JP2006019510A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2006019510A5
JP2006019510A5 JP2004195839A JP2004195839A JP2006019510A5 JP 2006019510 A5 JP2006019510 A5 JP 2006019510A5 JP 2004195839 A JP2004195839 A JP 2004195839A JP 2004195839 A JP2004195839 A JP 2004195839A JP 2006019510 A5 JP2006019510 A5 JP 2006019510A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
photosensitive substrate
exposure apparatus
mirror
extreme ultraviolet
light
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2004195839A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2006019510A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2004195839A priority Critical patent/JP2006019510A/ja
Priority claimed from JP2004195839A external-priority patent/JP2006019510A/ja
Publication of JP2006019510A publication Critical patent/JP2006019510A/ja
Publication of JP2006019510A5 publication Critical patent/JP2006019510A5/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

JP2004195839A 2004-07-01 2004-07-01 露光装置及びマイクロデバイスの製造方法 Withdrawn JP2006019510A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004195839A JP2006019510A (ja) 2004-07-01 2004-07-01 露光装置及びマイクロデバイスの製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004195839A JP2006019510A (ja) 2004-07-01 2004-07-01 露光装置及びマイクロデバイスの製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2006019510A JP2006019510A (ja) 2006-01-19
JP2006019510A5 true JP2006019510A5 (enExample) 2007-06-14

Family

ID=35793484

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004195839A Withdrawn JP2006019510A (ja) 2004-07-01 2004-07-01 露光装置及びマイクロデバイスの製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2006019510A (enExample)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2007051537A2 (en) * 2005-11-02 2007-05-10 University College Dublin, National University Of Ireland, Dublin High power euv lamp system
JP5076349B2 (ja) * 2006-04-18 2012-11-21 ウシオ電機株式会社 極端紫外光集光鏡および極端紫外光光源装置
DE102008042462B4 (de) * 2008-09-30 2010-11-04 Carl Zeiss Smt Ag Beleuchtungssystem für die EUV-Mikrolithographie
US8587768B2 (en) * 2010-04-05 2013-11-19 Media Lario S.R.L. EUV collector system with enhanced EUV radiation collection
JP6356971B2 (ja) * 2013-01-30 2018-07-11 株式会社ブイ・テクノロジー 近接露光装置、近接露光方法及び照明光学系
KR101630916B1 (ko) * 2014-04-17 2016-06-15 추상완 스테레오 모바일 3d 카메라

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2960083B2 (ja) 走査及びリピート高解像度投影リソグラフィー装置
TWI251721B (en) Lithographic apparatus and device manufacturing method
JP4120502B2 (ja) 集光光学系、光源ユニット、照明光学装置および露光装置
TWI257533B (en) Lithographic projection apparatus with collector including concave and convex mirrors
JP4455491B2 (ja) 放射ビームから粒子をフィルタ除去するように動作可能なフィルタ・システムを提供する方法、フィルタ・システム、装置、及びフィルタ・システムを含むリソグラフィ装置
TWI463270B (zh) 雷射曝光裝置
JP5577351B2 (ja) リソグラフィ装置および放射システム
US20050041228A1 (en) Method and apparatus for irradiating a microlithographic substrate
JPS622540A (ja) ライトインテグレ−タとそれを含むケ−ラ−照明系
JPH09293676A5 (enExample)
JP2006019510A5 (enExample)
JP2002198309A5 (enExample)
CN1542555A (zh) 照明器控制的影调反转印刷
JPH08286382A (ja) 半導体露光装置及びその照明方法
JP3618856B2 (ja) X線露光装置、及びこれを用いたデバイス生産方法
JP4764900B2 (ja) アセンブリ及びリソグラフィ投影装置
KR19980057579A (ko) 반도체 노광 장치
JP2006019510A (ja) 露光装置及びマイクロデバイスの製造方法
JPH11271213A (ja) マスク検査装置、露光装置及び照明方法
JP2008085266A (ja) 露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法
JP4801931B2 (ja) 描画装置
JP7520615B2 (ja) マーク形成方法、パターン形成方法、及びリソグラフィ装置
JP3618853B2 (ja) X線発生装置、及びこれを用いた露光装置やデバイス生産方法
WO2004079799A1 (ja) マスクレピータ及びマスク製造方法
JP2624193B2 (ja) 半導体露光装置の照明光学系および照明方法