JP2005310922A - Ｅｕｖ光用集光器及び光源装置 - Google Patents

Abstract

【課題】大出力ＥＵＶ光源装置に用いる高集光率で、寿命の長いＥＵＶ光用集光器等を提供する。
【解決手段】最外側に配置された第１のミラー２と、第１のミラー２と同一軸上に、焦点位置が略一致するように回転中心軸を重ねて配置した回転楕円体からなる第２のミラー３から構成されている。第２のミラー３のＥＵＶ光出射側端部３ａには、スパイダーと呼ばれるミラーの固定用部材４が配置されている。第１のミラー２のＥＵＶ光出射端部２ａ側には冷却体２３が形成され、流入用パイプ７ａ、排出用パイプ７ｂとが設けられている。第２のミラーの中央裏面の入射側よりに冷却体２２が形成され、流入用パイプ６ａ、排出用パイプ６ｂとが設けられている。放電プラズマによるＥＵＶ光放射源Ｓ１から放射され集光点Ｓ２までの光路を仮想線Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４で示している。
【選択図】図２

Description

本発明は、ＥＵＶ光用集光器及び該集光器を有する大出力ＥＵＶ光源装置に関するものであり、更に詳しくは、特に、大出力ＥＵＶを高い光利用率で集光可能とするミラーの冷却機構に特徴をもつＥＵＶ光用集光器、及び該集光器を利用したＥＵＶ光源装置に関するものである。

近年、半導体回路の微細化の新しい手法として、例えば、極端紫外光（ＥＵＶ光：１３．５ｎｍ）を利用したリソグラフィー技術が有望視されている。該ＥＵＶ光を発生する機構としては、レーザ光を利用した方法と、放電プラズマを利用した方法とが提案されており、これらの方法では、該ＥＵＶ光の集光点で、例えば、８０〜１２０Ｗといった大出力が要求されている。特に、放電プラズマを利用した光源装置（ＤＰＰ）においては、ＥＵＶ光を効率良く集光させるために、斜入射型のＥＵＶ光用ミラー（集光器）が開発されている。
尚、斜入射型ミラーとは、Ｘ線望遠鏡やＸ線蛍光顕微鏡で使用されているウォルターミラーに代表される形態のミラーで、反射面の全反射を利用したものである。ＥＵＶ域において、Ｒｕ、Ｍｏなどの平滑な金属面に対し、より小さい角度で入射させると高反射率を得ることができる。

例えば、先行技術文献には、放電プラズマを用いてＥＵＶ光を発生させる装置について記載されており、該装置のＥＵＶ光用ミラーとして、同一軸上に、焦点位置が略一致するように回転中心軸を重ねて配置した径の異なる回転楕円体、又は回転放物体を複数枚用いたミラーを用いることが開示されている（例えば、特許文献１参照）。このミラーは斜入射型ミラーと呼ばれ、Ｎｉ等からなる非常に良好な平滑面を有する基体材料の反射面側に、ルテニウム（Ｒｕ）、モリブデン（Ｍｏ）、及びロジウム（Ｒｈ）などの金属を緻密にコーティングすることで、０°〜２５°の斜入射角度（反射面と成す角であって、反射面に平行の時、斜入射角度は０°、反射面に対する法線方向では斜入射角度は９０°となる）のＥＵＶ光を良好に反射できるようにしたものである。

このＤＰＰの構成と、前記ミラーの形状について、図面に基づいて具体的に説明する。図８−ａ）には、従来の光源装置（ＤＰＰ）が示されている。このＤＰＰでは、プラズマピンチ用電極８と、斜入射型のＥＵＶ光用ミラー４とが真空チャンバー２内に配置され、該真空チャンバー２にはターボ吸引ポンプ１２が接続され、該真空チャンバー２中の圧力を約５００Ｐａ程度に保持している。該プラズマピンチ用電極８には、パルス電源１０から高電圧パルスを供給している。また、該プラズマピンチ用電極８は、プラズマ発生時に非常に高温になる。そのため、このプラズマピンチ用電極８は冷却されている。また、該プラズマピンチ用電極８には、作業ガスとして、ヘリウム・リチウムの混合ガス等が噴射される。この作業ガスは、該真空チャンバー２からターボ吸引ポンプ１２により吸引され、静電フィルター２２で清浄化された後、熱交換器２０により温度管理され、再度利用される。

該プラズマピンチ用電極８から放射されるＥＵＶ光は、ＥＵＶ光用ミラー４により集光され、中空光パイプ６を介して、被照射物に照射されるが、該中空光パイプ６の内部には、リチウム・ヘリウム分離器１４により分離されたヘリウムの一部が導入される。図８−ｂ）には、前記ＥＵＶ光用ミラーの具体的な構成が示されている。該ＥＵＶ光用ミラーは、同一回転中心軸上に配置された径の異なる複数枚の回転楕円体からなるミラーを重ねて構成されている。該ＥＵＶ光用ミラーの出射側には、複数のミラーを固定する固定部品（スパイダーと呼ばれる）が配置され、各ミラーの端部を保持することによりこれらを固定している。

しかしながら、図８−ｂ）で示すような複数枚の回転楕円体等からなるミラーを同一軸上で重ねて使用する集光システムにおいては、内径方向に配置されたミラーは、冷却されず、非常に高温となる。何故ならば、該ＥＵＶ光用のミラーは、真空中、又は非常に希薄な雰囲気ガス中で使用されるために、ガスによる熱伝達は期待できない。また、輻射による熱放出が主たる伝熱手段となるが、赤熱しない程度の低温域では、輻射での放熱もあまり期待できない。更には、内側ミラーからの輻射熱は、外側のミラーで反射され、再び、内側ミラーの外壁に入射される等により、高温となる。加えて、最も外側に配置されたミラーの外側の壁面には、光路を気にする事無く冷却部材を配置できると考えられるが、該内径方向に配置されたミラーに無作為に冷却部材を配置すれば該ＥＵＶ光の妨げとなるので、かかる冷却部材は使用できない。そのため、このようなＥＵＶ用ミラーは、温度上昇が著しく、該ミラー自身の熱膨張による形状変形を引き起こしたり、伸びによる他のミラーとの相対配置のズレにより、該ＥＵＶ光を高い光利用率で集光することができない等の問題を有していた。

更には、ミラーの温度上昇により、該ミラーにコーティングされる反射膜にクラックや剥離の不具合が発生する場合があり、該ミラーの耐久性、つまりミラーの寿命が短くなるといった問題もあった。ところが、これらの問題を解決するために、冷却風を送る等の手段を取ることはできない。これは、該ＥＵＶ光は、その波長が１３．５ｎｍと短く、雰囲気ガスによって高い効率で吸収されるため、ＥＵＶ光用ミラーは、ごく希薄なガス雰囲気、又は真空中で使用されるためである。一方、本発明者らが検討したところ、当初、複数ミラーの最外部に位置するミラーの端部に冷却ブロック等を配置して、熱伝導を利用した冷却をすることは可能であると考えたが、内部に配置されたミラーをそれと同一の方法で冷却すれば、放射された該ＥＵＶ光が該冷却ブロックの影となり、光の利用効率が低下するといった問題があることが分かった。

前記ミラーにとって、ＥＵＶ光入射側の端部が単位面積当りに最も高いエネルギーを受ける部分になる。これは、ＥＵＶ光放射源からの距離が遠くなるにつれて、放射された光エネルギーは減衰するためである。つまり、ＥＵＶ光放射源からの距離が遠くなるにつれて、同一面積に入射されるＥＵＶ光放射源からの立体角が小さくなるので、前記ミラーの単位面積あたりに入射されるエネルギーが小さくなるためである。また、前記ミラー側から見れば、ＥＵＶ光放射源から、例えば、該放射源からの立体角が幅５°の角度で入射する光を比べると、前記ミラーの入射側端部近くより、出射側の端部に近い側の方が、光を受ける面積が大きくなっている。つまり、前記ミラーにおいて、入射側端部が受ける単位面積あたりの入射エネルギーの方が高いこととなる。更には、ミラーの入射側端部になるほど、斜入射角度が大きくなり、ミラーの反射率が低くなっているため、同じ放射量であっても、入熱する割合が多くなっている。

特開２００１−２１５７２１号公報

このような状況の中で、本発明者らは、上記従来技術に鑑みて、前記ＥＵＶ光用集光器の複数のミラーを冷却して前記ＥＵＶ光用ミラーにおける諸問題を確実に解決することを可能とする新しい前記ミラーの冷却方法及び手段を開発することを目標として鋭意研究を積み重ねた結果、前記複数のミラーの外壁の所定の位置に冷却体を設けることで所期の目的を達成し得ることを見出し、更に研究を重ねて、本発明を完成するに至った。
本発明は、大出力のＥＵＶ光を高い光利用率で、集光、又は反射することを可能とし、且つ、耐久性が有り、長寿命を実現する新しいＥＵＶ光用集光器を提供することを目的とするものである。

前記課題を解決するための本発明は、以下の技術的手段から構成される。
（１）同一軸上に、焦点位置が略一致するように回転中心軸を重ねて配置した、径の異なる、複数の回転曲面体によって構成された複数の斜入射型ミラーからなる、ＥＵＶ光用集光器において、前記複数の斜入射型ミラーの外壁の所定の位置に設けられた冷却体を有することを特徴とするＥＵＶ光用集光器。
（２）前記複数の斜入射型ミラーの外から２番目に配置されている第２のミラーの外壁における、最も外側に配置された第１のミラーから放射利用される光の光路より該第２のミラー側に形成される光利用角外部の空間に設けられた冷却体を有することを特徴とする前記（１）に記載のＥＵＶ光用集光器。
（３）前記冷却体が、該第２のミラーの回転中心軸方向の長さの１／２よりＥＵＶ光入射側に配置されていることを特徴とする前記（１）に記載のＥＵＶ光用集光器。
（４）前記冷却体に、冷却媒体を流す流路が設けられていることを特徴とする前記（１）から（３）のいずれかに記載のＥＵＶ光用集光器。
（５）前記冷却体が、該ミラーの回転中心軸上に設けれらた固定部材に固定されていることを特徴とする前記（１）から（４）のいずれかに記載のＥＵＶ光用集光器。
（６）前記（１）から（５）のいずれかに記載のＥＵＶ光用集光器を有することを特徴とするＥＵＶ光源装置。
（７）ＥＵＶ光を放射するＥＵＶ光発生源と前記ＥＵＶ光用集光器の入射側端部との間にデブリ除去機構を設けたことを特徴とする前記（６）に記載のＥＵＶ光源装置。

次に、本発明について更に詳細に説明する。
本発明のＥＵＶ光用集光器、及び光源装置は、ＥＵＶ光放射源から放射される大出力のＥＵＶ光を同一軸上に、焦点位置が略一致するように回転中心軸を重ねて配置した複数枚の径の異なる回転楕円体等からなる凹面ミラーを用い、該ミラーで反射され、利用可能な光の光路外の空間に熱伝導による冷却機構を備えたことを特徴とするものである。

本発明では、同一軸上に、焦点位置が略一致するように回転中心軸を重ねて配置した、径の異なる、複数の回転曲面体によって構成された複数のミラーからなる、ＥＵＶ光用集光器において、前記複数の各ミラーの外側の壁面に冷却体が設置される。本発明において、複数の回転曲面体によって構成された複数のミラーとは、例えば、複数の回転楕円体又は回転放物体によって構成されたミラー、パラボラミラー、ウォルターミラー等の１種又は２種以上で構成された複数の凹面ミラーを意味するものであり、本発明では、前記ミラーの形状、構造、枚数等は特に制限されるものではない。

また、本発明において、前記冷却体としては、前記ミラーの外側の壁面に設置されて、ミラーを熱伝導を利用して所定の温度に冷却する機能を有するものであれば、その形状、構造、大きさ、及び材質等に制限されることなく、使用することができる。本発明では、冷却体として、好適には、例えば、冷却媒体を流す流路を有する冷却ブロックないし冷却プレートが例示される。本発明において、前記冷却体は、前記複数のミラーの任意のミラーの外側の壁面の任意の部位に設置することが可能であるが、好適には、例えば、前記複数のミラーの外から２番目に配置されている第２のミラーの回転中心軸方向の長さ１／２よりＥＵＶ光入射側に配置される。しかし、これに制限されるものではない。

本発明において、ＥＵＶ光放射源から放射され、該ＥＵＶ光用集光器のミラーに投入される光のエネルギーは、外側に配置されたミラーになるほど高くなる。この理由の一つとして、同じ長さのミラーに対しては、外側に配置されたミラーの方が入射される立体角は大きくなることがあげられる。その結果として、該ミラーの単位面積あたりの投入エネルギーは大きくなり、最外のミラーほど高温になる。また、該ミラーは、斜入射型のミラーであり、斜入射角が大きいほど、反射率が低くなる傾向にある。このため、外側に配置されたミラーほど斜入射角が大きく、該ミラーに熱として取り込まれる割合も大きくなる。これらは、外側に配置されたミラーほど高温に成ることを示している。

本発明において、最外に配置されたミラーには、その外側の壁面のどの位置であっても冷却体を配置することが可能である。このため、通常、最外から２番目に配置された第２のミラーが最も高温になる。本発明では、最外から２番目に配置された第２のミラーを選択的に冷却することができ、且つ集光利用される光の光路外に冷却体を配置できる。それにより、集光効率を下げることなく該ミラーの長寿命化が実現できる。ここで、集光利用される光の光路外とは、最外から２番目に配置された第２のミラーの入射側端部と出射側端部との両端を結ぶ第２のミラーの裏面と、該ミラーの焦点（放射源側）と最外に位置する第１のミラーの有効開口端とを結ぶ直線、及び該最外に位置する該第１のミラーの入射側端部の有効端と該ミラーの集光点とを結ぶ直線で形成される略３角形で示される空間を意味している。

また、本発明では、例えば、冷却体を、前記第２のミラーの回転中心軸方向の長さの１／２よりＥＵＶ光入射側端部に配置することができる。それにより、特にＥＵＶ光放射源部からの輻射を多く受けて高温になる該ミラーの光入射側を効率良く冷却することができる。これは、該ＥＵＶ光放射源に近い方が、該ミラーの受けるエネルギーが高くなり、且つ該ミラーにおいては、入射側端部に近い方が単位面積あたりに該ＥＵＶ光放射源から入射される立体角が大きくなり、エネルギーが集中し、高温になるためである。また、それは、出射側端部は、スパイダーと呼ばれる固定部材を介して発生した熱は伝熱されるため、入射側に比べると温度が低くなるためである。

また、本発明では、前記冷却体に、冷却媒体を流す流路を設けることができる。それにより、効率の良い冷却が可能であり、該ミラーに高出力の放射光が照射されても異常な加熱によって熱膨張や熱変形を起こす割合が少なくなり、高い集光効率を確保することができる。また、本発明では、冷却体を、例えば、ミラーの回転中心軸上に設けられた固定部材にネジ等で固定して設置すること、また、ミラーの外側の壁面に固定補助部を設けて、この固定補助部を介して冷却体を設置することにより、冷却体をミラーの所定の位置に設置することができる。この場合、上記固定部材や固定補助部の形状、構造、及びそれらの固定方法及び手段は特に制限されるものではなく、適宜の方法及び手段を利用することができる。本発明においては、ＥＵＶ光用集光器のミラーの枚数、材質、ミラー固定用部材（スパイダー）、その取付け具、その形状、構造等は、特に制限されるものではなく、任意に設計することができる。

前記冷却体は、例えば、前記複数のミラーの外から２番目に配置されている第２のミラーの外側の壁面に、最も外側に配置された第１のミラーから放射利用される光の光路より第２ミラー側に形成される「光利用角外部の空間」に設けられる。また、冷却体を固定するための固定用部材は、例えば、回転中心軸上の「光利用角外部の空間」に設けられる。本発明では、例えば、光路としてまったく利用されない該ミラーの回転中心軸上に設けられた固定用部材を用いて冷却体を固定するので、冷却体等を配置することによる該ミラー自身への余分な加重を掛かけることが無い。更には、該ミラーに、冷却体を取り付ける加工時に、該ミラー自身が変形等することが無いので、高い集光効率を確保できるといった利点がある。

本発明のＥＵＶ光用集光器では、上記構成を採用することにより、ミラー集光点のＥＵＶ出力を上げても、例えば、第２ミラーの入射側端部の温度上昇は小さく、上記冷却体の設置によるミラーの温度上昇の抑制効果は顕著であることが分かった。以上のように、本発明では、大出力のＥＵＶ光源装置で高効率の集光特性を持つＥＵＶ光用ミラーを用いた場合でも、充分な冷却がなされるので、熱変形や各ミラーの位置ズレを小さくし、且つ、集光性を落とすことなく該ミラーの寿命を長くでき、結果として、装置全体の耐久寿命が延長されるといった利益が得られる。また、本発明では、ＥＵＶ光生成時に、高密度の放電プラズマにさらされ蒸発する電極物質等、いわゆるデブリを除去する装置を該ミラーの入射側に取り付けることができる。それにより、該ミラーが、デブリの影響を受ける事無く、更なる装置の長寿命化が達成できる。

本発明により、１）熱伝導によるミラーの冷却機構を有するＥＵＶ光用集光器を提供することができる、２）特に、大出力のＥＵＶ光照射源部からの輻射を大きく受けて高温になるミラーの光入射側を効率良く冷却することができる、３）ミラーに高出力の放射光が照射されても異常な加熱によって熱膨張を起こす割合が少なくなり、それによって、高い集光効率を確保することができる、４）ミラーの寿命を長くでき、結果として、ＥＵＶ光用集光器、及びＥＵＶ光源装置の耐久性を向上させることができ、装置全体の長寿命化を達成できる、という格別の効果が奏される。

次に、実施例に基づいて本発明を具体的に説明するが、本発明は、以下の実施例によって何ら限定されるものではない。また、光源装置の形態を放電プラズマを利用した方法に限定するものではない。
本発明のＥＵＶ光用集光器及び光源装置は、同一軸上に、焦点位置が略一致するように回転中心軸を重ねて配置した径の異なる回転楕円体、又は回転放物体等の回転曲面体によって構成された複数のミラーからなるＥＵＶ光用集光器において、該略焦点に集光利用される光の光路となる「光利用角外部の空間」に冷却機構を設けたものである。以下に、具体的な実施例を示す。

図１は、本発明の第１の実施例であるＥＵＶ光用集光器の光出射側端部の正面図であり、図２に示したＥＵＶ光出射側端部２ａ、３ａ方向から見た正面図を示している。図２に、その側面断面図（図１におけるＡ−Ａ方向からみた断面図）、及び光路を示す。ＥＵＶ光用集光器は、最外に配置された第１のミラー２と、該第１のミラー２と同一軸上に、焦点位置が略一致するように回転中心軸を重ねて配置した回転楕円体からなる第２のミラー３から構成されている。これらのミラー、例えば、第２のミラー３のＥＵＶ光出射側端部３ａには、スパイダーと呼ばれる該ミラーの固定用部材４が配置されている。また、第１のミラー２のＥＵＶ光出射側端部２ａ側には冷却体２３が形成され、該冷却体２３には冷却媒体を流すための流路として、流入用パイプ７ａ、排出用パイプ７ｂとが設けられている。また、第２のミラーの中央裏面の入射側よりに冷却体２２が形成され、該冷却体２２には冷却媒体を流すために流路として、流入用パイプ６ａ、排出用パイプ６ｂとが設けられており、該第２のミラー３の外側の壁面に設けられた該冷却体２２は、該固定用部材４の中心に連結された固定用棒材２４にネジ２１を用いて固定されている。

更に、図２には、放電プラズマによるＥＵＶ光放射源Ｓ１から放射され集光点Ｓ２までの光路を示す仮想線Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４を示している。例えば、仮想線Ｐ１、Ｐ２について説明すると、ＥＵＶ光放射源Ｓ１から放射された光は最外に配置された該第１のミラー２のＥＵＶ光入射側端部２ｂ側の内面である入射側開口有効端（集光点Ｓ２に集光可能な最も入射側の端）点Ｑで反射され集光点Ｓ２に集光される。また、Ｐ２では、Ｓ１からＥＵＶ光出射側端部２ａ側の内面である出射側開口有効端（集光点Ｓ２に集光可能な最も出射側の端）点Ｒで反射され点Ｓ２に集光される。この時、仮想線上のＳ１とＲを結ぶ線と、点Ｑと点Ｓ２とを結ぶ線と、この２つの線分の交点である点Ｔと、該第２のミラー３とで囲まれる空間が「光利用角外部の空間」となる。該第２のミラー３については、前述の最外に配置された該第１のミラー２における該第２のミラーの代わりに回転中心軸ｃと仮想線Ｐ３、Ｐ４とで「光利用角外部の空間」が構成される。この「光利用角外部の空間」に固定用棒材２４が配置されている。

図３は、第２のミラー３に冷却体４２を直接ロウ付けしたものである。この場合、第２のミラー３の外側の壁面にフィン状の固定補助部４１を設けている。また、特に図示はしないが、ロウ付けに代えて、ネジを用いて冷却媒体４２を固定補助部４１に固定しても良い。尚、その場合、固定補助部４１との間に厚さ０．１ｍｍ程度のインジウム箔を介し、熱抵抗を小さくすることで、十分な冷却を行うことができる。

図４は、複数配置されたミラーの数が３枚の場合の実施例を示すものである。第２のミラーの外側の壁面に冷却体が設けられている。図５は、冷却体を、第１のミラーの外側の壁面と第２のミラーの外側の壁面に設けたものである。図６は、パラボラミラーを有する本発明のＥＵＶ光用集光器の他の実施例を示すものである。第２のミラーの外側の壁面に冷却体が設置されている。図７は、ウォルターミラーを有する本発明のＥＵＶ光用集光器の他の実施例を示すものである。

以上詳述したように、本発明は、ＥＵＶ光用集光器及び光源装置に係るものであり、本発明により、熱伝導によるミラーの冷却手段を備えたＥＵＶ光用集光器を提供できる。該冷却手段により、ＥＵＶ光用集光器のミラーを効率良く冷却して該ミラーが高温になることを防止できる。ミラー自身の熱膨張による形状変形を抑制し、ＥＵＶ光を高い光利用率で集光、又は反射し、且つ、耐久性が有り、長寿命を実現する高性能のＥＵＶ光用集光器を提供できる。

回転楕円体によって構成された複数のミラーを有する本発明の第１の実施例のＥＵＶ光用集光器の光出射側端部の正面図を示す。 本発明の第１の実施例のＥＵＶ光用集光器の側面断面図、及び光路を示す。 本発明の他の実施例のＥＵＶ光用集光器の側面断面図、及び光路を示す。 本発明の他の実施例のＥＵＶ光用集光器の側面断面図、及び光路を示す。 本発明の他の実施例のＥＵＶ光用集光器の側面断面図、及び光路を示す。 パラボラミラーを有する本発明の他の実施例のＥＵＶ光用集光器の側面断面図、及び光路を示す。 ウォルターミラーを有する本発明の他の実施例のＥＵＶ光用集光器の側面断面図、及び光路を示す。 従来のミラーの構造、及びＥＵＶ装置の全体構成を示す。

符号の説明

（図１〜３の符号の説明）
１ ＥＵＶ光用ミラー
２ 第１のミラー
２ａ ＥＵＶ光出射側端部
２ｂ ＥＵＶ光入射側端部
３ 第２のミラー
３ａ ＥＵＶ光出射側端部
３ｂ ＥＵＶ光入射側端部
４ 固定用部材
６ａ 流入用パイプ
６ｂ 排出用パイプ
７ａ 流入用パイプ
７ｂ 排出用パイプ
２１ ネジ
２２ 冷却体
２３ 冷却体
２４ 固定用部材
Ｓ１ ＥＵＶ光放射源
Ｓ２ 集光点
Ｐ１ 仮想線
Ｐ２ 仮想線
Ｐ３ 仮想線
Ｐ４ 仮想線
Ｑ 点
Ｒ 点
Ｔ 点
４１ 固定補助部
４２ 冷却体
（図８の符号の説明）
２ 真空チャンバー
４ ＥＵＶ光用ミラー
６ 中空光パイプ
８ プラズマピンチ用電極
１０ パルス電源
１２ ターボ吸引ポンプ
１４ リチウム・ヘリウム分離器
２０ 熱交換器
２２ 静電フィルター

Claims (7)

1. 同一軸上に、焦点位置が略一致するように回転中心軸を重ねて配置した、径の異なる、複数の回転曲面体によって構成された複数の斜入射型ミラーからなる、ＥＵＶ光用集光器において、前記複数の斜入射型ミラーの外壁の所定の位置に設けられた冷却体を有することを特徴とするＥＵＶ光用集光器。
2. 前記複数の斜入射型ミラーの外から２番目に配置されている第２のミラーの外壁における、最も外側に配置された第１のミラーから放射利用される光の光路より該第２のミラー側に形成される光利用角外部の空間に設けられた冷却体を有することを特徴とする請求項１に記載のＥＵＶ光用集光器。
3. 前記冷却体が、該第２のミラーの回転中心軸方向の長さの１／２よりＥＵＶ光入射側に配置されていることを特徴とする請求項１に記載のＥＵＶ光用集光器。
4. 前記冷却体に、冷却媒体を流す流路が設けられていることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載のＥＵＶ光用集光器。
5. 前記冷却体が、該ミラーの回転中心軸上に設けれらた固定部材に固定されていることを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載のＥＵＶ光用集光器。
6. 請求項１から５のいずれかに記載のＥＵＶ光用集光器を有することを特徴とするＥＵＶ光源装置。
7. ＥＵＶ光を放射するＥＵＶ光発生源と前記ＥＵＶ光用集光器の入射側端部との間にデブリ除去機構を設けたことを特徴とする請求項６に記載のＥＵＶ光源装置。
   
   

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