JPH07227737A - ステージ装置及び露光装置 - Google Patents
ステージ装置及び露光装置Info
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- JPH07227737A JPH07227737A JP2132294A JP2132294A JPH07227737A JP H07227737 A JPH07227737 A JP H07227737A JP 2132294 A JP2132294 A JP 2132294A JP 2132294 A JP2132294 A JP 2132294A JP H07227737 A JPH07227737 A JP H07227737A
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70716—Stages
Abstract
(57)【要約】
【目的】吸着力が十分に大きい吸着装置を備えたステー
ジ装置を提供することを目的とする。 【構成】下板１５と、下板１５に対して水平方向に移動
可能なように、下板１５に載せられている上板１７と、
上板１７に配設され、前記移動時に発生するダストを集
塵する集塵手段とを備えたステージ装置において、前記
集塵手段は、前記ダストを吸着する吸着部材１９と、前
記吸着のために、吸着部材１９と前記ダストとのいずれ
か一方を正の電荷に帯電させると共に、吸着部材１９と
前記ダストとの他方を負の電荷に帯電させる帯電手段と
を備えている。
ジ装置を提供することを目的とする。 【構成】下板１５と、下板１５に対して水平方向に移動
可能なように、下板１５に載せられている上板１７と、
上板１７に配設され、前記移動時に発生するダストを集
塵する集塵手段とを備えたステージ装置において、前記
集塵手段は、前記ダストを吸着する吸着部材１９と、前
記吸着のために、吸着部材１９と前記ダストとのいずれ
か一方を正の電荷に帯電させると共に、吸着部材１９と
前記ダストとの他方を負の電荷に帯電させる帯電手段と
を備えている。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はステージ装置に関し、特
に、露光装置に用いて好適なステージ装置に関する。
に、露光装置に用いて好適なステージ装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来のステージ装置は、複数のローラを
回転可能に保持するリテーナを下板の上面に配置し、こ
のリテーナを介して、下板の上面に上板が配置され、下
板に対して、上板は一方向に相対移動をしていた。ま
た、ローラや上板及び下板の慴動面には、相対移動を滑
らかに行うために適量の油やグリースなどが塗布されて
いた。
回転可能に保持するリテーナを下板の上面に配置し、こ
のリテーナを介して、下板の上面に上板が配置され、下
板に対して、上板は一方向に相対移動をしていた。ま
た、ローラや上板及び下板の慴動面には、相対移動を滑
らかに行うために適量の油やグリースなどが塗布されて
いた。
【０００３】上板が下板に対して相対移動をするとき
に、ローラの回転により、経時変化によりミスト状にな
ったグリースが散乱したり、ローラとローラを保持する
部分との摩擦によりローラを保持する部分から発塵する
ことがあった。これらのグリースのミスト状の散乱やロ
ーラを保持する部分から発塵（以下、総称してダストと
いう）は、ステージ装置の精度を劣化させたり、例え
ば、露光装置に使用されるステージ装置であれば、ステ
ージ装置に載置されている感光基板に前述のダストが付
着して正確な露光ができないという問題があった。
に、ローラの回転により、経時変化によりミスト状にな
ったグリースが散乱したり、ローラとローラを保持する
部分との摩擦によりローラを保持する部分から発塵する
ことがあった。これらのグリースのミスト状の散乱やロ
ーラを保持する部分から発塵（以下、総称してダストと
いう）は、ステージ装置の精度を劣化させたり、例え
ば、露光装置に使用されるステージ装置であれば、ステ
ージ装置に載置されている感光基板に前述のダストが付
着して正確な露光ができないという問題があった。
【０００４】この問題を解決するために、ステージ装置
にダストを集塵する集塵装置が備えられるようになっ
た。図３は、従来のステージ装置を示す図であり、図３
（ａ）はステージ装置全体を示した図であり、図３
（ｂ）は矢視部分の断面を拡大して示した断面図であ
る。
にダストを集塵する集塵装置が備えられるようになっ
た。図３は、従来のステージ装置を示す図であり、図３
（ａ）はステージ装置全体を示した図であり、図３
（ｂ）は矢視部分の断面を拡大して示した断面図であ
る。
【０００５】図３（ａ）において、矩形状の下板３１の
上面にリテーナ３２が配置されており、このリテーナ３
２を介して矩形状の上板３３が載っている。上板３３は
下板３１に対して矢印Ｙａ方向に移動可能である。真空
配管３５は２本の配管３５ａ，３５ｂからなり、それぞ
れの一端が真空源３４に接続されており、それぞれの他
端がカバー部３６に接続されている。
上面にリテーナ３２が配置されており、このリテーナ３
２を介して矩形状の上板３３が載っている。上板３３は
下板３１に対して矢印Ｙａ方向に移動可能である。真空
配管３５は２本の配管３５ａ，３５ｂからなり、それぞ
れの一端が真空源３４に接続されており、それぞれの他
端がカバー部３６に接続されている。
【０００６】カバー部３６は、上板３３の移動方向と直
交する両端に配設されており、図３（ｂ）に示してある
ように、中空形状である。上述のように集塵装置は、真
空源３４と真空配管部３５とカバー部３６とから構成さ
れており、図３（ｂ）に示してあるように、ガバー部３
６の内部を真空状態にして、ダストを吸着していた。
交する両端に配設されており、図３（ｂ）に示してある
ように、中空形状である。上述のように集塵装置は、真
空源３４と真空配管部３５とカバー部３６とから構成さ
れており、図３（ｂ）に示してあるように、ガバー部３
６の内部を真空状態にして、ダストを吸着していた。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】ところが、従来のよう
な真空を利用した集塵装置では、上板の相対移動量を考
慮して真空配管の引回しを行うため、配管の長さが長く
なり吸引力が弱くなるために十分にダストを吸着できな
いという問題点があった。また、従来のように吸着力が
十分でない集塵装置を備えたステージ装置を露光装置に
用いた場合には、ダストが感光基板上に付着して、正確
な露光を実行できないという問題点があった。
な真空を利用した集塵装置では、上板の相対移動量を考
慮して真空配管の引回しを行うため、配管の長さが長く
なり吸引力が弱くなるために十分にダストを吸着できな
いという問題点があった。また、従来のように吸着力が
十分でない集塵装置を備えたステージ装置を露光装置に
用いた場合には、ダストが感光基板上に付着して、正確
な露光を実行できないという問題点があった。
【０００８】そこで本発明では、吸着力が十分に大きい
集塵装置を備えたステージ装置及びこのステージ装置を
備え、正確な露光が実行できる露光装置を提供すること
を目的とする。
集塵装置を備えたステージ装置及びこのステージ装置を
備え、正確な露光が実行できる露光装置を提供すること
を目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上述の問題点を解決する
ために、本発明の一実施例を示す図１と図２に対応付け
て説明すると、請求項１記載のステージ装置は、下板
（１５）と、下板（１５）に対して水平方向に移動可能
なように、下板（１５）に載せられている上板（１７）
と、上板（１７）に配設され、前記移動時に発生するダ
ストを集塵する集塵手段と、を備えたステージ装置（１
３）において、前記集塵手段は、前記ダストを吸着する
吸着部材（１９）と、この吸着のために、吸着部材（１
９）と前記ダストとのいずれか一方を正の電荷に帯電さ
せると共に、吸着部材（１９）と前記ダストとの他方を
負の電荷に帯電させる帯電手段（２１）と、を備えてい
る。
ために、本発明の一実施例を示す図１と図２に対応付け
て説明すると、請求項１記載のステージ装置は、下板
（１５）と、下板（１５）に対して水平方向に移動可能
なように、下板（１５）に載せられている上板（１７）
と、上板（１７）に配設され、前記移動時に発生するダ
ストを集塵する集塵手段と、を備えたステージ装置（１
３）において、前記集塵手段は、前記ダストを吸着する
吸着部材（１９）と、この吸着のために、吸着部材（１
９）と前記ダストとのいずれか一方を正の電荷に帯電さ
せると共に、吸着部材（１９）と前記ダストとの他方を
負の電荷に帯電させる帯電手段（２１）と、を備えてい
る。
【００１０】請求項２記載のステージ装置（１３）は、
吸着部材（１９）は、前記移動方向の上板（１７）の両
端から外方へ突出した一対のカバー（１９ａ，１９ｂ）
であり、帯電手段（２１）は、それぞれのカバー（１９
ａ，１９ｂ）の下方に配設され、カバー（１９ａ，１９
ｂ）と前記ダストとのいずれか一方に正のイオンを与え
ると共に、カバー（１９ａ，１９ｂ）と前記ダストとの
他方に負のイオンを与えるイオン発生装置（２１）であ
る。
吸着部材（１９）は、前記移動方向の上板（１７）の両
端から外方へ突出した一対のカバー（１９ａ，１９ｂ）
であり、帯電手段（２１）は、それぞれのカバー（１９
ａ，１９ｂ）の下方に配設され、カバー（１９ａ，１９
ｂ）と前記ダストとのいずれか一方に正のイオンを与え
ると共に、カバー（１９ａ，１９ｂ）と前記ダストとの
他方に負のイオンを与えるイオン発生装置（２１）であ
る。
【００１１】請求項３記載のステージ装置（１３）は、
それぞれ配設されているイオン発生装置（２１）のう
ち、前記移動方向の向きに応じて、一方のイオン発生装
置（２１）のみを作動させる選択手段（２０）を備えて
いる。請求項４記載のステージ装置（１３）は、選択手
段（２０）は、前記移動方向と逆向きの一端に配設され
ているイオン発生装置（２１）のみを作動させる。
それぞれ配設されているイオン発生装置（２１）のう
ち、前記移動方向の向きに応じて、一方のイオン発生装
置（２１）のみを作動させる選択手段（２０）を備えて
いる。請求項４記載のステージ装置（１３）は、選択手
段（２０）は、前記移動方向と逆向きの一端に配設され
ているイオン発生装置（２１）のみを作動させる。
【００１２】請求項５記載の露光装置は、下板（１５）
と、下板（１５）に対して水平方向に移動可能なよう
に、下板（１５）に載せられている上板（１７）と、上
板（１７）に配設され、前記移動時に発生するダストを
集塵する集塵手段と、を備えたステージ装置（１３）を
有し、このステージ装置（１３）に載置された感光基板
（１４）へ、マスク（９）のパターンを透過した光束を
投影光学系（１２）によって転写する露光装置におい
て、前記集塵手段は、前記移動方向の上板（１７）の両
端から外方へ突出し、前記ダストを吸着する絶縁性の高
い一対のカバー（１９ａ，１９ｂ）と、この吸着のため
に、それぞれのカバー（１９ａ，１９ｂ）の下方に配設
され、それぞれのカバー（１９ａ，１９ｂ）と前記ダス
トとのいずれか一方に正のイオンを与えると共に、それ
ぞれのカバー（１９ａ，１９ｂ）と前記ダストとの他方
に負のイオンを与えるイオン発生装置（２１）と、を備
えている。
と、下板（１５）に対して水平方向に移動可能なよう
に、下板（１５）に載せられている上板（１７）と、上
板（１７）に配設され、前記移動時に発生するダストを
集塵する集塵手段と、を備えたステージ装置（１３）を
有し、このステージ装置（１３）に載置された感光基板
（１４）へ、マスク（９）のパターンを透過した光束を
投影光学系（１２）によって転写する露光装置におい
て、前記集塵手段は、前記移動方向の上板（１７）の両
端から外方へ突出し、前記ダストを吸着する絶縁性の高
い一対のカバー（１９ａ，１９ｂ）と、この吸着のため
に、それぞれのカバー（１９ａ，１９ｂ）の下方に配設
され、それぞれのカバー（１９ａ，１９ｂ）と前記ダス
トとのいずれか一方に正のイオンを与えると共に、それ
ぞれのカバー（１９ａ，１９ｂ）と前記ダストとの他方
に負のイオンを与えるイオン発生装置（２１）と、を備
えている。
【００１３】請求項６記載の露光装置は、それぞれ配設
されているイオン発生装置（２１）のうち、前記移動方
向と逆向きの一端に配設されているイオン発生装置（２
１）のみを作動させる制御装置（２０）を備えている。
されているイオン発生装置（２１）のうち、前記移動方
向と逆向きの一端に配設されているイオン発生装置（２
１）のみを作動させる制御装置（２０）を備えている。
【００１４】
【作用】請求項１記載のステージ装置（１３）は、帯電
手段（２１）が吸着部材（１９）とダストとのいずれか
一方を正の電荷に帯電させると共に、吸着部材（１９）
とダストとの他方を負の電荷に帯電させている。これに
より、ダストは吸着部材（１９）に吸着される。集塵手
段（１９，２１）は、静電気によりダストを吸着するの
で、十分に大きい吸着力でダストを吸着できる。
手段（２１）が吸着部材（１９）とダストとのいずれか
一方を正の電荷に帯電させると共に、吸着部材（１９）
とダストとの他方を負の電荷に帯電させている。これに
より、ダストは吸着部材（１９）に吸着される。集塵手
段（１９，２１）は、静電気によりダストを吸着するの
で、十分に大きい吸着力でダストを吸着できる。
【００１５】請求項２記載のステージ装置（１３）は、
イオン発生装置（２１）が一対のカバー（１９ａ，１９
ｂ）とダストとのいずれか一方に正のイオンを与えると
共に、一対のカバー（１９ａ，１９ｂ）とダストとの他
方に負のイオンを与えているので、十分に大きい吸着力
でダストを吸着できる。請求項３記載のステージ装置
（１３）は、選択手段（２０）が移動方向に応じてイオ
ン発生装置を選択して印加しているので、効率よくダス
トを吸着できる。
イオン発生装置（２１）が一対のカバー（１９ａ，１９
ｂ）とダストとのいずれか一方に正のイオンを与えると
共に、一対のカバー（１９ａ，１９ｂ）とダストとの他
方に負のイオンを与えているので、十分に大きい吸着力
でダストを吸着できる。請求項３記載のステージ装置
（１３）は、選択手段（２０）が移動方向に応じてイオ
ン発生装置を選択して印加しているので、効率よくダス
トを吸着できる。
【００１６】また、一度印加された一対のカバー（１９
ａ，１９ｂ）は、帯電状態を保つことができるので、吸
着したダストは保持されたままである。請求項４記載の
ステージ装置（１３）は、選択手段（２０）が移動方向
と逆方向の一端に配設されているイオン発生装置（２
１）を選択して印加しているので、更に効率よくダスト
を吸着できる。
ａ，１９ｂ）は、帯電状態を保つことができるので、吸
着したダストは保持されたままである。請求項４記載の
ステージ装置（１３）は、選択手段（２０）が移動方向
と逆方向の一端に配設されているイオン発生装置（２
１）を選択して印加しているので、更に効率よくダスト
を吸着できる。
【００１７】請求項５記載の露光装置は、イオン発生装
置（２１）が一対のカバー（１９ａ，１９ｂ）とダスト
とのいずれか一方に正のイオンを与えると共に、一対の
カバー（１９ａ，１９ｂ）とダストとの他方に負のイオ
ンを与えている。集塵手段（１９，２１）は、静電気に
よりダストを吸着するので、十分に大きい吸着力でダス
トを吸着できる。これにより、ダストが感光基板（１
４）上に付着することはない。
置（２１）が一対のカバー（１９ａ，１９ｂ）とダスト
とのいずれか一方に正のイオンを与えると共に、一対の
カバー（１９ａ，１９ｂ）とダストとの他方に負のイオ
ンを与えている。集塵手段（１９，２１）は、静電気に
よりダストを吸着するので、十分に大きい吸着力でダス
トを吸着できる。これにより、ダストが感光基板（１
４）上に付着することはない。
【００１８】請求項６記載の露光装置は、制御装置（２
０）が移動方向と逆方向の一端に配設されているイオン
発生装置（２１）を選択して印加しているので、効率よ
くダストを吸着できるので、ダストが感光基板（１４）
上に付着することはない。
０）が移動方向と逆方向の一端に配設されているイオン
発生装置（２１）を選択して印加しているので、効率よ
くダストを吸着できるので、ダストが感光基板（１４）
上に付着することはない。
【００１９】
【実施例】以下、図１〜図２を参照して本発明の一実施
例を説明する。図１は本発明のステージ装置を露光装置
に利用した場合の概要図である。図１において、超高圧
水銀ランプ１から射出した光束を、楕円鏡２が集光す
る。集光された光束は、シャッター３を通過し、反射鏡
４で反射して、波長選択フィルター５に入射する。波長
選択フィルター５は、露光に必要な波長（一般にはｇ線
やｉ線の波長）のみを通過させる。
例を説明する。図１は本発明のステージ装置を露光装置
に利用した場合の概要図である。図１において、超高圧
水銀ランプ１から射出した光束を、楕円鏡２が集光す
る。集光された光束は、シャッター３を通過し、反射鏡
４で反射して、波長選択フィルター５に入射する。波長
選択フィルター５は、露光に必要な波長（一般にはｇ線
やｉ線の波長）のみを通過させる。
【００２０】フライアイインテグレータ６は、波長選択
フィルター５を通過した光束を照明分布が均一になるよ
うにして、レンズ７に射出する。レンズ７は、この光束
をほぼ平行束にして視野絞り８に入射させる。視野絞り
８は、開口Ｓの大きさを変化させて、レチクル９上の照
明範囲を調節する。視野絞り８の開口Ｓを通過した光束
は、反射鏡１０で反射され、レンズ系１１に入射する。
レンズ系１１は、視野絞り８の開口Ｓを通過した光束の
像をレチクル９に結像させる。レチクル９の照明範囲に
存在するパターンの像は、投影光学系１２により、２次
元に移動可能なステージ装置１３に載置されたウエハ１
４に結像される。これにより、ウエハ１４の特定領域に
レチクル９のパターンの像が結像される。
フィルター５を通過した光束を照明分布が均一になるよ
うにして、レンズ７に射出する。レンズ７は、この光束
をほぼ平行束にして視野絞り８に入射させる。視野絞り
８は、開口Ｓの大きさを変化させて、レチクル９上の照
明範囲を調節する。視野絞り８の開口Ｓを通過した光束
は、反射鏡１０で反射され、レンズ系１１に入射する。
レンズ系１１は、視野絞り８の開口Ｓを通過した光束の
像をレチクル９に結像させる。レチクル９の照明範囲に
存在するパターンの像は、投影光学系１２により、２次
元に移動可能なステージ装置１３に載置されたウエハ１
４に結像される。これにより、ウエハ１４の特定領域に
レチクル９のパターンの像が結像される。
【００２１】図２は図１のステージ装置１３の詳細を示
した図であり、図２（ａ）はステージ装置１３全体の概
要を示した図であり、図２（ｂ）は、図２（ａ）の矢視
部分の断面を拡大して示した断面図である。図２（ａ）
において、後述のＹステージ１７の下板であるＸステー
ジ１５は、不図示のリテーナを介してベース板１６に載
っており、同図のＸ方向に移動する。
した図であり、図２（ａ）はステージ装置１３全体の概
要を示した図であり、図２（ｂ）は、図２（ａ）の矢視
部分の断面を拡大して示した断面図である。図２（ａ）
において、後述のＹステージ１７の下板であるＸステー
ジ１５は、不図示のリテーナを介してベース板１６に載
っており、同図のＸ方向に移動する。
【００２２】Ｙステージ１７は、リテーナ１８を介して
Ｘステージ１５に載っており、同図のＹ方向に移動す
る。リテーナ１８は、複数のローラを回転可能に保持し
ている。また、リテーナ１８の複数のローラやＸステー
ジ１５及びＹステージ１７の慴動面には、ステージの移
動を滑らかにするために適量の油が塗布されている。な
お、本実施例において、Ｙステージ１７は、Ｘステージ
１５に対して上板となる。
Ｘステージ１５に載っており、同図のＹ方向に移動す
る。リテーナ１８は、複数のローラを回転可能に保持し
ている。また、リテーナ１８の複数のローラやＸステー
ジ１５及びＹステージ１７の慴動面には、ステージの移
動を滑らかにするために適量の油が塗布されている。な
お、本実施例において、Ｙステージ１７は、Ｘステージ
１５に対して上板となる。
【００２３】カバー１９は、Ｙステージ１７のＹ方向の
両端から外方へ突出した一対のカバー１９ａ，１９ｂで
あり、絶縁性の高いベークライト材である。選択手段で
ある制御装置２０は、後述する帯電手段であるコロナ放
電発生装置２１の印加を制御する。図２（ｂ）におい
て、コロナ放電発生装置２１は、制御装置２０から印加
される高電圧によりコロナイオンを発生する。このコロ
ナイオンは、制御装置２０から与えられる高電圧の極性
に応じて、正のコロナイオンになったり、負のコロナイ
オンになったりする。また、不図示ではあるが同様のコ
ロナ放電発生装置２１がカバー１９ｂの下方に配設され
ている。
両端から外方へ突出した一対のカバー１９ａ，１９ｂで
あり、絶縁性の高いベークライト材である。選択手段で
ある制御装置２０は、後述する帯電手段であるコロナ放
電発生装置２１の印加を制御する。図２（ｂ）におい
て、コロナ放電発生装置２１は、制御装置２０から印加
される高電圧によりコロナイオンを発生する。このコロ
ナイオンは、制御装置２０から与えられる高電圧の極性
に応じて、正のコロナイオンになったり、負のコロナイ
オンになったりする。また、不図示ではあるが同様のコ
ロナ放電発生装置２１がカバー１９ｂの下方に配設され
ている。
【００２４】本実施例において、集塵手段はカバー１９
ａ（若しくは１９ｂ）と制御装置２０とコロナ放電発生
装置２１とから構成されている。なお、Ｘステージ１５
とＹステージ１７とは、それぞれ不図示の駆動軸を介し
てモータにより駆動されている。また、露光装置全体
は、不図示のＣＰＵにより、露光動作が制御されてい
る。
ａ（若しくは１９ｂ）と制御装置２０とコロナ放電発生
装置２１とから構成されている。なお、Ｘステージ１５
とＹステージ１７とは、それぞれ不図示の駆動軸を介し
てモータにより駆動されている。また、露光装置全体
は、不図示のＣＰＵにより、露光動作が制御されてい
る。
【００２５】以上のように構成されたステージ装置１３
を備えた露光装置の動作について説明する。露光装置の
露光動作については、従来の装置の露光動作と同じであ
るのでその説明を省略し、本実施例においては、ステー
ジ装置１３が移動するときにダストを集塵する動作につ
いて以下説明を行う。ステージ装置１３が移動するとき
に、前述のローラの回転により、経時変化によりミスト
状になったグリースが散乱したり、ローラとこのローラ
を保持する部分との摩擦により発塵が起こる。（以下、
総称してダストという。）このダストを集塵するため
に、制御装置２０の印加電圧により、コロナ放電発生２
１は、カバー１９に正のイオンを与えると共に、Ｘステ
ージ１５に向かって（即ち、ダストに対して）負のイオ
ンを与える。これにより、カバー１９は正の電荷に帯電
し、ダストは負の電荷に帯電するので、負の電荷のダス
トは、正の電荷のカバー１９に吸着される。これによ
り，大きな吸着力でダストを集塵できるので、ダストが
ウエハ１４上に付着することがなくなり、正確な露光が
実行できる。
を備えた露光装置の動作について説明する。露光装置の
露光動作については、従来の装置の露光動作と同じであ
るのでその説明を省略し、本実施例においては、ステー
ジ装置１３が移動するときにダストを集塵する動作につ
いて以下説明を行う。ステージ装置１３が移動するとき
に、前述のローラの回転により、経時変化によりミスト
状になったグリースが散乱したり、ローラとこのローラ
を保持する部分との摩擦により発塵が起こる。（以下、
総称してダストという。）このダストを集塵するため
に、制御装置２０の印加電圧により、コロナ放電発生２
１は、カバー１９に正のイオンを与えると共に、Ｘステ
ージ１５に向かって（即ち、ダストに対して）負のイオ
ンを与える。これにより、カバー１９は正の電荷に帯電
し、ダストは負の電荷に帯電するので、負の電荷のダス
トは、正の電荷のカバー１９に吸着される。これによ
り，大きな吸着力でダストを集塵できるので、ダストが
ウエハ１４上に付着することがなくなり、正確な露光が
実行できる。
【００２６】また、本実施例では、Ｙステージ１７のみ
に集塵装置を配設して説明したが、Ｘステージ１５に同
様の集塵装置を配設していいことは勿論である。この場
合は、ベース板１６が下板となり、Ｘステージ１５がＸ
方向に移動するので、Ｘ方向とほぼ直交している両端面
に集塵装置を配設すればいい。更に、本実施例では、コ
ロナ放電発生２１は、カバー１９に正のイオンを与え、
ダストに負のイオンを与えたが、カバー１９に負のイオ
ンを与え、ダストに正のイオンを与えてもいい。
に集塵装置を配設して説明したが、Ｘステージ１５に同
様の集塵装置を配設していいことは勿論である。この場
合は、ベース板１６が下板となり、Ｘステージ１５がＸ
方向に移動するので、Ｘ方向とほぼ直交している両端面
に集塵装置を配設すればいい。更に、本実施例では、コ
ロナ放電発生２１は、カバー１９に正のイオンを与え、
ダストに負のイオンを与えたが、カバー１９に負のイオ
ンを与え、ダストに正のイオンを与えてもいい。
【００２７】次に本実施例の変形例を示す。本変形例に
おいては、装置の構成は実施例と同じものである。Ｙス
テージ１７が図２（ａ）の矢印Ｙａ方向に移動するとき
に、制御装置２０はカバー１９ａの下方に配設されてい
るコロナ放電発生装置２１のみに印加する。図２（ｂ）
に示してあるように、Ｙステージ１７がＹａ方向に移動
するときに、リテーナ１８のローラはＹａ方向に回転す
る。このため、前述のようなダストはＹａ方向の反対方
向から矢印Ａ1 〜Ａ5 のように発生する。このため、カ
バー１９ａの下方に配設されているコロナ放電発生装置
２１を印加することにより効率的にダストを吸着でき
る。また、矢印Ｙａと反対方向に移動するときには、カ
バー１９ａの下方に配設されているコロナ放電発生装置
２１への印加の代わりに、カバー１９ｂの下方に配設さ
れているコロナ放電発生装置２１へ印加すればいい。な
お、カバー１９ａの下方に配設されているコロナ放電発
生装置２１へ印加がされなくても、カバー１９ａは帯電
された状態のままなので吸着したダストは保持されたま
まである。
おいては、装置の構成は実施例と同じものである。Ｙス
テージ１７が図２（ａ）の矢印Ｙａ方向に移動するとき
に、制御装置２０はカバー１９ａの下方に配設されてい
るコロナ放電発生装置２１のみに印加する。図２（ｂ）
に示してあるように、Ｙステージ１７がＹａ方向に移動
するときに、リテーナ１８のローラはＹａ方向に回転す
る。このため、前述のようなダストはＹａ方向の反対方
向から矢印Ａ1 〜Ａ5 のように発生する。このため、カ
バー１９ａの下方に配設されているコロナ放電発生装置
２１を印加することにより効率的にダストを吸着でき
る。また、矢印Ｙａと反対方向に移動するときには、カ
バー１９ａの下方に配設されているコロナ放電発生装置
２１への印加の代わりに、カバー１９ｂの下方に配設さ
れているコロナ放電発生装置２１へ印加すればいい。な
お、カバー１９ａの下方に配設されているコロナ放電発
生装置２１へ印加がされなくても、カバー１９ａは帯電
された状態のままなので吸着したダストは保持されたま
まである。
【００２８】本実施例及び本変形例では、ローラの回転
により発生するダストの集塵を例に説明したが、例え
ば、Ｙステージ１７の移動時に不図示の駆動軸から発生
するダストを集塵できるのは言うまでもない。また、本
実施例及び本変形例では、露光装置を例に説明したが、
ステージ１３を他の装置に用いても有効なことは勿論で
あり、例えば、ウエハに形成されたパターンの検査を行
う検査装置などに用いても有効である。
により発生するダストの集塵を例に説明したが、例え
ば、Ｙステージ１７の移動時に不図示の駆動軸から発生
するダストを集塵できるのは言うまでもない。また、本
実施例及び本変形例では、露光装置を例に説明したが、
ステージ１３を他の装置に用いても有効なことは勿論で
あり、例えば、ウエハに形成されたパターンの検査を行
う検査装置などに用いても有効である。
【００２９】
【発明の効果】以上説明してきたように、請求項１記載
のステージ装置は、帯電手段が吸着部材とダストとのい
ずれか一方を正の電荷に帯電させると共に、吸着部材と
ダストとの他方を負の電荷に帯電させている。これによ
り、ダストは吸着部材に吸着される。集塵手段は、静電
気によりダストを吸着するので、十分に大きい吸着力で
ダストを吸着できる。
のステージ装置は、帯電手段が吸着部材とダストとのい
ずれか一方を正の電荷に帯電させると共に、吸着部材と
ダストとの他方を負の電荷に帯電させている。これによ
り、ダストは吸着部材に吸着される。集塵手段は、静電
気によりダストを吸着するので、十分に大きい吸着力で
ダストを吸着できる。
【００３０】請求項２記載のステージ装置は、イオン発
生装置が一対のカバーとダストとのいずれか一方に正の
イオンを与えると共に、一対のカバーとダストとの他方
に負のイオンを与えているので、十分に大きい吸着力で
ダストを吸着できる。請求項３記載のステージ装置は、
選択手段が移動方向に応じてイオン発生装置を選択して
印加しているので、効率よくダストを吸着できる。
生装置が一対のカバーとダストとのいずれか一方に正の
イオンを与えると共に、一対のカバーとダストとの他方
に負のイオンを与えているので、十分に大きい吸着力で
ダストを吸着できる。請求項３記載のステージ装置は、
選択手段が移動方向に応じてイオン発生装置を選択して
印加しているので、効率よくダストを吸着できる。
【００３１】請求項４記載のステージ装置は、選択手段
が移動方向と逆方向の一端に配設されているイオン発生
装置を選択して印加しているので、更に効率よくダスト
を吸着できる。請求項５記載の露光装置は、集塵手段
が、静電気によりダストを吸着するので、十分に大きい
吸着力でダストを吸着できる。このため、感光基板にダ
ストが付着することがなくなるので、精度の高い露光が
実行できる。
が移動方向と逆方向の一端に配設されているイオン発生
装置を選択して印加しているので、更に効率よくダスト
を吸着できる。請求項５記載の露光装置は、集塵手段
が、静電気によりダストを吸着するので、十分に大きい
吸着力でダストを吸着できる。このため、感光基板にダ
ストが付着することがなくなるので、精度の高い露光が
実行できる。
【００３２】請求項６記載の露光装置は、制御装置が移
動方向と逆方向の一端に配設されているイオン発生装置
を選択して印加しているので、効率よくダストを吸着で
きる。このため、感光基板にダストが付着することがな
くなるので、精度の高い露光が実行できる。
動方向と逆方向の一端に配設されているイオン発生装置
を選択して印加しているので、効率よくダストを吸着で
きる。このため、感光基板にダストが付着することがな
くなるので、精度の高い露光が実行できる。
【図１】一実施例を示す露光装置の概要図である。
【図２】図１のステージ装置１３の詳細を示した図であ
り、図２（ａ）はステージ装置１３全体の概要を示した
図であり、図２（ｂ）は、図２（ａ）の矢視部分の断面
を拡大して示した断面図である。
り、図２（ａ）はステージ装置１３全体の概要を示した
図であり、図２（ｂ）は、図２（ａ）の矢視部分の断面
を拡大して示した断面図である。
【図３】従来のステージ装置を示した図であり、図３
（ａ）はステージ装置全体の概要を示した図であり、図
３（ｂ）は、図３（ａ）の矢視部分の断面を拡大して示
した断面図である。
（ａ）はステージ装置全体の概要を示した図であり、図
３（ｂ）は、図３（ａ）の矢視部分の断面を拡大して示
した断面図である。
９ レチクル １２ 投影光学系 １３ ステージ装置 １４ ウエハ １５ Ｘステージ １７ Ｙステージ １９ カバー ２０ 制御装置 ２１ コロナ放電発生装置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｂ０３Ｃ 3/40 Ａ Ｂ２３Ｑ 1/60 Ｈ０１Ｌ 21/027 21/68 Ｎ
Claims (6)
- 【請求項１】下板と、 前記下板に対して水平方向に移動可能なように、前記下
板に載せられている上板と、 前記上板に配設され、前記移動時に発生するダストを集
塵する集塵手段と、を備えたステージ装置において、 前記集塵手段は、 前記ダストを吸着する吸着部材と、 前記吸着のために、前記吸着部材と前記ダストとのいず
れか一方を正の電荷に帯電させると共に、前記吸着部材
と前記ダストとの他方を負の電荷に帯電させる帯電手段
と、を備えていることを特徴とするステージ装置。 - 【請求項２】請求項１記載のステージ装置において、 前記吸着部材は、前記移動方向の前記上板の両端から外
方へ突出した一対のカバーであり、 前記帯電手段は、それぞれのカバーの下方に配設され、
前記カバーと前記ダストとのいずれか一方に正のイオン
を与えると共に、前記カバーと前記ダストとの他方に負
のイオンを与えるイオン発生装置であることを特徴とす
るステージ装置。 - 【請求項３】請求項２記載のステージ装置において、 前記それぞれ配設されているイオン発生装置のうち、前
記移動方向の向きに応じて、一方のイオン発生装置のみ
を作動させる選択手段を備えていることを特徴とするス
テージ装置。 - 【請求項４】請求項３記載のステージ装置において、 前記選択手段は、前記移動方向と逆向きの一端に配設さ
れているイオン発生装置のみを作動させることを特徴と
するステージ装置。 - 【請求項５】下板と、 前記下板に対して水平方向に移動可能なように、前記下
板に載せられている上板と、 前記上板に配設され、前記移動時に発生するダストを集
塵する集塵手段と、を備えたステージ装置を有し、 前記ステージ装置に載置された感光基板へ、マスクのパ
ターンを透過した光束を投影光学系によって転写する露
光装置において、 前記集塵手段は、 前記移動方向の前記上板の両端から外方へ突出し、前記
ダストを吸着する絶縁性の高い一対のカバーと、 前記吸着のために、それぞれのカバーの下方に配設さ
れ、前記それぞれのカバーと前記ダストとのいずれか一
方に正のイオンを与えると共に、前記それぞれのカバー
と前記ダストとの他方に負のイオンを与えるイオン発生
装置と、を備えていることを特徴とする露光装置。 - 【請求項６】請求項５記載の露光装置において、 前記それぞれ配設されているイオン発生装置のうち、前
記移動方向と逆向きの一端に配設されているイオン発生
装置のみを作動させる制御装置を備えていることを特徴
とする露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2132294A JPH07227737A (ja) | 1994-02-18 | 1994-02-18 | ステージ装置及び露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2132294A JPH07227737A (ja) | 1994-02-18 | 1994-02-18 | ステージ装置及び露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07227737A true JPH07227737A (ja) | 1995-08-29 |
Family
ID=12051924
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2132294A Pending JPH07227737A (ja) | 1994-02-18 | 1994-02-18 | ステージ装置及び露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07227737A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006165579A (ja) * | 2004-12-09 | 2006-06-22 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 |
| JP2008277481A (ja) * | 2007-04-27 | 2008-11-13 | Komatsu Ltd | 極端紫外光源装置 |
| JP2009023020A (ja) * | 2007-07-18 | 2009-02-05 | Yaskawa Electric Corp | 防塵機構を備えた基板搬送ロボット及びそれを備えた半導体製造装置 |
| CN105549334A (zh) * | 2016-01-28 | 2016-05-04 | 武汉华星光电技术有限公司 | 曝光机 |
| JP2017092488A (ja) * | 2016-12-28 | 2017-05-25 | 大日本印刷株式会社 | インプリント装置 |
| WO2022128112A1 (en) * | 2020-12-17 | 2022-06-23 | Applied Materials, Inc. | Roller for a carrier transport assembly, substrate processing system, method of maintaining a substrate processing system, and method of manufacturing a device |
-
1994
- 1994-02-18 JP JP2132294A patent/JPH07227737A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006165579A (ja) * | 2004-12-09 | 2006-06-22 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 |
| JP2008277481A (ja) * | 2007-04-27 | 2008-11-13 | Komatsu Ltd | 極端紫外光源装置 |
| JP2009023020A (ja) * | 2007-07-18 | 2009-02-05 | Yaskawa Electric Corp | 防塵機構を備えた基板搬送ロボット及びそれを備えた半導体製造装置 |
| CN105549334A (zh) * | 2016-01-28 | 2016-05-04 | 武汉华星光电技术有限公司 | 曝光机 |
| JP2017092488A (ja) * | 2016-12-28 | 2017-05-25 | 大日本印刷株式会社 | インプリント装置 |
| WO2022128112A1 (en) * | 2020-12-17 | 2022-06-23 | Applied Materials, Inc. | Roller for a carrier transport assembly, substrate processing system, method of maintaining a substrate processing system, and method of manufacturing a device |
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