JPH034022Y2 - - Google Patents
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- JPH034022Y2 JPH034022Y2 JP1715886U JP1715886U JPH034022Y2 JP H034022 Y2 JPH034022 Y2 JP H034022Y2 JP 1715886 U JP1715886 U JP 1715886U JP 1715886 U JP1715886 U JP 1715886U JP H034022 Y2 JPH034022 Y2 JP H034022Y2
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- sample
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- oil
- nut
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- Expired
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Landscapes
- Transmission Devices (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
[概要]
XYステージの送り機構部において、XYステ
ージに固定したナツトの両側にマフラーを取付
け、ネジ送りする際に油が飛散しないような露光
装置の構造にする。
ージに固定したナツトの両側にマフラーを取付
け、ネジ送りする際に油が飛散しないような露光
装置の構造にする。
[産業上の利用分野]
本考案はフオトプロセスに用いる露光装置の改
善に関する。
善に関する。
例えば、半導体装置の製造方法において、リソ
グラフイ技術が汎用されており、試料(半導体ウ
エハー)面に繰り換えし、フオトプロセスが適用
されている。
グラフイ技術が汎用されており、試料(半導体ウ
エハー)面に繰り換えし、フオトプロセスが適用
されている。
かくして、ICなどの半導体装置は急速に高集
積化・高密度化されてきたが、微細なパターンを
高精度に形成するためには、露光装置などの機構
部分においても十分な配慮が望ましい。
積化・高密度化されてきたが、微細なパターンを
高精度に形成するためには、露光装置などの機構
部分においても十分な配慮が望ましい。
[従来の技術と考案が解決しようとする問題点]
フオトプロセスにおいては、試料面にレジスト
膜を塗布し、これを露光・現像してマスクパター
ンを転写してレジスト膜パターンが形成される
が、その露光方法に密着露光と縮小露光との二つ
の方法が知られている。
膜を塗布し、これを露光・現像してマスクパター
ンを転写してレジスト膜パターンが形成される
が、その露光方法に密着露光と縮小露光との二つ
の方法が知られている。
前者の密着露光は従前から使用されており、レ
ジスト膜を塗布した試料面に、等倍パターンを設
けたマスクを密着して、全面を一括露光する方法
であるが、後者の縮小露光は5〜10倍に拡大した
パターンを設けたマスクを使用し、これを試料面
に1/5〜1/10に縮小して露光する方法である。こ
の縮小露光法は露光装置の光学系の進歩によると
ころが大きく、微細パターンの形成に適した方法
であるから、最近では、密着露光に代わつて重用
されてきている。
ジスト膜を塗布した試料面に、等倍パターンを設
けたマスクを密着して、全面を一括露光する方法
であるが、後者の縮小露光は5〜10倍に拡大した
パターンを設けたマスクを使用し、これを試料面
に1/5〜1/10に縮小して露光する方法である。こ
の縮小露光法は露光装置の光学系の進歩によると
ころが大きく、微細パターンの形成に適した方法
であるから、最近では、密着露光に代わつて重用
されてきている。
第2図は縮小露光装置の断面図を示しており、
1は光源(水銀灯)、1′はコンデンサレンズ、2
はレチクル、3は縮小レンズ、4は鏡筒、5は試
料(半導体ウエハー)、6は試料を保持するXY
ステージである。レチクルとは5〜10倍の大きさ
のパターンを設けたマスクのことで、密着露光の
場合は、試料に対し一回露光するだけで露光が完
了するが、レチクルを用いた縮小露光の場合は、
レチクルに1個ないしは数個のパターンしか設け
られていないため、試料上で露光位置を変えて、
繰り換えし露光する必要があり、そのため、XY
ステージ6はXY方向に可動する構造となつてい
る。従つて、縮小露光装置は別名をステツパとも
呼んでいる。
1は光源(水銀灯)、1′はコンデンサレンズ、2
はレチクル、3は縮小レンズ、4は鏡筒、5は試
料(半導体ウエハー)、6は試料を保持するXY
ステージである。レチクルとは5〜10倍の大きさ
のパターンを設けたマスクのことで、密着露光の
場合は、試料に対し一回露光するだけで露光が完
了するが、レチクルを用いた縮小露光の場合は、
レチクルに1個ないしは数個のパターンしか設け
られていないため、試料上で露光位置を変えて、
繰り換えし露光する必要があり、そのため、XY
ステージ6はXY方向に可動する構造となつてい
る。従つて、縮小露光装置は別名をステツパとも
呼んでいる。
このような縮小露光装置において、上記のXY
ステージ6のX方向およびY方向への移動は、通
常、ネジ送りによつて行なわれている。第3図は
そのネジ送り機構の概要を示し、同図aは平面
図、同図bは側面図で、図示のように、X方向送
りステージ6aに固定したナツト7aと送りネジ
8aとでX方向に可逆的に移動させ、Y方向送り
ステージ6bに固定したナツト7bと送りネジ8
bとでY方向に可逆的に移動させる方式である。
且つ、図示していないが、X方向送りステージ6
aには試料を保持するために真空チヤツクが設け
られ、また、ステージ移動を振動なくおこなうた
めに、ステージの両端にレール9(Y方向送りス
テージには図示している)が設けてある。
ステージ6のX方向およびY方向への移動は、通
常、ネジ送りによつて行なわれている。第3図は
そのネジ送り機構の概要を示し、同図aは平面
図、同図bは側面図で、図示のように、X方向送
りステージ6aに固定したナツト7aと送りネジ
8aとでX方向に可逆的に移動させ、Y方向送り
ステージ6bに固定したナツト7bと送りネジ8
bとでY方向に可逆的に移動させる方式である。
且つ、図示していないが、X方向送りステージ6
aには試料を保持するために真空チヤツクが設け
られ、また、ステージ移動を振動なくおこなうた
めに、ステージの両端にレール9(Y方向送りス
テージには図示している)が設けてある。
第4図はそのX方向送りステージ6a、または
Y方向送りステージ6bにおける、ステージ6に
固着した送りナツト7と送りネジ8とを図示した
断面図である。ステージの大きさは、例えば50cm
×50cm程度、ステージおよびナツトはいずれも厚
さ5cm程度のものである。
Y方向送りステージ6bにおける、ステージ6に
固着した送りナツト7と送りネジ8とを図示した
断面図である。ステージの大きさは、例えば50cm
×50cm程度、ステージおよびナツトはいずれも厚
さ5cm程度のものである。
ところで、上記したネジ送りをおこなう場合、
その送りを平滑にするため、潤滑油がナツト7と
送りネジ8との隙間に塗布してある。そのため、
移動動作時に潤滑油がその隙間から四散してステ
ージに付着し、それがステージ表面に廻わり込ん
で、更に、試料に付着する。このように、試料に
油が付着すると、パターンニングの精度が害さ
れ、また、試料が油で汚染されることになり、試
料が半導体ウエハーの場合では、油汚染のため製
品が不良になる問題がある。
その送りを平滑にするため、潤滑油がナツト7と
送りネジ8との隙間に塗布してある。そのため、
移動動作時に潤滑油がその隙間から四散してステ
ージに付着し、それがステージ表面に廻わり込ん
で、更に、試料に付着する。このように、試料に
油が付着すると、パターンニングの精度が害さ
れ、また、試料が油で汚染されることになり、試
料が半導体ウエハーの場合では、油汚染のため製
品が不良になる問題がある。
本考案は、このような問題を除去するための縮
小露光装置を提供するものである。
小露光装置を提供するものである。
[問題点を解決するための手段]
その目的は、試料を載置したXYステージの送
り機構部において、該XYステージに固定したナ
ツトの両側に、油を吸収するマフラーを取付けた
露光装置によつて達成される。
り機構部において、該XYステージに固定したナ
ツトの両側に、油を吸収するマフラーを取付けた
露光装置によつて達成される。
[作用]
即ち、本考案は、ナツト7の両側面、即ち、送
りネジ8が送入・送出される面に、油を吸収する
マフラーを取付ける。
りネジ8が送入・送出される面に、油を吸収する
マフラーを取付ける。
[実施例]
以下、図面を参照して一実施例によつて詳細に
説明すると、第1図aは本考案にかかるネジ送り
機構の断面図を示しており、10がマフラーで、
その他の部材は第4図と同じ部材に同一記号が付
してある。
説明すると、第1図aは本考案にかかるネジ送り
機構の断面図を示しており、10がマフラーで、
その他の部材は第4図と同じ部材に同一記号が付
してある。
マフラー10は、第1図bに示す斜視図のよう
に、金属リング11にフエルト(布)12を被覆
したもので、金属リング11をナツト7に取付け
て、飛散する油をフエルトで吸収する。この金属
リング11は多孔性のものが好ましい。
に、金属リング11にフエルト(布)12を被覆
したもので、金属リング11をナツト7に取付け
て、飛散する油をフエルトで吸収する。この金属
リング11は多孔性のものが好ましい。
且つ、マフラー10は嵌合、接着またはボルト
止めの手法でナツト7に取付けられており、これ
は定期的に交換する。マフラーの容量はネジの回
転速度や油の粘度・種類で飛散する度合が異なつ
てくるから、それを考慮した大きさにする。
止めの手法でナツト7に取付けられており、これ
は定期的に交換する。マフラーの容量はネジの回
転速度や油の粘度・種類で飛散する度合が異なつ
てくるから、それを考慮した大きさにする。
この例は一実施例であるが、かようなマフラー
を設けると、試料を油で汚染することが防止され
る。
を設けると、試料を油で汚染することが防止され
る。
[発明の効果]
以上の説明から明らかなように、本考案によれ
ば試料が油で汚染されずに、露光精度も向上し
て、試料は高品質化されるものである。
ば試料が油で汚染されずに、露光精度も向上し
て、試料は高品質化されるものである。
第1図aは本考案にかかる送り機構部を示す
図、第1図bはマフラーの斜視図、第2図は縮小
露光装置の概要図、第3図はそのネジ送り機構の
概要図、第4図は従来の送り機構部の断面図であ
る。 図において、1は光源(水銀灯)、2はレチク
ル、4は鏡筒、5は試料、6はXYステージ、又
はステージ、6aはX方向送りステージ、6bは
Y方向送りステージ、7はナツト、8は送りネ
ジ、9はレール、10はマフラー、11は金属リ
ング、12はフエルトを示している。
図、第1図bはマフラーの斜視図、第2図は縮小
露光装置の概要図、第3図はそのネジ送り機構の
概要図、第4図は従来の送り機構部の断面図であ
る。 図において、1は光源(水銀灯)、2はレチク
ル、4は鏡筒、5は試料、6はXYステージ、又
はステージ、6aはX方向送りステージ、6bは
Y方向送りステージ、7はナツト、8は送りネ
ジ、9はレール、10はマフラー、11は金属リ
ング、12はフエルトを示している。
Claims (1)
- 試料を載置したXYステージの送り機構部にお
いて、該XYステージに固定したナツトの両側
に、油を吸収するマフラーを取付けたことを特徴
とする露光装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1715886U JPH034022Y2 (ja) | 1986-02-07 | 1986-02-07 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1715886U JPH034022Y2 (ja) | 1986-02-07 | 1986-02-07 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62129552U JPS62129552U (ja) | 1987-08-15 |
JPH034022Y2 true JPH034022Y2 (ja) | 1991-02-01 |
Family
ID=30809662
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1715886U Expired JPH034022Y2 (ja) | 1986-02-07 | 1986-02-07 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH034022Y2 (ja) |
-
1986
- 1986-02-07 JP JP1715886U patent/JPH034022Y2/ja not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS62129552U (ja) | 1987-08-15 |
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