JPH1198U - ペリクルフレ―ム - Google Patents
ペリクルフレ―ムInfo
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- JPH1198U JPH1198U JP51699U JP51699U JPH1198U JP H1198 U JPH1198 U JP H1198U JP 51699 U JP51699 U JP 51699U JP 51699 U JP51699 U JP 51699U JP H1198 U JPH1198 U JP H1198U
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- pellicle
- pellicle frame
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Abstract
(57)【要約】
【課題】大きな荷重を加えることなく、基板と隙間なく
接着できるにする。 【解決手段】ペリクルフレームに設けられ、基板に接触
する接触部材３の断面形状を、基板４に接触する接触面
の少なくとも一部が突出している形状とした。
接着できるにする。 【解決手段】ペリクルフレームに設けられ、基板に接触
する接触部材３の断面形状を、基板４に接触する接触面
の少なくとも一部が突出している形状とした。
Description
【０００１】
本考案は、半導体露光装置などに用いるレチクル、マスク等の基板に装着する ペリクルフレームに関するものである。
【０００２】
従来の接着剤付きペリクルフレームは、図５（ａ）、（ｂ）に示すような構成 になっていた。矩形フレーム２の表面にはペリクル１が張設されている。フレー ム２の裏面にはアクリル系の硬質の接着剤５３が全面にわたってほぼ同じ厚さに 塗布されていた。
【０００３】
上記の如き従来の技術においては、アクリル系の硬質の接着剤５３をフレーム ２の裏面に全面にわたって同じ厚さに塗布しているので、接着剤５３がつぶれに くかった。またレチクルとフレームとを圧着する際、フレーム２の各辺ＡＢ、Ｂ Ｃ、ＣＤ、ＤＡに加わる力はフレーム２のコーナー部Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄに比べて小 さかった。そのため、レチクル４とフレーム２とを接着した後の断面は、コーナ ー部Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄでは、図５（ｃ）に示すように、レチクル４とフレーム２と が接着剤５３により完全に接着されるが、辺ＡＢ、ＢＣ、ＣＤ、ＤＡの中央付近 では、図５（ｄ）に示すように、接着剤５３とレチクル４との間に隙間５が生じ てしまう場合があり、この隙間から塵等が入り込みレチクル表面に付着してしま うという問題点があった。
【０００４】 また、フレームとレチクルとをフレーム全周にわたって連続的に隙間なく接着 するために大きな荷重を加えると、レチクルに歪みが生じてしまうという問題点 があった。 本考案はこのような従来の問題点に鑑みてなされたもので、大きな荷重を加え ることなく、基板と隙間なく接着又は接触できるペリクルフレームを提供するこ とを目的とする。また、接触部材に異物が食い込むことを防げるペリクルフレー ムを提供することを目的とする。
【０００５】
上記問題点の解決の為に、請求項１の本考案は、フレームと、前記フレームの 一方の端面に設けられるペリクルと、前記フレームの他方の端面に設けられ、基 板に接触する接触面を備える接触部材とを有するペリクルフレームにおいて、 前記他方の端面の長手方向と交差する方向における前記接触部材の断面形状を、 前記基板に接触する接触面の少なくとも一部が突出している形状とした。
【０００６】 請求項５の本考案は、フレームと、前記フレームの一方の端面に設けられるペ リクルと、前記フレームの他方の端面に設けられ、基板に接触する接触部材とを 有するペリクルフレームにおいて、前記接触部材は、前記他方の端面の長手方向 と交差する方向に所定距離離して設けられ、前記基板に接触する少なくとも２つ の接触領域と、前記少なくとも２つの接触領域の間に設けられ、前記基板に接触 しない非接触領域とを有する構成とした。
【０００７】
請求項１の本考案においては、接触面が潰れやすくなっているので、小さい力 で基板を圧接してもコーナー部の接触面がつぶれ、フレームの各辺の中央部でも 接触部材の接触面が基板に接触し、基板とフレームとの隙間が生じない
【０００８】 また、請求項５の本考案においては、本考案においては、少なくとも２つの接 触領域の間に非接触領域を設けることにより、非接触領域に異物が存在していて も、接触部材に異物が食い込むことを防止できる。
【０００９】
以下、図面を参照して本考案の実施例を説明する。 図１は本考案に係る接着剤付きペリクルフレームの第１の実施例を示す図であ り、図１（ａ）は平面図、図１（ｂ）はフレームの伸長方向に垂直な方向の断面 図である。なお、図５と同一の部材には同一符号を付し説明は省略する。
【００１０】 矩形のフレーム２の表面にはペリクル１が張設されている。また、フレーム２ の裏面には硬質の接着剤３が塗布されている。接着剤３の表面にはフレーム２の 伸長方向と平行にＶ字型の溝が二本形成されている。また凹部、凸部はそれぞれ ほぼ同じに厚さになっている。 上述の如く構成された接着剤付きペリクルフレームの接着剤３表面にレチクル ４を圧着すると、フレーム２のコーナー部では、図２（ａ）に示すように、接着 剤３表面の凸部がほとんどつぶれた状態で接着している。フレーム２の各辺の中 央付近にはコーナー部に比べて加わる力が小さいけれども、コーナー部の変形が 大きいので、図２（ｂ）に示すように、接着剤３表面の凸部が少しつぶれた状態 で接着する。
【００１１】 なお本実施例においては、基板に圧着される接着剤の表面にフレームの伸長方 向と平行に二本のＶ字型の溝を形成したが、接着剤表面の凹凸の形状はこれに限 るものではない。 図３は本考案の第２の実施例を示す図であり、フレームの伸長方向に垂直な方 向の断面図である。なお、図１と同一の部材には同一の符号を付し説明は省略す る。
【００１２】 矩形のフレーム２の表面にはペリクル１が張設されている。また、フレーム２ の裏面には硬質の接着剤３が、フレームの２の伸長方向と平行に二本、線状に連 続的に塗布されている。線状に塗布された接着剤３はフレーム２の裏面から厚さ がほぼ同じになっている。 上述の如く構成された接着剤付きペリクルフレームの接着剤３の表面にレチク ル４を圧着すると、フレーム２のコーナー部では、図４（ａ）に示すように、接 着剤がほとんどつぶれた状態で接着している。また、フレーム２の各辺の中央付 近はコーナー部に比べて加わる力が小さいが、コーナー部の接着剤のつぶれ方が 大きいので、接着剤の表面が少しつぶれて接着する。
【００１３】 なお本実施例においては、フレームの伸長方向に平行に二本の線状の接着剤を 連続的に塗布したが、接着剤の塗布方法はこれに限らない。
【００１４】
上述したように本考案によれば、本考案によれば、少なくとも２つの接触領域 の間に非接触領域を設けることにより、非接触領域に異物が存在していても、接 触部材に異物が食い込むことを防止できる。 また、フレームの他方の端面に設けた接触部材の接触面がつぶれやすいので、 大きな荷重を加えなくてもフレームと基板とを隙間なく接触できる。
【図１】 本考案のペリクルフレームの第１実施例を示
す図である。
す図である。
【図２】 本考案の第１実施例のペリクルフレームのコ
ーナー部と辺部の接着状態を説明する図である。
ーナー部と辺部の接着状態を説明する図である。
【図３】 本考案の第２実施例を示す図である。
【図４】 本考案の第２実施例のペリクルフレームのコ
ーナー部と辺部の接着状態を説明する図である。
ーナー部と辺部の接着状態を説明する図である。
【図５】 従来の接着剤付きペリクルフレームを示す図
である。
である。
１ ペリクル ２ フレーム ３、３３ 接着剤 ４ レチクル
Claims (7)
- 【請求項１】フレームと、前記フレームの一方の端面に
設けられるペリクルと、前記フレームの他方の端面に設
けられ、基板に接触する接触面を備える接触部材とを有
するペリクルフレームにおいて、 前記他方の端面の長手方向と交差する方向における前記
接触部材の断面形状は、前記基板に接触する接触面の少
なくとも一部が突出している形状であることを特徴とす
ることを特徴とするペリクルフレーム。 - 【請求項２】前記接触面は、前記他方の端面の長手方向
と交差する方向に所定距離離して設けられた２つの凸部
と、前記２つの凸部の間に形成される凹部とを有するこ
とを特徴とする請求項１に記載のペリクルフレーム。 - 【請求項３】前記凸部及び前記凹部は、前記長手方向に
沿って形成されていることを特徴とする請求項２に記載
のペリクルフレーム。 - 【請求項４】前記断面形状は、前記接触部材の厚さが、
前記フレームの他方の端面から離れるに従い、周辺部よ
り中央部の厚さが厚くなるように突出した形状であるこ
とを特徴とする請求項１に記載のペリクルフレーム。 - 【請求項５】フレームと、前記フレームの一方の端面に
設けられるペリクルと、前記フレームの他方の端面に設
けられ、基板に接触する接触部材とを有するペリクルフ
レームにおいて、 前記接触部材は、 前記他方の端面の長手方向と交差する方向に所定距離離
して設けられ、前記基板に接触する少なくとも２つの接
触領域と、前記少なくとも２つの接触領域の間に設けら
れ、前記基板に接触しない非接触領域とを有することを
特徴とするペリクルフレーム。 - 【請求項６】前記他方の面と前記接触部材との間に、前
記他方の端面の長手方向と交差する方向に所定距離離し
て設けられ、前記他方の端面と前記接触部材とが接触す
る少なくとも２つの接触領域と、前記少なくとも２つの
接触領域の間に設けられ、前記他方の端面と前記接触部
材とが接触しない非接触領域とを備えることを特徴とす
る請求項５に記載のペリクルフレーム。 - 【請求項７】前記接触部材は、接着剤であることを特徴
とする請求項１から請求項６のいずれかに記載のペリク
ルフレーム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP51699U JPH1198U (ja) | 1999-02-08 | 1999-02-08 | ペリクルフレ―ム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP51699U JPH1198U (ja) | 1999-02-08 | 1999-02-08 | ペリクルフレ―ム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1198U true JPH1198U (ja) | 1999-07-21 |
Family
ID=11475948
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP51699U Pending JPH1198U (ja) | 1999-02-08 | 1999-02-08 | ペリクルフレ―ム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1198U (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012108293A (ja) * | 2010-11-17 | 2012-06-07 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ペリクルの製造方法 |
| US8323855B2 (en) | 2007-03-01 | 2012-12-04 | Nikon Corporation | Pellicle frame apparatus, mask, exposing method, exposure apparatus, and device fabricating method |
| US9423698B2 (en) | 2003-10-28 | 2016-08-23 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus |
| US9857599B2 (en) | 2007-10-24 | 2018-01-02 | Nikon Corporation | Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| US10101666B2 (en) | 2007-10-12 | 2018-10-16 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
-
1999
- 1999-02-08 JP JP51699U patent/JPH1198U/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9423698B2 (en) | 2003-10-28 | 2016-08-23 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus |
| US9760014B2 (en) | 2003-10-28 | 2017-09-12 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus |
| US8323855B2 (en) | 2007-03-01 | 2012-12-04 | Nikon Corporation | Pellicle frame apparatus, mask, exposing method, exposure apparatus, and device fabricating method |
| US10101666B2 (en) | 2007-10-12 | 2018-10-16 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| US9857599B2 (en) | 2007-10-24 | 2018-01-02 | Nikon Corporation | Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| JP2012108293A (ja) * | 2010-11-17 | 2012-06-07 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ペリクルの製造方法 |
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