/기억하고, 상기 양 얼라이먼트·마크의 상대위치 데이터를 연산하여 상기 양 얼라이먼트·마크가 중첩되도록 작업편 및/또는 마스크를 이동시키는 것을 특징으로 하는 마스크와 작업편의 위치맞춤 방법.
- 다수의 노광구역을 가지는 작엽편이 적재된 작업편 스테이즈를 소정량씩 이동시킴으로써, 작업편상의 상기 각 노광구역을 노광위치로 순차 이동시키고, 노광광을 마스크상에 조사하여 작업편상의 각 노광구역을 순차 노광할 시에, 작업편 스테이지상의 작업편 고정영역으로부터 떨어진 위치에 반사부재를 배치하고, 노광광을 마스크의 얼라이먼트·마크에 조사한 때에 상기 얼라인먼트·마크가 상기 반사부재상에 투영되는 위치에 작업편 스테이지를 이동시키고, 제1광조사부로부터 노광광을 마스크의 얼라이먼트·마크에 조사하고, 상기 반사부재에 마스크의 얼라이먼트·마크를 투영하여 상기 투영상을 수상 화상처리하여 그 상대위치를 검출/기억하고, 제1광조사부로부터의 노광광의 방출을 정지하고, 작업편 스테이지상에 적재된 작업편상에 상기 마스크의 얼라이먼트·마크의 투영상의 위치가 오도록 상기 작업편을 이동시켜, 상기 제1광조사부 혹은 제2광조사부로부터 비노광광을 작업편의 얼라이먼트·마크에 조사하고, 작업편의 얼라이먼트·마크를 수상 화상처리하여 그 상대위치를 검출/기억하고, 상기 양 얼라이먼트·마크의 상대위치 데이타를 연산해서 상기 양 얼라이먼트·마크가 중첩되도록 작업편 및/또는 마스크를 이동시켜, 마스크와 작업편의 위치 맞춤을 하는 것을 특징으로 하는 마스크와 작업편의 위치맞춤 방법.
- 마스크와 상기 마스크를 이동시키는 마스크 스테이지와, 투영렌즈와, 작업편과 상기 작업편을 이동시키는 작업편 스테이지와, 비노광광 혹은 노광광을 마스크의 얼라이먼트·마크 및/또는 마스크 스테이지에 조사하는 제1광조사부와, 작업편 스테이지상의 작업편 고정영역으로부터 떨어진 위치에 설치되고, 상기 제1광조사부로 부터 방출되는 노광광에 의한 마스크의 얼라이먼트·마크의 투영상에 결상하는 반사부재와, 마스크의 얼라이먼트·마크의 투영상을 수상함과 동시에, 상기 제1광조사부 혹은 제2광 조사부로부터 방출되는 비노광광에 의해 조명되는 작업편의 얼라이먼트·마크를 구상하는 수상수단과, 상기 수상수단이 수상한 화상 데이타에 의거하여, 마스크 및/또는 작업편을 이동시키고, 또 상기 제1광 조사부로부터의 노광광의 방출을 제어하는 제어수단을 구비하고, 상기 제어수단은 마스크의 얼라이먼트·마크의 투영위치에 상기 반사부재가 배치되도록 작업편 스에티지를 이동시켜, 제1광 조사부로부터 노광광을 마스크상에 조사해서, 상기 반사부재에 투영되는 마스크의 얼라이먼트·마크 투영상을 수상·화상처리하여 그 상대위치를 검출/기억하고, 제1의 광조사부로부터의 노광광의 방출을 정지한 후, 마스크상의 얼라이먼트·마크가 상기 작업편상에 투영되는 위치에 작업편을 이동시켜, 상기 제1의 광조사부 혹은 제2광조사부로부터 비노광광을 작업편의 얼라이먼트·마크에 조사하고, 작업편의 얼라이먼트·마크를 수상·화상처리하여 상대위치를 검출/기억하고, 상기 양 얼라이먼트·마크의 상대위치 데이타를 연산해서, 상기 양 얼라이먼트·마크가 중첩되도록 작업편 및/또는 마스크를 이동시켜, 마스크와 작업편의 위치맞춤을 행하는 것을 특징으로 하는 마스크와 작업편의 위치맞춤 장치.
- 마스크와 상기 마스크를 이동시키는 마스크 스테이지와, 투영 렌즈와, 다수의 노광구역을 가지는 작업편과, 상기 작업편을 이동시키는 작업편 스테이지와, 비노광광 혹은 노광광을 마스크의 얼라이먼트·마크 및/또는 마스크 패턴에 조사하는 제1광조사부와, 작업편 스테이지상의 작업편 고정영역으로부터 떨어진 위치에 설치되고, 상기 제1광조사부로부터 방출되는 노광광에 의한 마스크의 얼라이먼트·마크의 투영상이 결상하는 반사부재와, 마스크의 얼라이먼트·마크의 투영상을 수상함과 동시에, 상기 제1광조사부 혹은 제2광조사부로부터 방출되는 비노광광에 의해 조명되는 작업편의 얼라이먼트·마크를 수상하는 수상수단과, 작업편이 적재된 작업편 스테이지를 소정량씩 이동시켜 작업편상의 상기 각 노광구역을 노광위치로 순차 이동시키고, 상기 수상수단이 수상한 화상 데이타에 의거하여 마스크와 작업편의 얼라이먼트·마크가 중첩되도록 작업편 및/또는 마스크를 이동시켜 마스크와 작업편의 위치맞춤을 행하고, 노광광을 마스크상에 조사시켜 작업편상의 각 노광구역에 순차 노광시키는 제어수단을 구비하고, 상기 제어수단은 마스크의 얼라이먼트·마크의 투영위치에 상기 반사부재가 배치되도록 작업편 스테이지를 이동시켜, 제1광조사부로부터 노광광을 마스크상에 조사해서, 상기 반사부재에 투영되는 마스크의 얼라이먼트·마크 투영상을 수상·화상처리하여 그 상대위치를 검출/기억하고, 제1광조사부로부터의 노광광의 방출을 정지한 후, 마스크의 얼라이먼트·마크의 투영위치에 작업편상의 노광대상이 되는 노광구역이 위치하도록 작업편을 이동시켜, 상기 제1광조사부 혹은 제2광조사부로부터 비노광광을 작업편의 얼라이먼트·마크에 조사하여, 작업편의 얼라이먼트·마크를 수상 화상처리하여 상대위치를 검출/기억하고, 상기 양 얼라이먼트·마크의 상대위치 데이타를 연산해서, 상기 양 얼라이먼트·마크가 중첩하도록 작업편 및/또는 마스크를 이동시켜 마스크와 작업편의 위치맞춤을 하는 것을 특징으로 하는 마스크와 작업편의 위치맞춤 장치.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7239783A JP2994991B2 (ja) | 1995-09-19 | 1995-09-19 | マスクとワークの位置合わせ方法および装置 |
JP95-239783 | 1995-09-19 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR970016838A true KR970016838A (ko) | 1997-04-28 |
KR100422722B1 KR100422722B1 (ko) | 2005-04-06 |
Family
ID=17049827
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019960040863A KR100422722B1 (ko) | 1995-09-19 | 1996-09-19 | 마스크와작업편의위치맞춤방법및장치 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5881165A (ko) |
EP (1) | EP0764885B1 (ko) |
JP (1) | JP2994991B2 (ko) |
KR (1) | KR100422722B1 (ko) |
DE (1) | DE69605512T2 (ko) |
TW (1) | TW448345B (ko) |
Families Citing this family (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2856711B2 (ja) * | 1996-07-16 | 1999-02-10 | 山形日本電気株式会社 | 位置検出方法 |
JP3445100B2 (ja) * | 1997-06-02 | 2003-09-08 | キヤノン株式会社 | 位置検出方法及び位置検出装置 |
US6002426A (en) * | 1997-07-02 | 1999-12-14 | Cerprobe Corporation | Inverted alignment station and method for calibrating needles of probe card for probe testing of integrated circuits |
EP1089327A4 (en) * | 1998-03-06 | 2003-01-02 | Nikon Corp | EXPOSURE DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE |
JPH11312635A (ja) * | 1998-04-28 | 1999-11-09 | Ushio Inc | コンタクト露光方法 |
US7004970B2 (en) | 1999-10-20 | 2006-02-28 | Anulex Technologies, Inc. | Methods and devices for spinal disc annulus reconstruction and repair |
US8632590B2 (en) | 1999-10-20 | 2014-01-21 | Anulex Technologies, Inc. | Apparatus and methods for the treatment of the intervertebral disc |
US7615076B2 (en) | 1999-10-20 | 2009-11-10 | Anulex Technologies, Inc. | Method and apparatus for the treatment of the intervertebral disc annulus |
JP2002131923A (ja) | 2000-10-25 | 2002-05-09 | Ushio Inc | 基板用逐次露光装置 |
JP4740405B2 (ja) * | 2000-11-09 | 2011-08-03 | 東京エレクトロン株式会社 | 位置合わせ方法及びプログラム記録媒体 |
TW200404485A (en) * | 2002-05-22 | 2004-03-16 | Assembleon Nv | Method of placing a component by means of a placement device at a desired position on a substrate holder, and device suitable for performing such a method |
JP3643572B2 (ja) * | 2002-05-31 | 2005-04-27 | 株式会社アドテックエンジニアリング | 投影露光装置及び位置合わせ装置 |
JP4158514B2 (ja) | 2002-12-24 | 2008-10-01 | ウシオ電機株式会社 | 両面投影露光装置 |
DE102005021048A1 (de) * | 2005-05-06 | 2006-12-28 | Infineon Technologies Ag | Vorrichtung zum Stabilisieren eines Werkstücks bei einer Bearbeitung |
JPWO2008139955A1 (ja) * | 2007-05-07 | 2010-08-05 | 株式会社目白プレシジョン | 投影露光方法、アライメント方法及び投影露光装置 |
JP2011066185A (ja) * | 2009-09-17 | 2011-03-31 | Ushio Inc | ワークアライメントマークの検出方法および露光装置 |
JP5523207B2 (ja) * | 2010-06-01 | 2014-06-18 | 株式会社トプコン | 露光装置 |
JP5839398B2 (ja) * | 2012-02-21 | 2016-01-06 | 株式会社アドテックエンジニアリング | 露光装置及び露光方法 |
US9547231B2 (en) * | 2013-06-12 | 2017-01-17 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Device and method for making photomask assembly and photodetector device having light-collecting optical microstructure |
TWD174921S (zh) * | 2014-12-17 | 2016-04-11 | 日本碍子股份有限公司 | 複合基板之部分 |
JP6642032B2 (ja) * | 2016-01-21 | 2020-02-05 | セイコーエプソン株式会社 | プロジェクター及びプロジェクターの制御方法 |
JP7378910B2 (ja) * | 2017-10-31 | 2023-11-14 | 株式会社アドテックエンジニアリング | 両面露光装置及び両面露光方法 |
JP7310617B2 (ja) | 2020-01-22 | 2023-07-19 | ウシオ電機株式会社 | アライメントマーク検出装置およびアライメントマーク検出方法 |
JP2022047923A (ja) | 2020-09-14 | 2022-03-25 | 株式会社ブイ・テクノロジー | 投影露光装置及び投影露光方法 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS56110234A (en) * | 1980-02-06 | 1981-09-01 | Canon Inc | Projection printing device |
JPS56122128A (en) * | 1980-02-29 | 1981-09-25 | Telmec Co Ltd | Positioning system for printing device of semiconductor or the like |
US4699515A (en) * | 1984-02-28 | 1987-10-13 | Nippon Kogaku K. K. | Process of transfer of mask pattern onto substrate and apparatus for alignment therebetween |
JPS60223122A (ja) * | 1984-04-19 | 1985-11-07 | Canon Inc | 投影露光装置 |
US4814829A (en) * | 1986-06-12 | 1989-03-21 | Canon Kabushiki Kaisha | Projection exposure apparatus |
JP2773147B2 (ja) * | 1988-08-19 | 1998-07-09 | 株式会社ニコン | 露光装置の位置合わせ装置及び方法 |
JP3109852B2 (ja) * | 1991-04-16 | 2000-11-20 | キヤノン株式会社 | 投影露光装置 |
-
1995
- 1995-09-19 JP JP7239783A patent/JP2994991B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1996
- 1996-08-13 TW TW085109817A patent/TW448345B/zh not_active IP Right Cessation
- 1996-09-19 EP EP96115086A patent/EP0764885B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1996-09-19 KR KR1019960040863A patent/KR100422722B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1996-09-19 US US08/715,966 patent/US5881165A/en not_active Expired - Lifetime
- 1996-09-19 DE DE69605512T patent/DE69605512T2/de not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0764885A2 (en) | 1997-03-26 |
TW448345B (en) | 2001-08-01 |
US5881165A (en) | 1999-03-09 |
KR100422722B1 (ko) | 2005-04-06 |
DE69605512T2 (de) | 2000-04-27 |
EP0764885A3 (en) | 1997-10-22 |
JP2994991B2 (ja) | 1999-12-27 |
DE69605512D1 (de) | 2000-01-13 |
JPH0982615A (ja) | 1997-03-28 |
EP0764885B1 (en) | 1999-12-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR970016838A (ko) | 마스크와 작업편의 위치맞춤 방법 및 장치 | |
US6710849B2 (en) | Method for calibrating a lithographic projection apparatus and apparatus capable of applying such a method | |
JP3880312B2 (ja) | リソグラフィ装置において使用するための位置検出システム | |
JP5009886B2 (ja) | 光学位置評価装置および方法 | |
KR970007512A (ko) | 마스크와 마스크 또는 마스크와 작업편의 위치맞춤 방법 및 장치 | |
KR101022395B1 (ko) | 위치 측정 시스템 및 리소그래피 장치 | |
KR970063424A (ko) | 웨이퍼 주변 노광방법 및 장치 | |
JP4055827B2 (ja) | リソグラフィ装置の放射線量決定方法、及び該方法実施用テストマスク及び装置 | |
JPS62145730A (ja) | 投影型露光装置 | |
JPS5830736B2 (ja) | 半導体基板上のマスクのパタ−ンを投影印刷する装置 | |
KR970023647A (ko) | 웨이퍼 주변 노광방법 및 장치 | |
JP2004200700A (ja) | デバイス製造方法、それにより製造したデバイス、コンピュータ・プログラムおよびリソグラフィ装置 | |
JP2009158971A (ja) | デバイス製造方法、リソグラフィ装置及びそれによって製造されたデバイス | |
JP2010524231A (ja) | パターニングデバイスを照明するための照明システム、および照明システムを製造する方法 | |
KR960019544A (ko) | 마스크와 워크의 위치 맞춤 방법 및 장치 | |
JP2765422B2 (ja) | 露光装置及びそれを用いた半導体素子の製造方法 | |
US6618118B2 (en) | Optical exposure method, device manufacturing method and lithographic projection apparatus | |
JPH07270119A (ja) | 集積回路リソグラフィー用の蛍光使用の直接レチクル対ウエハ・アライメントの方法及び装置 | |
KR101421540B1 (ko) | 레티클 조립체, 리소그래피 장치, 및 리소그래피 공정의 단일 스캐닝 동작으로 2 이상의 이미지 필드를 투영하는 방법 | |
US6937318B2 (en) | Lithographic apparatus, computer program, device manufacturing method, and device manufactured thereby | |
KR970062817A (ko) | 노광장치 | |
KR20030076201A (ko) | 디바이스 제조방법, 그 디바이스 및 그를 위한 리소그래피장치 | |
JP4922270B2 (ja) | 基板キャリア及びリソグラフィ装置 | |
JP2010114265A (ja) | 走査露光装置およびその制御方法、ならびにデバイス製造方法 | |
JP2009535792A (ja) | リソグラフィ装置及びパターニングデバイス |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20130227 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20140204 Year of fee payment: 11 |
|
LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |