JP7059111B2 - 電子写真感光体およびその製造方法、並びにプロセスカートリッジおよび電子写真画像形成装置 - Google Patents

Description

本発明は電子写真感光体およびその製造方法、並びに該電子写真感光体を有するプロセスカートリッジおよび電子写真画像形成装置に関する。

電子写真画像形成装置（以下、「電子写真装置」とも称する。）に搭載される電子写真感光体は、感度と耐摩耗性向上のために、これまで幅広い検討がなされてきた。その一例として、電子写真感光体の電荷輸送層の上層に保護層としてラジカル重合基を有する電荷輸送材を用い、硬化させることで感度と耐摩耗性を向上させてきた。

積層型の感光体の場合、上層と下層の弾性変形率差が大きいと界面が歪み、膜剥がれが生じやすくなる。特に架橋硬化膜は極性官能基が少ないこと、弾性変形率が大きいことなどから膜剥がれを起こしやすい。

この課題を解決するため、特許文献１では架橋硬化膜の界面の硬化性を調整し、耐久性を高めている。
また特許文献２では下層の接触角と上層の弾性変形率を調整し膜剥がれを抑制している。

特開２０１０－６６６７２号公報 特開２０１７－１６１７１８号公報

しかしながら、本発明者らの検討の結果、特許文献１または２に開示されている構成では、電荷輸送層と保護層の膜剥がれの抑制に対し不十分な場合があることが分かった。

本発明の目的は、長期の使用において膜剥がれを起こさない電子写真感光体、および前記電子写真感光体を効率よく生産する製造方法を提供することである。

上記の目的は以下の本発明によって達成される。即ち、本発明にかかる電子写真感光体は、支持体と、積層型感光層と、保護層と、をこの順に有する電子写真感光体であって、
該保護層は単層であって、該保護層が式Ｉで示される構造および式ＩＩで示される構造を含み、式Ｉで示される構造が式ＩＩで示される構造に対し２０％以上２４０％以下の質量比で該保護層中に含まれており、かつ、
内部反射エレメントがＧｅ、入射角が４５°の条件でフーリエ変換赤外分光全反射法により求められる下記式（１）で表されるＡ値が、下記式（２）～式（４）を満たすことを特徴とする電子写真感光体である。

（式Ｉおよび式ＩＩ中、Ｒは、それぞれ独立に水素原子またはメチル基であり、ｎはそれぞれ独立に２～５の整数である。）
（１）Ａ＝Ｓ１／Ｓ２
（式（１）中、Ｓ１は末端オレフィン（ＣＨ_２＝）面内変角振動に基づくピーク面積であり、Ｓ２はアクリロイルオキシ基のＣ＝Ｏ伸縮振動に基づくピーク面積である。）
（２）０．００３≦Ａ１≦０．０２３
（３）０．００５≦Ａ２≦０．０３０
（４）０．２≦Ａ１／Ａ２≦０．９７
（式（２）～式（４）中、Ａ１は前記保護層において表面側から求められるＡ値であり、Ａ２は前記保護層において前記積層型感光層との界面側から求められるＡ値である。）

また、本発明の別の一態様は、前記電子写真感光体の製造方法であって、
前記保護層の塗布液を調製する工程と、該塗布液を塗布して塗布膜を形成する工程と、該塗布膜に電子線を照射する電子線照射工程と、加熱によって該塗布膜を硬化させる加熱工程と、を有し、
前記電子線照射工程において、
電子線の加速電圧が４０ｋＶ以上７０ｋＶ以下であり、かつ該塗布膜の表面の電子線の吸収線量が５ｋＧｙ以上４５ｋＧｙ以下となるように該塗布膜の表面と電子線照射装置の照射窓箔の距離を１０ｍｍ以上４０ｍｍ以下とし、
前記加熱工程において、
加熱温度の終温度が１００℃以上１５０℃以下であり、および
前記電子線照射工程および前記加熱工程が３００ｐｐｍ以下の酸素濃度において行われることを含む、
電子写真感光体の製造方法である。

さらに、本発明の別の一態様は、前記電子写真感光体と、帯電手段、現像手段、およびクリーニング手段からなる群より選択される少なくとも１つの手段とを一体に支持し、電子写真装置本体に着脱自在であることを特徴とするプロセスカートリッジである。

またさらに、本発明の別の一態様は、前記電子写真感光体と、帯電手段、露光手段、現像手段、および転写手段からなる群より選択される少なくとも１つの手段を有することを特徴とする電子写真画像形成装置である。

本発明によれば、長期の使用を通じて膜剥がれによる画像欠陥が生じない電子写真感光体を提供することができる。

本発明の一実施形態に係る電子写真感光体を備えたプロセスカートリッジを有する電子写真画像形成装置の概略図である。

以下、好適な実施の形態を挙げて、本発明を詳細に説明する。
感光体の保護層と積層型感光層が有する電荷輸送層は弾性率の差が大きいため、外部応力により保護層と電荷輸送層の界面が歪み、膜剥がれが生じやすい。この解決のため、保護層の弾性率を下げる方法があるが、下げ過ぎると保護層と他部材、例えばクリーニングブレードとの離型性が低下すため、保護層が強く引っ張られ膜剥がれが生じてしまう。そこで本発明では式Ｉで示される構造が式ＩＩで示される構造に対し２０％以上２４０％以下の質量比で保護層中に含まれる硬化物で、かつ式（１）で表されるＡ値が、式（２）～（４）を満たす単層の保護層とすることで、保護層と他部材との離型性を良好に保ちつつ、保護層と電荷輸送層の界面での弾性率差を低減し、保護層と電荷輸送層の界面での相互作用強化を促進させ、膜剥がれを抑制する。このメカニズムについて説明する。

（式Ｉおよび式ＩＩ中、Ｒは、それぞれ独立に水素原子またはメチル基であり、ｎはそれぞれ独立に２～５の整数である。）

式Ｉで示される構造と式ＩＩで示される構造を含む組成物を硬化させると保護層表面側での硬化が電荷輸送層との界面側での硬化より進行しやすいと考えられる。これは式Ｉで示される構造は式ＩＩで示される構造に比べ立体障害が小さいため、ウェット膜中で保護層表面側に移行しやすく、また硬化も進行しやすい特性を持つためである。一方で、電荷輸送層との界面側には立体障害の大きな式ＩＩで示される構造が集まるため、硬化の進行が弱まる。これにより、保護層の電荷輸送層との界面側のみ弾性率が低下し、加えて未反応のアクリロイルオキシ基（以下、「残官能基」とも称する。）による電荷輸送層との相互作用が促進され、保護層と電荷輸送層の密着性が向上する。また、式Ｉで示される構造および式ＩＩで示される構造を含む保護層は、式ＩＩで示される構造のみを含む保護層に比べ膜剥がれに強い。この理由は定かではないが、式Ｉで示される構造の影響により式ＩＩで示される構造の残官能基が電荷輸送層に対し垂直方向に配向しやすくなるため、より強い相互作用を生じるためと推測される。

これらの効果を最大限に発現できる硬化性を検討した結果、Ａ１の値を０．００３以上０．０２３以下の範囲に、Ａ２の値を０．００５以上０．０３０以下の範囲に、Ａ１の値とＡ２の値の比を０．２以上０．９７以下の範囲に制御することが重要であることが分かった。Ａ１の値とＡ２の値で示されるＡ値は、内部反射エレメントがＧｅ、入射角が４５°の条件でフーリエ変換赤外分光全反射法を用いて保護層を測定して得られる末端オレフィン（ＣＨ_２＝）面内変角振動に基づくピーク面積Ｓ１のアクリロイルオキシ基のＣ＝Ｏ伸縮振動に基づくピーク面積Ｓ２に対する比を示し、Ａ１は保護層の表面側から求めたＳ１およびＳ２に基づくＡ値であり、Ａ２は前記保護層において前記電荷輸送層との界面側から求めたＳ１およびＳ２に基づくＡ値である。Ａ値は未反応のアクリロイルオキシ基の存在率を表しており、数値が小さいほど硬化が進んでいると言える。Ａ１の値が０．００３を下回ると硬化が進み過ぎ、弾性率が高くなり保護層と電荷輸送層の密着性が低下する。Ａ１の値が０．０２３を上回ると保護層表面の残官能基の増加により保護層の表面エネルギーが増加し、他部材との離型性が低下し、保護層が他部材に引っ張られるため保護層と電荷輸送層の密着性が低下する。Ａ２の値が０．００５を下回ると残官能基の減少により、電荷輸送層との相互作用が弱まり、保護層と電荷輸送層の密着性が低下する。Ａ２の値が０．０３０を上回ると膜が脆くなり保護層と電荷輸送層の密着性が低下する。Ａ１／Ａ２の値が０．２を下回ると、保護層の表面側と界面側の弾性率差が大きくなるため、外部応力による保護層の応力歪みが大きくなり保護層と電荷輸送層の密着性が低下する。Ａ１／Ａ２の値が０．９７を上回ると保護層の表面エネルギー増加による他部材との離型性低下の効果が、保護層と電荷輸送層との界面での相互作用による密着性向上の効果を上回り、膜剥がれが生じる。本発明の効果は、前記Ａ１の値を０．００３以上０．０２０以下の範囲にＡ２の値を０．００８以上０．０２４以下の範囲に、Ａ１／Ａ２の値を０．３以上０．８５以下の範囲に制御することでより強く発現する。Ａ１／Ａ２の値を０．３以上の範囲に制御することで、保護層の表面側と界面側の硬化性が近づき保護層内部での応力緩和がスムーズに行われ、外部応力による保護層の歪みが小さくなるため、保護層と電荷輸送層の密着性が向上すると考えられる。Ａ１／Ａ２の値を０．８５以下の範囲に制御することで周辺部材と保護層の離型性、保護層と電荷輸送層界面の相互作用、保護層の応力歪みが最適なバランスとなると考えられる。前述の効果は、Ａ１／Ａ２の値を０．３以上０．６９以下の範囲に制御するとさらに強まる。

Ａ１の値およびＡ２の値を制御するに当たり保護層を積層する方法が考えられるが、この方法では第一の保護層と第二の保護層の界面が膜剥がれの起点となる。従って、本発明における保護層は単層である必要がある。

本発明の電子写真感光体の保護層を、フーリエ変換赤外分光全反射法（以下、「ＡＴＲ法」と称する。）を用いて測定する方法を以下に述べる。
ＡＴＲ法は、内部反射エレメント（以下、「ＩＲＥ」と称する。）と呼ばれる、試料より高い屈折率を有する結晶に試料を密着させ、臨界角以上の入射角で赤外光を結晶に侵入させることにより測定する方法である。試料と結晶の界面で試料側に赤外光がわずかに入り込み、全反射することを利用した方法である。
ＡＴＲ法において、試料側に入り込む深さ（検出深度）を決めるのは、ＩＲＥの屈折率および光路の入射角である。本発明におけるＡ値は、ＩＲＥがＧｅ（屈折率４．０）、入射角が４５°の条件で測定されることにより、より表面近傍の重合度が計算される。

ＡＴＲ法の測定において、分光計のノイズレベルを小さくすることが重要であり、そのためには、高感度の分光計を用いること、スキャン回数を増やすこと等が必要である。
本発明において用いられる赤外分光計としては、高い波数精度および測光精度をもつＦＴ－ＩＲを用いる。スキャン回数は３２回以上がより好ましい。それ以下であるとノイズの影響が大きく、正確な測定ができない場合がある。

ＡＴＲ法測定時の電子写真感光体の形状としては、ＩＲＥとの接触が十分に保たれればどのような形状のものでもよい。

上記式Ｉで示される構造の好ましい例である式Ｉ－１～式Ｉ－３を以下に示す。この中でも式Ｉ－１、式Ｉ－２で示される構造がより好ましい。
上記式ＩＩで示される構造の好ましい例である式ＩＩ－１～式ＩＩ－３を以下に示す。この中でも式ＩＩ－１で示される構造がより好ましい。

本発明の効果は保護層と電荷輸送層の平均膜厚の和が１０μｍ以上１７μｍ以下で、保護層と電荷輸送層の平均膜厚の和に対する保護層の平均膜厚の割合が１０％以上３０％以下である電子写真感光体においてより強く発現する。本発明者らの検討の結果、保護層と電荷輸送層の平均膜厚の和が１０μｍ以上１７μｍ以下の場合において、保護層と電荷輸送層の平均膜厚の和に対する保護層の平均膜厚の割合が３０％を超えると外部応力による保護層の体積変化が大きくなることで界面での歪みが大きくなり、膜剥がれを生じやすくなることが分かった。また、保護層と電荷輸送層の平均膜厚の和に対する保護層の平均膜厚の割合１０％を下回っても膜剥がれが生じやすくなることが分かった。これは恐らく円筒管の曲率に由来する応力により界面が歪みやすくなるためと考えられる。なお、平均膜厚はシリンダーの上端から１３５ｍｍの位置を周方向に８点測定し、その値を平均した値ある。膜厚の測定にはいかなる方法を用いてもよいが、例えば渦電流方式を用いた膜厚計を用いることができる。渦電流方式を用いた膜厚計としては、例えばケツト科学研究所製のＬＨ－２００Ｊがあげられる。保護層および電荷輸送層の平均膜厚は、各層の製膜前後の差分として算出した。

本発明の電子写真感光体の製造方法における保護層の製造は、保護層の塗布液を調製する工程と、塗布液を塗布して塗布膜を形成する工程と、塗布膜に電子線を照射する電子線照射工程と、加熱によって塗布膜を硬化させる加熱工程とを有し、電子線照射工程において、電子線の加速電圧が４０ｋＶ以上７０ｋＶ以下であり、塗布膜の表面の電子線の吸収線量が５ｋＧｙ以上４５ｋＧｙ以下となるように塗布膜の表面と電子線照射装置の照射窓箔の距離が１０ｍｍ以上４０ｍｍ以下であり、加熱工程において加熱温度の終温度が１００℃以上１５０℃以下であり、並びに電子線照射工程および加熱工程が３００ｐｐｍ以下の酸素濃度において行われることを含む方法が好ましい。

保護層の製造において、塗布膜の硬化を膜の深さ方向で制御するには、加速電圧と照射距離で硬化深さを制御できる電子線硬化が好ましい。電子線照射工程および加熱工程の雰囲気は酸素濃度３００ｐｐｍ以下が好ましく、特には１００ｐｐｍ以下であることが好ましい。酸素濃度が３００ｐｐｍを超えると硬化性が悪化する場合がある。

また、電子線照射工程において、電子線の加速電圧が４０ｋＶを下回ると電子線の保護層への浸透深さが浅くなり、保護層の硬化が不十分になるため、保護層の耐摩耗性が悪化する。電子線の加速電圧が７０ｋＶを上回ると電子線の保護層への浸透深さが深くなりすぎ、保護層と電荷輸送層の界面側の硬化が促進され、残官能基による保護層と電荷輸送層の相互作用が弱まり、膜剥がれが起きやすくなる。電子線の加速電圧は、４０ｋＶ以上６０ｋＶ以下であることがより好ましい。

さらに、塗布膜表面の電子線の吸収線量が５ｋＧｙを下回ると塗布膜の硬化が進行せず、４５ｋＧｙを上回ると感光体特性が劣化する。塗布膜表面の電子線の吸収線量は、１０ｋＧｙ以上３５ｋＧｙ以下の範囲であることがより好ましい。

塗布膜表面の電子線の吸収線量は、汎用のフィルム線量計、例えばＦａｒ Ｗｅｓｔ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ社製 ＲＡＤＩＡＣＨＲＯＭＩＣ ＲＥＡＤＥＲおよびＲａｄｉａｃｈｒｏｍｉｃ線量計（１０μｍ）により測定することができる。

なお、本発明では、塗布膜表面での電子線の吸収線量とは、Ｒａｄｉａｃｈｒｏｍｉｃ線量計（１０μｍ）のフィルムを、保護層用塗布液を塗布する前の電子写真感光体表面に貼り付け、その状態で電子線を照射した時に計測される吸収線量としている。

またさらに、塗布膜の表面と電子線照射装置の照射窓箔の距離（照射距離）が１０ｍｍを下回ると電子線の保護層への浸透深さが深くなり、界面側の硬化が進行し過ぎ、残官能基が減るため電荷輸送層との密着性が悪化する。照射距離が４０ｍｍを上回ると電子線の保護層への浸透深さが浅くなり、保護層の硬化性が不十分になるため保護層の耐摩耗性が悪化する。ここで、塗布膜の表面と電子線照射装置の照射窓箔の距離は、塗布膜の表面と電子線照射装置の照射窓箔の最短の距離を指す。電子線照射装置において、電子線は照射窓箔を通過した後に変性（失活）が始まるため、本発明では、塗布膜の表面と線源からの距離よりも、塗布膜の表面と照射窓箔との距離を規定している。

さらに、本発明の電子写真感光体の製造では、塗布膜への電子線照射後に加熱により塗布膜を硬化させる加熱工程により、塗布膜を保護層とする。加熱工程において、加熱温度の終温度が１００℃より低い温度では硬化が充分に進行せず、１５０℃より高い温度では塗膜が荒れる。したがって、加熱温度の終温度は、１００℃以上１５０℃以下であることが好ましく、１１０℃以上１３０℃以下であることがより好ましい。

また、加熱工程は初期温度から終温度まで昇温することにより行い、昇温時間が５秒以上６０秒以下であることが好ましい。この際、加熱工程の初期温度は室温であっても、電子線照射後の塗布膜の温度であってもよいが、電子線照射後の塗布膜の温度である方が好ましい。昇温時間が５秒を下回ると、昇温が早すぎるために硬化時に保護層が微小に変形する。昇温時間が６０秒を上回ると電荷輸送層が微小に変形し、保護層と電荷輸送層の密着に悪影響を及ぼす。

以上のメカニズムのように、各構成が相乗的に効果を及ぼし合うことによって、本発明の効果を達成することが可能となる電子写真感光体を製造することができる。

［電子写真感光体］
本発明の一態様に係る電子写真感光体は、支持体と、積層型感光層と、保護層とを有することを特徴とする。
本発明の電子写真感光体を製造する方法としては、後述する各層の塗布液を調製し、所望の層の順番に塗布して、乾燥させる方法が挙げられる。このとき、塗布液の塗布方法としては、浸漬塗布、スプレー塗布、インクジェット塗布、ロール塗布、ダイ塗布、ブレード塗布、カーテン塗布、ワイヤーバー塗布、リング塗布などが挙げられる。これらの中でも、効率性および生産性の観点から、浸漬塗布が好ましい。
以下、各層について説明する。

＜支持体＞
本発明において、電子写真感光体は、支持体を有する。本発明において、支持体は導電性を有する導電性支持体であることが好ましい。また、支持体の形状としては、円筒状、ベルト状、シート状などが挙げられる。中でも、円筒状支持体であることが好ましい。また、支持体の表面に、陽極酸化などの電気化学的な処理や、ブラスト処理、切削処理などを施してもよい。
支持体の材質としては、金属、樹脂、ガラスなどが好ましい。
金属としては、アルミニウム、鉄、ニッケル、銅、金、ステンレスや、これらの合金などが挙げられる。中でも、アルミニウムを用いたアルミニウム製支持体であることが好ましい。
また、樹脂やガラスには、導電性材料を混合または被覆するなどの処理によって、導電性を付与してもよい。

＜導電層＞
本発明において、支持体の上に、導電層を設けてもよい。導電層を設けることで、支持体表面の傷や凹凸を隠蔽することや、支持体表面における光の反射を制御することができる。
導電層は、導電性粒子と、樹脂と、を含有することが好ましい。

導電性粒子の材質としては、金属酸化物、金属、カーボンブラックなどが挙げられる。
金属酸化物としては、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、酸化インジウム、酸化ケイ素、酸化ジルコニウム、酸化スズ、酸化チタン、酸化マグネシウム、酸化アンチモン、酸化ビスマスなどが挙げられる。金属としては、アルミニウム、ニッケル、鉄、ニクロム、銅、亜鉛、銀などが挙げられる。
これらの中でも、導電性粒子として、金属酸化物を用いることが好ましく、特に、酸化チタン、酸化スズ、酸化亜鉛を用いることがより好ましい。
導電性粒子として金属酸化物を用いる場合、金属酸化物の表面をシランカップリング剤などで処理したり、金属酸化物にリンやアルミニウムなど元素やその酸化物をドーピングしたりしてもよい。
また、導電性粒子は、芯材粒子と、その粒子を被覆する被覆層とを有する積層構成としてもよい。芯材粒子としては、酸化チタン、硫酸バリウム、酸化亜鉛などが挙げられる。被覆層としては、酸化スズなどの金属酸化物が挙げられる。
また、導電性粒子として金属酸化物を用いる場合、その体積平均粒子径が、１ｎｍ以上５００ｎｍ以下であることが好ましく、３ｎｍ以上４００ｎｍ以下であることがより好ましい。

樹脂としては、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ポリウレタン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂などが挙げられる。
また、導電層は、シリコーンオイル、樹脂粒子、酸化チタンなどの隠蔽剤などをさらに含有してもよい。

導電層の平均膜厚は、１μｍ以上５０μｍ以下であることが好ましく、３μｍ以上４０μｍ以下であることが特に好ましい。
導電層は、上述の各材料および溶剤を含有する導電層用塗布液を調製し、この塗膜を形成し、乾燥させることで形成することができる。塗布液に用いる溶剤としては、アルコール系溶剤、スルホキシド系溶剤、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤、芳香族炭化水素系溶剤などが挙げられる。導電層用塗布液中で導電性粒子を分散させるための分散方法としては、ペイントシェーカー、サンドミル、ボールミル、液衝突型高速分散機を用いた方法が挙げられる。

＜下引き層＞
本発明において、支持体または導電層の上に、下引き層を設けてもよい。下引き層を設けることで、層間の接着機能が高まり、電荷注入阻止機能を付与することができる。

下引き層は、樹脂を含有することが好ましい。また、重合性官能基を有するモノマーを含有する組成物を重合することで硬化膜として下引き層を形成してもよい。
樹脂としては、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ポリウレタン樹脂、フェノール樹脂、ポリビニルフェノール樹脂、アルキッド樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリエチレンオキシド樹脂、ポリプロピレンオキシド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミド酸樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、セルロース樹脂などが挙げられる。
重合性官能基を有するモノマーが有する重合性官能基としては、イソシアネート基、ブロックイソシアネート基、メチロール基、アルキル化メチロール基、エポキシ基、金属アルコキシド基、ヒドロキシル基、アミノ基、カルボキシル基、チオール基、カルボン酸無水物基、炭素－炭素二重結合基などが挙げられる。

また、下引き層は、電気特性を高める目的で、電子輸送物質、金属酸化物、金属、導電性高分子などをさらに含有してもよい。これらの中でも、電子輸送物質、金属酸化物を用いることが好ましい。
電子輸送物質としては、キノン化合物、イミド化合物、ベンズイミダゾール化合物、シクロペンタジエニリデン化合物、フルオレノン化合物、キサントン化合物、ベンゾフェノン化合物、シアノビニル化合物、ハロゲン化アリール化合物、シロール化合物、含ホウ素化合物などが挙げられる。電子輸送物質として、重合性官能基を有する電子輸送物質を用い、上述の重合性官能基を有するモノマーと共重合させることで、硬化膜として下引き層を形成してもよい。
金属酸化物としては、酸化インジウムスズ、酸化スズ、酸化インジウム、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、二酸化ケイ素などが挙げられる。金属としては、金、銀、アルミなどが挙げられる。
また、下引き層は、添加剤をさらに含有してもよい。

下引き層の平均膜厚は、０．１μｍ以上５０μｍ以下であることが好ましく、０．２μｍ以上４０μｍ以下であることがより好ましく、０．３μｍ以上３０μｍ以下であることが特に好ましい。
下引き層は、上述の各材料および溶剤を含有する下引き層用塗布液を調製し、この塗膜を形成し、乾燥および／または硬化させることで形成することができる。塗布液に用いる溶剤としては、アルコール系溶剤、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤、芳香族炭化水素系溶剤などが挙げられる。

＜感光層＞
電子写真感光体の感光層は、主に、積層型感光層と、単層型感光層とに分類される。本発明の電子写真感光体は、電荷発生物質を含有する電荷発生層と、電荷輸送物質を含有する電荷輸送層と、を有する積層型感光層である。

（１）電荷発生層
電荷発生層は、電荷発生物質と、樹脂と、を含有することが好ましい。

電荷発生物質としては、アゾ顔料、ペリレン顔料、多環キノン顔料、インジゴ顔料、フタロシアニン顔料などが挙げられる。これらの中でも、アゾ顔料、フタロシアニン顔料が好ましい。フタロシアニン顔料の中でも、オキシチタニウムフタロシアニン顔料、クロロガリウムフタロシアニン顔料、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料が好ましい。
電荷発生層中の電荷発生物質の含有量は、電荷発生層の全質量に対して、４０質量％以上８５質量％以下であることが好ましく、６０質量％以上８０質量％以下であることがより好ましい。

樹脂としては、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ポリウレタン樹脂、フェノール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、セルロース樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂などが挙げられる。これらの中でも、ポリビニルブチラール樹脂がより好ましい。

また、電荷発生層は、酸化防止剤、紫外線吸収剤などの添加剤をさらに含有してもよい。具体的には、ヒンダードフェノール化合物、ヒンダードアミン化合物、硫黄化合物、リン化合物、ベンゾフェノン化合物、などが挙げられる。

電荷発生層の平均膜厚は、０．１μｍ以上１μｍ以下であることが好ましく、０．１５μｍ以上０．４μｍ以下であることがより好ましい。
電荷発生層は、上述の各材料および溶剤を含有する電荷発生層用塗布液を調製し、この塗膜を形成し、乾燥させることで形成することができる。塗布液に用いる溶剤としては、アルコール系溶剤、スルホキシド系溶剤、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤、芳香族炭化水素系溶剤などが挙げられる。

（２）電荷輸送層
電荷輸送層は、電荷輸送物質と、樹脂と、を含有することが好ましい。

電荷輸送物質としては、例えば、多環芳香族化合物、複素環化合物、ヒドラゾン化合物、スチリル化合物、エナミン化合物、ベンジジン化合物、トリアリールアミン化合物や、これらの物質から誘導される基を有する樹脂などが挙げられる。これらの中でも、トリアリールアミン化合物、ベンジジン化合物が好ましい。
電荷輸送層中の電荷輸送物質の含有量は、電荷輸送層の全質量に対して、２５質量％以上７０質量％以下であることが好ましく、３０質量％以上５５質量％以下であることがより好ましい。

樹脂としては、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、ポリスチレン樹脂などが挙げられる。これらの中でも、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂が好ましい。ポリエステル樹脂としては、特にポリアリレート樹脂が好ましい。
電荷輸送物質と樹脂との含有量比（質量比）は、４：１０～２０：１０が好ましく、５：１０～１２：１０がより好ましい。

また、電荷輸送層は、酸化防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤、レベリング剤、滑り性付与剤、耐摩耗性向上剤などの添加剤を含有してもよい。具体的には、ヒンダードフェノール化合物、ヒンダードアミン化合物、硫黄化合物、リン化合物、ベンゾフェノン化合物、シロキサン変性樹脂、シリコーンオイル、フッ素樹脂粒子、ポリスチレン樹脂粒子、ポリエチレン樹脂粒子、シリカ粒子、アルミナ粒子、窒化ホウ素粒子などが挙げられる。

電荷輸送層の平均膜厚は、５μｍ以上３０μｍ以下であることが好ましく、８μｍ以上２０μｍ以下であることがより好ましい。
電荷輸送層は、上述の各材料および溶剤を含有する電荷輸送層用塗布液を調製し、この塗膜を形成し、乾燥させることで形成することができる。塗布液に用いる溶剤としては、アルコール系溶剤、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤、芳香族炭化水素系溶剤が挙げられる。これらの溶剤の中でも、エーテル系溶剤または芳香族炭化水素系溶剤が好ましい。

＜保護層＞
本発明の電子写真感光体は、積層型感光層の上に保護層としての役割を果たす表面層を設ける。
保護層は、電荷輸送能を有する式Ｉで示される構造および式ＩＩで示される構造を含み、式Ｉで示される構造および式ＩＩで示される構造に対応する重合性官能基を有するモノマーを含有する組成物を重合することで硬化膜として形成することができる。モノマーを重合する際の反応としては、熱重合反応、光重合反応、放射線重合反応などが挙げられる。

Ｉで示される構造および式ＩＩで示される構造に対応する重合性官能基を有するモノマーの例としては、それぞれ以下の式Ａ－１～式Ａ－１０および式Ｂ－１～式Ｂ－６で示される化合物が挙げられる。

保護層は、酸化防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤、レベリング剤、滑り性付与剤、耐摩耗性向上剤、などの添加剤を含有してもよい。具体的には、ヒンダードフェノール化合物、ヒンダードアミン化合物、硫黄化合物、リン化合物、ベンゾフェノン化合物、シロキサン変性樹脂、シリコーンオイル、フッ素樹脂粒子、ポリスチレン樹脂粒子、ポリエチレン樹脂粒子、シリカ粒子、アルミナ粒子、窒化ホウ素粒子などが挙げられる。

保護層は、さらに導電性粒子および／または電荷輸送物質と、樹脂とを含有してもよい。
導電性粒子としては、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化インジウムなどの金属酸化物の粒子が挙げられる。
電荷輸送物質としては、多環芳香族化合物、複素環化合物、ヒドラゾン化合物、スチリル化合物、エナミン化合物、ベンジジン化合物、トリアリールアミン化合物や、これらの物質から誘導される基を有する樹脂などが挙げられる。これらの中でも、トリアリールアミン化合物、ベンジジン化合物が好ましい。
樹脂としては、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂などが挙げられる。中でも、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂が好ましい。

保護層中の式Ｉで示される構造と式ＩＩで示される構造の総量は、保護層の全質量に対し５０％以上であることが好ましく、７０％以上であることがより好ましい。

保護層の平均膜厚は、電子写真特性の観点から、０．５μｍ以上１０μｍ以下であることが好ましく、１μｍ以上７μｍ以下であることが好ましい。特に、保護層と電荷輸送層の平均膜厚の和が１０μｍ以上１７μｍ以下であり、保護層と電荷輸送層の平均膜厚の和に対する保護層の平均膜厚の割合が１０％以上３０％以下であることが好ましい。

以下に、本発明の電子写真感光体における保護層の詳細な製造方法を述べる。
保護層は、上述の各材料および溶剤を含有する保護層用塗布液を調製し、保護層用塗布液の塗膜を形成した後に、塗膜を乾燥および／または硬化させることで形成する。保護層用塗布液に用いる溶剤としては、上述の各材料を溶解または分散することのできる溶剤であれば、いかなる溶剤も用いることができるが、例えば、アルコール系溶剤、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤、スルホキシド系溶剤、エステル系溶剤、芳香族炭化水素系溶剤が挙げられる。

保護層用塗布液中の、式Ｉで示される構造および式ＩＩで示される構造に対応する重合性官能基を有するモノマーは、公知の重合方法により重合および架橋（以下、単に「重合」とも称す。）される。重合方法としては、熱を用いる熱重合反応、可視光、紫外線などの光を用いる光重合反応、電子線やγ線などの放射線を用いる放射線重合反応などを用いる方法が挙げられる。いずれの方法でも、必要に応じて、保護層用塗布液に重合開始剤を含有させてもよい。中でも、重合開始剤を特に必要としない、放射線重合反応、特に電子線を用いる重合反応を用いる方法が好ましい。重合開始剤を用いずに式Ｉで示される構造および式ＩＩで示される構造に対応する重合性官能基を有するモノマーを重合させることにより、非常に高純度な３次元マトリックスの保護層を形成することができるためである。このような保護層を有する電子写真感光体は、良好な電子写真特性を示す。また、放射線の中でも電子線による重合は、照射による電子写真感光体へのダメージが非常に少なく、良好な電子写真特性を発現させることができる。

電子線を照射する際には、スキャニング型、エレクトロカーテン型、ブロードビーム型、パルス型およびラミナー型などの電子線照射装置を用いて行うことができる。電子線の加速電圧は４０ｋＶ以上７０ｋＶ以下であることが好ましい。塗布膜の表面の電子線の吸収線量は５ｋＧｙ以上４５ｋＧｙ以下の範囲であることが好ましい。また、塗布膜の表面と電子線照射装置の照射窓箔の距離が１０ｍｍ以上４０ｍｍ以下であることが好ましい。

また、式Ｉで示される構造および式ＩＩで示される構造に対応する重合性官能基を有するモノマーの重合の後に、塗布膜を加熱することが好ましい。加熱温度が高すぎると電子写真感光体の材料に劣化が生じる場合があるため、加熱は、被照射体の温度が１５０℃以下となるように行うことが好ましい。一方、加熱の温度が低すぎると、式Ｉで示される構造および式ＩＩで示される構造に対応する重合性官能基を有するモノマーの重合が十分に進行しないため、加熱は、塗布膜の温度が１００℃以上となるように行うことが好ましい。

さらに加熱は、５秒以上６０秒以下で昇温しながら行うことが好ましく、電子線照射後の塗布膜の温度から前記加熱時間内に上記過熱温度へと昇温することがより好ましい。

電子線照射時および被照射体加熱時の雰囲気は、大気中、窒素やヘリウムなどの不活性ガス中、真空中のいずれであってもよいが、酸素によるラジカルの失活を抑制することができるという点で、不活性ガス中または真空中が好ましい。電子線照射時および被照射体加熱時の雰囲気の酸素濃度は３００ｐｐｍ以下であることが好ましい。
また、電子写真感光体の保護層の平均膜厚は、電子写真特性の観点から、１０μｍ以下であることが好ましく、７μｍ以下であることがより好ましい。一方、電子写真感光体の耐久性の観点から、０．５μｍ以上であることが好ましく、１μｍ以上であることがより好ましい。

［プロセスカートリッジ、電子写真装置］
本発明のプロセスカートリッジは、これまで述べてきた電子写真感光体と、帯電手段、現像手段、およびクリーニング手段からなる群より選択される少なくとも１つの手段とを一体に支持し、電子写真装置本体に着脱自在であることを特徴とする。

また、本発明の電子写真装置は、これまで述べてきた電子写真感光体、帯電手段、露光手段、現像手段および転写手段を有することを特徴とする。

図１に、電子写真感光体を備えたプロセスカートリッジを有する電子写真装置の概略構成の一例を示す。
円筒状の電子写真感光体１は、軸２を中心に矢印方向に所定の周速度で回転駆動される。電子写真感光体１の表面は、帯電手段３により、正または負の所定電位に帯電される。なお、図においては、ローラ型帯電部材によるローラ帯電方式を示しているが、コロナ帯電方式、近接帯電方式、注入帯電方式などの帯電方式を採用してもよい。帯電された電子写真感光体１の表面には、露光手段（不図示）から露光光４が照射され、目的の画像情報に対応した静電潜像が形成される。電子写真感光体１の表面に形成された静電潜像は、現像手段５内に収容されたトナーで現像され、電子写真感光体１の表面にはトナー像が形成される。電子写真感光体１の表面に形成されたトナー像は、転写手段６により、転写材７に転写される。トナー像が転写された転写材７は、定着手段８へ搬送され、トナー像の定着処理を受け、電子写真装置の外へプリントアウトされる。電子写真装置は、転写後の電子写真感光体１の表面に残ったトナーなどの付着物を除去するための、クリーニング手段９を有していてもよい。また、クリーニング手段を別途設けず、上記付着物を現像手段などで除去する、所謂、クリーナーレスシステムを用いてもよい。電子写真装置は、電子写真感光体１の表面を、前露光手段（不図示）からの前露光光１０により除電処理する除電機構を有していてもよい。また、本発明のプロセスカートリッジを電子写真装置本体に着脱するために、レールなどの案内手段１２を設けてもよい。

本発明の電子写真感光体は、レーザービームプリンター、ＬＥＤプリンター、複写機、ファクシミリ、および、これらの複合機などに用いることができる。

以下、実施例および比較例を用いて本発明をさらに詳細に説明する。本発明は、その要旨を超えない限り、下記の実施例によって何ら限定されるものではない。なお、以下の実施例の記載において、「部」とあるのは特に断りのない限り質量基準である。

＜電子写真感光体の製造＞
〔実施例１〕
直径２４ｍｍ、長さ２５７．５ｍｍのアルミニウムシリンダー（ＪＩＳ－Ａ３００３、アルミニウム合金）を支持体（導電性支持体）とした。

次に、金属酸化物粒子としての酸素欠損型酸化スズ（ＳｎＯ_２）で被覆されている酸化チタン（ＴｉＯ_２）粒子（平均一次粒子径２３０ｎｍ）２１４部、結着材料としてのフェノール樹脂（フェノール樹脂のモノマー／オリゴマー）（商品名：プライオーフェンＪ－３２５、大日本インキ化学工業（株）製、樹脂固形分：６０質量％）１３２部、および、溶剤としての１－メトキシ－２－プロパノール９８部を、直径０．８ｍｍのガラスビーズ４５０部を用いたサンドミルに入れ、回転数：２０００ｒｐｍ、分散処理時間：４．５時間、冷却水の設定温度：１８℃の条件で分散処理を行い、分散液を得た。この分散液からメッシュ（目開き：１５０μｍ）でガラスビーズを取り除いた。
ガラスビーズを取り除いた後の分散液中の金属酸化物粒子と結着材料の合計質量に対して１０質量％になるように、表面粗し付与材を分散液に添加した。表面粗し付与材としてはシリコーン樹脂粒子（商品名：トスパール１２０、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ（株）製、平均粒径２μｍ）を用いた。また、分散液中の金属酸化物粒子と結着材料の合計質量に対して０．０１質量％になるように、レベリング剤としてのシリコーンオイル（商品名：ＳＨ２８ＰＡ、東レ・ダウコーニング（株）製）を分散液に添加した。次に、分散液中の金属酸化物粒子と結着材料と表面粗し付与材の合計質量（すなわち、固形分の質量）が分散液の質量に対して６７質量％になるように、メタノールと１－メトキシ－２－プロパノールの混合溶剤（質量比１：１）を分散液に添加した。これを攪拌することによって、導電層用塗布液を調製した。
この導電層用塗布液を支持体上に浸漬塗布し、これを１時間１４０℃で加熱することによって、平均膜厚が３０μｍの導電層を形成した。

次に、式（Ｅ－１）で示される電子輸送物質４部、ブロックイソシアネート（商品名：デュラネートＳＢＮ－７０Ｄ、旭化成ケミカルズ（株）製）５．５部、ポリビニルブチラール樹脂（商品名：エスレックＫＳ－５Ｚ、積水化学工業（株）製）０．３部、および触媒としてのヘキサン酸亜鉛（ＩＩ）（三津和化学薬品（株）製）０．０５部を、テトラヒドロフラン５０部と１－メトキシ－２－プロパノール５０部の混合溶媒に溶解して下引き層用塗布液を調製した。
この下引き層用塗布液を導電層上に浸漬塗布し、これを３０分間１７０℃で加熱することによって、平均膜厚が０．７μｍの下引き層を形成した。

次に、ＣｕＫα特性Ｘ線回折より得られるチャートにおいて、７．５°および２８．４°の位置にピークを有する結晶形のヒドロキシガリウムフタロシアニン１０部とポリビニルブチラール樹脂（商品名：エスレックＢＸ－１、積水化学工業社製）５部をシクロヘキサノン２００部に添加し、直径０．９ｍｍのガラスビーズを用いたサンドミル装置で６時間分散し、これにシクロヘキサノン１５０部と酢酸エチル３５０部をさらに加えて希釈して電荷発生層用塗布液を得た。得られた塗布液を下引き層上に浸漬塗布し、９５℃で１０分間乾燥することにより、平均膜厚が０．２０μｍの電荷発生層を形成した。なお、Ｘ線回折の測定は、次の条件で行ったものである。

［粉末Ｘ線回折測定］
使用測定機：理学電気（株）製、Ｘ線回折装置ＲＩＮＴ－ＴＴＲＩＩ
Ｘ線管球：Ｃｕ
管電圧：５０ＫＶ
管電流：３００ｍＡ
スキャン方法：２θ／θスキャン
スキャン速度：４．０°／ｍｉｎ
サンプリング間隔：０．０２°
スタート角度（２θ）：５．０°
ストップ角度（２θ）：４０．０°
アタッチメント：標準試料ホルダー
フィルター：不使用
インシデントモノクロ：使用
カウンターモノクロメーター：不使用
発散スリット：開放
発散縦制限スリット：１０．００ｍｍ
散乱スリット：開放
受光スリット：開放
平板モノクロメーター：使用
カウンター：シンチレーションカウンター

次に、下記式（Ｃ－１）で示される化合物（電荷輸送物質（正孔輸送性化合物））６部、下記式（Ｃ－２）で示される化合物（電荷輸送物質（正孔輸送性化合物））３部、下記式（Ｃ－３）で示される化合物（電荷輸送物質（正孔輸送性化合物））１部、ポリカーボネート（商品名：ユーピロンＺ４００、三菱エンジニアリングプラスチックス（株）製）１０部、および、下記式（Ｃ－４）と下記式（Ｃ－５）の共重合ユニットを有するポリカーボネート樹脂０．０２部（ｘ／ｙ=０．９５／０．０５：粘度平均分子量=２００００）、オルトキシレン２５部／安息香酸メチル２５部／ジメトキシメタン２５部の混合溶剤に溶解させることによって電荷輸送層用塗布液を調製した。この電荷輸送層用塗布液を電荷発生層上に浸漬塗布して塗膜を形成し、塗膜を３０分間１２０℃で乾燥させることによって、平均膜厚が１２μｍの電荷輸送層を形成した。

次に、式Ａ－５で示される化合物１０部、および式Ｂ－２で示される化合物１０部を１－プロパノール５０部、１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタン（商品名：ゼオローラＨ、日本ゼオン（株）製）２５部を混合し、撹拌した。その後ポリフロンフィルター（商品名：ＰＦ－０２０、アドバンテック東洋（株）製）でこの溶液を濾過することによって、保護層用塗布液を調製した。
この保護層用塗布液を電荷輸送層上に浸漬塗布して塗膜を形成し、得られた塗膜を６分間５０℃で乾燥させた。その後、窒素雰囲気下にて、電子線の加速電圧６０ｋＶ、ビーム電流５．０ｍＡの条件で支持体表面と電子線照射の照射窓箔の距離を２０ｍｍとし、支持体（被照射体）を２００ｒｐｍの速度で回転させながら、２．８秒間電子線を塗膜に照射した。なお、このときの塗布膜表面の電子線の吸収線量を上記に記載の方法で測定したところ、１５ｋＧｙであった。その後、窒素雰囲気下にて、２５℃から１１７℃まで４０秒かけて昇温させ、塗膜の加熱を行った。電子線照射から、その後の加熱処理までの酸素濃度は１０ｐｐｍ以下であった。次に、大気中において、塗膜の温度が２５℃になるまで自然冷却し、塗膜の温度が１０５℃になる条件で３０分間加熱処理を行い、平均膜厚３μｍの保護層を形成した。このようにして、保護層を有する電子写真感光体を作製した。このようにして、支持体、下引き層、電荷発生層、電荷輸送層および保護層をこの順に有する円筒状（ドラム状）の実施例１の電子写真感光体１を製造した。

〔実施例２～３３〕
実施例１において、式Ａ－５で示される化合物および式Ｂ－２で示される化合物（重合性モノマー）、電子線の加速電圧、支持体表面と電子線照射の照射窓箔の距離（照射距離）、塗布膜の電子線の吸収線量（吸収線量）、電子線の照射時間、加熱工程における終温度（加熱終温度）および昇温時間、並びに電子線照射工程および加熱工程における酸素濃度、電荷輸送層の平均膜厚、および保護層の平均膜厚を表１に示すように変更する以外は実施例１と同様にして電子写真感光体を作製した。
なお、実施例２６～２８ではビーム電流を７ｍＡに変更し、実施例２９ではビーム電流を６ｍＡに変更した。

〔比較例１〕
実施例１において、保護層を作製した後、前記保護層の上から実施例１に記載する保護層を再度作製し、積層の保護層を有する電子写真感光体を作製した。

〔比較例２～１０〕
実施例１において、式Ａ－５で示される化合物および式Ｂ－２で示される化合物（重合性モノマー）、電子線の加速電圧、塗布膜の電子線の吸収線量（吸収線量）、電子線の照射時間、加熱工程における終温度（加熱終温度）および昇温時間、並びに電子線照射工程および加熱工程における酸素濃度を表１に示すように変更する以外は実施例１と同様にして電子写真感光体を作製した。

表１中Ｏ－１およびＯ－２は、それぞれ以下の式Ｏ－１および式Ｏ－２で示される化合物である。

［評価］
１．Ａ値の測定
製造した電子写真感光体の保護層について、以下の手順でＡ値を測定した。
得られた電子写真感光体から、カミソリで保護層を長手方向に切開することで感光層ごと剥離し、保護層と電荷輸送層の界面側に残った電荷輸送層の膜をクロロベンゼンで完全に除去した。その後、自然乾燥を行い、測定用のサンプルを得た。このサンプルを用いて、保護層の表面側から求められるＡ１の値と保護層の電荷輸送層との界面側から求められるＡ２の値を以下の条件で測定した。評価結果を表２に示す。なお、表２で示したＡ１の値とＡ２の値は、それぞれ、測定用のサンプルの長手方向３点、周方向４点の計１２点を測定した値の平均値である。

（測定条件）
装置：ＦＴ／ＩＲ－４２０（日本分光（株）製）
付属装置：ＡＴＲ装置
ＩＲＥ：Ｇｅ
入射角：４５度
積算回数：３２

２．保護層の密着力の評価
評価機としてレーザービームプリンター（商品名：ＨＰ ＬａｓｅｒＪｅｔ Ｅｎｔｅｒｐｒｉｓｅ６００ Ｍ６０３、ヒューレットパッカード（株）製、非接触現像方式、プリント速度：Ａ４縦６０枚／分）を以下に示すように改造し、密着力の評価を行った。電子写真感光体と現像ローラー（スリーブ）の間隔を保持（規制）するために、電子写真感光体が形成されているシリンダーの上下端部から約９ｍｍ位置を中心として、４ｍｍ幅の回転できる円筒状でＰＯＭ素材の間隔保持部材を当接させた。当接力は感光体上端、下端ともに２３００ｇｆとした。この系における画像形成領域は、シリンダーの上端約２０ｍｍ位置から下端約２０ｍｍ位置であった。

このような条件で、温度５℃、湿度１０％ＲＨの環境下にて、Ａ４サイズの普通紙で印字比率１％の画像を、２枚画像形成するごとに停止する間欠モードにより、１００，０００枚の画像形成を行った。１，０００枚毎に、レーザー光量０．３ｃＪ／ｍ^２、感光体の暗部電位（Ｖｄ）－７００Ｖ設定時の明部電位（Ｖｌ）を測定した後、ハーフトーン画像を出力し、評価した。評価結果を表２に示す。

表２中、膜厚比とは、電荷輸送層と保護層の平均膜厚の和に対する保護層の平均膜厚の割合（％）である。

１ 電子写真感光体
２ 軸
３ 帯電手段
４ 露光光
５ 現像手段
６ 転写手段
７ 転写材
８ 定着手段
９ クリーニング手段
１０ 前露光光
１１ プロセスカートリッジ
１２ 案内手段

Claims (7)

1. 支持体と、積層型感光層と、保護層と、をこの順に有する電子写真感光体であって、
   該保護層は単層であって、該保護層が式Ｉで示される構造および式ＩＩで示される構造を含み、式Ｉで示される構造が式ＩＩで示される構造に対し２０％以上２４０％以下の質量比で該保護層中に含まれており、かつ、
   内部反射エレメントがＧｅ、入射角が４５°の条件でフーリエ変換赤外分光全反射法により求められる下記式（１）で表されるＡ値が、下記式（２）～式（４）を満たすことを特徴とする電子写真感光体。
   

   

   

   （式Ｉおよび式ＩＩ中、Ｒは、それぞれ独立に水素原子またはメチル基であり、ｎはそれぞれ独立に２～５の整数である。）
   （１）Ａ＝Ｓ１／Ｓ２
   （式（１）中、Ｓ１は末端オレフィン（ＣＨ_２＝）面内変角振動に基づくピーク面積であり、Ｓ２はアクリロイルオキシ基のＣ＝Ｏ伸縮振動に基づくピーク面積である。）
   （２）０．００３≦Ａ１≦０．０２３
   （３）０．００５≦Ａ２≦０．０３０
   （４）０．２≦Ａ１／Ａ２≦０．９７
   （式（２）～式（４）中、Ａ１は前記保護層において前記電子写真感光体の表面側から求められるＡ値であり、Ａ２は前記保護層において前記積層型感光層との界面側から求められるＡ値である。）
2. 前記積層型感光層が電荷発生層と電荷輸送層とを有する感光層であって、前記保護層と該電荷輸送層の平均膜厚の和が１０μｍ以上１７μｍ以下、かつ該保護層と該電荷輸送層の平均膜厚の和に対する該保護層の平均膜厚の割合が１０％以上３０％以下である請求項１に記載の電子写真感光体。
3. 前記保護層のＡ値が式（５）～式（７）を満たす請求項１または２に記載の電子写真感光体。
   （５）０．００３≦Ａ１≦０．０２０
   （６）０．００８≦Ａ２≦０．０２４
   （７）０．３≦Ａ１／Ａ２≦０．８５
4. 請求項１～３のいずれか１項に記載の電子写真感光体の製造方法であって、
   前記保護層の塗布液を調製する工程と、該塗布液を塗布して塗布膜を形成する工程と、該塗布膜に電子線を照射する電子線照射工程と、加熱によって該塗布膜を硬化させる加熱工程と、を有し、
   前記電子線照射工程において、
   電子線の加速電圧が４０ｋＶ以上７０ｋＶ以下であり、かつ該塗布膜の表面の電子線の吸収線量が５ｋＧｙ以上４５ｋＧｙ以下となるように該塗布膜の表面と電子線照射装置の照射窓箔の距離を１０ｍｍ以上４０ｍｍ以下とし、
   前記加熱工程において、
   加熱温度の終温度が１００℃以上１５０℃以下であり、および
   前記電子線照射工程および前記加熱工程が３００ｐｐｍ以下の酸素濃度において行われることを含む、
   電子写真感光体の製造方法。
5. 前記加熱工程において、５秒以上６０秒以下の昇温時間で前記加熱を行う、請求項４に記載の電子写真感光体の製造方法。
6. 請求項１～３のいずれか１項に記載の電子写真感光体と、帯電手段、現像手段、およびクリーニング手段からなる群より選択される少なくとも１つの手段とを一体に支持し、電子写真装置本体に着脱自在であることを特徴とするプロセスカートリッジ。
7. 請求項１～３のいずれか１項に記載の電子写真感光体と、帯電手段、露光手段、現像手段、および転写手段からなる群より選択される少なくとも１つの手段を有することを特徴とする電子写真画像形成装置。

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