JP2004165639A - リソグラフィ投影装置及び前記装置で使用する微粒子バリヤ - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明は、フォイル・トラップを有する、EUVリソグラフィのためのリソグラフィ投影装置である。このフォイル・トラップは、EUV放射を妨害することなく通過させるために、EUV源の背後に開放構造を形成する。フォイル・トラップは、光軸回りに回転可能に構成されている。フォイル・トラップを回転させることによって、EUV放射の伝搬方向を横切る衝撃をEUVビーム中に存在する破片上に伝達することができる。この破片はフォイル・トラップを通過することはない。このようにして、フォイル・トラップ下流側の光学構成要素上の破片の量を減らす。
【選択図】図4
Description
この装置は、
放射源によって放出される放射から、放射の投影ビームを形成する放射システムと、
投影ビームによって照射され、前記投影ビームをパターン形成するパターン形成手段を保持するように構成した支持構造と、
基板を保持するように構成した基板テーブルと、
パターン形成手段の照射部分を基板の標的部分上に描画するように構成かつ配置した投影システムと、
放射源から発する材料が光軸に沿って伝搬するのを防止するための、放射源近傍のチャンネル手段とを備え、このチャンネル手段が、中心と、光軸を横切る幅方向及び光軸の方向に概ね延長する長さ方向を有する幾つかの細長いチャンネルとを備える。
マスク。マスクの概念はリソグラフィではよく知られているが、そのマスクの種類には、バイナリ、交番位相シフト、及び減衰位相シフトばかりでなく様々なハイブリッド型のマスクなどが含まれる。このようなマスクを放射ビーム中に配置すると、マスク上のパターンにしたがって、マスクに当たる放射を選択的に透過(透過型マスクの場合)させるか又は反射(反射型マスクの場合)させる。マスクの場合は、その支持構造は一般にマスク・テーブルであり、それによって入射する放射ビーム中の望ましい位置にマスクを確実に保持するか、又は所望であれば、マスクをビームに対して移動することもできる。
プログラム可能なミラー・アレイ。このようなデバイスの一例は、粘弾性の制御層及び反射表面を有するマトリックスアドレス可能表面である。このような装置の背景にある基本原理は、(例えば)反射表面のアドレスによる領域が、入射光を回折光として反射し、他方でアドレスによらない領域が入射光を非回折光として反射するというものである。適切なフィルタを使用すると、前記非回折光を反射ビームから濾光して、回折光のみを後に残すことが可能であり、このような方式で、マトリックスアドレス可能表面のアドレシングパターンにしたがってビームをパターン形成する。プログラム可能なミラー・アレイのもう1つの代替実施例は、微小ミラーのマトリックス配置を使用し、適切な局在電界を印加するか又は圧電駆動手段を用いることによって、これらのミラーをそれぞれ個々に軸回りに傾斜させる。同様に、これらのミラーはマトリックス駆動が可能であり、駆動ミラーは、入射する放射ビームをアドレスによらないミラーへ異なる方向に反射する。このような方式で、マトリックスアドレス可能ミラーのアドレシングパターンにしたがって反射ビームをパターン形成する。必要なマトリックスアドレシングは、適切な電子手段を使用して行うことができる。以上に説明した両方の場合では、パターン形成手段が、1つ又は複数のプログラム可能なミラー・アレイを備えることができる。ここで言及したミラー・アレイのさらに多くの情報は、例えば、参照により本明細書に組み入れる米国特許第5,296,891号及び第5,523,193号並びにPCT特許出願第WO98/38597号及び第WO98/33096号に見いだすことができる。プログラム可能なミラー・アレイの場合は、前記支持構造が、例えば、固定式又は必要に応じて着脱可能なフレーム又はテーブルとして実施可能である。
プログラム可能なLCDアレイ。このような構造の一例が、参照により本明細書に組み入れる米国特許第5,229,872号に挙げてある。上記のように、この場合も、支持構造は、例えば、固定式又は必要に応じて着脱可能なフレーム又はテーブルとして実施可能である。
簡略にするために、以下の本文を、幾つかの箇所でマスク及びマスク・テーブルに関係する例に具体的に振り向けるが、そのような場合に論じられている一般原理は、以上に記載したパターン形成の広義の文脈で理解されるべきである。
マスクMA(例えば、レチクル)を保持するためのマスク・ホルダを備え、要素PLに対してマスクを正確に位置決めする第1位置決め手段PMに連結されている第1物体テーブル(マスク・テーブル)MTと、
基板W(例えば、レジストを塗布したシリコン・ウェハ)を保持するための基板ホルダを備え、要素PLに対して基板を正確に位置決めする第2位置決め手段PWに連結されている第2物体テーブル(基板テーブル)WTと、
基板Wの標的部分C(例えば、1つ又は複数のダイ)上にマスクMAの照射された部分を描画する投影システム(「レンズ」)PLとを備える。
ここで図示するように、本装置は反射型である(すなわち、反射型マスクを有する)。しかし一般的には、例えば、透過型でもよい(すなわち、透過型マスクを有する)。別法として、本装置は、上で言及した種類のプログラム可能なミラー・アレイなどの別種類のパターン形成手段を使用することもできる。
1.ステップ方式では、マスク・テーブルMTを基本的に静止状態に保ち、マスク描画全体を1回で(すなわち、単一「フラッシュ」)標的部分C上に投影する。次いで、基板テーブルWTをx及び/又はy方向に移動して、異なる標的部分CをビームPBによって照射することができる。
2.スキャン方式では、所与の標的部分Cを単一「フラッシュ」で露光しないことを除いて本質的には同じモデルを適用する。マスク・テーブルMTを静止しないで、それを速度vで所与の方向(いわゆる「走査方向」、例えば、y方向)に移動可能にして、投影ビームPBにマスク描画上を走査させ、並行して基板テーブルWTを速度V=Mvで同一又は逆方向に同時に移動する。前式でMはレンズPLの倍率である(典型的には、M=1/4又は1/5である)。このようにして、解像度を損なわずに、相対的に大きな標的部分Cを露光することができる。
2 放射システム
3 放射源集光器モジュール又は放射ユニット
4 照明光学素子ユニット
5 投影光学素子ユニット
6、6’ EUV放射源
7 放射源チャンバ
8 集光器チャンバ
9 ガス・バリヤ構造又は「フォイル・トラップ」
10 放射集光器
11 格子分光フィルタ
12 仮想放射源
13、14 垂直入射反射器
15 レチクル又はマスク・テーブル
16 投影ビーム
17 パターン形成ビーム
18、19 反射要素
20 ウェハ・ステージ又は基板テーブル
21、22、23 入れ子式反射器要素
41 層板構造
42 バリヤ・セグメント
43、43’ バリヤ又はチャンネル・アレイ
44 バリヤの中心
45 汚染微粒子
46、46’ 駆動手段
47 バリヤ組立体
C 標的部分
IL 照明システム(照明器)
IF 干渉測定手段
LA 放射源
M1、M2 マスク位置合せマーク
MA マスク
MT マスク・テーブル
O 光軸
P1、P2 基板位置合せマーク
PB 投影ビーム
PL 投影システム(「レンズ」)
PM 第1位置決め手段
PW 第2位置決め手段
W 基板
WT 基板テーブル
Claims (14)
- 放射源(6)によって放出される放射から、放射の投影ビーム(6’)を形成する放射システム(3、4)と、
投影ビームによって照射され、前記投影ビームをパターン形成するパターン形成手段を保持するように構成した支持構造(15)と、
基板を保持するように構成した基板テーブル(20)と、
パターン形成手段の照射部分を基板の標的部分上に描画するように構成かつ配置した投影システム(5)と、
放射源(6)から発する材料が光軸(O)に沿って伝搬するのを防止するための、放射源(6)近傍のチャンネル手段(9、43)とを備え、チャンネル手段(43)が、中心(44)と、光軸(O)を横切る幅方向及び光軸(O)の方向に概ね延長する長さ方向を有する幾つかの細長いチャンネル(41)とを備える、リソグラフィ投影装置であって、
チャンネル手段(43)が光軸(O)回りに回転可能であり、リソグラフィ投影装置が、チャンネル手段(43)に連結した、チャンネル手段(43)を光軸(O)回りに回転する駆動手段(46)を備えることを特徴とするリソグラフィ投影装置。 - チャンネル手段(43)の中心(44)が光軸(O)上に位置することを特徴とする、請求項1に記載のリソグラフィ投影装置。
- チャンネル部材(41)が放射源(6)上に合焦されていることを特徴とする、請求項1又は2に記載のリソグラフィ投影装置。
- チャンネル手段(43)の壁部材(41)が板形状であることを特徴とする、請求項1、2、又は3に記載のリソグラフィ投影装置。
- 光軸(O)に近接して位置するチャンネル部材(41)が、光軸(O)に直交する平面内にハニカム構造を形成し、光軸(O)に平行に又は実質的に平行に延長することを特徴とする、前記請求項のいずれかに記載のリソグラフィ投影装置。
- 駆動手段(46)が、1秒間に1から50回転、好ましくは1から10回転の速度でチャンネル手段(43)を回転するようになされていることを特徴とする、前記請求項のいずれかに記載のリソグラフィ投影装置。
- 補充的なチャンネル手段がチャンネル手段(43)の近傍に取り付けられていることを特徴とする、前記請求項のいずれかに記載のリソグラフィ投影装置。
- 補充的なチャンネル手段が、前記チャンネル手段(43)に対して実質的に同軸に取り付けられていることを特徴とする、請求項7に記載のリソグラフィ投影装置。
- 前記補充的なチャンネル手段が、前記光軸(O)に対して回転可能に取り付けられていることを特徴とする、請求項7又は8に記載のリソグラフィ投影装置。
- 前記補充的なチャンネル手段が、前記チャンネル手段(43)の回転方向と逆の回転方向を有することを特徴とする、請求項9に記載のリソグラフィ投影装置。
- 前記補充的なチャンネル手段が、前記チャンネル手段(43)の回転方向と実質的に同じ回転方向を有し、さらにチャンネル手段(43)の回転速度とは異なる回転速度を有することを特徴とする、請求項9に記載のリソグラフィ投影装置。
- 前記補充的なチャンネル手段が回転しないように取り付けられていることを特徴とする、請求項7又は8に記載のリソグラフィ投影装置。
- 光軸(O)を横切る幅方向と概ね光軸(O)の方向に延長する長さ方向を有する幾つかの細長い壁部材(41)を備え、チャンネル手段(43)が光軸(O)回りに回転可能であり、チャンネル手段組立体が、チャンネル手段に連結した、光軸(O)回りにチャンネル手段(43)を回転する駆動手段(46)を備えることを特徴とする、前記請求項のいずれかに記載のリソグラフィ投影装置で使用するためのチャンネル手段組立体。
- 放射源(6)によって放出される放射から、放射の投影ビーム(6’)を形成する放射システム(3、4)を提供するステップと、
投影ビームによって照射され、前記投影ビームをパターン形成するパターン形成手段を保持するように構成した支持構造(15)を提供するステップと、
基板を保持するように構成した基板テーブル(20)を提供するステップと、
パターン形成手段の照射部分を基板の標的部分上に描画するように構成かつ配置した投影システム(5)を提供するステップと、
放射源(6)から発する材料が光軸(O)に沿って伝搬するのを防止するための、放射源近傍のチャンネル手段(9、43)を提供するステップとを備え、チャンネル手段(43)が、中心(44)と、光軸(O)を横切る幅方向及び光軸(O)の方向に概ね延長する長さ方向を有する幾つかの細長い壁部材(41)とを備える、リソグラフィ工程によって集積構造を製造する方法であって、
光軸(O)回りにチャンネル手段(43)を回転し、リソグラフィ投影装置(1)が、チャンネル手段(43)に連結した、光軸(O)回りにチャンネル手段(43)を回転する駆動手段(46)を備えることを特徴とする方法。
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