JP5577351B2 - リソグラフィ装置および放射システム - Google Patents
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Description
結論
Claims (12)
- リソグラフィ装置であって、
放射源によって放出される放射から放射ビームを提供する放射システムであって、前記放射システムは、前記放射源から発散される材料を捕捉するために前記放射ビームのパス内に配置された回転汚染物質トラップを含み、前記回転汚染物質トラップは、共通の回転トラップ軸から半径方向に延在し、かつ前記放射システム内の前記放射ビームの伝搬中に前記放射源から発散される汚染物質材料を堆積させるように配置された多数の要素を含み、前記放射システムは、汚染物質トラップ要素から汚染物質材料粒子を受けるための汚染物質キャッチであって、前記放射システムの動作中、前記汚染物質材料粒子を保持するための構成を有する汚染物質キャッチをさらに含み、前記汚染物質キャッチは、前記多数の要素の半径方向端部を受ける外形を含み、前記外形は、実質的に互いに平行かつ前記共通の回転トラップ軸に対して半径方向に延在する側部および前記側部を相互接続する半径方向端部を含み、前記外形の前記半径方向端部は、半径方向に移動可能である、放射システムと、
前記放射ビームを調整する照明システムと、
前記放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付き放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを支持するサポートと、
基板を保持する基板テーブルと、
前記パターン付きビームを前記基板のターゲット部分上に投影する投影システムと
を含む、リソグラフィ装置。 - リソグラフィ装置であって、
放射源によって放出される放射から放射ビームを提供する放射システムであって、前記放射システムは、前記放射源から発散される材料を捕捉するために前記放射ビームのパス内に配置された回転汚染物質トラップを含み、前記回転汚染物質トラップは、共通の回転トラップ軸から半径方向に延在し、かつ前記放射システム内の前記放射ビームの伝搬中に前記放射源から発散される汚染物質材料を堆積させるように配置された多数の要素を含み、前記放射システムは、汚染物質トラップ要素から汚染物質材料粒子を受けるための汚染物質キャッチであって、前記放射システムの動作中、前記汚染物質材料粒子を保持するための構成を有する汚染物質キャッチをさらに含み、前記汚染物質キャッチは、前記多数の要素の半径方向端部を受ける外形を含み、前記外形は、実質的に互いに平行かつ前記共通の回転トラップ軸に対して半径方向に延在する側部および前記側部を相互接続する半径方向端部を含み、前記放射システムは前記汚染物質キャッチを加熱する加熱デバイスを含み、前記外形の前記半径方向端部は半径方向に対してほぼ平行に向いたセグメントを含む、放射システムと、
前記放射ビームを調整する照明システムと、
前記放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付き放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを支持するサポートと、
基板を保持する基板テーブルと、
前記パターン付きビームを前記基板のターゲット部分上に投影する投影システムと
を含む、リソグラフィ装置。 - リソグラフィ装置であって、
放射源によって放出される放射から放射ビームを提供する放射システムであって、前記放射システムは、前記放射源から発散される材料を捕捉するために前記放射ビームのパス内に配置された回転汚染物質トラップおよび前記放射源から発散される材料を捕捉するために前記放射ビームのパス内に配置された静的汚染物質トラップを含み、前記回転汚染物質トラップは、共通の回転トラップ軸から半径方向に延在し、かつ前記放射システム内の前記放射ビームの伝搬中に前記放射源から発散される汚染物質材料を堆積させるように配置された多数の要素を含み、前記放射システムは、汚染物質トラップ要素から汚染物質材料粒子を受けるための汚染物質キャッチであって、前記放射システムの動作中、前記汚染物質材料粒子を保持するための構成を有する汚染物質キャッチをさらに含み、前記汚染物質キャッチは、前記多数の要素の半径方向端部を受ける外形を含み、前記外形は、実質的に互いに平行かつ前記共通の回転トラップ軸に対して半径方向に延在する側部および前記側部を相互接続する半径方向端部を含み、前記静的汚染物質トラップに面する前記外形の前記側部は別の外形側部より短い半径方向の長さを有する縁を形成する、放射システムと、
前記放射ビームを調整する照明システムと、
前記放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付き放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを支持するサポートと、
基板を保持する基板テーブルと、
前記パターン付きビームを前記基板のターゲット部分上に投影する投影システムと
を含む、リソグラフィ装置。 - 前記放射システムは、前記汚染物質キャッチを冷却する冷却デバイスを含み、前記外形および前記多数の要素の半径方向端部は固形の汚染物質キャッチ粒子を蓄積するための蓄積空間を画定する、請求項1に記載の装置。
- 前記多数の要素の半径方向の長さは、実質的に、前記要素の軸方向端部と前記汚染物質キャッチの半径方向部分との間の真空抵抗を補償する、請求項4に記載の装置。
- 前記セグメントと前記半径方向との間の角度は約45°を超えない、請求項2に記載の装置。
- 前記外形の前記半径方向端部はジグザグ輪郭を含む、請求項2に記載の装置。
- 前記外形の前記半径方向端部は、歯形、針状または円錐状の輪郭を含む、請求項2に記載の装置。
- 前記縁を加熱するように配置された加熱デバイスをさらに有する、請求項3に記載の装置。
- 放射源によって放出される放射から放射ビームを提供する放射システムであって、前記放射システムは、前記放射源から発散される材料を捕捉するために前記放射ビームのパス内に配置された回転汚染物質トラップを含み、前記回転汚染物質トラップは、共通の回転トラップ軸から半径方向に延在し、かつ前記放射システム内の前記放射ビームの伝搬中に前記放射源から発散される汚染物質材料を堆積させるように配置された多数の要素を含み、前記放射システムは、汚染物質トラップ要素から汚染物質材料粒子を受けるための汚染物質キャッチであって、前記放射システムの動作中、前記汚染物質材料粒子を保持するための構成を有する汚染物質キャッチをさらに含み、前記汚染物質キャッチは、前記多数の要素の半径方向端部を受ける外形を含み、前記外形は、実質的に互いに平行かつ前記共通の回転トラップ軸に対して半径方向に延在する側部および前記側部を相互接続する半径方向端部を含み、前記外形の前記半径方向端部は、半径方向に移動可能である、放射システム。
- 放射源によって放出される放射から放射ビームを提供する放射システムであって、前記放射システムは、前記放射源から発散される材料を捕捉するために前記放射ビームのパス内に配置された回転汚染物質トラップを含み、前記回転汚染物質トラップは、共通の回転トラップ軸から半径方向に延在し、かつ前記放射システム内の前記放射ビームの伝搬中に前記放射源から発散される汚染物質材料を堆積させるように配置された多数の要素を含み、前記放射システムは、汚染物質トラップ要素から汚染物質材料粒子を受けるための汚染物質キャッチであって、前記放射システムの動作中、前記汚染物質材料粒子を保持するための構成を有する汚染物質キャッチをさらに含み、前記汚染物質キャッチは、前記多数の要素の半径方向端部を受ける外形を含み、前記外形は、実質的に互いに平行かつ前記共通の回転トラップ軸に対して半径方向に延在する側部および前記側部を相互接続する半径方向端部を含み、前記放射システムは前記汚染物質キャッチを加熱する加熱デバイスを含み、前記外形の前記半径方向端部は半径方向に対してほぼ平行に向いたセグメントを含む、放射システム。
- 放射源によって放出される放射から放射ビームを提供する放射システムであって、前記放射システムは、前記放射源から発散される材料を捕捉するために前記放射ビームのパス内に配置された回転汚染物質トラップおよび前記放射源から発散される材料を捕捉するために前記放射ビームのパス内に配置された静的汚染物質トラップを含み、前記回転汚染物質トラップは、共通の回転トラップ軸から半径方向に延在し、かつ前記放射システム内の前記放射ビームの伝搬中に前記放射源から発散される汚染物質材料を堆積させるように配置された多数の要素を含み、前記放射システムは、汚染物質トラップ要素から汚染物質材料粒子を受けるための汚染物質キャッチであって、前記放射システムの動作中、前記汚染物質材料粒子を保持するための構成を有する汚染物質キャッチをさらに含み、前記汚染物質キャッチは、前記多数の要素の半径方向端部を受ける外形を含み、前記外形は、実質的に互いに平行かつ前記共通の回転トラップ軸に対して半径方向に延在する側部および前記側部を相互接続する半径方向端部を含み、前記静的汚染物質トラップに面する前記外形の前記側部は別の外形側部より短い半径方向の長さを有する縁を形成する、放射システム。
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