JPH11194481A - ペリクル装着構造 - Google Patents
ペリクル装着構造Info
- Publication number
- JPH11194481A JPH11194481A JP36027697A JP36027697A JPH11194481A JP H11194481 A JPH11194481 A JP H11194481A JP 36027697 A JP36027697 A JP 36027697A JP 36027697 A JP36027697 A JP 36027697A JP H11194481 A JPH11194481 A JP H11194481A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pellicle
- substrate
- leaf springs
- pellicle frame
- grooves
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/68—Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
- G03F1/82—Auxiliary processes, e.g. cleaning or inspecting
- G03F1/84—Inspecting
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ペリクルと基板を装着するのに接着剤を使用
すると、基板が歪み、異物が混入する問題があった。 【解決手段】 ペリクルフレーム６に溝７を設け、コ字
状に形成した複数の板バネ８を溝７と基板１のエッジ下
部に係合させて、基板１にペリクルを装着する。
すると、基板が歪み、異物が混入する問題があった。 【解決手段】 ペリクルフレーム６に溝７を設け、コ字
状に形成した複数の板バネ８を溝７と基板１のエッジ下
部に係合させて、基板１にペリクルを装着する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体の製造時に使
用されるマスクのペリクルに関するものである。
用されるマスクのペリクルに関するものである。
【０００２】ペリクルはマスクに異物が付着することを
避けるため、マスク上から一定距離に設けた透明な保護
膜とそれを支持するペリクルフレームとで構成され、マ
スクの形成された基板に装着される。
避けるため、マスク上から一定距離に設けた透明な保護
膜とそれを支持するペリクルフレームとで構成され、マ
スクの形成された基板に装着される。
【０００３】
【従来の技術】従来のペリクル装着は接着剤を使用して
貼り付けるもので、図４の断面図に示したように、基板
１に保護膜２を支持したペリクルフレーム３を接着剤４
によって貼り付けている。
貼り付けるもので、図４の断面図に示したように、基板
１に保護膜２を支持したペリクルフレーム３を接着剤４
によって貼り付けている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
接着剤を用いた装着では、図５の簡略側面図に示したよ
うに、接着剤４は一様に平らになっているわけでなく、
装着時にペリクルフレーム３を基板１に押し付けて接着
するため、基板１に歪みが発生し、基板の精度が低下す
るという問題があった。
接着剤を用いた装着では、図５の簡略側面図に示したよ
うに、接着剤４は一様に平らになっているわけでなく、
装着時にペリクルフレーム３を基板１に押し付けて接着
するため、基板１に歪みが発生し、基板の精度が低下す
るという問題があった。
【０００５】また、図４に示したように、接着剤４に付
いた異物５が基板１上に付着する恐れもあり、また接着
剤そのものが劣化して異物の原因となることもあった。
いた異物５が基板１上に付着する恐れもあり、また接着
剤そのものが劣化して異物の原因となることもあった。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は接着剤を使用せ
ずに、ペリクルフレームに設けた溝と板バネを利用し、
またペリクルフレームに設けた弾性を有し、先端に爪を
有する係止部を利用して、基板にペリクルを装着するも
のである。
ずに、ペリクルフレームに設けた溝と板バネを利用し、
またペリクルフレームに設けた弾性を有し、先端に爪を
有する係止部を利用して、基板にペリクルを装着するも
のである。
【０００７】
【発明の実施の形態】図１は本発明の第１の実施形態を
示す断面図、図２は同じくその平面図である。
示す断面図、図２は同じくその平面図である。
【０００８】ペリクルフレーム６はその側面に溝７が設
けられており、金属等でコ字状に形成された板バネ８が
その溝７に係合する。
けられており、金属等でコ字状に形成された板バネ８が
その溝７に係合する。
【０００９】保護膜２とペリクルフレーム６から成るペ
リクルを基板１に装着するには、ペリクルと基板１の位
置合せをし、複数個の板バネ８を溝７と基板１のエッジ
下部に押し込むようにして係合させる。
リクルを基板１に装着するには、ペリクルと基板１の位
置合せをし、複数個の板バネ８を溝７と基板１のエッジ
下部に押し込むようにして係合させる。
【００１０】図２では４個の板バネ８で四隅を係合して
いるが、もっと多くても、また幅広い板バネ２個でペリ
クルフレーム６の両側を固定しても構わない。
いるが、もっと多くても、また幅広い板バネ２個でペリ
クルフレーム６の両側を固定しても構わない。
【００１１】このように第１の実施形態では接着剤を使
用せずに板バネを利用するので、力が分散されてペリク
ルの装着時に従来のように基板が歪むことはなく、また
ペリクルフレームと基板との間に隙間がないので、異物
が混入するという問題も発生しない。
用せずに板バネを利用するので、力が分散されてペリク
ルの装着時に従来のように基板が歪むことはなく、また
ペリクルフレームと基板との間に隙間がないので、異物
が混入するという問題も発生しない。
【００１２】更に板バネをはずせばペリクルの再利用も
可能である。
可能である。
【００１３】図３は本発明の第２の実施形態を示す簡略
断面図で、ペリクルフレーム９に複数の係止部１０を設
けている。
断面図で、ペリクルフレーム９に複数の係止部１０を設
けている。
【００１４】係止部１０は弾性を有し、図１の板バネ８
のような機能を有するバネ部１１と、先端に基板１のエ
ッジ下部と係合する爪１２とを有している。
のような機能を有するバネ部１１と、先端に基板１のエ
ッジ下部と係合する爪１２とを有している。
【００１５】ペリクルを基板１に装着するには、基板１
上にペリクルを垂直に下ろし、あるいはペリクルを逆に
して基板１を垂直に下ろして、バネ部１１の弾性を利用
して爪１２を基板１のエッジ下部に係合させる。
上にペリクルを垂直に下ろし、あるいはペリクルを逆に
して基板１を垂直に下ろして、バネ部１１の弾性を利用
して爪１２を基板１のエッジ下部に係合させる。
【００１６】係止部１０はペリクルフレーム９と一体に
アルミ合金から削り出して形成しても、精度が良ければ
合成樹脂で成形しても良い。また係止部１０を別個に形
成し、ペリクルフレーム９と一体に組立てて構成しても
良い。
アルミ合金から削り出して形成しても、精度が良ければ
合成樹脂で成形しても良い。また係止部１０を別個に形
成し、ペリクルフレーム９と一体に組立てて構成しても
良い。
【００１７】係止部１０はペリクルフレーム９の両側に
複数個ずつ設けても、また幅広いものを両側に１個ずつ
設けても良い。
複数個ずつ設けても、また幅広いものを両側に１個ずつ
設けても良い。
【００１８】このように、第２の実施形態では第１の実
施形態の効果に加えて、板バネを使用せずにペリクルフ
レームと一体の係止部を利用するので、部材費を低減さ
せることができる。
施形態の効果に加えて、板バネを使用せずにペリクルフ
レームと一体の係止部を利用するので、部材費を低減さ
せることができる。
【００１９】
【発明の効果】上記したように、本発明はペリクルを基
板に装着するのに接着剤を使用せずに、板バネあるいは
弾性を有する係止部を利用するので、装着時に基板が歪
むことはなく、また異物が混入することもなく、更にペ
リクルの再使用も可能である。
板に装着するのに接着剤を使用せずに、板バネあるいは
弾性を有する係止部を利用するので、装着時に基板が歪
むことはなく、また異物が混入することもなく、更にペ
リクルの再使用も可能である。
【図１】本発明の第１の実施形態の断面図
【図２】第１の実施形態の平面図
【図３】本発明の第２の実施形態を示す簡略側面図
【図４】従来の装着構造を示す断面図
【図５】従来の装着構造を示す簡略側面図
１ 基板 ２ 保護膜 ６，９ ペリクルフレーム ７ 溝 ８ 板バネ １０ 係止部 １２ 爪
Claims (3)
- 【請求項１】 ペリクルフレームに溝を設け、コ字状に
形成した複数の板バネを前記溝と基板のエッジ下部に係
合させて、前記基板にペリクルを装着することを特徴と
するペリクル装着構造。 - 【請求項２】 ペリクルフレームに弾性を有し、先端に
爪を有する複数の係止部を設け、前記係止部の爪を基板
のエッジ下部に係合させて、前記基板にペリクルを装着
することを特徴とするペリクル装着構造。 - 【請求項３】 前記係止部が前記ペリクルフレームと一
体にアルミ合金で形成されたことを特徴とする請求項２
記載のペリクル装着構造。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP36027697A JPH11194481A (ja) | 1997-12-26 | 1997-12-26 | ペリクル装着構造 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP36027697A JPH11194481A (ja) | 1997-12-26 | 1997-12-26 | ペリクル装着構造 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11194481A true JPH11194481A (ja) | 1999-07-21 |
Family
ID=18468696
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP36027697A Pending JPH11194481A (ja) | 1997-12-26 | 1997-12-26 | ペリクル装着構造 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11194481A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7351503B2 (en) | 2001-01-22 | 2008-04-01 | Photronics, Inc. | Fused silica pellicle in intimate contact with the surface of a photomask |
| US20120140199A1 (en) * | 2010-12-02 | 2012-06-07 | Globalfoundries Inc. | Mechanical fixture of pellicle to lithographic photomask |
| KR101143628B1 (ko) * | 2010-01-07 | 2012-06-28 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 펠리클, 펠리클을 포함하는 포토마스크, 포토마스크의 제조방법 |
| CN103838076A (zh) * | 2014-02-21 | 2014-06-04 | 上海华力微电子有限公司 | 减少掩膜板雾状缺陷的方法 |
| JP2017534077A (ja) * | 2014-11-17 | 2017-11-16 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． | マスクアセンブリ |
| WO2021213777A1 (en) * | 2020-04-23 | 2021-10-28 | Asml Netherlands B.V. | Pellicle frame for euv lithography |
-
1997
- 1997-12-26 JP JP36027697A patent/JPH11194481A/ja active Pending
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7351503B2 (en) | 2001-01-22 | 2008-04-01 | Photronics, Inc. | Fused silica pellicle in intimate contact with the surface of a photomask |
| KR101143628B1 (ko) * | 2010-01-07 | 2012-06-28 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 펠리클, 펠리클을 포함하는 포토마스크, 포토마스크의 제조방법 |
| US20120140199A1 (en) * | 2010-12-02 | 2012-06-07 | Globalfoundries Inc. | Mechanical fixture of pellicle to lithographic photomask |
| US8681310B2 (en) * | 2010-12-02 | 2014-03-25 | Globalfoundries Inc. | Mechanical fixture of pellicle to lithographic photomask |
| CN103838076A (zh) * | 2014-02-21 | 2014-06-04 | 上海华力微电子有限公司 | 减少掩膜板雾状缺陷的方法 |
| US10539886B2 (en) | 2014-11-17 | 2020-01-21 | Asml Netherlands B.V. | Pellicle attachment apparatus |
| JP2017534077A (ja) * | 2014-11-17 | 2017-11-16 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． | マスクアセンブリ |
| US10558129B2 (en) | 2014-11-17 | 2020-02-11 | Asml Netherlands B.V. | Mask assembly |
| US10969701B2 (en) | 2014-11-17 | 2021-04-06 | Asml Netherlands B.V. | Pellicle attachment apparatus |
| US11003098B2 (en) | 2014-11-17 | 2021-05-11 | Asml Netherlands B.V | Pellicle attachment apparatus |
| US11009803B2 (en) | 2014-11-17 | 2021-05-18 | Asml Netherlands B.V. | Mask assembly |
| WO2021213777A1 (en) * | 2020-04-23 | 2021-10-28 | Asml Netherlands B.V. | Pellicle frame for euv lithography |
| KR20220148333A (ko) * | 2020-04-23 | 2022-11-04 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | Euv 리소그래피용 펠리클 프레임 |
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