JP2019095784A - プロセスカートリッジ及び電子写真装置 - Google Patents
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Abstract
Description
本発明者らが検討したところ、従来のプロセスカートリッジに用いられていた帯電部材に対して、表面層の硬度が高い電子写真感光体を組み合わせた場合、特に帯電電位の変動が顕著になることがわかった。これは、帯電部材の表面硬度が高く変形性が小さいことから、電子写真感光体上に残留したトナーが、電子写真感光体と帯電部材の当接部を通過する際、押圧による応力を受けて大きく変形し、電子写真感光体に特に強固に付着したためと考えられる。
本発明の一態様に係る帯電部材において、コア部、突出山部とは、三次元表面性状規格(ISO25178−2:2012)で定義される用語である。図2によりこれらの用語を説明する。面のある一定の高さ以上の領域の面積率が0%から100%となる高さを表した曲線を負荷曲線という。
負荷曲線から最緩傾斜直線(等価直線)を描くと、等価直線において負荷面積率0%の高さと100%の高さが求められる。
コア部とは、等価直線の負荷面積率0%から100%の高さの範囲に含まれる部分である。突出山部とは、コア部から上に突出した部分であって、負荷曲線の負荷面積率0%からSmr1%の範囲に対応する部分である。Smr1は、突出山部とコア部を分離する負荷面積率である。
また、X1で表されるシクロアルキリデン基としては、例えば、シクロプロピリデン基、シクロブチリデン基、シクロペンチリデン基、シクロヘキシリデン基、シクロヘプチリデン基、シクロオクチリデン基、シクロノニリデン基、シクロデシリデン基、シクロウンデシリデン基、シクロドデシリデン基等が挙げられる。
R11〜R18で表されるアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、イソブチル基等が挙げられる。
また、X3で表されるシクロアルキリデン基としては、例えば、シクロプロピリデン基、シクロブチリデン基、シクロペンチリデン基、シクロヘキシリデン基、シクロヘプチリデン基、シクロオクチリデン基、シクロノニリデン基、シクロデシリデン基、シクロウンデシリデン基、シクロドデシリデン基等が挙げられる。
乾式シリカ粒子としては、シラン化合物を燃焼させて得られる燃焼法によるシリカ粒子、金属珪素粉を爆発的に燃焼させて得られる爆燃法によるシリカ粒子が挙げられる。
湿式シリカ粒子としては、珪酸ナトリウムと鉱酸との中和反応によって得られる湿式シリカ粒子、酸性珪酸をアルカリ性にして重合することで得られるコロイダルシリカ粒子、有機シラン化合物の加水分解によって得られるゾルゲル法シリカ粒子が挙げられる。
中でも、燃焼法によるシリカ粒子が電気特性の点で好ましい。湿式シリカ粒子を用いる場合は、精製等により、アルカリ等の不純物を低減させたシリカが好ましい。
本発明に係る電子写真感光体の表面層からシリカ粒子を分離し、このシリカ粒子の一次粒子100個をSEM(走査型電子顕微鏡)により100,000倍で観察し、一次粒子ごとの最長径、最短径を測定し、この中間値から球相当径を測定する。得られた球相当径の累積頻度における50%径(D50v)を求め、これをシリカ粒子の平均一次粒径とした。
電子写真感光体の表面層のマルテンス硬度の測定箇所は、電子写真感光体の長手方向を均等に10分割した各領域における任意の1箇所の、合計10箇所である。電子写真感光体の表面層のマルテンス硬度は、微小硬度測定装置(商品名:ピコデンターHM500、フィッシャー・インストルメンツ株式会社製)を用いることによって測定することができる。温度25℃、相対湿度50%の環境下、測定部位に四角錘型ダイヤモンドの圧子を当てて、下記式(1)の押し込み速度の条件で測定することができる。
dF/dt=14mN/10s ・・・・(1)
ここで、Fは力、tは時間を表す。電子写真感光体の表面層の評価においては、測定結果から圧子が7mNの力で押込まれた際の硬さを抽出して、10箇所で測定した値を平均化することで、マルテンス硬度の平均値(HMD)を得る。上記HMDの測定方法は、実施例において「評価1」と表示する。
帯電部材の表面のマルテンス硬度の測定箇所は、帯電部材の長手方向を均等に10分割したコア部又は突出山部の各領域における任意の1箇所の、合計10箇所である。帯電部材の表面のマルテンス硬度は、コンフォーカル顕微鏡(商品名:オプテリクスハイブリッド、レーザーテック株式会社製)によって三次元表面性状規格(ISO25178−2:2012)で定義されるコア部を特定し、微小硬度測定装置(商品名:ピコデンターHM500、フィッシャー・インストルメンツ株式会社製)及び備え付けの顕微鏡を用いることによって測定することができる。対物レンズ20倍、画素数1024pixel、高さ分解能0.1μmで観察した高さ画像全体の曲面補正をして3次元計測し、計測したSkの値を用いて高さ画像を二値化することにより、コア部を特定する。マルテンス硬度は、温度25℃、相対湿度50%の環境下、微小硬度測定機に備え付けの顕微鏡を用い、白色共焦点顕微鏡で特定したコア部に四角錘型ダイヤモンドの圧子を当てて、下記式(1)の押し込み速度の条件で測定することができる。
dF/dt=0.1mN/10s ・・・・(1)
ここで、Fは力、tは時間を表す。
測定結果から圧子が0.04mNの力で押込まれた際の硬さを抽出し、10箇所で測定した値を平均化することで、コア部のマルテンス硬度の平均値(HMC)を得る。上記HMCの測定結果は、実施例において「評価2」と表示する。なお、同様の手法で、突出山部のマルテンス硬度の平均値も得られる。
粘性の測定箇所は、マルテンス硬度の測定の場合と同様に、帯電部材の長手方向を均等に10分割した各領域における任意の1箇所の、合計10箇所である。測定モードに粘性−弾性マッピング、探針にAC160FS(オリンパス株式会社製)、探針のばね定数38.7N/mを用い、スキャンレート(速度)2Hzm、スキャン範囲2μm、自由振幅2V、セットポイント1Vの測定条件を用いて視野2μm角(縦2μm×横2μm)で測定する。10箇所で測定された値を平均化することで粘性の平均値(Vc)が得られる。なお、上記Vcの測定結果は、実施例において「評価3」と表示する。
本発明に係る電子写真感光体は、支持体や感光層を有し、電荷輸送物質及び樹脂を含有する表面層を有する。電子写真感光体の感光層は、主に、(1)積層型感光層と、(2)単層型感光層とに分類される。(1)積層型感光層は、電荷発生物質を含有する電荷発生層と、電荷輸送物質を含有する電荷輸送層とを有する。(2)単層型感光層は、電荷発生物質と電荷輸送物質を共に含有する感光層を有する。本発明に係る電子写真感光体においては、感光層が、(1)積層型感光層の場合は、電荷輸送層が表面層となり、(2)単層型感光層の場合は、感光層が表面層となる。
<導電層>
本発明に係る電子写真感光体において、支持体の上に、導電層を設けてもよい。導電層を設けることで、支持体表面の傷や凹凸を隠蔽することや、支持体表面における光の反射を制御することができる。
導電層は、導電性粒子と、樹脂と、を含有することが好ましい。
金属酸化物としては、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、酸化インジウム、酸化ケイ素、酸化ジルコニウム、酸化スズ、酸化チタン、酸化マグネシウム、酸化アンチモン、酸化ビスマスなどが挙げられる。金属としては、アルミニウム、ニッケル、鉄、ニクロム、銅、亜鉛、銀などが挙げられる。
これらの中でも、導電性粒子として、金属酸化物を用いることが好ましく、特に、酸化チタン、酸化スズ、酸化亜鉛を用いることがより好ましい。
導電性粒子として金属酸化物を用いる場合、金属酸化物の表面をシランカップリング剤などで処理したり、金属酸化物にリンやアルミニウムなど元素やその酸化物をドーピングしたりしてもよい。
また、導電性粒子は、芯材粒子と、その粒子を被覆する被覆層とを有する積層構成としてもよい。芯材粒子としては、酸化チタン、硫酸バリウム、酸化亜鉛などが挙げられる。被覆層としては、酸化スズなどの金属酸化物が挙げられる。
また、導電性粒子として金属酸化物を用いる場合、その体積平均粒子径が、1nm以上500nm以下であることが好ましく、3nm以上400nm以下であることがより好ましい。
また、導電層は、シリコーンオイル、樹脂粒子、酸化チタンなどの隠蔽剤などを更に含有してもよい。
本発明に係る電子写真感光体において、支持体又は導電層の上に、下引き層を設けてもよい。下引き層を設けることで、層間の接着機能が高まり、電荷注入阻止機能を付与することができる。
下引き層は、樹脂を含有することが好ましい。また、重合性官能基を有するモノマーを含有する組成物を重合することで下引き層を硬化膜として形成してもよい。
電子輸送物質としては、キノン化合物、イミド化合物、ベンズイミダゾール化合物、シクロペンタジエニリデン化合物、フルオレノン化合物、キサントン化合物、ベンゾフェノン化合物、シアノビニル化合物、ハロゲン化アリール化合物、シロール化合物、含ホウ素化合物などが挙げられる。
電子輸送物質として、重合性官能基を有する電子輸送物質を用い、上述の重合性官能基を有するモノマーと共重合させることで、硬化膜として下引き層を形成してもよい。
金属酸化物としては、酸化インジウムスズ、酸化スズ、酸化インジウム、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、二酸化ケイ素などが挙げられる。金属としては、金、銀、アルミなどが挙げられる。
また、下引き層は、添加剤を更に含有してもよい。
(1)積層型感光層
積層型感光層は、電荷発生層と、電荷輸送層と、を有する。
電荷発生層は、電荷発生物質と、樹脂と、を含有することが好ましい。
電荷発生層中の電荷発生物質の含有量は、電荷発生層の全質量に対して、40質量%以上85質量%以下であることが好ましく、60質量%以上80質量%以下であることがより好ましい。
電荷輸送物質としては、例えば、多環芳香族化合物、複素環化合物、ヒドラゾン化合物、スチリル化合物、エナミン化合物、ベンジジン化合物、トリアリールアミン化合物や、これらの物質から誘導される基を有する樹脂などが挙げられる。
単層型感光層は、電荷発生物質、電荷輸送物質、樹脂及び溶剤を含有する感光層用塗布液を調製し、この塗膜を形成し、乾燥させることで形成することができる。電荷発生物質、電荷輸送物質、樹脂としては、上記「(1)積層型感光層」における材料の例示と同様の材料が使用できる。
本発明に係る帯電部材の一例として帯電ローラの構成が挙げられる。帯電ローラは、導電性支持体と、該導電性支持体の上に形成した導電性弾性層とからなっている。以下、帯電部材を構成する各要素について順に説明する。
導電性支持体は、導電性を有し、導電性弾性層等を支持可能であって、かつ、帯電部材としての、典型的には帯電ローラとしての強度を維持し得るものであればよく、特に限定されない。帯電部材が帯電ローラである場合、導電性支持体は中実円柱体又は中空円筒体であって、その長さは例えば240〜360mm程度であり、外径は例えば4.5〜9mm程度である。
導電性弾性層は、ブタジエン骨格を有する重合体を含むゴム組成物の加硫物を含む導電性弾性体を有していることが好ましく、ゴム組成物の体積抵抗率が103Ωcm以上109Ωcm以下であることが好ましい。また、導電性弾性体は、ブタジエン骨格を有する重合体にイオン導電剤、導電性粒子、架橋剤等を適宜配合したゴム組成物の加硫物であることが好ましい。
ブタジエン骨格を有する重合体としては、ブタジエンゴム、イソプレンゴム、クロロプレンゴム、アクリロニトリル−ブタジエンゴム、スチレン−ブタジエンゴム、スチレン−ブタジエン−スチレンゴム等が好適に用いられる。
イオン導電機構で用いられるブタジエン骨格を有する重合体は、特にクロロプレンゴム、アクリロニトリル−ブタジエンゴムに代表される極性ゴムが好ましい。イオン導電機構で用いられるイオン導電剤としては、無機イオン物質を含むイオン導電剤、四級アンモニウム塩を含むイオン導電剤、有機酸の無機塩からなるイオン導電剤などが挙げられる。無機イオン物質を含むイオン導電剤としては、過塩素酸リチウム、過塩素酸ナトリウム、過塩素酸カルシウムなどが挙げられる。四級アンモニウム塩を含むイオン導電剤としては、ラウリルトリメチルアンモニウムクロライド、ステアリルトリメチルアンモニウムクロライド、過塩素酸テトラブチルアンモニウムなどが挙げられる。有機酸の無機塩からなるイオン導電剤としては、トリフルオロメタンスルホン酸リチウム、パーフルオロブタンスルホン酸カリウムなどが挙げられる。これらを単独又は2種類以上組み合わせて用いることができる。これらのイオン導電剤の中でも、環境変化に対して抵抗が安定なことから過塩素酸4級アンモニウム塩が好ましい。
これらのイオン導電剤の使用量は、原料ゴム、イオン導電剤、及びその他配合剤の種類によって、ゴム組成物が所望の電気抵抗値となるように、適宜選択することができる。例えば、原料ゴム100質量部に対して、イオン導電剤0.1質量部以上20質量部以下、好ましくは0.2質量部以上10質量部以下とすることができる。
帯電部材の表面層を粗面化する場合、帯電部材の表面に絶縁性粒子を露出させることで形成することが好ましい。絶縁性粒子としては、体積抵抗率が1010Ωcm以上の絶縁性を有していればよい。絶縁性粒子の体積抵抗率は、絶縁性粒子を加圧することによってペレット化し、このペレットの体積抵抗率を粉体抵抗測定装置(商品名:粉体抵抗測定システム MCP−PD51型、三菱化学アナリテック社製)によって測定することができる。ペレット化するため、粉体抵抗測定装置の直径20mmの円筒状のチャンバーに測定対象の粒子を入れる。充填量は、20kNで加圧した時のペレットの層の厚みが3〜5mmになるようにする。測定は、温度23℃、相対湿度50%の環境下で、印加電圧90V、荷重4kNにて行う。
その他の粒子の形状は特に限定されず、球形、不定形、お碗形状、バルーン状等が例示される。
本発明に係る帯電部材の製造方法の一例として、製造工程が簡略であるという観点から有効な方法を以下に説明する。
本発明に係る帯電部材としての帯電ローラの製造方法は、次の3つの工程を含む。
工程1:未加硫ゴム組成物を調製する工程。
工程2:クロスヘッド押出成形機に導電性支持体と未加硫ゴム組成物を供給して、未加硫ゴムローラを得る工程。
工程3:未加硫ゴムローラを空気中で加硫し、次いで表面処理を行う工程。
クロスヘッド押出成形機には、芯金と未加硫ゴム組成物が送り込まれるクロスヘッドと、クロスヘッドに芯金を送り込む搬送ローラと、クロスヘッドに未加硫ゴム組成物を送り込むシリンダと、が設けられている。
搬送ローラは、複数本の芯金を連続的にクロスヘッドに送り込むことができる。シリンダは内部にスクリュを備え、スクリュの回転により未加硫ゴム組成物をクロスヘッド内に送り込むことができる。
芯金は、クロスヘッド内に送り込まれると、シリンダからクロスヘッド内に送り込まれた未加硫ゴム組成物に全周を覆われる。そして、芯金は、クロスヘッドの出口のダイスから、表面に未加硫ゴム組成物が被覆された未加硫ゴムローラとして送り出される。
未加硫ゴム組成物は、各芯金の長手方向の中央部において端部より外径(肉厚)が大きい、いわゆるクラウン形状に成形することが好ましい。こうして未加硫ゴムローラを得ることができる。
本発明のプロセスカートリッジは、これまで述べてきた電子写真感光体及び帯電手段、並びに現像手段、転写手段及びクリーニング手段からなる群より選択される少なくとも1つの手段とを一体に支持し、電子写真装置本体に着脱自在であることを特徴とする。
図1において、円筒状の電子写真感光体1は、軸2を中心に矢印方向に所定の周速度で回転駆動される。回転駆動される電子写真感光体1の表面(周面)は、帯電手段3(一次帯電手段:帯電ローラなど)により、正又は負の所定電位に均一に帯電される。次いで、スリット露光やレーザービーム走査露光などの露光手段(不図示)からの露光光(画像露光光)4を受ける。こうして電子写真感光体1の表面に、目的の画像に対応した静電潜像が順次形成されていく。
<ポリエステル樹脂(1)>
下記式で示されるジカルボン酸ハライド29.5g、
重合反応中に重合調整剤として、p−t−ブチルフェノールを加えた。その後、酢酸の添加により重合反応を終了させ、水相が中性になるまで水での洗浄を繰り返した。
洗浄後、ジクロロメタン溶液を攪拌下のメタノールに滴下して、重合物を沈殿させ、この重合物を真空乾燥させてポリエステル樹脂(1)を得た。
ポリエステル樹脂の製造例において、使用するジカルボン酸ハライドとジオールの種類及び量を変えた以外は、ポリエステル樹脂(1)と同様に製造した。表1に製造したポリエステル樹脂の構造とモル比率を示す。
<ポリカーボネート樹脂(1)>
5質量%の水酸化ナトリウム水溶液1100mlに、下記式で示されるジオール16.9g、
下記式で示されるジオール35.1g
ホスゲン吹き込み終了後、分子量調節剤としてp−t−ブチルフェノール1.0gを加えて攪拌して、反応液を乳化させた。乳化後0.3mlのトリエチルアミンを加え、23℃にて1時間攪拌し、重合させた。
ポリカーボネート樹脂の製造例において、使用するジオールの種類及び量を変えた以外は、ポリカーボネート樹脂(1)と同様に製造した。表2に製造したポリカーボネート樹脂の構造とモル比率を示す。
<電子写真感光体(1)>
直径24mm、長さ257mmのアルミニウムシリンダーを支持体(導電性支持体)とした。
次に、酸化亜鉛粒子(比表面積:15m2/g、平均粒径:70nm、粉体抵抗:3.7×105Ω・cm)100部をトルエン500部と撹拌混合した。
これに、シランカップリング剤としてのN−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン(商品名:KBM−603、信越化学工業(株)製)1.5部を添加し、6時間攪拌した。
その後、トルエンを減圧留去して、140℃で6時間加熱して乾燥させ、シランカップリング剤で表面処理された酸化亜鉛粒子を得た。
この溶液に上記シランカップリング剤で表面処理された酸化亜鉛粒子81部、2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノン(東京化成工業(株)製)0.8部、及びオクチル酸亜鉛(商品名:ニッカオクチックス亜鉛Zn8%、日本化学産業(株)製)0.81部を加え、これを直径0.8mmのガラスビーズを用いたサンドミルに入れ、23±3℃雰囲気下で3時間分散処理した。
分散処理後、これにシリコーンオイル(商品名:SH28PA、東レダウコーニングシリコーン(株)製)0.01部及びシリコーン樹脂粒子(商品名:トスパール145、GE東芝シリコーン(株)製)を5.6部加えて攪拌することによって、導電層用塗布液を調製した。
この導電層用塗布液を前記支持体上に浸漬塗布し、得られた塗膜を30分間150℃で乾燥、熱硬化させることによって、膜厚が30μmの導電層を形成した。
次に、電荷輸送物質として、下記式で示される化合物8.5部、
この溶液にイソプロピルアルコールに分散された平均一次粒子径が9−15nmのシリカスラリー(製品名:IPA−ST−UP、日産化学工業(株)製、固形分濃度:15質量%、粘度:9mPa・s)を、東京スクリーン(株)製のナイロンスクリーンメッシュシート(製品名:N−No.150T)を通し1.8部加え、1時間撹拌した。その後、ADVANTEC(株)製フィルター(製品名:PF020)を用いて加圧ろ過し、下引き層用塗布液を調製した。
この下引き層用塗布液を導電層上に浸漬塗布し、得られた塗膜を20分間170℃で加熱し、硬化(重合)させることによって、導電層上に膜厚が0.7μmの下引き層を形成した。
次に、ポリビニルブチラール(商品名:エスレックBX−1、積水化学工業製)2部をシクロヘキサノン100部に溶解させた。
この溶液に、CuKα特性X線回折におけるブラッグ角2θ±0.2°の7.4°及び28.1°に強いピークを有する結晶形のヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶(電荷発生物質)4部を加えた。
これを、直径1mmのガラスビーズを用いたサンドミルに入れ、23±3℃の雰囲気下で1時間分散処理した。分散処理後、これに酢酸エチル100部を加えることによって、電荷発生層用塗布液を調製した。
この電荷発生層用塗布液を上記下引き層上に浸漬塗布し、得られた塗膜を10分間90℃で乾燥させることによって、膜厚が0.20μmの電荷発生層を形成した。
次に、式(CTM−1)で示される化合物7.2部、式(CTM−2)で示される化合物0.8部、及びポリエステル樹脂製造例で合成したポリエステル樹脂(1)10部を、ジメトキシメタン33部、オルトキシレン15部及び安息香酸メチル25部の混合溶液に溶解させ、電荷輸送層用塗布液を調製した。
この電荷輸送層用塗布液を上記電荷発生層上に浸漬塗布して塗膜を形成し、得られた塗膜を130℃で30分間乾燥させることによって、膜厚が22μmの電荷輸送層(表面層)を形成した。
このようにして、支持体、導電層、下引き層、電荷発生層及び電荷輸送層をこの順に有する電子写真感光体(1)を製造した。
前述した手法により電子写真感光体の表面層のHMDを測定した。電子写真感光体(1)の表面層のHMDは274N/mm2であった。
ポリエステル樹脂又はポリカーボネート樹脂の種類を表3のように変更した以外は電子写真感光体(1)と同様に製造した。表3に製造した電子写真感光体の詳細及び評価結果を示す。
電荷輸送層の作製方法を下記のように変更した以外は、電子写真感光体(1)と同様の手順で、支持体、導電層、下引き層、電荷発生層及び電荷輸送層をこの順に有する電子写真感光体(31)を製造した。表3に製造した電子写真感光体の詳細及び評価結果を示す。
シリカ粒子(商品名:RX50、日本アエロジル(株)製)0.1部をシクロペンタノン9.9部の溶液に加え、超音波分散器を用いて2時間かけて分散し、シリカ分散液10部を得た。
式(CTM−1)で示される化合物7.2部、式(CTM−3)で示される化合物0.8部、及びポリエステル樹脂製造例で合成したポリエステル樹脂(2)10部を、ジメトキシメタン40部及びシクロペンタノン50部の混合溶液に溶解させ、シリカ分散液10部を加え、電荷輸送層用塗布液を調製した。
この電荷輸送層用塗布液を上記電荷発生層上に浸漬塗布して塗膜を形成し、得られた塗膜を130℃で30分間乾燥させることによって、膜厚が22μmの電荷輸送層(表面層)を形成した。
ポリエステル樹脂又はポリカーボネート樹脂の種類、シリカ粒子の種類、粒子径及び部数を表3のように変更した以外は電子写真感光体(31)と同様に製造した。表3に製造した電子写真感光体の詳細及び評価結果を示す。
RX50:トリメチルシリル基で表面処理されたヒュームドシリカ(商品名:RX50、日本アエロジル(株)製)
N2N:表面処理していない湿式シリカ(商品名:N2N、宇部エクシモ(株)製)
<帯電部材(1)>
1.導電性基体
直径6mm、長さ252.5mmのステンレス鋼製の円筒状基体の外周に、カーボンブラックを10質量%含有させた熱硬化性樹脂を塗布し、乾燥したものを導電性基体として使用した。
アクリロニトリルブタジエンゴム(商品名:N230SL,JSR社製)100質量部に対し、カーボンブラック(商品名:トーカブラック#7360SB、東海カーボン社製)を50質量部、酸化亜鉛(商品名:亜鉛華2種、堺化学工業社製)を5質量部、炭酸カルシウム(商品名:スーパー1700、丸尾カルシウム社製)を40質量部、ステアリン酸亜鉛1質量部を加えて、50℃に調節した密閉型ミキサーにて15分間混練した。次いで、PMMA粒子(商品名:ガンツパールGM0801、アイカ工業(株)製)を25質量部、硫黄を1.5質量部、テトラベンジルチウラムジスルフィド(TBzTD)(商品名:ノクセラーTBzTD、大内新興化学工業社製)を4質量部添加して、温度25℃に冷却した二本ロール機にて10分間混練し、未加硫ゴム組成物を得た。
クロスヘッド押出成形機を用いて、成形温度100℃、スクリュ回転数9rpmとして、導電性基体の送り速度を変えながら運転し、導電性基体の外周に前記未加硫ゴム組成物の被覆層を形成した。未加硫ゴムローラは、軸方向の中央の外径が8.60mm、中央から両端方向へ各90mm離れた位置の外径が8.50mmのクラウン形状であった。
その後、電気熱風炉にて温度160℃の空気雰囲気下で1時間加熱して未加硫ゴム層を加硫し、加硫ゴム層の両端部を切断し、軸方向の長さを232mmとすることで加硫ゴムローラを得た。
加硫ゴムローラに対して、波長254nmの紫外線を積算光量が9000mJ/cm2になるように照射することによって表面処理を施した。紫外線の照射には低圧水銀ランプ[ハリソン東芝ライティング(株)製]を用いた。このようにして帯電部材(1)を得て、以下の各評価を行った。
前述した手法により帯電部材の表面のHMC及び突出山部のマルテンス硬度の平均値を測定した。帯電部材(1)の表面のHMCは11.5N/mm2、帯電部材(1)の表面の突出山部のマルテンス硬度の平均値は13.7N/mm2であった。
前述した手法により帯電部材の表面のVcを測定した。帯電部材(1)の表面のVcは59.9mVであった。
先述した手法により体積抵抗率を測定する。帯電部材(1)に使用した絶縁性粒子の体積抵抗率は1010Ωcm以上であった。絶縁性粒子の導電特性については、体積抵抗率が1010Ωcm以上であれば絶縁性、103Ωcm以下であれば導電性として表示する。
コンフォーカル顕微鏡(商品名:オプテリクスハイブリッド、レーザーテック株式会社製)により、帯電ローラの表面の絶縁性粒子を観察した。対物レンズ50倍、画素数1024pixel、高さ分解能0.1μmの条件で観察した。絶縁性粒子は露出した状態で存在していた。
前述した切断面集束イオンビーム(商品名:FB−2000C、日立製作所社製)にて切り出しながら取得した断面画像を用い絶縁性粒子の空隙量を観察することでその形状がバルーン状であるか否かの判断も行った。実施例1の絶縁性粒子はバルーン状を示していなかった。なお、絶縁性粒子の断面積の80%以上が空隙になっている場合、バルーン状であると判断した。以後の実施例及び比較例においても同様の判断基準である。
PMMA粒子を熱膨張マイクロカプセル粒子3質量部に、未加硫ゴムローラの軸方向の中央の外径が8.25mm、中央から両端方向へ各90mm離れた位置の外径が8.15mmのクラウン形状に変更した以外は帯電部材(1)と同様に製造した。表4に製造した帯電部材の詳細及び評価結果を示す。
イオン交換水4000質量部と、分散安定剤としてコロイダルシリカ9質量部及びポリビニルピロリドン0.15質量部の水性混合液を調製した。次いで、重合性単量体としてアクリロニトリル50質量部、メタクリロニトリル45質量部及び、メチルメタクリレート5質量部と、内包物質としてイソペンタン5.0質量部及びノルマルヘキサン7.5質量部と、重合開始剤としてジクミルパーオキシド0.75質量部からなる油性混合液を調製した。この油性混合液を、前記水性混合液に添加し、更に水酸化ナトリウム0.4質量部を添加することにより、分散液を調製した。
得られた分散液を、ホモジナイザーを用いて3分間攪拌混合し、窒素置換した重合反応容器内へ仕込み、200rpmの攪拌下、60℃で20時間反応させることにより、反応生成物を調製した。得られた反応生成物について、濾過と水洗を繰り返した後、80℃で5時間乾燥することでカプセル粒子を作製した。
得られたカプセル粒子を乾式気流分級機(商品名:クラッシールN−20、セイシン企業社製)により篩い分け、カプセル粒子を得た。分級条件は、分級ローターの回転数を1500rpmとした。得られたカプセル粒子の体積平均粒子径は10.0μmであった。
表面の材料種、配合量、加硫条件、表面処理条件を表4のように変更した以外は帯電部材(1)と同様に製造した。表4に製造した帯電部材の詳細及び評価結果を示す。
未加硫ゴムローラを軸方向の中央の外径を9.00mm、中央から両端方向へ各90mm離れた位置の外径を8.90mmに成形し、加硫ゴムローラの表面を、プランジカット式の円筒研磨機を用いて研磨した後に紫外線照射を行った以外は、帯電部材(1)と同様にして帯電部材(14)を作製し、評価を行った。研磨は以下のように行った。研磨砥粒としてビトリファイド砥石を用い、砥粒は緑色炭化珪素(GC)で粒度は100メッシュとした。ローラの回転数を400rpmとし、研磨砥石の回転数を2500rpmとした。切り込み速度を20mm/minとし、スパークアウト時間(切り込み0mmでの時間)を1秒と設定し、加硫ゴムローラの外径で400μmを研磨代とし、中央と中央から両端方向へ各90mm離れた位置との外径差が100μmになるように研磨した。
表4に製造した帯電部材の詳細及び評価結果を示す。
上記、電子写真感光体の製造例及び帯電部材の製造例にしたがって製造した電子写真感光体(1)及び帯電部材(1)を用いて、以下の評価を実施した。
作製した帯電部材及び電子写真感光体を温度23℃、湿度50%RHの環境下において、ヒューレットパッカード(株)製のレーザービームプリンター(商品名:HP LaserJet Enterprise Color M553dn、日本HP(株)製)の改造機に装着した。そして、表面電位の測定を行った。詳しくは以下のとおりである。
表面電位評価の測定は、上記レーザービームプリンターのプロセスカートリッジを改造し、現像位置に電位プローブ(商品名:model6000B−8、トレック・ジャパン(株)製)を装着し、電子写真感光体の中央部の電位を表面電位計(商品名:model344、トレック・ジャパン(株)製)を使用して測定した。電子写真感光体の表面電位は、初期の帯電電位(Vd)が−500Vになるように設定した。
上記、レーザービームプリンターを用いて、A4サイズの普通紙で、印字率1%の文字画像による出力を3,000枚行った。
3,000枚画像形成前後の帯電電位差を測定した。帯電電位の変動値が小さい程、プロセスカートリッジを長期使用した際の帯電電位の変動を抑制する効果は高い。帯電電位差は、下記式に基づき、耐久後の帯電電位(Vdt)と初期の帯電電位(Vd)の差分によって評価した。
ΔVd=|耐久後帯電電位(Vdt)−初期帯電電位(Vd)|
結果を表5に示す。
帯電部材と電子写真感光体の組み合わせを、表5のように変更した以外は、実施例1と同様に評価を実施した。結果を表5に示す。
2 軸
3 帯電手段
4 露光光
5 現像手段
6 転写手段
7 クリーニング部材
8 定着手段
9 プロセスカートリッジ
10 案内手段
P 転写材
Claims (10)
- 樹脂及び電荷輸送物質を含有する表面層を有する電子写真感光体と、
該電子写真感光体を帯電する帯電部材と、
を有するプロセスカートリッジにおいて、
該電子写真感光体の該表面層の、7mNの押込み力で測定されるマルテンス硬度の平均値が245N/mm2以上であり、
該帯電部材の表面の、三次元表面性状規格(ISO25178−2:2012)で定義されるコア部において、0.04mNの押込み力で測定されるマルテンス硬度の平均値が、2N/mm2以上20N/mm2以下であり、かつ、走査型プローブ顕微鏡により視野2μm角で測定される粘性の平均値が、70mV以下であることを特徴とするプロセスカートリッジ。 - 前記樹脂が、一般式(I)で示される構造及び一般式(II)で示される構造を有するポリエステル樹脂、並びに、一般式(III)で示される構造を有するポリカーボネート樹脂から選択される少なくとも1種の樹脂である請求項1に記載のプロセスカートリッジ。
- 前記ポリカーボネート樹脂中の、前記一般式(III)で示される構造に占める、前記一般式(III−1)で示される構造の割合が、30mol%以上である請求項5に記載のプロセスカートリッジ。
- 前記電子写真感光体の前記表面層が、平均一次粒径40nm以上200nm以下のシリカ粒子を含有し、
前記シリカ粒子の含有量が、前記樹脂の固形分の含有量に対して、1質量%以上10質量%以下である請求項1〜7のいずれか1項に記載のプロセスカートリッジ。 - 前記帯電部材の表面が、ブタジエン骨格を有する重合体を含むゴム組成物の加硫物を含有する請求項1〜8のいずれか1項に記載のプロセスカートリッジ。
- 請求項1〜9のいずれか1項に記載のプロセスカートリッジを有することを特徴とする電子写真装置。
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