JP2009537981A - 汚染障壁およびリソグラフィ装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 回転可能汚染障壁(1)が開示される。障壁は、EUV放射源(2)から生じる汚染物質を捕捉するための複数の緊密にパッキングされたブレード(5)を含む。ブレードは、汚染障壁の中心回転軸に対して放射状に配向される。汚染障壁は、中心回転軸に対して内側区分(7)と外側区分(8)に区分される。これにより、より高い回転速度が、汚染障壁で損なわれることなく実現できる。
【選択図】 図2
Description
Claims (12)
- EUV放射システム中で使用するための回転可能汚染障壁であって、前記汚染障壁がEUV放射源から生じる汚染物質を捕捉するための複数の緊密にパッキングされたブレードを備え、前記ブレードが前記汚染障壁の中心回転軸に対して放射状に配向され、前記汚染障壁は前記中心回転軸に対して内側区分と外側区分とに区分される、回転可能汚染障壁。
- 前記内側区分および前記外側区分を接続するコネクタをさらに備える、請求項1に記載の回転可能汚染障壁。
- 前記内側区分が、回転する内側シャフトに取り付けられた複数の緊密にパッキングされた内側ブレードを備え、前記外側区分が前記内側区分を備える中空外側シャフトを備え、複数の緊密にパッキングされた外側ブレードが前記中空外側シャフトに接続されている、請求項1に記載の回転可能汚染障壁。
- 前記内側シャフトおよび前記外側シャフトがスポークによって接続された、請求項3に記載の回転可能汚染障壁。
- 前記内側区分および前記外側区分が切頭円錐として形成された、請求項1に記載の回転可能汚染障壁。
- 前記内側円錐が、頂点角度30度〜40度の間の範囲にあり、前記外側円錐が、頂点角度45度〜55度の間の範囲にある、請求項5に記載の回転可能汚染障壁。
- 内側区分円周の周囲のホイルの数が外側シャフト円周の周囲のホイルの数よりも少ない、請求項1に記載の回転可能汚染障壁。
- 前記内側および外側区分が異なる回転速度で回転する、請求項7に記載の回転可能汚染障壁。
- 前記内側区分の前記回転速度が前記外側区分の前記回転速度より速い、請求項8に記載の回転可能汚染障壁。
- 前記外側区分が、遠心分離される物質の流れを軸端から前記第1の区分を離れるように案内する案内構造体を備える、請求項1に記載の回転可能汚染障壁。
- 前記案内構造体が、デブリを前記第1の区分から前記外側シャフトを通って遠心分離されるように案内するための、前記外側シャフト中の開口を備える、請求項10に記載の回転可能汚染障壁。
- EUV放射ビームを供給するためのEUV放射源と、前記EUV放射源から生じる汚染物質を捕捉するための複数の緊密にパッキングされたブレードを備える回転可能汚染障壁であって、前記ブレードが前記汚染障壁の中心回転軸に対して放射状に配向され、前記汚染障壁が前記中心回転軸に対して内側区分と外側区分に区分される汚染障壁とを備える放射システムと、
パターニングデバイスを支持するように構成された支持体であって、前記パターニングデバイスが断面状のパターンを備える放射の前記ビームを与えて、パターニングされた放射ビームを形成することができる、支持体と、
基板を支えるように構成された基板テーブルと、
前記基板のターゲット部分の上に前記パターニングされた放射ビームを投影するように構成された投影システムと、を備えるリソグラフィ装置。
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