JP6303286B2 - ペリクル付きフォトマスクの検査方法及びペリクル粘着耐久性検査装置 - Google Patents
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- 238000007689 inspection Methods 0.000 title claims description 35
- 238000000034 method Methods 0.000 title description 14
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims description 23
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 16
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 16
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 10
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 10
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 8
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 7
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 5
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 5
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 5
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 5
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 4
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 101100269850 Caenorhabditis elegans mask-1 gene Proteins 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960001716 benzalkonium Drugs 0.000 description 1
- CYDRXTMLKJDRQH-UHFFFAOYSA-N benzododecinium Chemical compound CCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 CYDRXTMLKJDRQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002788 crimping Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 238000000275 quality assurance Methods 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- 230000036962 time dependent Effects 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
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- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
Description
フォトマスクにペリクルフレームの重さの1倍以上10kgf以下の低押し当て力の貼付荷重でペリクルフレームを圧着して貼り付けられたペリクル付きフォトマスクのペリクル側の面を下に向け、前記ペリクルフレームをフォトマスクから下向きの力で引き剥がす荷重を加え、
前記ペリクルフレームのフォトマスクからの剥離状態を観察し、前記荷重と剥離開始時間との関係により粘着耐久性を評価することを特徴とするペリクル付きフォトマスクの検査方法である。
マスクの平坦度の変化を軽減することができる効果がある。
以下、本発明のペリクル粘着耐久性の検査方法を図面を参照して説明する。
図1は、本発明のフォトマスク1へペリクルフレーム13を貼り付けてペリクル付きフォトマスク10を製造し、そのペリクル付きフォトマスク10のフォトマスク1へのペリクルフレーム13の貼付耐久性を検査する、ペリクル付きフォトマスク10の製造方法の全体手順を示すフローチャートである。
(S1)ペリクル貼付け装置20にフォトマスク1を設置し、その下方にペリクル11を設置する。ペリクル11は、ペリクル膜12がフォトマスクの外側に向けて設置されたペリクルフレーム13と、そのペリクルフレーム13のフォトマスク1側の面に設置した粘着剤層14とから成る。
(S3)そのペリクル付きフォトマスク10を保管し、(S4)その出荷の際に、ペリクル付きフォトマスク10を、ペリクル膜12を下方に向けてペリクル粘着耐久性検査装置30に設置する。そして、ペリクル付きフォトマスク10のペリクルフレーム13に形成された穴15に、荷重機構31の巻きバネ状の固定バサミの細棒31aを差し込み、荷重31bを加える。
ペリクル11は、図2のように、ペリクル膜12とペリクルフレーム13から構成される。ペリクルフレーム13は、4方を側壁で囲まれた枠状のものであり、枠状のペリクルフレーム13の上面(上辺部)には透明で極薄膜のペリクル膜12が接着剤層12aにより固着されている。
図3に、ペリクル11をフォトマスク1に貼り付けてペリクル付きフォトマスク10を製造するペリクル貼付け装置20を示す。ペリクル貼付け装置20は、フォトマスク支持部21でフォトマスク1を支え、ステンレスのペリクル押し当てプレート22上にペリクル11を、ペリクル膜12を下に向けて設置する。
以上のように、低押し当て力のペリクル貼付荷重でペリクル11をフォトマスク1に貼り付けてペリクル付きフォトマスク10を製造する。次に、そのペリクル付きフォトマスク10を出荷する際に、そのペリクル貼付強度を、ペリクル粘着耐久性検査装置30を用いて検査する。
図4は、ペリクル粘着耐久性検査装置30の構成を示す模式概念図を示す。図4は荷重機構の正面図を示す。また、図5(a)は荷重機構の側面図を示す。図4と図5に示したペリクル粘着耐久性検査装置30は、ペリクル付きフォトマスク10のフォトマスク1とペリクルフレーム13の貼付強度の経時変化を検査する装置である。
荷重機構31は、巻きバネ状の固定バサミの細棒31aと荷重31bと荷重保持棒31cで構成する。巻きバネ状の固定バサミの細棒31aは、ステンレス線等の剛性を有する金属棒で作製する。巻きバネ状の固定バサミの細棒31aの太さは、穴15の、直径1.6mm程度の内径より小さい1.2mm程度の太さにし、必要に応じて表面の錆や傷や塵埃を防止するために樹脂をコートして保護する。巻きバネは、例えば、直径25mm程度の3巻きの輪で形成する。
ペリクル貼付強度の検査は、以下の手順で行う。先ず、ペリクル付きフォトマスク10を、ペリクル11を下側に向けてペリクル粘着耐久性検査装置30に設置する。すなわち、ペリクル付きフォトマスク10のフォトマスク1の外周部を基板保持機構32で保持する。
初めに、観察手段として、発光素子33aと受光素子33bとを隣接して同一方向に向けて設けた光学位置センサ33を用いる例について説明する。光学位置センサ33は、図4のようにペリクルフレーム13に向けて設置する。詳しくは、図5(b)のように、発光素子33aと受光素子33bとを隣接して同一方向に向けて設けた反射型フォトセンサを用いる。発光素子33aとして発光ダイオードが使用でき、受光素子33bとして高感度のフォトトランジスタが使用できる。
33bで受光させる。ペリクルフレーム13が落下した場合に激減する受光素子33bの光量を検出することで、ペリクルフレーム13の落下又は位置の変化を検出する。そして制御手段36が、そのペリクルフレーム13の位置の変化の時刻を記憶手段37に記憶する。それとともに、制御手段36が、その時刻の前後の時刻に撮像カメラ34が撮影した画像データを記憶手段37に記憶する。
変形例1は、観察手段として撮像カメラ34を用いてペリクルフレーム13の状態を検出する。撮像カメラ34は、CCD等の小型の固体撮像カメラが好適である。撮像カメラ34は、制御手段36と連携した画像処理手段35に撮影画像を送信し、画像処理手段35は画像の変化を検出し、制御手段36が、画像が変化した時刻と、その時刻の前後の時刻の画像データを記憶手段37に記憶する。
ペリクル粘着耐久性検査装置30を用いて、荷重31bを徐々に増やして、フォトマスク1からペリクルフレーム13が剥がれる荷重31bの大きさを調べる。これにより、ペリクル付きフォトマスク10の接着力を測定することができる。
ともできる。
10・・・ペリクル付きフォトマスク
11・・・ペリクル
12・・・ペリクル膜
12a・・・接着剤層
13・・・ペリクルフレーム
14・・・粘着剤層
15・・・穴
20・・・ペリクル貼付け装置
21・・・フォトマスク支持部
22・・・ペリクル押し当てプレート
23・・・押圧機構
24・・・フォトマスク加圧フレーム
30・・・ペリクル粘着耐久性検査装置
31・・・荷重機構
31a・・・細棒
31b・・・荷重
31c・・・荷重保持棒
32・・・基板保持機構
33・・・光学位置センサ
33a・・・発光素子
33b・・・受光素子
34・・・撮像カメラ
35・・・画像処理手段
36・・・制御手段
37・・・記憶手段
Claims (2)
- フォトマスクにペリクルフレームの重さの1倍以上10kgf以下の低押し当て力の貼付荷重でペリクルフレームを圧着して貼り付けてなるペリクル付きフォトマスクのペリクル粘着耐久性検査装置であって、
前記ペリクル付きフォトマスクのペリクル側の面を下に向け、前記ペリクルフレームをフォトマスクから下向きの力で引き剥がす荷重を加える荷重機構を有しており、
前記荷重機構は、先端をペリクルフレームにフックする巻きバネ状の固定バサミを有し、ペリクルフレームの対向する二辺でフックした一対の相対する固定バサミ間で吊り下げた皿に重りを載せて、ペリクルに荷重をかける構造であることを特徴とするペリクル粘着耐久性検査装置。 - 前記荷重機構と、
前記ペリクルフレームを撮影する撮像カメラと、記憶手段と、前記ペリクルフレームの位置の変化を観察する観察手段を有し、
前記観察手段が前記ペリクルフレームの位置の変化の時刻を検出し前記記憶手段に記憶することを特徴とする請求項1記載のペリクル粘着耐久性検査装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013095364A JP6303286B2 (ja) | 2013-04-30 | 2013-04-30 | ペリクル付きフォトマスクの検査方法及びペリクル粘着耐久性検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013095364A JP6303286B2 (ja) | 2013-04-30 | 2013-04-30 | ペリクル付きフォトマスクの検査方法及びペリクル粘着耐久性検査装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014215588A JP2014215588A (ja) | 2014-11-17 |
JP6303286B2 true JP6303286B2 (ja) | 2018-04-04 |
Family
ID=51941351
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013095364A Active JP6303286B2 (ja) | 2013-04-30 | 2013-04-30 | ペリクル付きフォトマスクの検査方法及びペリクル粘着耐久性検査装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6303286B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6837433B2 (ja) | 2014-11-17 | 2021-03-03 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | ペリクル取り付け装置及びペリクル取り付け方法 |
KR101768214B1 (ko) * | 2016-12-15 | 2017-08-30 | 주식회사 네오세미텍 | 포토마스크와 펠리컬프레임의 부착 장치 및 방법 |
KR102593480B1 (ko) * | 2020-09-17 | 2023-10-23 | 한양대학교 산학협력단 | 펠리클 홀딩 모듈 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6075835A (ja) * | 1983-10-03 | 1985-04-30 | Hitachi Ltd | ペリクル |
JPH01207752A (ja) * | 1988-02-16 | 1989-08-21 | Oki Electric Ind Co Ltd | ペリクル密封検査装置 |
JPH10282640A (ja) * | 1997-02-10 | 1998-10-23 | Mitsui Chem Inc | マスク等の基板へのペリクルの貼付方法及び該方法によって得られるペリクル貼付基板 |
JP2008309588A (ja) * | 2007-06-13 | 2008-12-25 | Kobe Steel Ltd | 剥離強度計測装置 |
JP5171944B2 (ja) * | 2008-05-09 | 2013-03-27 | 日東電工株式会社 | 剥離試験装置、および、粘着テープの衝撃剥離特性の評価方法 |
JP4889778B2 (ja) * | 2009-10-02 | 2012-03-07 | 信越化学工業株式会社 | ペリクルの製造方法及びリソグラフィ用ペリクル |
JP5767505B2 (ja) * | 2011-04-28 | 2015-08-19 | 旭化成イーマテリアルズ株式会社 | 大型ペリクル用枠体及び大型ペリクル |
-
2013
- 2013-04-30 JP JP2013095364A patent/JP6303286B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2014215588A (ja) | 2014-11-17 |
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Legal Events
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