JP2012513653A - リソグラフィ装置、放射システム、デバイス製造方法およびデブリ軽減方法 - Google Patents
リソグラフィ装置、放射システム、デバイス製造方法およびデブリ軽減方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2012513653A JP2012513653A JP2011541241A JP2011541241A JP2012513653A JP 2012513653 A JP2012513653 A JP 2012513653A JP 2011541241 A JP2011541241 A JP 2011541241A JP 2011541241 A JP2011541241 A JP 2011541241A JP 2012513653 A JP2012513653 A JP 2012513653A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- radiation
- contaminant
- trap
- catch
- radiation system
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70908—Hygiene, e.g. preventing apparatus pollution, mitigating effect of pollution or removing pollutants from apparatus
- G03F7/70916—Pollution mitigation, i.e. mitigating effect of contamination or debris, e.g. foil traps
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70008—Production of exposure light, i.e. light sources
- G03F7/70033—Production of exposure light, i.e. light sources by plasma extreme ultraviolet [EUV] sources
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Public Health (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Atmospheric Sciences (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- X-Ray Techniques (AREA)
Abstract
【選択図】図3
Description
結論
1.リソグラフィ装置であって、
放射源によって放出される放射から放射ビームを提供するように構成された放射システムであって、前記放射システムは、
前記放射源から発散される材料を捕捉するように前記放射ビームのパス内に配置された回転汚染物質トラップであって、共通の回転トラップ軸から半径方向に延在し、かつ前記放射システム内の前記放射ビームの伝搬中に前記放射源から発散される汚染物質材料を堆積させるように配置された多数の要素を含む回転汚染物質トラップと、
汚染物質トラップ要素から汚染物質材料粒子を受けるように配置された汚染物質キャッチであって、前記放射システムの動作中、前記汚染物質材料粒子を保持するための構成を有する汚染物質キャッチとを含む、放射システムと、
前記放射ビームを調整するように構成された照明システムと、
前記放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付き放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを支持するように構成されたサポートと、
基板を保持するように構成された基板テーブルと、
前記パターン付きビームを前記基板のターゲット部分上に投影するように構成された投影システムと
を含む、リソグラフィ装置。
2.前記汚染物質キャッチは、前記多数の要素の半径方向端部を受ける外形であって、前記外形は、実質的に互いに平行かつ前記共通の回転トラップ軸に対して前記半径方向に延在する1つ以上の側部および前記1つ以上の側部を相互接続する半径方向端部を含む、前記1に記載の装置。
3.前記放射システムは、前記汚染物質キャッチを冷却する冷却デバイスを含み、前記外形および前記多数の要素の半径方向端部は固形の汚染物質キャッチ粒子を蓄積するための蓄積空間を画定する、前記1に記載の装置。
4.前記多数の要素の半径方向の長さは、実質的に、前記要素の軸方向端部と前記汚染物質キャッチの半径方向部分との間の真空抵抗を補償する、前記3に記載の装置。
5.前記外形の前記半径方向端部は、半径方向に移動可能である、前記2に記載の装置。
6.前記放射システムは前記汚染物質キャッチを加熱する加熱デバイスを含み、前記外形の前記半径方向端部は半径方向に対してほぼ平行に向いたセグメントを含む、前記2に記載の装置。
7.前記セグメントと前記半径方向との間の角度は約45°を超えない、前記6に記載の装置。
8.前記外形の前記半径方向端部はジグザグ輪郭を含む、前記6に記載の装置。
9.前記外形の前記半径方向端部は、歯形、針状または円錐状の輪郭を含む、前記6に記載の装置。
10.前記放射システムは前記放射源から発散される材料を捕捉するために前記放射ビームの前記パス内に配置された静的汚染物質トラップをさらに含み、前記静的汚染物質トラップに面する前記外形の前記側部は別の外形側部より短い半径方向の長さを有する縁を形成する、前記6に記載の装置。
11.前記加熱デバイスは前記縁を加熱するように配置されている、前記6に記載の装置。
12.放射源から発散される材料を捕捉するように放射ビームのパス内に配置された回転汚染物質トラップであって、共通の回転トラップ軸から半径方向に延在し、かつ放射システム内の前記放射ビームの伝搬中に前記放射源から発散される汚染物質材料を堆積させるように構成された多数の要素を含む、回転汚染物質トラップと、
汚染物質トラップ要素から汚染物質材料粒子を受けるように構成された汚染物質キャッチであって、前記放射システムの動作中、前記汚染物質材料粒子を保持するための構成を有する汚染物質キャッチとを含む、放射システム。
13.回転汚染物質トラップを用いて放射源から発散される材料を捕捉することであって、前記回転汚染物質トラップは、共通の回転トラップ軸から半径方向に延在し、かつ放射システム内の前記放射ビームの伝搬中に前記放射源から発散される汚染物質材料を堆積させるように配置された多数の要素を含む、ことと、
汚染物質キャッチを用いて汚染物質トラップ要素から汚染物質材料粒子を受けることであって、前記汚染物質キャッチは前記汚染物質材料粒子を保持するように構成されている、ことと、
前記放射ビームを調整することと、
パターニングデバイスを支持することと、
前記パターニングデバイスを用いて前記放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付き放射ビームを形成することと、
基板テーブル上で基板を保持することと、
前記パターン付きビームを前記基板のターゲット部分上に投影することと
を含む、デバイス製造方法。
14.汚染物質トラップを用いて放射源から発散される材料を捕捉することであって、前記汚染物質トラップは、共通の回転トラップ軸から半径方向に延在し、かつ放射システム内の前記放射ビームの伝搬中に前記放射源から発散される汚染物質材料を堆積させるように構成された多数の要素を含む、ことと、
汚染物質キャッチを用いて汚染物質トラップ要素から汚染物質材料粒子を受けることであって、前記汚染物質キャッチは、前記放射システムの動作中、前記汚染物質材料粒子を保持するための構成を有する、ことと、
を含む、放射生成方法。
Claims (14)
- リソグラフィ装置であって、
放射源によって放出される放射から放射ビームを提供する放射システムであって、前記放射システムは、前記放射源から発散される材料を捕捉するために前記放射ビームのパス内に配置された回転汚染物質トラップを含み、前記回転汚染物質トラップは、共通の回転トラップ軸から半径方向に延在し、かつ前記放射システム内の前記放射ビームの伝搬中に前記放射源から発散される汚染物質材料を堆積させるように配置された多数の要素を含み、前記放射システムは、汚染物質トラップ要素から汚染物質材料粒子を受けるための汚染物質キャッチであって、前記放射システムの動作中、前記汚染物質材料粒子を保持するための構成を有する汚染物質キャッチをさらに含む、放射システムと、
前記放射ビームを調整する照明システムと、
前記放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付き放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを支持するサポートと、
基板を保持する基板テーブルと、
前記パターン付きビームを前記基板のターゲット部分上に投影する投影システムと
を含む、リソグラフィ装置。 - 前記汚染物質キャッチは、前記多数の要素の半径方向端部を受ける外形を含み、前記外形は、実質的に互いに平行かつ前記共通の回転トラップ軸に対して半径方向に延在する側部および前記側部を相互接続する半径方向端部を含む、請求項1に記載の装置。
- 前記放射システムは、前記汚染物質キャッチを冷却する冷却デバイスを含み、前記外形および前記多数の要素の半径方向端部は固形の汚染物質キャッチ粒子を蓄積するための蓄積空間を画定する、請求項1に記載の装置。
- 前記多数の要素の半径方向の長さは、実質的に、前記要素の軸方向端部と前記汚染物質キャッチの半径方向部分との間の真空抵抗を補償する、請求項3に記載の装置。
- 前記外形の前記半径方向端部は、半径方向に移動可能である、請求項2に記載の装置。
- 前記放射システムは前記汚染物質キャッチを加熱する加熱デバイスを含み、前記外形の前記半径方向端部は半径方向に対してほぼ平行に向いたセグメントを含む、請求項2に記載の装置。
- 前記セグメントと前記半径方向との間の角度は約45°を超えない、請求項6に記載の装置。
- 前記外形の前記半径方向端部はジグザグ輪郭を含む、請求項6に記載の装置。
- 前記外形の前記半径方向端部は、歯形、針状または円錐状の輪郭を含む、請求項6に記載の装置。
- 前記放射システムは前記放射源から発散される材料を捕捉するために前記放射ビームのパス内に配置された静的汚染物質トラップをさらに含み、前記静的汚染物質トラップに面する前記外形の前記側部は別の外形側部より短い半径方向の長さを有する縁を形成する、請求項2に記載の装置。
- 前記加熱デバイスは前記縁を加熱するように配置されている、請求項6および10に記載の装置。
- 放射源によって放出される放射から放射ビームを提供する放射システムであって、前記放射システムは、前記放射源から発散される材料を捕捉するために前記放射ビームのパス内に配置された回転汚染物質トラップを含み、前記回転汚染物質トラップは、共通の回転トラップ軸から半径方向に延在し、かつ前記放射システム内の前記放射ビームの伝搬中に前記放射源から発散される汚染物質材料を堆積させるように配置された多数の要素を含み、前記放射システムは、汚染物質トラップ要素から汚染物質材料粒子を受けるための汚染物質キャッチであって、前記放射システムの動作中、前記汚染物質材料粒子を保持するための構成を有する汚染物質キャッチをさらに含む、放射システム。
- 放射源によって放出される放射から放射システムによって放射ビームを提供することと、
前記放射源から発散される材料を捕捉するための回転汚染物質トラップを前記放射システムに提供することであって、前記回転汚染物質トラップは、共通の回転トラップ軸から半径方向に延在し、かつ前記放射システム内の前記放射ビームの伝搬中に前記放射源から発散される汚染物質材料を堆積させるように配置された多数の要素を含む、こと、および、汚染物質トラップ要素から汚染物質材料粒子を受けるための汚染物質キャッチを提供することであって、前記汚染物質キャッチは、前記放射システムの動作中、前記汚染物質材料粒子を保持するための構成を有する、ことと、
前記放射ビームを調整することと、
パターニングデバイスを支持することと、
前記パターニングデバイスを用いて前記放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付き放射ビームを形成することと、
基板テーブル上で基板を保持することと、
前記パターン付きビームを前記基板のターゲット部分上に投影することと
を含む、デバイス製造方法。 - 放射源によって放出される放射から放射システムによって放射ビームを提供することと、
前記放射源から発散される材料を捕捉するための汚染物質トラップを前記放射システムに提供することであって、前記回転汚染物質トラップは、共通の回転トラップ軸から半径方向に延在し、かつ前記放射システム内の前記放射ビームの伝搬中に前記放射源から発散される汚染物質材料を堆積させるように配置された多数の要素を含む、こと、および、汚染物質トラップ要素から汚染物質材料粒子を受けるための汚染物質キャッチを提供することであって、前記汚染物質キャッチは、前記放射システムの動作中、前記汚染物質材料粒子を保持するための構成を有する、ことと、
を含む、放射を生成する方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US13990508P | 2008-12-22 | 2008-12-22 | |
US61/139,905 | 2008-12-22 | ||
PCT/EP2009/063097 WO2010072429A1 (en) | 2008-12-22 | 2009-10-08 | A lithographic apparatus, a radiation system, a device manufacturing method and a debris mitigation method |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012513653A true JP2012513653A (ja) | 2012-06-14 |
JP2012513653A5 JP2012513653A5 (ja) | 2012-11-29 |
JP5577351B2 JP5577351B2 (ja) | 2014-08-20 |
Family
ID=41666549
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011541241A Expired - Fee Related JP5577351B2 (ja) | 2008-12-22 | 2009-10-08 | リソグラフィ装置および放射システム |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8736806B2 (ja) |
JP (1) | JP5577351B2 (ja) |
KR (1) | KR20110112370A (ja) |
CN (1) | CN102216853B (ja) |
NL (1) | NL2003610A (ja) |
TW (1) | TW201024929A (ja) |
WO (1) | WO2010072429A1 (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014192112A (ja) * | 2013-03-28 | 2014-10-06 | Ushio Inc | 回転式ホイルトラップ及びこのホイルトラップを用いた光源装置 |
WO2015033572A1 (ja) * | 2013-09-06 | 2015-03-12 | ウシオ電機株式会社 | ホイルトラップ及びこのホイルトラップを用いた光源装置 |
JP2015149186A (ja) * | 2014-02-06 | 2015-08-20 | ウシオ電機株式会社 | デブリ低減装置 |
WO2016059768A1 (ja) * | 2014-10-15 | 2016-04-21 | ウシオ電機株式会社 | ホイルトラップ及びマスク検査用極端紫外光光源装置 |
US9572240B2 (en) | 2013-12-25 | 2017-02-14 | Ushio Denki Kabushiki Kaisha | Light source apparatus |
JP2017515136A (ja) * | 2014-03-18 | 2017-06-08 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | Rfプラズマ電界を使用したeuv光学部品のアクティブ洗浄装置および方法 |
JP2017201424A (ja) * | 2012-06-22 | 2017-11-09 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | 放射源及びリソグラフィ装置 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9268031B2 (en) | 2012-04-09 | 2016-02-23 | Kla-Tencor Corporation | Advanced debris mitigation of EUV light source |
Citations (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006191091A (ja) * | 2004-12-29 | 2006-07-20 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置、照明システム、フィルタ・システム、およびそのようなフィルタ・システムのサポートを冷却するための方法 |
JP2006329664A (ja) * | 2005-05-23 | 2006-12-07 | Ushio Inc | 極端紫外光発生装置 |
JP2006529057A (ja) * | 2003-05-22 | 2006-12-28 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 少なくとも一つの光学要素を洗浄する方法および装置 |
WO2007067039A1 (en) * | 2005-12-06 | 2007-06-14 | Asml Netherlands B.V. | Radiation system and lithographic apparatus |
JP2007194590A (ja) * | 2005-11-23 | 2007-08-02 | Asml Netherlands Bv | 放射システムおよびリソグラフィ装置 |
WO2007114695A1 (en) * | 2006-03-30 | 2007-10-11 | Asml Netherlands B.V. | Rotatable contamination barrier and lithographic apparatus comprising same |
JP2008041742A (ja) * | 2006-08-02 | 2008-02-21 | Ushio Inc | 極端紫外光光源装置 |
WO2008035965A2 (en) * | 2006-09-22 | 2008-03-27 | Asml Netherlands B.V. | Apparatus comprising a rotating contaminant trap |
JP2008513995A (ja) * | 2004-09-20 | 2008-05-01 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | 汚染物トラップシステムを有するリソグラフィ装置、汚染物トラップシステム、デバイス製造方法、および、リソグラフィ装置内の汚染物のトラップ方法 |
WO2008069653A1 (en) * | 2006-12-06 | 2008-06-12 | Asml Netherlands B.V. | Shadowing electrodes for debris suppression in an euv source |
WO2008072959A2 (en) * | 2006-12-13 | 2008-06-19 | Asml Netherlands B.V. | Radiation system and lithographic apparatus |
WO2008072962A2 (en) * | 2006-12-13 | 2008-06-19 | Asml Netherlands B.V. | Radiation system and lithographic apparatus |
JP2008277481A (ja) * | 2007-04-27 | 2008-11-13 | Komatsu Ltd | 極端紫外光源装置 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
SG123770A1 (en) * | 2004-12-28 | 2006-07-26 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus, radiation system and filt er system |
JP4981795B2 (ja) * | 2005-06-14 | 2012-07-25 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | ガス分散性が改良された破屑軽減システム |
ATE430369T1 (de) * | 2005-11-02 | 2009-05-15 | Univ Dublin | Spiegel für hochleistungs-euv-lampensystem |
US8071963B2 (en) * | 2006-12-27 | 2011-12-06 | Asml Netherlands B.V. | Debris mitigation system and lithographic apparatus |
US8227771B2 (en) * | 2007-07-23 | 2012-07-24 | Asml Netherlands B.V. | Debris prevention system and lithographic apparatus |
-
2009
- 2009-10-08 NL NL2003610A patent/NL2003610A/en not_active Application Discontinuation
- 2009-10-08 JP JP2011541241A patent/JP5577351B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2009-10-08 WO PCT/EP2009/063097 patent/WO2010072429A1/en active Application Filing
- 2009-10-08 CN CN200980146059.9A patent/CN102216853B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2009-10-08 KR KR1020117017006A patent/KR20110112370A/ko not_active Application Discontinuation
- 2009-10-08 US US13/132,427 patent/US8736806B2/en active Active
- 2009-10-28 TW TW98136516A patent/TW201024929A/zh unknown
Patent Citations (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006529057A (ja) * | 2003-05-22 | 2006-12-28 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 少なくとも一つの光学要素を洗浄する方法および装置 |
JP2008513995A (ja) * | 2004-09-20 | 2008-05-01 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | 汚染物トラップシステムを有するリソグラフィ装置、汚染物トラップシステム、デバイス製造方法、および、リソグラフィ装置内の汚染物のトラップ方法 |
JP2006191091A (ja) * | 2004-12-29 | 2006-07-20 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置、照明システム、フィルタ・システム、およびそのようなフィルタ・システムのサポートを冷却するための方法 |
JP2006329664A (ja) * | 2005-05-23 | 2006-12-07 | Ushio Inc | 極端紫外光発生装置 |
JP2007194590A (ja) * | 2005-11-23 | 2007-08-02 | Asml Netherlands Bv | 放射システムおよびリソグラフィ装置 |
WO2007067039A1 (en) * | 2005-12-06 | 2007-06-14 | Asml Netherlands B.V. | Radiation system and lithographic apparatus |
WO2007114695A1 (en) * | 2006-03-30 | 2007-10-11 | Asml Netherlands B.V. | Rotatable contamination barrier and lithographic apparatus comprising same |
JP2008041742A (ja) * | 2006-08-02 | 2008-02-21 | Ushio Inc | 極端紫外光光源装置 |
WO2008035965A2 (en) * | 2006-09-22 | 2008-03-27 | Asml Netherlands B.V. | Apparatus comprising a rotating contaminant trap |
WO2008069653A1 (en) * | 2006-12-06 | 2008-06-12 | Asml Netherlands B.V. | Shadowing electrodes for debris suppression in an euv source |
WO2008072959A2 (en) * | 2006-12-13 | 2008-06-19 | Asml Netherlands B.V. | Radiation system and lithographic apparatus |
WO2008072962A2 (en) * | 2006-12-13 | 2008-06-19 | Asml Netherlands B.V. | Radiation system and lithographic apparatus |
JP2008277481A (ja) * | 2007-04-27 | 2008-11-13 | Komatsu Ltd | 極端紫外光源装置 |
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10394141B2 (en) | 2012-06-22 | 2019-08-27 | Asml Netherlands B.V. | Radiation source and lithographic apparatus |
JP2017201424A (ja) * | 2012-06-22 | 2017-11-09 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | 放射源及びリソグラフィ装置 |
JP2014192112A (ja) * | 2013-03-28 | 2014-10-06 | Ushio Inc | 回転式ホイルトラップ及びこのホイルトラップを用いた光源装置 |
WO2015033572A1 (ja) * | 2013-09-06 | 2015-03-12 | ウシオ電機株式会社 | ホイルトラップ及びこのホイルトラップを用いた光源装置 |
JP2015053365A (ja) * | 2013-09-06 | 2015-03-19 | ウシオ電機株式会社 | ホイルトラップ及びこのホイルトラップを用いた光源装置 |
US9599812B2 (en) | 2013-09-06 | 2017-03-21 | Ushio Denki Kabushiki Kaisha | Foil trap and light source device using such foil trap |
US9572240B2 (en) | 2013-12-25 | 2017-02-14 | Ushio Denki Kabushiki Kaisha | Light source apparatus |
JP2015149186A (ja) * | 2014-02-06 | 2015-08-20 | ウシオ電機株式会社 | デブリ低減装置 |
JP2017515136A (ja) * | 2014-03-18 | 2017-06-08 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | Rfプラズマ電界を使用したeuv光学部品のアクティブ洗浄装置および方法 |
US10493504B2 (en) | 2014-03-18 | 2019-12-03 | Asml Netherlands B.V. | Apparatus for and method of active cleaning of EUV optic with RF plasma field |
JP2020122973A (ja) * | 2014-03-18 | 2020-08-13 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | Rfプラズマ電界を使用したeuv光学部品のアクティブ洗浄装置および方法 |
JP2016082015A (ja) * | 2014-10-15 | 2016-05-16 | ウシオ電機株式会社 | ホイルトラップ及びマスク検査用極端紫外光光源装置 |
WO2016059768A1 (ja) * | 2014-10-15 | 2016-04-21 | ウシオ電機株式会社 | ホイルトラップ及びマスク検査用極端紫外光光源装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN102216853A (zh) | 2011-10-12 |
KR20110112370A (ko) | 2011-10-12 |
CN102216853B (zh) | 2014-03-12 |
NL2003610A (en) | 2010-06-23 |
TW201024929A (en) | 2010-07-01 |
US20110242516A1 (en) | 2011-10-06 |
US8736806B2 (en) | 2014-05-27 |
JP5577351B2 (ja) | 2014-08-20 |
WO2010072429A1 (en) | 2010-07-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5577351B2 (ja) | リソグラフィ装置および放射システム | |
JP4563930B2 (ja) | リソグラフィ装置、照明系、及びフィルタ・システム | |
JP4799620B2 (ja) | 放射システムおよびリソグラフィ装置 | |
KR100674698B1 (ko) | 리소그래피 장치, 방사선 시스템 및 필터 시스템 | |
JP5070264B2 (ja) | ソースモジュール、放射ソースおよびリソグラフィ装置 | |
JP2006332654A (ja) | 放射システム及びリソグラフィ装置 | |
JP4446996B2 (ja) | 放射システムおよびリソグラフィ装置 | |
JP4567659B2 (ja) | リソグフィ装置およびデバイス製造方法 | |
JP5331806B2 (ja) | デブリ防止システムおよびリソグラフィ装置 | |
TWI386252B (zh) | 清潔方法、裝置及清潔系統 | |
JP2006332654A5 (ja) | ||
JP5162546B2 (ja) | 放射源及びリソグラフィ装置 | |
KR20110015660A (ko) | 방사 시스템, 방사선 콜렉터, 방사 빔 컨디셔닝 시스템, 방사 시스템용 스펙트럼 퓨리티 필터, 및 스펙트럼 퓨리티 필터 형성 방법 | |
JP2006196890A (ja) | 放射ビームから粒子をフィルタ除去するように動作可能なフィルタ・システムを提供する方法、フィルタ・システム、装置、及びフィルタ・システムを含むリソグラフィ装置 | |
KR20120101982A (ko) | 리소그래피 장치 및 디바이스 제조 방법 | |
JP5531053B2 (ja) | 放射源、リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | |
JP4778542B2 (ja) | リソグラフィ装置、放射システム、デバイス製造方法、及び放射生成方法 | |
JP6395832B2 (ja) | 放射源用コンポーネント、関連した放射源およびリソグラフィ装置 | |
JP4814922B2 (ja) | リソグラフィ装置の光エレメントの保護方法、リソグラフィ装置、およびデバイス製造方法 | |
US20080151201A1 (en) | Lithographic apparatus and method | |
NL2007628A (en) | Lithographic apparatus and method. |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121005 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20121005 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20131002 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20131209 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140625 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140707 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5577351 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |