JP2013506280A - 放射源コレクタ装置、リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【選択図】図3
Description
上の式で、λは使用される放射の波長であり、NAはパターンを印刷するために使用される投影システムの開口数であり、k1はレイリー定数とも呼ばれるプロセス依存調整係数であり、CDは印刷されたフィーチャのフィーチャサイズ(またはクリティカルディメンジョン)である。式(1)から、フィーチャの最小印刷可能サイズの縮小は、以下の3つの方法、露光波長λを短縮することによって、開口数NAを増加させることによって、あるいはk1の値を低下させることによって達成することができる、と言える。
ここで、P[Pa]は分解器内の圧力であり、A[m∧2]は平均分解器断面であり、L[m]はガスが分解器を通って移動する長さである。分解器温度における全体的なガス流は、式(2)でQによって表されており、Qは[Pa.m∧3/s]または標準リットル毎分[slm]で表されてよい。例えば、流れは300slmであり、分解器断面は直径400mmの円形パイプの断面に対応し、分解器内のガス移動距離は5mであり、分解器温度は500℃であり、圧力は120Paである。この場合、滞留時間tresは0.052秒である。
ここで、DcはSnH4またはSnHx拡散係数である。分解器の断面における分解器表面間の特性長は拡散長Ldiffと等しい必要がある。図7に示すように、円形断面を有する分解器TDに対して、インサートISを用いて所望の特性長dを提供することができる。同じ原理を他の形状の断面を有する分解器に対して使用することができる。インサート内のセルCEの数nは、以下の単純な関係を用いて計算することができる。
ここで、Dはパイプの直径であり、例えば、図7に示すような分解器の円筒壁の直径である。
ここで、kは熱伝導係数であり、Cpはガス熱容量であり、ρはガス密度である。再び、分解器に対しては、インサートを用いて断面におけるクーラ表面間の特性長dを制御することができる(図7参照)。特性長dは、熱拡散長Lhと等しい必要がある。他の形状の断面を有するクーラに対して同じ原理を用いることができる。インサート内のセルの数nは、LdiffをLhで置き換える式(4)を用いて計算することができる。クーラ面は、室温近くの一定の温度で保たれる。
Claims (20)
- 極端紫外線リソグラフィ装置のための放射源コレクタ装置であって、前記極端紫外線は放射を放出するプラズマを提供するために燃料を励起することによって生成され、前記放射源コレクタ装置は、
閉鎖構造であって、前記閉鎖構造内でバッファガスに対する閉ループ流路を画定する閉鎖構造と、
前記閉ループ流路を通して前記バッファガスを押し出すポンプと、
燃料材料とバッファガス材料との化合物を分解し、かつ前記バッファガス材料の少なくとも一部を前記閉ループ流路にフィードバックするガス分解器と
を含む、放射源コレクタ装置。 - 前記閉鎖構造はチャンバを含んでおり、前記チャンバはその外部の案内路と流体連結し、前記ポンプおよび前記ガス分解器は前記案内路内に位置決めされている、請求項1に記載の放射源コレクタ装置。
- 前記ガス分解器は、前記ポンプの上流に位置決めされている、請求項2に記載の放射源コレクタ装置。
- 前記流路内に流れるガスから熱を除去する熱交換器は、前記ガス分解器と前記ポンプとの間に位置決めされている、請求項3に記載の放射源コレクタ装置。
- 補助的ガス分解器は、前記案内路内で前記ポンプの下流に位置決めされている、請求項4に記載の放射源コレクタ装置。
- 前記流路内に流れるガスに熱を提供する第2熱交換器は、前記案内路内で前記補助的ガス分解器と前記ポンプとの間に位置決めされている、請求項5に記載の放射源コレクタ装置。
- 前記流路内に流れるガスから熱を除去する第3熱交換器は、前記案内路内で前記補助的ガス分解器の下流に位置決めされている、請求項6に記載の放射源コレクタ装置。
- 前記案内路は、前記ポンプと前記ガス分解器との間にある出口と、前記出口と流体連結している排出システムとを含み、前記閉鎖構造から出るガス流を提供および制御するように構成されている、請求項3〜7のいずれかに記載の放射源コレクタ装置。
- 前記閉鎖構造には、バッファガス源に接続された入口が形成されている、請求項1〜8のいずれかに記載の放射源コレクタ装置。
- 前記燃料はスズを含み、前記バッファガスは水素を含む、請求項1〜9のいずれかに記載の放射源コレクタ装置。
- 前記化合物は水素化スズである、請求項10に記載の放射源コレクタ装置。
- 放射ビームを調整する照明システムと、
前記放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付き放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを保持するサポート構造と、
基板を保持する基板テーブルと、
前記パターン付き放射ビームを前記基板のターゲット部分上に投影する投影システムと、
請求項1〜11のいずれかに記載の放射源コレクタ装置と
を含む、リソグラフィ装置。 - リソグラフィ装置であって、
閉鎖構造であって、前記閉鎖構造内でバッファガスに対する閉ループ流路を画定する閉鎖構造と、
前記閉ループ流路を通して前記バッファガスを押し出すポンプと、
燃料材料とバッファガス材料との化合物を分解し、かつ前記バッファガス材料の少なくとも一部を前記閉ループ流路にフィードバックするガス分解器と、
前記燃料材料から形成されたプラズマによって放出された極端紫外線を集光するコレクタと
を含む、放射源コレクタ装置と、
前記集光した極端紫外線を調整して放射ビームを形成する照明システムと、
前記放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付き放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを保持するサポート構造と、
基板を保持する基板テーブルと、
前記パターン付き放射ビームを前記基板のターゲット部分上に投影する投影システムと
を含む、リソグラフィ装置。 - 放射を放出するプラズマを提供するために燃料を励起することによって極端紫外線を生成することと、
放射源コレクタ装置内の反射コレクタによって前記放射を集光することと、
前記コレクタと前記放射放出プラズマとの間のエリアを通り抜ける閉ループ流路を通してバッファガスを押し出すことと、
燃料材料とバッファガス材料との化合物を分解することと、
前記バッファガス材料の少なくとも一部を前記閉ループ流路にフィードバックすることと、
前記集光した放射をパターン付き放射ビームにパターン付けすることと、
前記パターン付き放射ビームを基板上に投影することと
を含む、デバイス製造方法。 - 前記燃料はスズを含み、前記バッファガスは水素を含む、請求項14に記載の方法。
- 前記化合物は水素化スズである、請求項15に記載の方法。
- 前記ガス分解器は、少なくとも1つのインサートを囲うパイプを含む、請求項1〜9のいずれかに記載の放射源コレクタ装置。
- 前記ガス分解器は、少なくとも一つのねじれたインサートを囲うパイプを含む、請求項1〜9のいずれかに記載の放射源コレクタ装置。
- 前記ガス分解器は、232℃より高い温度で維持された構造を含む、請求項10に記載の放射源コレクタ装置。
- 前記構造は、リザーバおよびドレインを含む、請求項19に記載の放射源コレクタ装置。
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