JP2008513995A - 汚染物トラップシステムを有するリソグラフィ装置、汚染物トラップシステム、デバイス製造方法、および、リソグラフィ装置内の汚染物のトラップ方法 - Google Patents
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Abstract
【選択図】 なし
Description
[0031] 本発明の実施形態が、添付の概略図面を参照して、単に例としてこれから説明される。図中の対応する符号は対応する部分を指示する。
Claims (89)
- 実質的に発光点から発光される放射ビームを調整するように構成された照明システムを備えており、
前記照明システムは汚染物トラップシステムを備え、トラップシステムは、中心ゾーンと周辺ゾーンとを有する汚染物トラップを備え、トラップは、周辺ゾーンを通って実質的に外側へ延在する複数の小板を備え、小板の各々は、前記発光点を実質的に通って延在する仮想面に重なり、そして小板の各々は、中心ゾーンに向けられたコンポーネントに対する法線を有する、
リソグラフィ装置。 - 前記中心ゾーンは回転軸を備え、回転軸を中心に前記複数の小板が回転可能であり、回転軸は、前記発光点を実質的に通って延在する仮想線に重なる、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記汚染物トラップには、該トラップを回転させるための駆動機構が設けられている、請求項2に記載のリソグラフィ装置。
- 前記駆動機構は前記中心ゾーンの外に位置する、請求項3に記載のリソグラフィ装置。
- 前記トラップシステムは複数の汚染物トラップを備える、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記複数の小板は前記中心ゾーンに対して回転対称性を有する、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記トラップシステムは、複数の小板を有する第1汚染物トラップと、複数の小板を有する第2汚染物トラップとを備え、第1および第2汚染物トラップは、前記発光点から発光されるいくらかの光が第1および第2汚染物トラップを通って伝播できるように、位置合わせされており、第1汚染物トラップは、第2汚染物トラップに対して、前記発光点を通って実質的に延在する仮想線を中心に回転できる、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第1および第2汚染物トラップの一方の前記小板は、前記第1および第2汚染物トラップの他方の前記小板と数および/角分布の点で異なり、それによって、いずれの回転位置においても、前記第1および第2汚染物トラップの一方の1つ以上の前記小板が、前記第1および第2汚染物トラップの他方を通過した放射を遮断できる、請求項7に記載のリソグラフィ装置。
- 前記放射ビームの断面にパターンを付けてパターン付き放射ビームを形成できるパターニングデバイスをさらに備えており、
前記照明システムはさらに、前記パターニングデバイスの上流においての前記放射ビームの非均一性を低減するように構成されている、請求項7に記載のリソグラフィ装置。 - 前記第1および第2汚染物トラップは、使用中、前記放射ビームが両前記汚染物トラップを出る際に前記放射ビーム内に実質的に所定の非均一性が存在するように構成されており、前記照明システムには、反射素子の第1セットと、反射素子の第2セットとが設けられており、第1セットの各反射素子は、両前記汚染物トラップの下流においての前記放射ビームの一部を第2セットの反射素子に反射するように構成され、第2セットの各反射素子は、前記放射ビームをさらに前記パターニングデバイスへの光学経路に反射するように構成され、各反射素子が所定の位置および形状を有することによって、使用中、前記放射ビーム内の前記所定の非均一性を低減できる、請求項9に記載のリソグラフィ装置。
- 前記小板の各々は、ヒンジ軸にてヒンジ連結されており、各ヒンジ軸は、対応する小板が真っ直ぐな平面状である場合に、ヒンジ軸と重なる仮想線が前記発光点を通って延在するように、配向されている、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記小板の各々はスロットを備え、各スロットは、対応する小板が真っ直ぐな平面状である場合に、スロットの長手方向と重なる仮想線が前記発光点を通って延在するように、配向されている、請求項11に記載のリソグラフィ装置。
- 請求項1に記載のリソグラフィ装置によって製造されるデバイス。
- リソグラフィ装置の照明システム内で使用する汚染物トラップシステムであって、
中心ゾーンと周辺ゾーンとを有する汚染物トラップを備えており、
トラップは、周辺ゾーンを通って実質的に外側へ延在する複数の小板を備え、小板の各々は、中心ゾーンに向けられたコンポーネントに対する法線を有し、複数の小板は、それらと重なるすべての仮想面が、トラップの外で、リソグラフィ装置の発光点に対応するよう意図された所定の点において交わるように、配向されている、汚染物トラップシステム。 - 前記中心ゾーンは回転軸を備え、回転軸を中心に前記複数の小板が回転可能であり、回転軸は、実質的に前記所定の点を通って延在する仮想線と重なる、請求項14に記載の汚染物トラップシステム。
- 前記汚染物トラップには、該トラップを回転させるための駆動機構が設けられている、請求項15に記載の汚染物トラップシステム。
- 前記駆動機構は前記中心ゾーンの外に位置する、請求項16に記載の汚染物トラップシステム。
- 複数の汚染物トラップを備える、請求項14に記載の汚染物トラップシステム。
- 前記複数の小板は前記中心ゾーンに対して回転対称性を有する、請求項14に記載の汚染物トラップシステム。
- 複数の小板を有する第1汚染物トラップと、複数の小板を有する第2汚染物トラップとを備えており、
両汚染物トラップは、使用中、前記所定の点から発光されるいくらかの光が両汚染物トラップを通って伝播できるように、位置合わせされており、第1汚染物トラップは、第2汚染物トラップに対して、前記所定の点を通って実質的に延在する仮想線を中心に回転できる、請求項14に記載の汚染物トラップシステム。 - 前記第1および第2汚染物トラップの一方の前記小板は、前記第1および第2汚染物トラップの他方の前記小板と数および/角分布の点で異なり、それによって、いずれの回転位置においても、前記第1および第2汚染物トラップの一方の1つ以上の前記小板が、前記第1および第2汚染物トラップの他方を通過した放射を遮断できる、請求項20に記載の汚染物トラップシステム。
- 使用中、前記放射ビームが両前記汚染物トラップを出る際に前記放射ビーム内に実質的に所定の非均一性が存在するように、構成されている、請求項21に記載の汚染物トラップシステム。
- 前記小板の各々は、ヒンジ軸にてヒンジ連結されており、各ヒンジ軸は、対応する小板が真っ直ぐな平面状である場合に、ヒンジ軸と重なる仮想線が前記所定の点を通って延在するように、配向されている、請求項14に記載の汚染物トラップシステム。
- 前記小板の各々はスロットを備え、スロットは、対応する小板が真っ直ぐな平面状である場合に、スロットの長手方向と重なる仮想線が前記所定の点を通って延在するように、配向されている、請求項23に記載の汚染物トラップシステム。
- 照明システムを使用して、発光点から実質的に発光される放射ビームを調整する工程と、
中心ゾーンと周辺ゾーンとを有する汚染物トラップを備えるトラップシステムを使用して、前記照明システム内の汚染粒子をトラップする工程であって、トラップは、周辺ゾーンを通って実質的に外側へ延在する複数の小板を備え、小板の各々は、中心ゾーンに向けられたコンポーネントに対する法線を有し、複数の小板は、それらと重なるすべての面が、トラップの外で、前記照明システムの発光点と実質的に一致する実質的に所定の点において交わるように、配向されている、工程と、
を備えるデバイス製造方法。 - 前記発光点を実質的に通って延在する仮想線と重なる回転軸を中心に、前記複数の小板を回転させる工程、をさらに備える、請求項25に記載のデバイス製造方法。
- 前記トラップシステムは、複数の小板を有する第1汚染物トラップと、複数の小板を有する第2汚染物トラップとを備え、第1および第2汚染物トラップは、前記発光点から発光されるいくらかの光が第1および第2汚染物トラップを通って伝播できるように、位置合わせされており、
前記第1汚染物トラップを、前記第2汚染物トラップに対して、前記発光点を通って実質的に延在する仮想線を中心に回転させる工程をさらに備える、請求項26に記載のデバイス製造方法。 - 前記第1および第2汚染物トラップを出る前記放射ビームの非均一性を低減する工程をさらに備える、請求項27に記載のデバイス製造方法。
- 前記放射ビームが前記第1および第2汚染物トラップを出る最中に、前記放射ビームに所定の非均一性を与える工程と、
前記第1および第2汚染物トラップの下流においての前記放射ビームを反射素子の第1セットに反射する工程と、
反射素子の前記第1セットの下流においての前記放射ビームを反射素子の第2セットに反射する工程であって、各反射素子が所定のサイズおよび/または形状を有することによって前記所定の非均一性を低減できる、工程と、
をさらに備える、請求項28に記載のデバイス製造方法。 - 請求項25に従って製造されるデバイス。
- リソグラフィ装置の照明システム内の汚染物のトラップを良好にする方法であって、
トラップシステムを使用して汚染物をトラップする工程であって、トラップシステムは、中心ゾーンと周辺ゾーンとを有する汚染物トラップを備え、トラップは、周辺ゾーンを通って実質的に外側へ延在する複数の小板を備え、小板の各々は、中心ゾーンに向けられたコンポーネントに対する法線を有し、複数の小板は、それらと重なるすべての面が、トラップの外で、前記照明システムの発光点と一致する実質的に所定の点において交わるように、配向されている、工程を備える、方法。 - 前記照明システムの前記発光点を実質的に通って延在する仮想線と重なる回転軸を中心に、前記複数の小板を回転させる工程をさらに備える、請求項31に記載の方法。
- 前記トラップシステムは、複数の小板を有する第1汚染物トラップと、複数の小板を有する第2汚染物トラップとを備え、第1および第2汚染物トラップは、前記発光点から発光されるいくらかの光が第1および第2汚染物トラップを通って伝播できるように、位置合わせされており、
前記第1汚染物トラップを、前記第2汚染物トラップに対して、前記発光点を通って実質的に延在する仮想線を中心に回転させる工程をさらに備える、
請求項32に記載の方法。 - 前記第1および第2汚染物トラップを出る前記放射ビームの非均一性を低減する工程をさらに備える、請求項33に記載の方法。
- 前記放射ビームが前記第1および第2汚染物トラップを出る最中に、前記放射ビームに所定の非均一性を与える工程と、
前記第1および第2汚染物トラップの下流においての前記放射ビームを反射素子の第1セットに反射する工程と、
反射素子の前記第1セットの下流においての前記放射ビームを反射素子の第2セットに反射する工程であって、各反射素子が所定のサイズおよび/または形状を有することによって前記所定の非均一性を低減できる、工程と、
をさらに備える、請求項34に記載の方法。 - 実質的に発光点から発光される放射ビームを調整するように構成された照明システムを備えており、
照明システムは、汚染物トラップシステムを備え、トラップシステムは、複数の小板を有する第1汚染物トラップと、複数の小板を有する第2汚染物トラップとを備え、第1および第2汚染物トラップは、前記発光点から発光されるいくらかの光が第1および第2汚染物トラップを通って伝播できるように、位置合わせされており、第1汚染物トラップは、第2汚染物トラップに対して、前記発光点を通って実質的に延在する仮想線を中心に回転でき、第1および第2汚染物トラップの一方の小板は、第1および第2汚染物トラップの他方の小板と数および/角分布の点で異なり、それによって、いずれの回転位置においても、前記一方の汚染物トラップの小板の1つが、前記他方の汚染物トラップを通過した放射を遮断できる、リソグラフィ装置。 - 前記第1および/または第2汚染物トラップは、中心ゾーンと周辺ゾーンとを備え、その前記小板は、周辺ゾーンを通って実質的に外側へ延在し、その前記小板の1つは、中心ゾーンに向けられたコンポーネントに対する法線を有する、請求項36に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第1および/または第2汚染物トラップの前記小板の各々は、ヒンジ軸にてヒンジ連結されており、各ヒンジ軸は、対応する小板が真っ直ぐな平面状である場合に、ヒンジ軸と重なる仮想線が前記発光点を通って延在するように、配向されている、請求項36に記載のリソグラフィ装置。
- 前記小板の各々はスロットを備え、スロットは、対応する小板が真っ直ぐな平面状である場合に、スロットの長手方向と重なる仮想線が前記発光点を通って延在するように、配向されている、請求項38に記載のリソグラフィ装置。
- 前記放射ビームの断面にパターンを付けてパターン付き放射ビームを形成できるパターニングデバイスをさらに備えており、
前記照明システムは、前記パターニングデバイスの上流においての前記放射ビームの非均一性を低減するように構成されている、請求項36に記載のリソグラフィ装置。 - 前記第1および第2汚染物トラップは、使用中、前記放射ビームが前記第1および第2汚染物トラップを出る際に前記放射ビーム内に実質的に所定の非均一性が存在するように構成されており、前記照明システムには、反射素子の第1セットと、反射素子の第2セットとが設けられており、第1セットの各反射素子は、前記第1および第2汚染物トラップの下流においての前記放射ビームの一部を第2セットの反射素子に反射するように構成され、第2セットの各反射素子は、前記放射ビームをさらに前記パターニングデバイスへの光学経路に反射するように構成され、各反射素子が所定の位置および形状を有することによって、使用中、前記放射ビーム内の前記所定の非均一性を低減できる、請求項40に記載のリソグラフィ装置。
- 請求項36に記載のリソグラフィ装置によって製造されるデバイス。
- リソグラフィ装置の照明システム内で使用する汚染物トラップシステムであって、
トラップシステムは、複数の小板を有する第1汚染物トラップと、複数の小板を有する第2汚染物トラップとを備え、第1汚および第2汚染物トラップは、使用中、第1および第2汚染物トラップの外にある所定の点から発光されるいくらかの光が第1および第2汚染物トラップを通って伝播できるように、位置合わせされており、第1汚染物トラップは、第2汚染物トラップに対して、前記所定の点を通って実質的に延在する仮想線を中心に回転でき、第1および第2汚染物トラップの一方の小板は、第1および第2汚染物トラップの他方の小板と数および/角分布の点で異なる、汚染物トラップシステム。 - 前記第1および/または第2汚染物トラップは、中心ゾーンと周辺ゾーンとを有し、中心ゾーンと周辺ゾーンとを有する前記汚染物トラップの前記小板は、周辺ゾーンを通って実質的に外側へ延在し、中心ゾーンと周辺ゾーンとを有する前記汚染物トラップの前記小板の1つは、中心ゾーンに向けられたコンポーネントに対する法線を有する、請求項43に記載のトラップシステム。
- 前記第1および/または第2汚染物トラップの前記小板の各々は、ヒンジ軸でヒンジ連結されており、各ヒンジ軸は、対応する小板が真っ直ぐな平面状である場合に、ヒンジ軸と重なる仮想線が前記発光点を通って延在するように、配向されている、請求項43に記載のトラップシステム。
- 前記小板の各々はスロットを備え、スロットは、対応する小板が真っ直ぐな平面状である場合に、スロットの長手方向と重なる仮想線が前記発光点を通って延在するように、配向されている、請求項45に記載のトラップシステム。
- 使用中、前記放射ビームが前記第1および第2汚染物トラップを出る際に前記放射ビーム内に実質的に所定の非均一性が存在するように、構成されている、請求項43に記載の汚染物トラップシステム。
- 実質的に発光点から発光される放射ビームを調整するように構成された照明システムであって、照明システムは汚染物トラップシステムを備え、トラップシステムは、複数の小板を有する第1汚染物トラップと、複数の小板を有する第2汚染物トラップとを備え、第1および第2汚染物トラップは、前記発光点から発光される光が第1および第2汚染物トラップを通って伝播できるように、位置合わせされており、そして、第1汚染物トラップは、第2汚染物トラップに対して、前記発光点を通って実質的に延在する仮想線を中心に回転できる、照明システムと、
前記放射ビームの断面にパターンを付けてパターン付き放射ビームを形成できるパターニングデバイスと、
を備え、
前記照明システムは、前記パターニングデバイスの上流においての前記放射ビームの非均一性を低減するように構成されている、
リソグラフィ装置。 - 前記第1および第2汚染物トラップは、使用中、前記放射ビームが前記第1および第2汚染物トラップを出る際に前記放射ビーム内に実質的に所定の非均一性が存在するように構成されており、前記照明システムには、反射素子の第1セットと、反射素子の第2セットとが設けられており、第1セットの各反射素子は、前記第1および第2汚染物トラップの下流においての前記放射ビームの一部を第2セットの反射素子に反射するように構成され、第2セットの各反射素子は、前記放射ビームをさらに前記パターニングデバイスへの光学経路に反射するように構成され、各反射素子が所定の位置および形状を有することによって、使用中、前記放射ビームの前記所定の非均一性を低減できる、請求項48に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第1および第2汚染物トラップの一方の前記小板は、前記第1および第2汚染物トラップの他方の前記小板と数および/角分布の点で異なる、請求項48に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第1および/または第2汚染物トラップは、中心ゾーンと周辺ゾーンとを有し、中心ゾーンと周辺ゾーンとを有する前記第1および/または第2汚染物トラップの前記小板は、周辺ゾーンを通って実質的に外側へ延在し、中心ゾーンと周辺ゾーンとを有する前記第1および/または第2汚染物トラップの前記小板の各々は、中心ゾーンに向けられたコンポーネントに対する法線を有する、請求項48に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第1および/または第2汚染物トラップの前記小板の各々は、ヒンジ軸にてヒンジ連結されており、各ヒンジ軸は、対応する小板が真っ直ぐな平面状である場合に、ヒンジ軸と重なる仮想線が前記発光点を通って延在するように、配向されている、請求項48に記載のリソグラフィ装置。
- 前記小板の各々はスロットを備え、スロットは、対応する小板が真っ直ぐな平面状である場合に、スロットの長手方向と重なる仮想線が前記発光点を通って延在するように、配向されている、請求項52に記載のリソグラフィ装置。
- 請求項48に記載のリソグラフィ装置によって製造されるデバイス。
- リソグラフィ装置の照明システム内で使用する汚染物トラップシステムであって、
複数の小板を有する第1汚染物トラップと、複数の小板を有する第2汚染物トラップとを備え、第1および第2汚染物トラップは、使用中、第1および第2汚染物トラップの外にある所定の点から発光されるいくらかの光が第1および第2汚染物トラップを通って伝播できるように、位置合わせされており、第1汚染物トラップは、第2汚染物トラップに対して、前記所定の点を通って実質的に延在する仮想線を中心に回転でき、
使用中、前記放射ビームが前記第1および第2汚染物トラップを出る際に前記放射ビーム内に実質的に所定の非均一性を存在するように構成されている、汚染物トラップシステム。 - 前記第1および第2汚染物トラップは、使用中、前記放射ビームが前記第1および第2汚染物トラップを出る際に前記放射ビーム内に実質的に所定の非均一性を存在するように構成されており、前記照明システムには、反射素子の第1セットと、反射素子の第2セットとが設けられており、第1セットの各反射素子は、前記第1および第2汚染物トラップの下流においての前記放射ビームの一部を第2セットの反射素子に反射するように構成され、第2セットの各反射素子は、前記放射ビームをさらに前記パターニングデバイスへの光学経路に反射するように構成され、各反射素子が所定の位置および形状を有することによって、使用中、前記放射ビームの前記所定の非均一性を低減できる、請求項55に記載の汚染物トラップシステム。
- 前記第1および第2汚染物トラップの一方の前記小板は、前記第1および第2汚染物トラップの他方の前記小板と数および/角分布の点で異なる、請求項55に記載の汚染物トラップシステム。
- 前記第1および/または第2汚染物トラップは、中心ゾーンと周辺ゾーンとを有し、中心ゾーンと周辺ゾーンとを有する前記第1および/または第2汚染物トラップの前記小板は、周辺ゾーンを通って実質的に外側へ延在し、中心ゾーンと周辺ゾーンとを有する前記第1および/または第2汚染物トラップの前記小板の各々は、中心ゾーンに向けられたコンポーネントに対する法線を有する、請求項55に記載の汚染物トラップシステム。
- 前記第1および/または第2汚染物トラップの前記小板の各々は、ヒンジ軸にてヒンジ連結されており、各ヒンジ軸は、対応する小板が真っ直ぐな平面状である場合に、ヒンジ軸と重なる仮想線が前記発光点を通って延在するように、配向されている、請求項55に記載のトラップシステム。
- 前記小板の各々はスロットを備え、スロットは、対応する小板が真っ直ぐな平面状である場合に、スロットの長手方向と重なる仮想線が前記発光点を通って延在するように、配向されている、請求項59に記載のトラップシステム。
- 照明システムを使用して、実質的に発光点から発光される放射ビームを調整する工程と、
複数の小板を有する第1汚染物トラップと複数の小板を有する第2汚染物トラップとを備えるトラップシステムを使用して、前記照明システム内の汚染粒子をトラップする工程であって、第1および第2汚染物トラップは、前記発光点から発光されるいくらかの光が第1および第2汚染物トラップを通って伝播できるように、位置合わせされている、工程と、
前記第1汚染物トラップを、前記第2汚染物トラップに対して、前記発光点を通って実質的に延在する仮想線を中心に回転させる工程と、
前記第1および第2汚染物トラップを出る前記放射ビーム内の非均一性を低減する工程と、
を備える、デバイス製造方法。 - 前記放射ビームが前記第1および第2汚染物トラップを出る最中に、前記放射ビーム内に所定の非均一性を与える工程と、
前記第1および第2汚染物トラップの下流においての前記放射ビームを反射素子の第1セットに反射する工程と、
反射素子の前記第1セットの下流においての前記放射ビームを反射素子の第2セットに反射する工程であって、各反射素子が所定のサイズおよび/または形状を有することによって、前記所定の非均一性を低減できる、工程と、
をさらに備える、請求項61に記載のデバイス製造方法。 - 請求項61に従って製造されるデバイス。
- 実質的に発光点から発光される放射ビームを調整するように構成された照明システムを備えており、
前記照明システムは汚染物トラップシステムを備え、トラップシステムは、中心ゾーンと周辺ゾーンとを有する汚染物トラップを備え、トラップは、周辺ゾーンを通って実質的に外側へ延在する複数の小板を備え、小板の各々は、ヒンジ軸でヒンジ連結されており、各ヒンジ軸は、対応する小板が真っ直ぐな平面状である場合に、ヒンジ軸と重なる仮想線が前記発光点を通って延在するように、配向されている、リソグラフィ装置。 - 前記小板の各々はスロットを備え、スロットは、対応する小板が真っ直ぐな平面状である場合に、スロットの長手方向と重なる仮想線が前記発光点を通って延在するように、配向されている、請求項64に記載のリソグラフィ装置。
- 前記小板の各々は、前記発光点を通って延在する仮想面と重なる、請求項64に記載のリソグラフィ装置。
- 前記小板の各々は、前記中心ゾーンに向けられたコンポーネントに対する法線を有する、請求項66に記載のリソグラフィ装置。
- 前記中心ゾーンは回転軸を備え、回転軸を中心に前記複数の小板が回転可能であり、回転軸は、前記発光点を実質的に通って延在する仮想線と重なる、請求項64に記載のリソグラフィ装置。
- 前記トラップシステムは複数の汚染物トラップを備える、請求項64に記載のリソグラフィ装置。
- 前記複数の小板は前記中心ゾーンに対して回転対称性を有する、請求項64に記載のリソグラフィ装置。
- 前記汚染物トラップには、それを回転させるための駆動機構が設けられている、請求項64に記載のリソグラフィ装置。
- 前記駆動機構は前記中心ゾーンの外に位置する、請求項71に記載のリソグラフィ装置。
- 前記トラップシステムは、複数の小板を有する第1汚染物トラップと、複数の小板を有する第2汚染物トラップとを備え、第1および第2汚染物トラップは、前記発光点から発光されるいくらかの光が第1および第2汚染物トラップを通って伝播できるように、位置合わせされており、第1汚染物トラップは、第2汚染物トラップに対して、前記発光点を通って実質的に延在する仮想線を中心に回転できる、請求項64に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第1または第2汚染物トラップの前記複数の小板は、前記第1および第2汚染物トラップの他方の前記複数の小板と数および/角分布の点で異なり、それによって、いずれの回転位置においても、前記第1および第2汚染物トラップの一方の1つ以上の前記小板が、前記第1および第2汚染物トラップの他方を通過した放射を遮断できる、請求項73に記載のリソグラフィ装置。
- 前記放射ビームの断面にパターンを付けてパターン付き放射ビームを形成できるパターニングデバイスをさらに備えており、
前記照明システムは、前記パターニングデバイスの上流においての前記放射ビームの非均一性を低減するように構成されている、請求項73に記載のリソグラフィ装置。 - 前記第1および第2汚染物トラップは、使用中、前記放射ビームが前記第1および第2汚染物トラップを出る際に前記放射ビーム内に実質的に所定の非均一性が存在するように構成されており、前記照明システムには、反射素子の第1セットと、反射素子の第2セットとが設けられており、第1セットの各反射素子は、前記第1および第2汚染物トラップの下流においての前記放射ビームの一部を第2セットの反射素子に反射するように構成され、第2セットの各反射素子は、前記放射ビームをさらに前記パターニングデバイスへの光学経路に反射するように構成され、各反射素子が所定の位置および形状を有することによって、使用中、前記放射ビームの前記所定の非均一性を低減できる、請求項75に記載のリソグラフィ装置。
- 請求項64に記載のリソグラフィ装置によって製造されるデバイス。
- リソグラフィ装置の照明システム内で使用される汚染物トラップシステムであって、
中心ゾーンと周辺ゾーンとを有する汚染物トラップを備えており、
トラップは、周辺ゾーンを通って実質的に外側へ延在する複数の小板を備え、小板の各々は、ヒンジ軸にてヒンジ連結されており、各ヒンジ軸は、対応する小板が真っ直ぐな平面状である場合に、ヒンジ軸と重なる仮想線が所定の点を通って延在するように、配向されており、所定の点は、前記リソグラフィ装置の発光点に相当するように構成されている、
汚染物トラップシステム。 - 前記小板の各々はスロットを備え、スロットは、対応する小板が真っ直ぐな平面状である場合に、スロットの長手方向と重なる仮想線が前記所定の点を通って延在するように、配向されている、請求項78に記載の汚染物トラップシステム。
- 前記中心ゾーンは回転軸を備え、回転軸を中心に前記複数の小板が回転可能であり、回転軸は、前記所定の点を実質的に通って延在する仮想線と重なる、請求項79に記載の汚染物トラップシステム。
- 前記汚染物トラップには、それを回転させるための駆動機構が設けられている、請求項80に記載の汚染物トラップシステム。
- 前記駆動機構は前記中心ゾーンの外に位置する、請求項81に記載の汚染物トラップシステム。
- 複数の汚染物トラップを備える、請求項78に記載の汚染物トラップシステム。
- 前記複数の小板は前記中心ゾーンに対して回転対称性を有する、請求項78に記載の汚染物トラップシステム。
- 前記小板の各々は、前記所定の点を通って実質的に延在する仮想面に重なる、請求項78に記載の汚染物トラップシステム。
- 前記小板の各々は、前記中心ゾーンに向けられたコンポーネントに対する法線を有する、請求項85に記載の汚染物トラップシステム。
- 複数の小板を有する第1汚染物トラップと、複数の小板を有する第2汚染物トラップとを備えており、
第1および第2汚染物トラップは、使用中、前記所定の点から発光されるいくらかの光が第1および第2汚染物トラップを通って伝播できるように、位置合わせされており、第1汚染物トラップは、第2汚染物トラップに対して、前記所定の点を通って実質的に延在する仮想線を中心に回転できる、請求項78に記載の汚染物トラップシステム。 - 前記第1または第2汚染物トラップの前記複数の小板は、前記第1および第2汚染物トラップの他方の前記複数の小板と数および/角分布の点で異なり、それによって、いずれの回転位置においても、前記第1および第2汚染物トラップの一方の前記小板の1つが、前記第1および第2汚染物トラップの他方を通過した放射を遮断できる、請求項87に記載の汚染物トラップシステム。
- 前記汚染物トラップシステムは、前記放射ビームが前記第1および第2汚染物トラップを出る際に前記放射ビーム内に実質的に所定の非均一性が存在するように構成されている、請求項87に記載の汚染物トラップシステム。
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