KR970062817A - 노광장치 - Google Patents

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Publication number
KR970062817A
KR970062817A KR1019960082558A KR19960082558A KR970062817A KR 970062817 A KR970062817 A KR 970062817A KR 1019960082558 A KR1019960082558 A KR 1019960082558A KR 19960082558 A KR19960082558 A KR 19960082558A KR 970062817 A KR970062817 A KR 970062817A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
optical system
photosensitive substrate
substrate
detecting
moving mirror
Prior art date
Application number
KR1019960082558A
Other languages
English (en)
Inventor
마사히꼬 오꾸무라
Original Assignee
고노 시게오
니콘 코포레이션
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Filing date
Publication date
Application filed by 고노 시게오, 니콘 코포레이션 filed Critical 고노 시게오
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Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F9/00Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
    • G03F9/70Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
    • G03F9/7003Alignment type or strategy, e.g. leveling, global alignment
    • G03F9/7023Aligning or positioning in direction perpendicular to substrate surface
    • G03F9/7034Leveling

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

레벨링단상의 이동경이 기울어진 경우에는 레이저 간섭계에 의하여 얻어지는 계측값에 사인오차(E)가 부가된다. 이러한 사인오차를 구하고, 실제의 계측값으로부터 사인오차의 영향을 없앤다. 노광장치는 십자선(R)에 그련진 패선을 투영렌즈(PL)를 거쳐 초점 레벨링단(15)에 놓여있는 웨이퍼(W)에 노광한다. 이러한 노광장치에 투영렌즈(PL)의 광축에 대하여 레벨링단(15)을 소정각도로 경사지게 하는 작동기(21), 레벨링단(15)에 놓여있는 이동경(32), 이동경(32)에 레이저광을 조사하여 좌표값을 얻는 레이저 간섭계(34), 위치조정마크를 검출하는 위치조정센서(20), 위치조정센서(20)에 의하여 위치조정마크를 확인하면서, 작동에 의하여 웨이퍼(W)를 경사지게 한 상태에서, 레이저 간섭계의 의하여 좌표값을 판독하고, 웨이퍼(W)의 경사각에 따라 생기는 사인오차(E)를 산출하는 주제어부(50), 사인오차(E)가 발생되지 않도록 레이저 간섭계를 조정하는 평행평판(35) 등이 포함되어 있다.

Description

노광장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 웨이퍼(W)용의 초점 레벨링단 주변의 구성을 도시한 도면.

Claims (4)

  1. 마스크에 그려진 패턴을 투영광학계를 거쳐 기판 테이블위에 놓여있는 감광기판에 노광하는 투영노광장치로서, 투영광학계의 광축에 대하여 기판 테이블을 소정의 각도로 경사지게 하고 작동기, 기판테이블위에 놓여있는 이동경, 이러한 이동경에 레이저 광을 조사하여 좌표값을 얻는 간섭계, 광축과 직교하는 평면내에 있어서, 감광기판이나 기준판의 위치를 검출하는 위치검출광학계, 위치검출광학계로 감광기판 또는 기준판의 위치를 확인하면서 작동기에 의하여 감광기판을 경사지게 한 상태로 간섭계에 의하여 좌표값을 판독하고, 감광기판의 경사각에 따라 생기는 사인오차를 산출하는 산출수단, 레이저 광이 이동경을 조사하는 광축방향의 위치를 조정하는 조정수단 등으로 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 노광장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 패턴이 투영광학계에 의하여 결상되는 결상위치를 구하는 초점 검출광학계가 제공되어 있고, 작동기에 의하여 감광기판을 결상위치로 이동시킨 상태에서, 위치검출광학계가 감광기판이나 기준판의 위치를 검출하는 것을 특징으로 하는 노광장치.
  3. 기판단에 놓여있는 감광기판의 경사각에 따라 생기는 사인오차를 산출하는 방법으로서, 이동경이 제공되어 있는 기판단을 투영광학계의 결상위치로 이동시키고, 감광기판의 위치를 검출한 상태에서, 기판단을 소정각도만큼 경사지게 하고, 그 정도 만큼만 이동경에 레이저 광을 조사하여 투영광학계의 광축과 직교하는 면내의 좌표값을 구하고, 상기 소정각도의 사인오차를 검출하는 공정을 포함하는 방법.
  4. 제1항에 의한 사인오차를 산출하는 방법으로서, 최초로 상기 투영광학계의 결상위치를 검출하는 공정을 포함하는 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019960082558A 1996-02-15 1996-12-31 노광장치 KR970062817A (ko)

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