JP6065710B2 - 回転式ホイルトラップ及びこのホイルトラップを用いた光源装置 - Google Patents
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- 239000011888 foil Substances 0.000 title claims description 333
- 238000003780 insertion Methods 0.000 claims description 38
- 230000037431 insertion Effects 0.000 claims description 38
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 31
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 18
- 238000000605 extraction Methods 0.000 claims description 10
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 2
- 238000005219 brazing Methods 0.000 description 8
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 5
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 4
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 4
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 3
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002826 coolant Substances 0.000 description 2
- 239000003779 heat-resistant material Substances 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001182 Mo alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000037237 body shape Effects 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- -1 for example Substances 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
このような方法を採用するEUV光源装置は、高温プラズマの生成方式により、LPP(LaserProduced Plasma:レーザ生成プラズマ)方式EUV光源装置とDPP(DischargeProduced Plasma:放電生成プラズマ)方式EUV光源装置とに大きく分けられる。
図5は、特許文献1記載されたDPP方式のEUV光源装置を簡易的に説明するための図である。
EUV光源装置は、放電容器であるチャンバ1を有する。チャンバ1内には、一対の円板状の放電電極2a,2bなどが収容される放電部1aと、ホイルトラップ5や集光光学手段であるEUV集光鏡9などが収容されるEUV集光部1bとを備えている。
1cは、放電部1a、EUV集光部1bを排気して、チャンバ1内を真空状態にするためのガス排気ユニットである。
2a,2bは円盤状の電極である。電極2a,2bは所定間隔だけ互いに離間しており、それぞれ回転モータ16a,16bが回転することにより、16c,16dを回転軸として回転する。
14は、波長13.5nmのEUV光を放射する高温プラズマ原料である。高温プラズマ原料14は、加熱された溶融金属(meltedmetal)例えば液体状のスズ(Sn)であり、コンテナ15a、15bに収容される。
電極2a,2bに、電力供給手段3からパルス電圧が印加された後、高温プラズマ原料14がレ−ザ光17の照射により気化されることにより、両電極2a,2b間にパルス放電が開始し、高温プラズマ原料14によるプラズマPが形成される。放電時に流れる大電流によりプラズマが加熱励起され高温化すると、この高温プラズマPからEUVが放射される。
高温プラズマPから放射したEUV光は、EUV集光鏡9により集光鏡9の集光点(中間集光点ともいう)fに集められ、EUV光取出部8から出射し、EUV光源装置に接続された点線で示した露光機40に入射する。
図6は、LPP方式のEUV光源装置を簡易的に説明するための図である。
LPP方式のEUV光源装置は、光源チャンバ1を有する。光源チャンバ1には、EUV放射種である原料(高温プラズマ原料)を供給するための原料供給ユニット10および原料供給ノズル20が設けられている。原料供給ノズル20からは、原料として、例えば液滴状のスズ(Sn)が放出される。
光源チャンバ1の内部は、真空ポンプ等で構成されたガス排気ユニット1cにより真空状態に維持されている。
また、高温プラズマ生成用のレーザ光22は、迷光としてEUV光取出部に到達することもある。よって、EUV光取出部の前方(高温プラズマ側)にEUV光を透過して、レーザ光22を透過させない不図示のスペクトル純度フィルタを配置することもある。
上述したEUV光源装置において、高温プラズマPからは種々のデブリが発生する。それは、例えば、高温プラズマPと接する金属(例えば、一対の円板状の放電電極2a,2b)が上記プラズマによってスパッタされて生成する金属粉等のデブリや、高温プラズマ原料14であるSnに起因するデブリである。
これらのデブリは、プラズマの収縮・膨張過程を経て、大きな運動エネルギーを得る。すなわち、高温プラズマPから発生するデブリは高速で移動するイオンや中性原子であり、このようなデブリはEUV集光鏡9にぶつかって反射面を削ったり、反射面上に堆積したりして、EUV光の反射率を低下させる。
図7に、特許文献2に示されるようなホイルトラップの概略構成を示す。
ホイルトラップ5は、ホイルトラップ5の中心軸(図7ではEUV光の光軸に一致)を中心として、半径方向に放射状に配置された、複数の薄膜(ホイル)または薄い平板(プレート)(以下薄膜と平板を合せて「ホイル5a」と呼ぶ)と、この複数のホイル5aを支持する、同心円状に配置された中心支柱5bとリング状支持体である外側リング5cのとから構成されている。
ホイル5aは、その平面がEUV光の光軸に平行になるように配置され支持されている。そのため、ホイルトラップ5を極端紫外光源(高温プラズマP)側から見ると、中心支柱5bと外側リング5cの支持体の部分を除けば、ホイル5aの厚みしか見えない。したがって、高温プラズマPからのEUV光のほとんどは、ホイルトラップ5を通過することができる。
なお、ホイルトラップは、高温プラズマの近くに配置されるので、受ける熱負荷も大きい。よって、ホイルトラップを構成するホイルやコーンは、例えば、モリブデン(Mo)などの高耐熱材料から形成される。
近年、特許文献4に記載されているように、ホイルトラップを2つ、直列に設けるとともに、一方のホイルトラップを回転させる構成が知られている。
図8に概略構成を示す。図8に示す例では、高温プラズマPに近い方のホイルトラップが回転する機能を有する。以下、この回転機能を有するホイルトラップを回転式ホイルトラップ、回転せず固定型のホイルトラップを固定式ホイルトラップとも言う。
回転式ホイルトラップ4の各ホイル4aは、同図のろう付け部分4bにおいて、コーン4cに例えばろう付け等で固定されており、各ホイル4aはコーン4cの回転軸を中心に放射状に伸びる。なお、回転式ホイルトラップ4は、コーン4cに固定されていればよい。
よって、回転式ホイルトラップ4は、コーン4c内部に冷却管を設けて、当該冷却管に水などの冷媒を流すことによりコーン4cを冷却している。なお、ホイル4aはろう付け等によりコーンと熱的に接続されているので、コーン4cを冷却することにより、ホイル4aも冷却される。
なお、必要に応じて固定式ホイルトラップのコーンも冷却してもよい。
回転ホイルトラップ4の回転数は、回転動作の開始時点より徐々に増大し、予め定められた所定の回転数である定常回転数に到達する。なお、所定の回転数とは、回転式ホイルトラップ4が高温プラズマから飛来するデブリを効果的に捕捉するように、実験的に求めた回転数である。
よって、回転式ホイルトラップは、コーン4c内部に冷却管を設けて、当該冷却管に水などの冷媒を流すことによりコーンを冷却している。なお、ホイル4aはろう付け等によりコーン4cと熱的に接続されているので、コーン4cを冷却することにより、ホイルも冷却される。
回転ホイルトラップ4の外周部分に外側リング6を設けた場合、この遠心力により移動する液化したデブリは外側リング6に到達する。外側リング6に到達した液化したデブリは、そのまま外側リング6に堆積したり、外側リング6に衝突後跳ね返り不所望な方向に移動してしまう。その結果、高温プラズマから放出されるEUVの一部を遮光してしまうという不具合などが発生するおそれもある。
これにより、回転数が共振を起こす回転数に到達したとき発生する上記共振による複数枚のホイルの振動や当該振動に起因するノイズを抑制することができ、また、外側リングの平面方向は、ホイルトラップの回転軸に対してほぼ垂直方向となるように設定されるので、各ホイルに付着したデブリは回転式ホイルトラップに滞留することがない。
すなわち、本発明においては、以下のようにして前記課題を解決する。
(1)プラズマと、該プラズマから放射される光を集光する集光ミラーの間に配置され、主軸から放射状に伸びる複数のホイルを備え、上記光は通過するが上記プラズマからのデブリは捕捉するホイルトラップであって、上記複数のホイルは、主軸上に配置された中心支柱により支持され、上記中心支柱と連結した回転機構により上記中心支柱を回転軸として回転可能に構成されている回転式ホイルトラップにおいて、各ホイルの周縁部であって各ホイルの長手方向の辺と接する部分に、各ホイル同士を相互に固定する円板形状である円環形状の外側リングを設ける。当該円板形状の円環形状の外側リングの平面方向は回転軸に対してほぼ垂直方向になるように設定され、また、当該外側リングはプラズマと集光ミラーから定まる当該集光ミラーによる集光範囲(集光角)外に設けられる。
(2)上記(1)において、上記外側リングは複数設けられる。例えば、該複数の外側リングを、少なくとも上記ホイルもしくはその一部を挟むように、該ホイルのプラズマ側及び集光ミラー側に対向させて設ける。
(3)上記(1)(2)において、各ホイルの外側リングが固定される位置には主軸方向に突出する突起部がそれぞれ設けられ、外側リングの上記突起部に対応する位置には、挿入穴部が設けられ、上記外側リングの各挿入穴部に挿入され当該各挿入穴部より外側へ突出した上記ホイルの突起部に、一部が曲げられた曲げ部が構成され、上記外側リングと上記各ホイルとが固定される。
(4)上記(1)(2)(3)において、各ホイルの外側リングが固定される位置に、各ホイルが放射状に伸びる放射方向(半径方向)に突出する突起部がそれぞれ設けられ、上記突起部の突起方向と垂直な2つの辺にそれぞれ各ホイル同士を相互に固定する円環形状の第1の外側リングと第2の外側リングが当該突起部を挟むように設けられる。
(5)上記(4)において、上記突起部の2つの辺のそれぞれに矩形状の切り欠き部が設けられ、上記第1の外側リングと第2の外側リングのそれぞれの内周側及び外周側の辺であって、上記切り欠き部の放射方向外側と放射方向内側の各辺に対応する位置に、切り欠き溝が設けられ、上記第1および第2の外側リングに設けられた上記各切り欠き溝に、各ホイルの上記切り欠き部の放射方向外側と放射方向内側の各辺を挿入させることにより上記第1および第2の外側リングが上記ホイル上に位置決めされる。
また、上記第1および第2の外側リングには(上記切り欠き溝が形成された部分の間の領域の一部には、)互いに対向する挿入穴部が設けられ、この対向する挿入穴部において、一方の外側リングの挿入穴部から他方の外側リングの挿入穴部を貫通するようにクリップが挿入されていて、該クリップにより上記第1および第2の外側リングが固定される。
(6)上記(1)(2)(3)(4)(5)において、上記ホイルの厚さは、0.2−0.5mmの範囲に規定されている。
(7)上記(1)(2)(3)(4)(5)(6)の回転ホイルトラップを、容器と、上記容器内にプラズマ原料を供給するプラズマ原料供給手段と、上記プラズマ原料を加熱して励起しプラズマを発生させる一対の放電電極からなる放電部材と、上記プラズマから放射される光を集光する集光ミラーと、上記放電部材と上記集光ミラーとの間に設けられるホイルトラップと、上記集光された光を取り出す上記容器に形成された光取り出し部と、上記容器内を排気し容器内の圧力を調整する排気手段とを備えた光源装置に適用する。
(8)上記(1)(2)(3)(4)(5)(6)の回転ホイルトラップを、容器と、上記容器内にプラズマ原料を供給するプラズマ原料供給手段と、上記プラズマ原料にレーザビームを照射して当該プラズマ原料を加熱して励起し高温プラズマを発生させるレーザビーム照射手段と、上記プラズマから放射される光を集光する集光ミラーと、上記高温プラズマと上記集光ミラーとの間に設けられるホイルトラップと、上記集光された光を取り出す上記容器に形成された光取り出し部と、上記容器内を排気し容器内の圧力を調整する排気手段とを備えた光源装置に適用する。
(1)各ホイルの周縁部であって各ホイルの長手方向の辺と接する部分に、各ホイル同士を相互に固定する円環形状の外側リングを設けたので、共振が発生しても、複数枚のホイルの振動や当該振動に起因するノイズが抑制され、ホイルの振動によって発生する各ホイル同士の衝突による当該ホイルの破損等を回避することができる。
また、外側リングの平面方向を回転軸に対してほぼ垂直方向になるように設定したので、各ホイルに付着したデブリが回転式ホイルトラップに滞留せず、各ホイル上に付着して液化したデブリの流れが妨げられることがない。
(2)上記外側リングを複数設け、ホイルのブラズマ側及び集光ミラー側に対向させて配置することにより、径が大きな回転式ホイルトラップであっても各ホイル同士を相互に強固に固定することができ、ホイルの振動や当該振動に起因するノイズを抑制することができる。
(3)各ホイルの外側リングが固定される位置に主軸方向に突出する突起部をそれぞれ設け、外側リングの上記突起部に対応する位置に挿入穴部を設け、上記外側リングの各挿入穴部に、上記突起部を挿入して、各挿入穴部より外側へ突出した上記ホイルの突起部に、曲げ部を構成して外側リングと上記各ホイルとを固定することにより、各ホイルに対してろう付け等の溶接や接着を行うことなく外側リングを固定することができ、外側リングが破損した場合等において、外側ホイルを容易に交換することができる。
また、突起部の長さを、外側リングの挿入穴部の長さより短くし、挿入穴部内で突起部がホイルトラップの半径方向に移動可能としておくことにより、各ホイルが熱膨張しても、各ホイルは外側リングにより応力を受けず、熱膨張に起因する座屈が発生するのを防ぐことができる。
(4)各ホイルの外側リングが固定される位置に、各ホイルに、ホイルトラップの半径方向に突出する突起部をそれぞれ設け、突起部の突起方向と垂直な2つの辺に、各ホイル同士を相互に固定する円環形状の第1、第2の外側リングを、当該突起部を挟むように設けることにより、各ホイル同士を相互に強固に固定することができ、径が大きな回転式ホイルトラップであっても複数枚のホイルの振動や当該振動に起因するノイズを抑制することができる。
(5)突起部の2つの辺のそれぞれに矩形状の切り欠き部を設け、また、第1の外側リングと第2の外側リングのそれぞれの内周側及び外周側に切り欠き溝を設け、上記各切り欠き溝に、各ホイルの上記切り欠き部の放射方向外側と放射方向内側の各辺を挿入させて、第1および第2の外側リングを上記ホイル上に位置決めし、さらに、上記第1および第2の外側リングに互いに対向する挿入穴部を設け、この対向する挿入穴部にクリップを挿入して、各挿入穴部より外側へ突出したクリップに、曲げ部を構成して該クリップを第1および第2の外側リングを固定する構成とすることにより、外側リングを、各ホイルに対してろう付け等の溶接や接着を行うことなく固定することができ、外側リングが破損等した場合に、容易に交換することができる。
また、突起部に形成された矩形状の切り欠き部に対して、第1の外側リングと第2の外側リングが、ホイルトラップの半径方向に少し移動可能としておくことにより、各ホイルが熱膨張しても、各ホイルは外側リングにより応力を受けず、熱膨張に起因する座屈が発生するのを防ぐことができる。
(6)ホイルの厚さを、0.2−0.5mmの範囲にすることにより、各ホイルの熱変形等にともなうEUV光の透過率低下が起こりにくくなる。また、ホイル自体の厚みにより遮蔽されるEUV光も少なくすることができる。
図1に示す本発明の第1の実施例の回転式ホイルトラップ4の場合、2枚の外側リングが設けられ、外側リング6A,6Bの形状は、円環形状(同心円状の穴があいた円板形状)であり、回転式ホイルトラップ4の周縁部であって、各ホイル4aの長手方向の辺と接する部分に設けられている。また、外側リング6A,6Bの平面方向は、ホイルトラップ4の回転軸(主軸)に対してほぼ垂直方向となるように設定されている。なお、上記したホイルの長手方向の辺とは、ホイルトラップの回転軸から放射状に伸びる方向に対応する辺である。
すなわち、上記した液化したデブリは、外側リング6A,6Bに堆積することなく、各ホイル4aの外縁部から離脱する。そのため、本発明の回転式ホイルトラップ4によれば、高温プラズマから放出されるEUVの一部を遮光するといった不具合は回避される。
図2に示す回転式ホイルトラップ4は、各ホイル4aのEUV出射側周縁部に設けた突起部4dを2枚の外側リング6B1,6B2で挟み込んだ構造であるので、図1に示す回転式ホイルトラップより強固である。よって、大きな遠心力が回転式ホイルトラップ4に作用したとしても、外側リング6A,6B1,6B2によって固定されている各ホイル4aの変形等の不具合を抑制することができる。
図3(a)に示すように各ホイル4aの高温プラズマ側には、高温プラズマに向けて突出した突起部4eが設けられている。一方、外側リング6Aの上記突起部4eに対応する位置には、ホイル4aの枚数に応じた数の挿入穴部61が設けられる。
図3(a)(b)に示すように、外側リング6Aの各挿入穴部61に各ホイル4aの突起部4eを挿入することにより、外側リング6Aは各ホイル4aの高温プラズマ側の所定位置に位置決めされる。なお、この所定の位置とは、高温プラズマに対向する各ホイル4aの長手方向の辺上において、EUV集光鏡による集光範囲(集光角)外の領域に相当する位置である。
ホイル4aの突起部4eには、図3(a)に示すように切り込み41が設けられ、外側リング6Aへ突起部4eを挿入したのち、突起部4eの挿入穴部61より外側へ突出した部分の上記切り込み41部分を折り曲げて、図3(c)、図3(d)の拡大図に示すように、曲げ部42を構成する。
このような構成とすることにより、外側リング6Aは、各ホイル4aに対してろう付け等の溶接や接着を行うことなく、各ホイル4aに固定される。このように上記外側リング6Aは、溶接や接着等で固定されず上記曲げ部42によって固定されているので、上記外側リング6Aのみが破損した場合には容易に交換可能となる。
ホイルトラップは高温プラズマにより熱負荷を受け加熱され、各ホイル4aは熱膨張(コーンの中心軸からの放射状方向への線膨張)するが、上記構成とすることにより、各ホイル4aが熱膨張しても、上記各ホイル4aは外側リング6Aにより応力を受けず、熱膨張に起因する不所望な変形が発生しない。
上記したように、高温プラズマによりホイルトラップは熱負荷を受け加熱される。ここで高温プラズマに大きな電力が注入されると、ホイルトラップ4への入熱量が大きくなり、その結果、コーン部4cと接続された各ホイル4aにおいて大きな温度勾配が生じる。その結果として、各ホイル4a面内の熱膨張の差異により座屈と称する変形がホイル4aに生じる。
このことは、EUV光の少なくとも一部がホイルトラップを透過するのを妨げることとなり、結果としてEUV集光鏡の集光点である中間集光点に到達できるEUV光の量が減少する。発明者らの実験の結果、このようなホイル4aの座屈が発生しないような熱的な耐性を有するホイルトラップを構築するには、ホイル4aの厚みが0.2mm以上である必要があることが分かった。
なお、ホイル4aの厚みを0.5mm以上とするとホイル4aの厚み方向における断面積が大きくなり、同様にEUV光の一部のホイルトラップの透過が阻害するので、好ましくない。
この突起部4dの突起方向に対して垂直方向の突起部両側のそれぞれに、図4(b)に示すように矩形状の切り欠き部43が設けられている。なお、以下では、該切り欠き部43の上記半径方向のホイルトラップ内側の辺を内側辺43a、ホイルトラップ外側の辺を外側辺43bという。
上記外側リング6B1,6B2に設けられた上記各切り欠き溝62aに、各ホイル4aの上記切り欠き部43の内側辺43aを挿入し、また、上記各切り欠き溝62bに、上記切り欠き部43の外側辺43bを挿入することにより、図4(c)に示すように、外側リング6B1,6B2は、各ホイル4aのEUV出射側周縁部に設けられた突起部4dを挟むように、位置決めされる。
なお、この位置決めされた領域は、EUV出射側での各ホイル4aの長手方向の辺上において、EUV集光鏡による集光範囲(集光角)外の領域に相当する位置である。
図4(e)に示すように、外側リング6B1,6B2の切り欠き溝62a,62bに各ホイル4aの切り欠き部43の内側辺43a,外側辺43bを挿入したとき、外側リング6B1,6B2の各内側切り欠き溝62a及び各外側切り欠き溝62bの半径方向の端部(溝の底部)と、各ホイル4aの切り欠き部43の内側辺43a,外側辺43bとの間には、少し隙間ができるように構成されている。すなわち、外側リング6B1,6B2に対して、各ホイル4aの切り欠き部43の内側辺43a,外側辺43bは、上記半径方向に少し移動可能な遊びdが生じている。
このように構成することにより、各ホイル4aが熱膨張(コーンの中心軸からの放射状方向への線膨張)したとき、上記各ホイル4aは外側リング6B1,6B2により応力を受けないので、熱膨張に起因する座屈が発生しない。
図4(f)に示すように、T字型のクリップ7の外側リング6B1側の挿入穴部62aより外側へ突出した部分には、切り込み71が設けられ、図4(g)に示すようにクリップ7の挿入穴部62aより外側へ突出した部分を、上記切り込み71部分で折り曲げて曲げ部72を構成することにより、クリップ7は外側リング6B1と外側リング6B2に固定される。
このように構成することにより、外側リング6B1と6B2は、各ホイル4aに対してろう付け等の溶接を行うことなく、各ホイル4aを挟むように固定される。
1a 放電部
1b EUV集光部
1c ガス排気ユニット
2a,2b 放電電極
3 電力供給手段
4 回転式ホイルトラップ
4a ホイル
4b ろう付け部分
4c コ−ン(中心支柱)
4d 突起部
4e 突起部
41 切り込み
42 曲げ部
43 矩形状の切り欠き部
43a 切り欠きの内側辺
43b 切り欠きの外側辺
5 固定式ホイルトラップ
6,6A,6B,6B1,6B2 外側リング
61 挿入穴部
62a,62b 切り欠き溝
63a,63b 挿入穴部
7 クリップ
71 切り込み
72 曲げ部
8 EUV光取出部
9 EUV集光鏡
10 原料供給ユニット
11 ホイルトラップカバー
14 高温プラズマ原料
15 コンテナ
16a,16b 回転モ−タ
16c,16d 回転軸
17 レ−ザ光
17a レ−ザ源
20 原料供給ノズル
22 レ−ザ光
21 励起用レ−ザ光発生装置
22 レ−ザ光(レ−ザビ−ム)
23 レ−ザ光入射窓部
24 レ−ザ光集光手段
40 露光機
P 高温プラズマ
Claims (8)
- プラズマと、該プラズマから放射される光を集光する集光ミラーの間に配置され、主軸から放射状に伸びる複数のホイルを備え、上記光は通過するが上記プラズマからのデブリは捕捉するホイルトラップであって、
上記複数のホイルは、主軸上に配置された中心支柱により支持されていて、上記中心支柱と連結した回転機構により上記中心支柱を回転軸として回転可能に構成されている回転式ホイルトラップにおいて、
各ホイルの周縁部であって各ホイルの長手方向の辺と接する部分に、各ホイル同士を相互に固定する円板形状である円環形状の外側リングが設けられ、当該円板形状の外側リングの平面方向は回転軸に対してほぼ垂直方向になるように設定されていて、当該外側リングはプラズマと集光ミラーから定まる当該集光ミラーによる集光範囲外に設けられている
ことを特徴とする回転式ホイルトラップ。 - 上記外側リングが複数設けられている
ことを特徴とする請求項1記載の回転式ホイルトラップ。 - 各ホイルの外側リングが固定される位置には主軸方向に突出する
突起部がそれぞれ設けられ、
外側リングの上記突起部に対応する位置には、挿入穴部が設けられ、
上記外側リングの各挿入穴部に挿入され当該各挿入穴部より外側へ突出した上記ホイルの突起部に、一部が曲げられた曲げ部が構成され、上記外側リングと上記各ホイルとが固定されている
ことを特徴とする請求項1または請求項2のいずれかに記載の回転式ホイルトラップ。 - 各ホイルの外側リングが固定される位置には、各ホイルが放射状に伸びる放射方向に突出する突起部がそれぞれ設けられ、
上記突起部の突起方向と垂直な2つの辺にそれぞれ各ホイル同士を相互に固定する円環形状の第1の外側リングと第2の外側リングが当該突起部を挟むように設けられている
ことを特徴とする請求項1、2または請求項3のいずれかに記載の回転式ホイルトラップ。 - 上記突起部の2つの辺のそれぞれに矩形状の切り欠き部が設けられ、
上記第1の外側リングと第2の外側リングのそれぞれの内周側及び外周側の辺であって、上記切り欠き部の放射方向外側と放射方向内側の各辺に対応する位置に、切り欠き溝が設けられ、
上記第1および第2の外側リングに設けられた上記各切り欠き溝に、各ホイルの上記切り欠き部の放射方向外側と放射方向内側の各辺を挿入させることにより上記第1および第2の外側リングが上記ホイル上に位置決めされ、
上記第1および第2の外側リングには、互いに対向する挿入穴部が設けられ、
この対向する挿入穴部において、一方の外側リングの挿入穴部から他方の外側リングの挿入穴部を貫通するようにクリップが挿入され、該クリップにより上記第1および第2の外側リングが固定されている
ことを特徴とする請求項4に記載の回転式ホイルトラップ。 - 上記ホイルの厚さは、0.2−0.5mmの範囲に規定されていることを特徴とする請求項1、請求項2、請求項3、請求項4および請求項5のいずれか一項に記載の回転式ホイルトラップ。
- 容器と、上記容器内にプラズマ原料を供給するプラズマ原料供給手段と、上記プラズマ原料を加熱して励起しプラズマを発生させる一対の放電電極からなる放電部材と、上記プラズマから放射される光を集光する集光ミラーと、上記放電部材と上記集光ミラーとの間に設けられるホイルトラップと、上記集光された光を取り出す上記容器に形成された光取り出し部と、上記容器内を排気し容器内の圧力を調整する排気手段とを備えた光源装置において、
上記ホイルトラップは、請求項1、請求項2、請求項3、請求項4、請求項5または請求項6のいずれか一項に記載の回転式ホイルトラップである
ことを特徴とする光源装置。 - 容器と、上記容器内にプラズマ原料を供給するプラズマ原料供給手段と、上記プラズマ原料にレーザビームを照射して当該プラズマ原料を加熱して励起し高温プラズマを発生させるレーザビーム照射手段と、上記プラズマから放射される光を集光する集光ミラーと、上記高温プラズマと上記集光ミラーとの間に設けられるホイルトラップと、上記集光された光を取り出す上記容器に形成された光取り出し部と、上記容器内を排気し容器内の圧力を調整する排気手段とを備えた光源装置において、
上記ホイルトラップは、請求項1、請求項2、請求項3、請求項4、請求項5または請求項6のいずれか一項に記載の回転式ホイルトラップである
ことを特徴とする光源装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013068658A JP6065710B2 (ja) | 2013-03-28 | 2013-03-28 | 回転式ホイルトラップ及びこのホイルトラップを用いた光源装置 |
Applications Claiming Priority (1)
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---|---|
JP2014192112A JP2014192112A (ja) | 2014-10-06 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013068658A Active JP6065710B2 (ja) | 2013-03-28 | 2013-03-28 | 回転式ホイルトラップ及びこのホイルトラップを用いた光源装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP6065710B2 (ja) |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL1008352C2 (nl) * | 1998-02-19 | 1999-08-20 | Stichting Tech Wetenschapp | Inrichting, geschikt voor extreem ultraviolet lithografie, omvattende een stralingsbron en een verwerkingsorgaan voor het verwerken van de van de stralingsbron afkomstige straling, alsmede een filter voor het onderdrukken van ongewenste atomaire en microscopische deeltjes welke door een stralingsbron zijn uitgezonden. |
NL2003610A (en) * | 2008-12-22 | 2010-06-23 | Asml Netherlands Bv | A lithographic apparatus, a radiation system, a device manufacturing method and a radiation generating method. |
JP5355115B2 (ja) * | 2009-01-30 | 2013-11-27 | 株式会社東芝 | 極端紫外光光源装置及びその調整方法 |
-
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- 2013-03-28 JP JP2013068658A patent/JP6065710B2/ja active Active
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JP2014192112A (ja) | 2014-10-06 |
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