JP2008277481A - 極端紫外光源装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】この極端紫外光源装置は、ターゲットにレーザビームを照射することにより極端紫外光を発生する極端紫外光源装置であって、極端紫外光の生成が行われるチャンバと、チャンバ内の所定の位置に供給されるターゲットにレーザビームを照射することによりプラズマを生成するドライバレーザと、チャンバ内に設置され、プラズマから放射される極端紫外光を集光して出射する集光ミラーと、プラズマから発生するデブリを捕集して、捕集されたデブリをチャンバ外に排出する除塵装置とを具備する。
【選択図】図1
Description
図1は、本発明の基本概念を説明するための図である。図1に示すEUV光源装置は、レーザビームをターゲット物質に照射して励起させることによりEUV光を生成するレーザ励起プラズマ(LPP)方式を採用している。
Claims (15)
- ターゲットにレーザビームを照射することにより極端紫外光を発生する極端紫外光源装置であって、
極端紫外光の生成が行われるチャンバと、
前記チャンバ内の所定の位置に供給されるターゲットにレーザビームを照射することによりプラズマを生成するドライバレーザと、
前記チャンバ内に設置され、プラズマから放射される極端紫外光を集光して出射する集光ミラーと、
プラズマから発生するデブリを捕集して、捕集されたデブリを前記チャンバ外に排出する除塵装置と、
を具備する極端紫外光源装置。 - プラズマから発生するデブリの進行方向を制御することにより、前記集光ミラーをデブリから防御すると共に、デブリを前記除塵装置に誘導するデブリ進行方向制御手段をさらに具備する、請求項1記載の極端紫外光源装置。
- 前記デブリ進行方向制御手段が、帯電したデブリの進行方向を制御する磁場発生装置を含む、請求項2記載の極端紫外光源装置。
- 磁場中にマイクロ波を照射して電子サイクロトロン共鳴によりプラズマを生成することによって中性のデブリを帯電させ、前記磁場発生装置によるデブリの進行方向制御効果を高めるマイクロ波源をさらに具備する、請求項3記載の極端紫外光源装置。
- 電子サイクロトロン共鳴によるプラズマ生成のために初期電子を供給する初期電子供給源として、電子銃をさらに具備する、請求項4記載の極端紫外光源装置。
- 電子サイクロトロン共鳴によるプラズマ生成のために初期電子を供給する初期電子供給源として、希薄ガスを供給する希薄ガス供給装置をさらに具備する、請求項4記載の極端紫外光源装置。
- 前記デブリ進行方向制御手段が、デブリを前記除塵装置に誘導するガス流を供給するガス供給装置を含む、請求項2記載の極端紫外光源装置。
- 前記チャンバ内にバッファガスを供給するバッファガス供給装置をさらに具備する、請求項1記載の極端紫外光源装置。
- 複数の前記除塵装置が、プラズマ発生位置の周囲に配置される、請求項1記載の極端紫外光源装置。
- 沈降したデブリを捕集するために、前記除塵装置が、前記チャンバの下部に配置される、請求項1記載の極端紫外光源装置。
- 前記ターゲットが、固体の錫(Sn)を含み、前記ドライバレーザが、炭酸ガス(CO2)レーザを含む、請求項1〜10のいずれか1項記載の極端紫外光源装置。
- 前記除塵装置が、コロナ放電によりデブリを帯電する帯電部を有する静電除塵装置を含む、請求項1〜11のいずれか1項記載の極端紫外光源装置。
- 前記除塵装置が、デブリを帯電する電子銃を有する静電除塵装置を含む、請求項1〜11のいずれか1項記載の極端紫外光源装置。
- 前記静電除塵装置が、捕集されたデブリをブローガスにより回収するデブリ回収機構を有する、請求項12又は13記載の極端紫外光源装置。
- 前記静電除塵装置が、デブリを捕集した捕集電極を加熱することにより、捕集されたデブリを回収するデブリ回収機構を有する、請求項12又は13記載の極端紫外光源装置。
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