CN1733498A - 平版印刷版用支持体的制造方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供了通过进行一次电化学粗面化处理可以获得耐污染性和耐刷性都出色的平版印刷版原版的平版印刷版用支持体的制造方法。本发明提供一种平版印刷版用支持体的制造方法，其是在至少含有氯化物离子和硝酸离子的水溶液中，对铝板施加交流电流并使上述铝板为阳极时的电量总和为100～300C/dm2，进行电化学粗面化处理，获得平版印刷版用支持体。

Description

平版印刷版用支持体的制造方法
技术领域
本发明涉及平版印刷版用支持体的制造方法。详细地讲，涉及用于耐污染性和耐刷性都出色的平版印刷版原版的平版印刷版用支持体的制造方法。
背景技术
平版印刷法是利用了水与油未根本混合在一起的印刷方式，在被用于此的平版印刷版的印刷版面上，形成接受水并排斥油性墨的区域(以下，将该区域称为“非图像部”。)，及排斥水而接受油性墨的区域(以下，将该区域称为“图像部”。)。
用于平版印刷版的平版印刷版用铝支持体(以下，也简单地称为“平版印刷版用支持体”)的表面，由于其用于承担非图像部而要求其亲水性和保水性极好，并且要求其与在其上形成的图像记录层的粘附性出色等互易的各种性能。平版印刷版用支持体表面的亲水性如果过低，则印刷时油墨会附着在非图像部上，并且产生橡皮滚筒的污染，进而产生所谓的底污染。即，耐污染性变差。另外，表面的保水性如果过低，则印刷时没有增加润版水，则产生部分阴影的堵塞等不妥。此外，与图像记录层的粘附性如果过低，则图像记录层易于剥离，印刷张数多时耐久性(耐刷性)差。
因此，为了使耐污染性和耐刷性等各种性能得到改善，在平版印刷版用支持体的表面上进行粗面化处理和其它表面处理。作为粗面化处理的方法，已知例如球磨(ball graining)、刷磨(brush grainig)、线磨(wiregraining)、喷磨(blast graining)等机械粗面化处理、在酸性溶液中浸渍铝板并在铝板上施加交流电流的电化学粗面化处理、化学腐蚀(化学粗面化处理)、将它们组合的方法。
在这些粗面化处理方法中，当进行电化学粗面化处理时，如果使用含有硝酸的水溶液作为酸性溶液，则在铝板表面整个面上均匀形成平均直径约1～5μm的凹部(凹坑)。另外，如果使用含有盐酸的水溶液作为酸性溶液，则在铝板表面整个面上均匀形成平均直径约0.01～0.5μm的凹坑。
另外，在进行作为酸性溶液使用含有硝酸的水溶液的电化学粗面化处理后，如果进行作为酸性溶液使用含有盐酸的水溶液的电化学粗面化处理，则在铝板的表面上，遍及整个表面形成平均直径约1～5μm的凹坑和平均直径约0.01～0.5μm的凹坑叠加的凹凸。把这种表面形状的铝板用作平版印刷版用支持体的平版印刷版，耐污染性和耐刷性两者良好。
另外，在专利文献1中，记载了关于包括下述工序的胶印印刷粗加工板的制造方法，其中，所述的工序有：在向1～3％盐酸中加入硝酸而形成的溶液中且在超过10A/dm2的电流密度下对铝板或者铝合金板进行交流电解而形成粗面的工序、在碱性水溶液中进行轻度腐蚀的工序和通过进行阳极氧化处理而形成厚5μm以下的阳极氧化保护膜的工序。
专利文献1：特公昭48-28123号公报
但是，在进行作为酸性溶液使用含有硝酸的水溶液的电化学粗面化处理后，进行作为酸性溶液使用含有盐酸的水溶液的电化学粗面化时，需要进行两次电化学粗面化处理。因此，为制造平版印刷版用支持体所需要的工序多，繁杂的操作增加。
另外，本发明者进行了研究，结果可知，就专利文献1记载的技术而言，在铝板的表面上混合形成平均直径约1～5μm的凹坑和平均直径超过10μm的粗大的凹部，把这种表面形状的铝板用作平版印刷版用支持体的平版印刷版，其耐污染性和耐刷性不够。
发明内容
因此，本发明的目的在于，提供可以由一次电化学粗面化处理获得耐污染性和耐刷性都出色的平版印刷版原版的平版印刷版用支持体的制造方法。
本发明人为了达到上述目的而进行了专心研究，结果发现在至少含有氯化物离子和硝酸离子的水溶液中，当对铝板施加交流电流并使上述铝板为阳极时的电量总和为100～300C/dm2时，虽然对铝板实施电化学粗面化处理的次数为一次，但使用获得的平版印刷版用支持体的平版印刷版原版的耐污染性和耐刷性都出色。
即，本发明提供以下的(1)～(6)。
(1)平版印刷版用支持体的制造方法，其是在至少含有氯化物离子和硝酸离子的水溶液中，对铝板施加交流电流并使上述铝板为阳极时的电量总和为100～300C/dm2，进行电化学粗面化处理，获得平版印刷版用支持体。
(2)关于上述(1)中记载的平版印刷版用支持体的制造方法，上述水溶液含有盐酸和硝酸。
(3)关于上述(1)或者(2)中记载的平版印刷版用支持体的制造方法，上述水溶液的氯化物离子的浓度为3g/L以上，硝酸离子的浓度为0.50g/L以上。
(4)关于上述(1)～(3)中任何一项记载的平版印刷版用支持体的制造方法，上述水溶液的pH为0.8以下。
(5)关于上述(1)～(4)中任何一项记载的平版印刷版用支持体的制造方法，上述水溶液含有2g/L以上的铝离子。
(6)上述(1)～(5)中任何一项记载的平版印刷版用支持体的制造方法，上述铝板在表面上具有凹凸字样。
如以上说明，根据本发明，可以获得在形成平板印刷板时用于耐污染性和耐刷性都出色的平版印刷版原版的平版印刷版用支持体。另外，在形成平板印刷板时用于耐污染性和耐刷性都出色的平版印刷版原版的平版印刷版用支持体，可以通过在铝板上实施一次电化学粗面化处理而获得。
附图说明
图1是在本发明的平版印刷版用支持体制造方法中的水洗处理中所使用的通过自由落下的帘状液膜进行水洗处理的装置的模式截面图。
图2是表示形成了平均直径1～5μm的凹坑和平均直径0.01～0.5μm的凹坑重叠而成的凹凸不平的铝板的模式截面图。
图3是表示在本发明的平版印刷版用支持体制造方法中的电化学粗面化处理所使用的交流波形的一例的曲线图。
图4是表示在本发明的平版印刷版用支持体制造方法中的使用了交流的电化学粗面化处理中的径向型槽的一例的概略图。
图5是在本发明的平版印刷版用支持体制造方法中的阳极氧化处理中所使用的阳极氧化处理装置的概略图。
图6是表示本发明的平版印刷版用支持体制造方法中机械粗面化处理工序的概念的侧面图。
图中：1-铝板，2、4-辊状刷，3-研磨浆液，5、6、7、8-支承轧辊，11-铝板，12-径向滚筒式轧辊，13a、13b-主极，14-电解处理液，15-电解液供给口，16-狭缝，17-电解液通路，18-辅助阳极，19a、19b-晶闸管，20-交流电源，40-主电解槽，50-辅助阳极槽，100-通过自由落下的帘状液膜进行水洗处理的装置，102-水，104-储水罐，106-供水筒，108-整流部，410-阳极氧化处理装置，412-供电槽，413-中间槽，414-阳极氧化处理槽，416-铝板，418、426-电解液，420-阳极，422、428-导辊，424-夹持辊，430-阴极，434-直流电源，436、438-供液喷嘴，440-遮蔽板，442-排液口。
具体实施方式
下面，对本发明进行详细地说明。
[平版印刷版用支持体的制造方法]
<铝板(轧制铝)>
在本发明的平版印刷版用支持体的制造方法中可以使用公知的铝板。本发明使用的铝板是以尺寸稳定的铝为主成分的金属，由铝或铝合金构成。除了纯铝板之外，还可以使用以铝为主成分并含有微量的其它元素的合金板。
在本说明书中，将上述的铝或铝合金所构成的各种基板统称为铝板使用。上述铝合金中可以含有的其它元素有硅、铁、铜、锰、镁、铬、锌、铋、镍、钛等，合金中其它元素的含量为10质量％以下。
这样用于本发明的铝板，其组成没有特别限定，可以适当利用例如在Aluminium Handbook第4版(1990年，轻金属协会发行)中记载的以往公知的材料，例如JIS A1050、JIS A1100、JIS A1070、含Mn的JIS A3004、国际注册合金3103A等的Al-Mn系铝板。另外，为了增加拉伸强度，还可以使用在这些铝合金中添加了0.1质量％以上的镁的Al-Mg系合金、Al-Mn-Mg系合金(JIS A3005)。再有，还可以使用含Zr、Si的Al-Zr系合金或Al-Si系合金。另外，也可以使用Al-Mg-Si系合金。
再有，还可以使用将溶解使用完毕的铝饮料罐的UBC(Used BeverageCan)铝合金轧制而得到的铝板。
在该铝板中，Cu含量优选为0.00质量％以上，更优选0.01质量％以上，更优选0.02质量％以上，另外，优选0.15质量％以下，更优选0.11质量％以下，进一步优选0.03质量％以下。特别优选的是Si：0.07～0.09质量％、Fe：0.20～0.29质量％、Cu：0.03质量％以下、Mn：0.01质量％以下、Mg：0.01质量％以下、Cr：0.01质量％以下、Zn：0.01质量％以下、Ti：0.02质量％以下、Al：99.4质量％以上的铝板。
有关JIS 1050材料，由本申请人提出的技术被记载在以下各公报中：特开昭59-153861号、特开昭61-51395号、特开昭62-146694号、特开昭60-215725号、特开昭60-215726号、特开昭60-215727号、特开昭60-216728号、特开昭61-272367号、特开昭58-11759号、特开昭58-42493号、特开昭58-221254号、特开昭62-148295号、特开平4-254545号、特开平4-165041号、特公平3-68939号、特开平3-234594号、特公平1-47545号以及特开昭62-140894号。另外，已知在特公平1-35910号公报、特公昭55-28874号公报等中也记载了有关技术。
有关JIS1070材料，本申请人提出的技术被记载在以下各公报中：特开平7-81264号、特开平7-305133号、特开平8-49034号、特开平8-73974号、特开平8-108659号以及特开平8-92679号。
有关Al-Mg系合金，本申请人提出的技术被记载在以下各公报中：特公昭62-5080号、特公昭63-60823号、特公平3-61753号、特开昭60-203496号、特开昭60-203497号、特公平3-11635号、特开昭61-274993号、特开昭62-23794号、特开昭63-47347号、特开昭63-47348号、特开昭63-47349号、特开昭64-1293号、特开昭63-135294号、特开昭63-87288号、特公平4-73392号、特公平7-100844号、特开昭62-149856号、特公平4-73394号、特开昭62-181191号、特公平5-76530号、特开昭63-30294号以及特公平6-37116号。另外，在特开平2-215599号公报、特开昭61-201747号公报等中也记载了有关技术。
有关Al-Mn系合金，本申请人提出的技术被记载在特开昭60-230951号、特开平1-306288号以及特开平2-293189号各公报中。另外，在特公昭54-42284号、特公平4-19290号、特公平4-19291号、特公平4-19292号、特开昭61-35995号、特开昭64-51992号、特开平4-226394号的各公报、美国专利第5,009,722号说明书、美国专利第5,028,276号说明书等中也记载了有关技术。
有关Al-Mn-Mg系合金，本申请人提出的技术被记载在特开昭62-86143号公报和特开平3-222796号公报中。另外，在特公昭63-60824号、特开昭60-63346号、特开昭60-63347号、特开平1-293350号的各公报、欧洲专利第223,737号、美国专利第4,818,300号、英国专利第1,222,777号的各说明书等中也记载了有关技术。
有关Al-Zr系合金，本申请人提出的技术被记载在特公昭63-15978号公报和特开昭61-51395号公报中。另外，在特开昭63-143234号、特开昭63-143235号的各公报等中也记载了有关技术。
有关Al-Mg-Si系合金，在英国专利第1,421,710号说明书等中记载了有关技术。
要使铝合金成为板材，例如可以采用下述的方法。首先，按照常规方法对被调整为规定的合金成分含量的熔融铝合金进行净化处理，并铸造。在净化处理时，为了除去熔融金属中的氢气等不要气体，实施以下处理：助溶剂处理；使用氩气、氯气等的脱气处理；使用陶瓷管过滤器、陶瓷泡沫过滤器等所谓的硬介质过滤器，和以氧化铝片、氧化铝球等为过滤材料的过滤器，以及玻璃纤维过滤器的过滤处理；或者组合脱气处理和过滤处理的处理。
为了防止熔融金属中的非金属夹杂物、氧化物等异物所导致的缺陷，以及溶在熔融金属中的气体所导致的缺陷，优选实施这些净化处理。有关熔融金属的过滤处理，被记载在以下各公报中：特开平6-57432号、特开平3-162530号、特开平5-140659号、特开平4-231425号、特开平4-276031号、特开平5-311261号、特开平6-136466号等。另外，有关熔融金属的脱气处理，被记载在特开平5-51659号公报、实开平5-49148号公报等中。本申请人在特开平7-40017号公报中，也给出了有关熔融金属的脱气的技术。
接着，使用如上所述实施净化处理的熔融金属进行铸造。有关铸造方法，有以DC铸造法所代表的使用固体模板的方法，和以连续铸造法所代表的使用驱动模板的方法。
在DC铸造中，在冷却速度为0.5～30℃/秒的范围内进行凝固。如果不足0.5℃/秒，则有时大量形成粗大的金属间化合物。在进行DC铸造时，可以制造板厚300～800mm的铸锭。按照常规方法，将该铸锭根据需要进行平面切削，通常，切削表层的1～30mm，优选1～10mm。在其前后，根据需要进行均热化处理。在进行均热化处理时，为了避免金属间化合物粗大化，在450～620℃下进行1～48小时的热处理。当热处理低于1小时时，均热化处理的效果有时不充分。另外，当不进行均热化处理时，有可以降低成本的优点。
之后，实施热轧、冷轧而形成铝板的轧制板。热轧的开始温度为350～500℃较合适。在热轧之前或之后，或者其中途，也可以实施中间退火处理。中间退火处理的条件是：使用间歇式退火炉在280～600℃下加热2～20小时，优选在350～500℃下加热2～10小时，或者用连续式退火炉，在400～600℃下加热6分以下，优选在450～550℃下加热2分以下。用连续式退火炉以10～200℃/秒的升温速度进行加热，也可以使结晶组织变细。
通过以上的工序，精加工成为规定厚度例如0.1～0.5mm的铝板，还可以进一步通过辊式矫直机、张力平整机等矫正装置改善平面性。平面性的改善也可以在将铝板切成片状后进行，但是为了提高生产效率，优选在连续的卷材状态下进行。另外，为了加工成规定的板宽，还可以使铝板通过纵切线。再有，为了防止铝板之间的摩擦所产生的擦伤，也可以在铝板的表面设置薄的油膜。作为油膜可以根据需要适当使用挥发性的物质或和非挥发性物质。
另一方面，作为连续铸造法，工业上实施的是双辊法(Hunter法)、3C法所代表的使用冷却辊的方法，双带法(Hazelette法)、アルスイスキヤスタ-II型所代表的使用冷却带和冷却块的方法。在使用连续铸造法时，在冷却速度为100～1000℃/秒的范围内进行凝固。连续铸造法通常比DC铸造法冷却速度快，因此具有能够提高相对于铝基体的合金成分固溶度的特征。有关连续铸造法，本申请人提出的技术被记载在以下各公报中：特开平3-79798号、特开平5-201166号、特开平5-156414号、特开平6-262203号、特开平6-122949号、特开平6-210406号、特开平6-26308号等。
进行连续铸造时，例如如果使用Hunter法等采用冷却辊的方法，可以直接对板厚1～10mm的铸造板进行连续铸造，获得了能够省略热轧工序的优点。另外，当使用Hazelette法等采用冷却带的方法时，可以铸造板厚10～50mm的铸造板，通常在铸造后马上配置热轧辊而连续地进行轧制，由此可以得到板厚1～10mm的连续铸造轧制板。
这些连续铸造轧制板和DC铸造说明同样地经过冷轧、中间退火、平面性的改善、裁切等工序，精加工成为例如0.1～0.5mm的板厚。有关使用连续铸造法时的中间退火条件以及冷轧条件，本申请人所提出的技术被记载在特开平6-220593号、特开平6-210308号、特开平7-54111号、特开平8-92709号的各公报等中。
本发明所使用的铝板，优选进行JIS所规定的H18的调质处理。
作为这样制造的铝板，希望有以下所述的各种特性。
为了获得作为平版印刷版用支持体所必要的硬挺度，铝板的强度优选0.2％弹性极限应力为120MPa以上。再有，为了获得进行过烧(burning)处理时所需一定程度的硬挺度，优选在270℃加热处理3～10分钟后的0.2％弹性极限应力为80MPa以上，更优选100MPa以上。当对铝板特别要求硬挺度时，可以采用添加了Mg、Mn的铝材料，可是使硬挺度太强时，铝板对印刷机的印版滚筒的易适配性变差，因此应根据用途，适宜选择材质和微量成分的添加量。关于这些，本申请人提出的有关技术被记载在特开平7-126820号公报、特开昭62-140894号公报等中。
另外，铝板更优选抗拉强度为160±15N/mm2、0.2％弹性极限应力为140±15MPa、JIS Z2241和Z2201所规定的伸长率为1～10％。
在进行化学粗面化处理和电化学粗面化处理时，铝板表面的结晶组织有可能成为发生面质不良的原因，因此铝板的结晶组织在表面优选不要太粗大。铝板表面的结晶组织的宽优选200μm以下，更优选100μm以下，进一步优选50μm以下，另外，结晶组织的长优选5000μm以下，更优选1000μm以下，进一步优选500μm以下。关于这些，本申请人提出的有关技术被记载在特开平6-218495号、特开平7-39906号、特开平7-124609号各公报等中。
在进行化学的粗面化处理和电化学的粗面化处理时，铝板表面的合金成分的不均匀分布有可能引起面质不良的发生，因此铝板的合金成分分布优选避免在表面上不太均匀。关于这些，本申请人提出的有关技术被记载在特开平6-48058号、特开平5-301478号、特开平7-132689号各公报等中。
关于铝板的金属间化合物，其金属间化合物的尺寸和密度，有时对化学粗面化处理和电化学粗面化处理产生影响。关于这些，本申请人提出的有关技术被记载在特开平7-138687号、特开平4-254545号各公报等中。
本发明中，也可以将如上所述所示的铝板在其最终轧制工序等中通过冲压轧制、转印等形成凹凸后使用。
其中，优选的方法是：和调整成最终板厚的冷轧，或者和精加工最终板厚调整后的表面形状的精加工冷轧一起，使凹凸面压接在铝板上转印凹凸形状，使铝板的表面形成凹凸字样。具体可以适用特开平6-262203号公报中记载的方法。
通过使用表面具有凹凸字样的铝板，可以通过由刷子和研磨剂形成的凹凸字样获得平均间距和深度均匀的凹凸字样，从而改善了耐污染性。另外，可以减少后面的碱腐蚀处理和粗面化处理中所消费的能量，同时使印刷机上润版水的量的调整变得容易。例如，在后述的第1腐蚀处理中，可以使腐蚀量减少为约3g/m2以下。此外，如果使用具有凹凸字样的铝板，获得的平版印刷版用支持体的表面积增大，所以耐刷性出色。
转印特别优选在通常的铝板的最终冷轧工序中进行。用于转印的轧制优选用1～3循环来进行，分别的压下率优选3～8％。
另外，由转印所给予的凹凸更优选赋予在铝板的两个面上。因此，由于可以将表面和背面的铝板的伸长率调整为相同程度，所以可以获得平面性好的铝板。
作为获得用于凹凸转印的表面具有凹凸的轧制滚筒(以下，也称为转印滚筒)的方法，可列举例如喷射法、电解法、激光法、放电加工法、组合它们的方法。其中，优选组合喷射法和电解法的方法。在喷射法中，还优选喷气法。
喷气法中的气压优选1～10kgf/cm2(9.81×104～9.81×105Pa)，更优选2～5kgf/cm2(1.96×105～4.90×105Pa)。
喷气法所使用的砂粒只要是规定粒径的氧化铝粒子就可以，没有特别限定。当砂粒使用坚硬并且粒子的各个角是锐角的氧化铝粒子时，容易使转印滚筒的表面形成深且均匀的凹凸。
氧化铝粒子的平均粒径为50～150μm，优选60～130μm，更优选70～90μm。如果为上述范围，能够获得作为转印滚筒足够大的表面粗糙度，从而使用该转印滚筒而赋予了凹凸的铝板的表面粗糙度变得足够大。而且，能够使凹坑数也变得足够多。
在喷气法中，优选进行喷射2～5次，其中更优选进行2次。进行2次喷射时，在第1次喷射所形成的凹凸的不整齐的凸部可以通过第2次的喷射削去，所以在使用得到的轧制滚筒而赋予了凹凸的铝板的表面上，不容易形成局部的深的凹部。其结果，平版印刷版的显影性(灵敏度)变得出色。
喷气法中的喷射角，相对于喷射面(滚筒表面)优选为60～120°，更优选80～100°。
在进行喷气法后、进行后述的镀敷处理之前，优选进行研磨直到平均表面粗糙度(Ra)从喷气后的值下降10～40％为止。研磨优选使用砂纸、磨石或抛光轮。通过研磨可以使转印滚筒表面凸部高度变得整齐，其结果，使用该转印滚筒被付与凹凸的铝板表面难以形成局部的深凹部分。从而平版印刷版的显影性(灵敏度)变得优良。
转印滚筒表面的平均粗糙度(Ra)优选0.4～1.0μm，更优选0.6～0.9μm。
转印滚筒表面的山数优选1000～40000个/mm2，更优选2000～10000个/mm2。山数如果太少，平版印刷版用支持体的保水性以及和图像记录层的粘附性变差。保水性如果较差，成为平版印刷版时，网点部分容易污染。
对转印滚筒的材质没有特别限定，例如可以使用公知的轧制滚筒用材质。
本发明中优选使用钢制的滚筒。其中优选通过铸造制造的滚筒。优选的滚筒材质组成的一例是，C：0.07～6质量％、Si：0.2～1质量％、Mn：0.15～1质量％、P：0.03质量％以下、S：0.03质量％以下、Cr：2.5～12质量％、Mo：0.05～1.1质量％、Cu：0.5质量％以下、V：0.5质量％以下、剩余部分：铁和不可避免杂质。
另外，还可以列举出通常作为轧制滚筒使用的工具钢(SKD)、高速钢(SKH)、高碳铬轴承钢(SUJ)、含有碳和铬和钼和钒作为合金元素的锻造钢。为了获得较长的滚筒寿命，可以使用含有约10～20质量％铬的高铬合金铸铁。
其中，优选使用由铸造法制造的滚筒。这时，淬火、回火后的硬度，通过Hs优选80～100。回火优选进行低温回火。
滚筒的直径优选200～1000mm。另外，滚筒的面长优选1000～4000mm。
经喷气法等形成了凹凸的转印滚筒在洗净后，优选实施淬火、镀硬铬等硬质化处理。由此可提高耐磨耗性，延长寿命。
硬质化处理特别优选镀硬铬。关于镀硬铬，作为工业用镀硬铬法可以采用以往众所周知的通过使用了CrO3-SO4浴、CrO3-SO4-氟化物浴等的电镀的方法。
镀硬铬膜的厚度优选5～15μm。如果为上述范围，耐磨耗性的改善效果变得充分。镀硬铬膜的厚度可以通过调整电镀处理时间来进行调节。
在镀硬铬之前，优选在用于镀硬铬的电镀液中，把滚筒作为阳极，使用直流电流，在5000～50000C/dm2电量下进行电解处理。由此，可以使滚筒表面的凹凸均匀化。
在铝板中，表面平均粗糙度Ra的测量方法是用触针式细度计(例如sufcom 575，东京精密公司制)进行二维粗糙度的测定，测定5次ISO4287所规定的平均粗糙度Ra，将其平均值规定为平均粗糙度。
下面示出了二维粗糙度的测定条件。
<测定条件>
截止值(cut off value)0.8mm，倾斜补正FLAT-ML，测定长度3mm，纵向放大率10000倍，扫描速度0.3mm/sec，触针前端直径2μm
还有，Rmax和Rsm可以根据ISO4287进行测量。
本发明使用的铝板是连续的带状片材或板材。即，可以是卷筒铝板(aluminium web)，也可以是被裁切成与作为产品出厂的平版印刷版原版对应大小等的单张纸状的薄片。
铝板表面的伤痕在加工成平版印刷版用支持体时，有可能成为缺陷，因此，在做成平版印刷版用支持体的表面处理工序之前的阶段，需要尽可能地控制伤痕的发生。所以优选以稳定的形态且在搬运时不容易擦伤的包装外形。
在卷筒铝板的情况下，作为铝的包装外形，例如在铁制托板上铺上硬纸板和毛毡，在产品两端安放瓦楞纸环板，用多聚物管(poly tube)将全体包上，向卷材内径部位插入木制环，在卷材的外周部放上毛毡，用带状铁拧紧，并在其外周部进行显示。另外，包装材料可以使用聚乙烯薄膜，缓冲材料使用针刺毛毡、硬纸板。其它还有各种各样的形态，只要是稳定、并且运输时不会擦伤的方法就可以，没有特别限定。
本发明使用的铝板的厚为约0.1mm～0.6mm，优选0.15mm～0.4mm，更优选0.2mm～0.3mm。该厚度可以根据印刷机的尺寸、印刷版的尺寸、以及用户的希望等进行适宜的变更。
<表面处理>
本发明是在至少含有氯化物离子和硝酸离子的水溶液中，对上述的铝板施加交流电流并使上述铝板是阳极时的电量总和为100～300C/dm2，进行电化学粗面化处理，获得平版印刷版用支持体。
还有，在表面处理中，也可以包括电化学粗面化处理以外的各种工序。
具体地讲，可适当列举例如按顺序进行在碱水溶液中的腐蚀处理(以下也称为“第1腐蚀处理”)、在酸性水溶液中的除污(desmut)处理(以下也称为“第1除污处理”)、电化学粗面化处理、在碱水溶液中的腐蚀处理(以下也称为“第2腐蚀处理”)、在酸性水溶液中的除污处理(以下也称为“第2除污处理”)、阳极氧化处理的方法。
另外，在上述阳极氧化处理后，还进一步优选进行封孔处理、亲水化处理、或者封孔处理和其后的亲水化处理的方法。
另外，在第1腐蚀处理之前，也可以进行机械粗面化处理。作为机械粗面化处理，可以使用例如用金属线挠铝表面的线-刷磨法、用研磨球和研磨剂对铝表面进行磨砂目的球磨法、在特开平6-135175号公报和特公昭50-40047号公报中记载的用尼龙刷和研磨剂对表面进行磨砂目的刷磨法。
另外，如上所述，也可以使用将转印滚筒的凹凸面压接在铝板上的转印方法(转印滚筒法)。即，除了在特开昭55-74898号、特开昭60-36195号、特开昭60-203496号各公报中记载的方法之外，也可以应用以进行数次转印为特征的特开平6-55871号公报、以表面是弹性为特征的特开平6-24168号公报中记载的方法。
其中，由于转印滚筒法易于适应平版印刷版用支持体的制造工序的高速化，所以优选。转印滚筒法如上所述，优选在调整成为最终板厚的冷轧、或者对最终板厚调整后的表面形状进行精加工的精加工冷轧中进行转印。
通过在第1腐蚀处理之前进行机械粗面化处理或通过转印滚筒的凹凸赋予，可以减少用于电化学粗面化处理的电量。另外，通过在第1腐蚀处理之前进行机械粗面化处理或通过转印滚筒的凹凸赋予，可以改善使用获得的平版印刷版用支持体制作的平版印刷版的发光(shiny)(观察版面发亮状态的容易程度)。
下面，对表面处理的各工序进行详细说明。
<第1腐蚀处理>
碱腐蚀处理是通过使上述的铝板与碱溶液接触来溶解表层的处理。
电化学粗面化处理之前进行的第1腐蚀处理，其目的是通过电化学粗面化处理形成均匀的凹部，以及除去铝板(轧制铝)表面的轧制油、污物、自然氧化被膜等。
第1腐蚀处理中，以后进行电化学粗面化处理的表面的腐蚀量优选0.5g/m2以上，更优选1g/m2以上，另外，优选10g/m2以下，更优选5g/m2以下。腐蚀量如果为0.5g/m2以上，可以在电化学粗面化处理中使其生成均匀的凹坑。腐蚀量如果为10g/m2以下，则碱水溶液的使用量变少，在经济上是有利的。
进行电化学粗面化处理的面的背面的腐蚀量优选是进行电化学粗面化处理的面的腐蚀量的5％以上，更优选10％以上，另外，优选50％以下，更优选30％以下。如果在上述范围，则除去铝板背面的轧制油的效果和与经济性的平衡出色。
即使在后述的第2腐蚀处理中也是相同的。
作为用于碱溶液的碱，可以列举例如苛性碱、碱金属盐。具体而言，作为苛性碱，可列举例如：苛性钠、苛性钾。另外，作为碱金属盐，可列举例如：正硅酸钠、硅酸钠、正硅酸钾、硅酸钾等碱金属硅酸盐；碳酸钠、碳酸钾等碱金属碳酸盐；铝酸钠、铝酸钾等碱金属铝酸盐；葡萄糖酸钠、葡萄糖酸钾等碱金属糖醛酸盐；磷酸氢二钠、磷酸氢二钾、磷酸二氢钠、磷酸二氢钾等碱金属磷酸氢盐。其中，从腐蚀速度快以及廉价方面考虑，优选苛性碱的溶液、以及含有苛性碱和碱金属铝酸盐两者的溶液。特别优选苛性钠的水溶液。
第1腐蚀处理中，碱溶液的浓度优选1质量％以上，更优选20质量％以上，另外，优选40质量％以下，更优选35质量％以下。
另外，碱溶液优选含有铝离子。铝离子浓度优选0.5质量％以上，更优选4质量％以上，另外，优选10质量％以下，更优选8质量％以下。如上所述的碱溶液，例如，可以用水和48质量％的苛性钠水溶液和铝酸钠来调制。
第1腐蚀处理中，碱溶液的温度优选25℃以上，更优选40℃以上，另外，优选95℃以下，更优选80℃以下。
第1腐蚀处理中，处理时间优选1秒以上，更优选2秒以上，另外，优选30秒以下，更优选10秒以下。
对铝板连续地进行腐蚀处理时，碱溶液中的铝离子浓度上升，铝板的腐蚀量发生变动。因此，腐蚀液的组成管理最好按照下述方法进行。
即，预先制成与苛性钠浓度和铝离子浓度的矩阵(matrix)相对应的、电导率和比重和温度的矩阵，或电导率和超声波传播速度和温度的矩阵，根据电导率和比重和温度，或电导率和超声波传播速度和温度测定液体组成，添加苛性钠和水以使液体组成为控制目标值。然后，通过使因添加苛性钠和水而增加的腐蚀液从循环罐溢出，使该液体量保持恒定。作为添加的苛性钠，可以使用工业用的40～60质量％的物质。
作为电导率计和比重计，优选使用分别经过温度补偿的测量计。作为比重计优选使用差压式。
作为使铝板与碱溶液接触的方法，可以列举例如使铝板通过装有碱溶液的槽中的方法、使铝板浸渍在装有碱溶液的槽中的方法、将碱溶液喷涂在铝板表面的方法。
其中，优选将碱溶液喷涂在铝板表面的方法。具体而言，从以10～50mm的间距具有Φ2～5mm孔的喷射管，以每1根喷射管10～100L/min的量喷涂腐蚀液的方法较理想。喷射管优选设定为多根。
在碱腐蚀处理结束后，优选用夹持辊(nip roller)进行轧液，进而进行1～10秒钟水洗后，进一步用夹持辊进行轧液。
水洗处理，优选使用通过自由落下帘状的液膜进行水洗处理的装置来进行水洗，然后用喷射管水洗。
图1是通过自由落下帘状的液膜进行水洗处理的装置的模式剖面图。如图1所示，通过自由落下帘状的液膜进行水洗处理的装置100，具有储留水102的储水罐104，和向储水罐104供水的给水筒106，和从储水罐104把自由落下帘状的液膜供给铝板1的整流部108。
在装置100中，水102由给水筒106向给水罐104提供，水102从给水罐104溢出时，经整流部进行整流，自由落下帘状的液膜被提供给铝板1。使用装置100时，液量优选10～100L/min。另外，装置100和铝板1之间的水102作为自由落下帘状的液膜存在的距离L优选20～50mm。再有，铝板的角度α相对于水平方向优选30～80°。
当使用图1所示的通过自由落下的帘状的液膜进行水洗处理的装置时，能够对铝板均匀地实施水洗处理，因此可以提高水洗处理前所进行的处理的均匀性。
作为通过自由落下的帘状的液膜进行水洗处理的装置，可适当举例为记载在特开2003-96584号公报中的装置。
另外，作为水洗处理所使用的喷射管，可以使用例如在铝板的宽度方向上有多个喷射水扩散成扇形的喷射片的喷射管。喷射片的间隔优选20～100mm，另外，每1根喷射片的液量优选0.5～20L/min。喷射管优选使用多根。
<第1除污处理>
进行第1腐蚀处理后，为了除去表面残留的污染(污物)，优选实施酸洗(第1除污处理)。除污处理是通过使铝板与水溶液接触来进行的。
使用的酸可以列举例如硝酸、硫酸、磷酸、铬酸。其中，优选硝酸、硫酸。具体地讲，可以适当使用例如在后述的阳极氧化处理工序中使用的硫酸水溶液的废液。
除污处理液的组成管理中，可以选择使用下面任一方法：用对应于酸性溶液浓度和铝离子浓度的矩阵的电导率和温度来管理的方法；用电导率和比重和温度来管理的方法；以及用电导率和超声波的传播速度和温度来管理的方法。
第1除污处理中，优选使用含有0.5～30质量％的酸和0.5～10质量％的铝离子的酸性溶液。
酸性溶液的温度优选25℃以上，另外优选95℃以下。
第1除污处理中，处理时间优选1秒以上，更优选2秒以上，另外优选30秒以下，更优选10秒以下。
作为使铝板与酸性溶液接触的方法，可以列举例如使铝板通过装有酸性溶液的槽中的方法、使铝板浸渍在装有酸性溶液的槽中的方法、将酸性溶液喷涂在铝板表面的方法。
其中，优选将酸性溶液喷涂在铝板表面的方法。具体而言，从以10～50mm间隔具有Φ2～5mm孔的喷射管，以每1根喷射管10～100L/min的量喷涂腐蚀液的方法较理想。喷射管优选设定为多根。
除污处理结束后，优选用夹持辊进行轧液，进而在进行1～10秒钟的水洗处理后，用夹持辊进行轧液。
水洗处理和碱腐蚀后的水洗处理相同。但是，每1根喷射片的液量优选1～20L/min。
<电化学粗面化处理>
就电化学粗面化处理而言，其是在含有氯化物离子和硝酸离子的水溶液中，对铝板施加交流电流并使铝板为阳极时的电量总和为100～300C/dm2。
根据本发明的电化学粗面化处理，如图2所示，可以由一次电化学粗面化处理获得平均直径1～5μm的凹部(凹坑)和平均直径0.01～0.5μm的凹坑进行叠加的表面形状的铝板。这样一来，在本发明中，在电化学粗面化处理后的表面上，由于均匀形成凹坑，所以形成平版印刷版时的耐刷性出色，另外，由于凹坑均匀，所以形成平版印刷版时的耐污染性出色。
在本发明的电化学粗面化处理中，铝板为阳极时的电量总和为100～300C/dm2，优选150～250C/dm2。铝板为阳极时的电量总和如果是上述范围，则可对铝板进实施充分的电化学粗面化处理，在铝板的表面上形成平均直径1～5μm的凹坑和平均直径0.01～0.5μm的凹坑均匀叠加的凹凸。另外，平均直径0.01～0.5μm的凹坑深度与下述相比稍微有些浅，即在含有硝酸的水溶液中对铝板施加交流电实施电化学粗面化后，在含有盐酸的水溶液中对其施加交流电实施电化学粗面化的情况。
另一方面，即使使用含有氯化物离子和硝酸离子的水溶液，如果如专利文献1中记载的方法那样电量多，则也会在铝板表面到处形成粗大的凹坑，在铝板表面形成的凹坑变得不均匀。
用作电解液的水溶液的氯化物离子的浓度优选3～60g/L，更优选8～50g/L。如果在上述范围，则凹坑的均匀性变高。
另外，作为硝酸离子浓度优选0.5～20g/L，更优选0.8～6g/L。如果在上述范围，则凹坑的均匀性变高。
氯化物离子通过使用盐酸作为水溶液的原料而使其含在水溶液中。另外，也可以使用氯化铝、氯化钠、氯化铵等氯化物。其中优选使用氯化铝。本发明中，优选使用盐酸和氯化物两者，更优选使用盐酸和氯化铝。使用盐酸时，盐酸浓度优选3～30g/L，更优选4～20g/L，进一步优选5～18g/L。
硝酸离子通过使用硝酸作为水溶液的原料而使其含在水溶液中。另外，也可以使用硝酸铝、硝酸钠、硝酸铵等硝酸盐。使用硝酸时，硝酸浓度优选0.5～15g/L，更优选1～10g/L。
通过使被用作电解液的水溶液含有硝酸离子，可在铝板表面形成平均直径1～5μm的凹坑，而通过使其含有氯化物离子，可在铝板表面形成平均直径0.01～0.5μm的凹坑。因此，当水溶液不含有硝酸离子或者氯化物离子时，不能获得平均直径1～5μm的凹坑和平均直径0.01～0.5μm的凹坑相互叠加的表面形状的铝板。
另外，用作电解液的水溶液优选pH为0.8以下。通过pH为0.8以下，凹坑的均匀性变得更高。
用作电解液的水溶液也可以含有硫酸。
另外，水溶液除了可以含有硫酸之外，还可以含有硫酸铝、磷酸钠、硫酸铵等具有硫酸离子的硫酸化合物。
另外，也可以按照1～200g/L的比例含有与铜形成络合物的化合物。在混合水溶液中，也可以溶解铁、铜、锰、镍、钛、镁、硅等含在铝合金中含有的元素。也可以使其含有1～100g/L的次氯酸或过氧化氢。
水溶液中的铝离子浓度优选为2g/L以上，更优选3～30g/L，进一步优选3～20g/L，进一步优选4～18g/L。如果在上述范围，则凹坑的均匀性变高。另外，可以避免水溶液的补充量变得过多。
水溶液中的铝离子可以通过使铝盐溶解于水溶液中而含有。作为铝盐，可以使用氯化铝、硝酸铝、硫酸铝等，其中，从凹坑的形状变得良好的观点出发，优选使用包含在水溶液中含有的氯化物离子或者硝酸离子的氯化铝或者硝酸铝。
电解液各成分的浓度控制优选并用浓度测量方法等多成分浓度测量法以及前馈控制和反馈控制来进行。由此，可以实现电解液准确的浓度管理。
多成分浓度测量法可，可以列举例如利用电解液中超声波的传播速度和电解液的电导率(导电率)C测量浓度的方法、中和滴定法、毛细管电泳分析法、等速电泳(isotachophoresis，细管式等速电泳法)分析法、离子色谱法。
离子色谱法按照检测器的种类，分为吸光度检测离子色谱法、非抑制型电导率检测离子色谱法、抑制型离子色谱法等。其中，就可以确保测量稳定性来说，优选抑制型离子色谱法。
电化学粗面化处理中的电流密度就电流值的波峰来说优选10～300A/dm2，更优选15～200A/dm2，进一步优选20～125A/dm2。如果为10A/dm2以上，则生产效率变得更好。如果为300A/dm2以下，则由于电压不高，电源容量不会变得过大，所以可以降低电源成本。
电化学粗面化处理可以使用例如记载在特公昭48-28123号公报和英国专利第896，563号说明书中的电化学的表面粗糙化法(电解表面粗糙化法)。
有关有各种提案，可以使用美国专利第4,203,637号说明书、特开昭56-123400号、特开昭57-59770号、特开昭53-12738号、特开昭53-32821号、特开昭53-32822号、特开昭53-32823号、特开昭55-122896号、特开昭55-132884号、特开昭62-127500号、特开平1-52100号、特开平1-52098号、特开昭60-67700号、特开平1-230800号、特开平3-257199号的各公报等中所述的。
另外，还可以使用特开昭52-58602号、特开昭52-152302号、特开昭53-12738号、特开昭53-12739号、特开昭53-32821号、特开昭53-32822号、特开昭53-32833号、特开昭53-32824号、特开昭53-32825号、特开昭54-85802号、特开昭55-122896号、特开昭55-132884号、特开昭48-28123号、特公昭51-7081号、特开昭52-133838号、特开昭52-133840号、特开昭52-133844号、特开昭52-133845号、特开昭53-149135号、特开昭54-146234号的各公报等中所述的。
再有，添加和Cu有可能形成络合物的化合物后使用时，对于含有较多Cu的铝板，也能够进行均匀的磨砂目。作为和Cu有可能形成络合物的化合物，可列举例如氨；甲胺、乙胺、二甲胺、二乙胺、三甲胺、环己胺、三乙醇胺、三异丙醇胺、EDTA(乙二胺四醋酸)等氨的氢原子被烃基(脂肪族、芳香族等)等取代而得到的胺类；碳酸钠、碳酸钾、碳酸氢钾等金属碳酸盐类。另外还可以举出硝酸铵、氯化铵、硫酸铵、磷酸铵、碳酸铵等铵盐。
混合水溶液的温度优选20℃以上，更优选25℃以上，进一步优选30℃以上，另外，优选60℃以下，更优选50℃以下，进一步优选40℃以下。如果为20℃以上，则用于冷却的冷冻机运转成本不会变高，另外，可以控制用于冷却的地下水的使用量。如果为60℃以下，则易于确保设备的耐腐蚀性。
电化学的粗面化处理所使用的交流电源波没有特别限定，可以使用正弦波、矩形波、梯形波、三角波等。
频率优选为10～200Hz，更优选20～150Hz，进一步优选50～60Hz。如果为10Hz以上，难以产生则面状(有角的四方形形状)的较大的凹坑，耐污染性变得更好。如果为200Hz以下，则难以受到有电解电流流过的电路的电感成分的影响，易于制作大容量的电源。
还有，所谓梯形波是指图3中所示的波形。该梯形波中电流从0到达峰值的时间(TP)优选0.3～2.0msec，更优选0.5～0.8msec。如果为0.3msec以上，则电源的制作成本变低。如果为2msec以下，则凹坑的均匀性变得更好。另外，在三角波中，电流上升时间可以任意设定。
另外，作为电源装置，可以使用例如使用商用交流电的电源装置、变压器控制电源等。其中，使用IGBT(Insulated Gate Bipolar Transistor)元件的变压器控制电源可以通过PWM(Pulse Width Modulation)控制使其产生任意的波形，相对于铝板的宽和厚、电解液中各成分的浓度变化等改变电压，当将电流值(铝板的电流密度)控制恒定时，从跟踪性极好的观点出发，优选。
图4是表示本发明的平版印刷版用支持体的制造方法中使用交流的电化学的粗面化处理中使用的、径向型槽的一例的概略图。
电解槽中可以连接1个以上的交流电源。控制施加在与主极相对的铝板上的交流的阳极和阴极的电流比，以进行均匀的磨砂目和溶解主极的碳精电极为目的，如图4所示，优选设置辅助阳极，使交流电流的一部分分流。图4中，11为铝板，12为径向滚筒式轧辊(radial drum roller)，13a和13b是主极，14是电解处理液，15是电解液供给口，16是狭缝，17是电解液通道，18是辅助阳极，19a和19b是晶闸管，20是交流电源，40是主电解槽，50是辅助阳极槽。通过整流元件或开关元件，使电流值的一部分成为直流电流分流到设置在和2个主电极不同的槽的辅助阳极中，由此可以控制与主极相对的铝板是阳极时的电流值、和是阴极时的电流值的比。电流比(铝板是阳极时的电量总和、和是阴极时的电量总和的比)优选0.9～3，更优选0.9～1.0。
电解槽可以使用纵型、扁平型、径向型等公知的用于表面处理的电解槽，但是特开平5-195300号公报中所述的径向型电解槽特别优选。通过电解槽内的电解液相对于卷筒铝板的行进方向可以是同向，也可以是逆向。
电解槽可以分离为多个。将电解槽分离为多个时，各个电解槽的电解条件可以相同，也可以不同。
电化学粗面化处理结束后，优选用夹持辊进行轧液，进而再进行1～10秒钟的水洗处理后，用夹持辊进行轧液。
水洗处理优选使用喷射管进行水洗。作为水洗处理所使用的喷射管，可以使用例如在铝板的宽度方向上有多个喷射水扩散成扇形的喷射片的喷射管。喷射片的间隔优选20～100mm，另外，每1根喷射片的液量优选1～20L/min。喷射管优选使用多根。
<第2腐蚀处理>
在电化学粗面化处理之后，优选进行第2腐蚀处理。进行第2腐蚀处理的目的是使在电化学粗面化处理中所生成的污物溶解，以及使由电化学粗面化处理所形成的凹坑的边缘部分溶解。由此，表面因由电化学粗面化处理所形成的凹坑的边缘部分溶解而变得光滑，由于油墨难以挂在边缘部分上，所以可以获得耐污染性出色的平版印刷版原版。
第2腐蚀处理基本上与第1腐蚀处理相同，但是碱溶液中含有的铝离子浓度优选0.1～10质量％。特别优选使用含4～8质量％的铝离子的浓度为20～40质量％的碱溶液，或者含0.3～0.7质量％的铝离子的浓度为4～6质量％的碱溶液。另外，液温更优选为30～80℃。
另外，腐蚀量优选0.01g/m2以上，更优选0.05g/m2以上，进一步优选0.1g/m2以上，另外，优选10g/m2以下，更优选3g/m2以下，进一步优选0.3g/m2以下。
<第2除污处理>
进行第2腐蚀处理后，为了除去表面残留的污染(污物)，优选进行酸洗(第2除污处理)。第2除污处理基本和第一除污处理相同。
第2除污处理中，作为除污处理液，当使用与接着进行的阳极氧化处理中使用的电解液相同种类的液体时，可以在除污处理后省略通过夹持辊的轧液和水洗处理。
另外，第2除污处理优选在用于后述的阳极氧化处理的阳极氧化处理装置中的、在铝板上进行阴极反应处理的电解槽中进行。如果这样，则由于没有必要设置用于第2除污处理的独立的除污处理槽，所以可以降低设备成本。
<阳极氧化处理>
对经过上述处理的铝板，还优选实施阳极氧化处理。阳极氧化处理可以用该领域以往所使用的方法来进行。这时，例如，在硫酸浓度为50～300g/L，铝浓度为5质量％以下的溶液中，以铝板为阳极通电，可以形成阳极氧化被膜。作为在阳极氧化处理中所使用的溶液，可以将以下溶液单独或者组合2种以上使用：硫酸、磷酸、铬酸、草酸、氨基磺酸、苯磺酸、酰胺基磺酸等。
这时，电解液中可以至少含有铝板、电极、自来水、地下水等中通常所含有的成分。再有，还可以添加第2、第3成分。这里所说的第2、第3成分，可以列举例如Na、K、Mg、Li、Ca、Ti、Al、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn等金属的离子；铵离子等阳离子；硝酸离子、碳酸离子、氯化物离子、磷酸离子、氟化物离子、亚硫酸离子、钛酸离子、硅酸离子、硼酸离子等阴离子，也可以含有0～10000ppm左右的浓度。
阳极氧化处理的条件根据使用的电解液的不同进行各种变化，所以不能一概而定，但是通常电解液浓度为1～80质量％，液温为5～70℃，电流密度为0.5～60A/dm2，电压为1～100V，电解时间为15秒～50分的条件较合适，可以调整为所期望的阳极氧化被膜量。
另外，还可以使用以下各公报中所述的方法：特开昭54-81133号、特开昭57-47894号、特开昭57-51289号、特开昭57-51290号、特开昭57-54300号、特开昭57-136596号、特开昭58-107498号、特开昭60-200256号、特开昭62-136596号、特开昭63-176494号、特开平4-176897号、特开平4-280997号、特开平6-207299号、特开平5-24377号、特开平5-32083号、特开平5-125597号、特开平5-195291号。
其中，如特开昭54-12853号和特开昭48-45303号公报中所述，优选使用硫酸溶液作为电解液。电解液中的硫酸浓度优选10～300g/L(1～30质量％)，更优选50～200g/L(5～20质量％)，另外，铝离子浓度优选1～25g/L(0.1～2.5质量％)，更优选2～10g/L(0.2～1质量％)。如上所述的电解液，例如可以通过在硫酸浓度为50～200g/L的稀硫酸中添加硫酸铝等来调制。
电解液的组成管理优选使用和上述的硝酸电解等时同样的方法，根据与硫酸浓度和铝离子浓度的矩阵相对应的、电导率和比重和温度，或电导率和超声波传播速度和温度来管理。
电解液的液温优选25～55℃，更优选30～50℃。
在含有硫酸的电解液中进行阳极氧化处理时，铝板和配极之间可以施加直流，也可以施加交流。
对铝板施加直流时，电流密度优选1～60A/dm2，更优选5～40A/dm2。
在连续地进行阳极氧化处理时，为了避免电流集中在铝板的一部分，即所谓的“烧焦”(被膜比周围变厚的部分)现象，优选在最初开始阳极氧化处理时，以5～10A/dm2的低电流密度施加电流，随着阳极氧化处理的进行，使电流密度增加到30～50A/dm2或其以上。
具体而言，直流电源的电流分配，优选使下流侧的直流电源的电流为上流侧的直流电源的电流以上。通过进行如上所述的电流分配，不容易发生所谓的烧焦现象，其结果是高速的阳极氧化处理成为可能。
连续地进行阳极氧化处理时，优选采用通过电解液对铝板供电的溶液供电方式来进行。
通过在这样的条件下进行阳极氧化处理，可以得到具有大量的被称作细孔(微孔)的孔的多孔膜，通常，其平均孔径约为5～50nm，平均孔密度约为300～800个/μm2。
阳极氧化被膜的量优选1～5g/m2。如果为1g/m2以上，版上难以带伤。如果为5g/m2以下，制造中不需要大量的电力，经济上合算。阳极氧化被膜的量更优选1.5～4g/m2。另外，铝板的中央部和边缘部附近之间的阳极氧化被膜量的差以1g/m2以下为宜。
另外，被实施电化学粗面化处理的面的背面的阳极氧化被膜的量优选0.1～1g/m2。如果为0.1g/m2以上，背面难以带伤，作为平版印刷版原版，当叠加时，与背面接触的图像记录层难以带伤。如果为1g/m2以下，则经济上合算。
作为阳极氧化处理所使用的电解装置，可以使用特开昭48-26638号、特开昭47-18739号、特公昭58-24517号、特开2001-11698号的各公报等中所述的装置。
其中，图5所示的装置较适用。图5是表示对铝板的表面进行阳极氧化处理的装置的一例概略图。
在图5所示的阳极氧化处理装置410中，为了通过电解液向铝板416通电，在铝板416的行进方向的上流侧设置供电槽412，在下流侧设置阳极氧化处理槽414。铝板416被导辊(pass roller)422和428按照图5中箭头所示的方向运送。在铝板416被最初导入的供电槽412中，设置了与直流电源434的正极连接的阳极420，铝板416成为阴极。因此，在铝板416中发生阴极反应。
在铝板416接下来被导入的阳极氧化处理槽414中，设置了与直流电源434的负极连接的阴极430，铝板416成为阳极。因此，铝板416中发生阳极反应，铝板416的表面形成阳极氧化被膜。
铝板416和阴极430的间隔优选50～200mm。阴极430使用铝。为了使阳极反应所产生的氢气容易从体系逃逸，阴极430优选不是具有宽面积的电极，而是沿铝板416的行进方向分割成多个的电极。
在供电槽412和阳极氧化处理槽414之间，如图5所示，优选设置被称作中间槽413的不积存电解液的槽。通过设置中间槽413，可以抑制电流不经过铝板416，而走旁路从阳极420到阴极430。优选在中间槽413中设置夹持辊424以进行轧液，由此使旁路电流减小到极少。通过轧液而流出的电解液，从排液口442被排出到阳极氧化处理装置410之外。
为了减少电压损失，要使供电槽412中储留的电解液418比阳极氧化处理槽414中储留的电解液426温度更高和/或浓度更高。另外，电解液418和426的组成、温度等，由阳极氧化被膜的形成效率、阳极氧化被膜的微孔的形状、阳极氧化被膜的硬度、电压、电解液的成本等决定。
供电槽412和阳极氧化处理槽414中，从供液喷嘴436和438喷出电解液进行供液。为了使电解液的分布一定，防止阳极氧化处理槽414中的铝板416的局部电流集中，在供液喷嘴436和438上设置有狭缝，具有使喷出的液流在宽度方向上稳定的构造。
在阳极氧化处理槽414中，从阳极430来看，在夹持铝板416的相反侧设置遮蔽板440，抑制电流流到铝板416的想要形成阳极氧化被膜的一面的另一侧。铝板416和遮蔽板440的间隔优选5～30mm。直流电源434优选使用多个，共同连接正极侧使用。由此，可以控制阳极氧化处理槽414中的电流分布。
还有，进行阳极氧化处理时，也可以使用1座阳极氧化处理装置410，但是优选在铝板的行进方向并列排列2～5座阳极氧化处理装置410而连续地进行处理。如果在铝板的行进方向并列排列2～5座阳极氧化处理装置410连续地进行处理，则可以有效地进行高速处理和削减使用电力，因而有效。
<封孔处理>
本发明中，还可以根据需要，进行密封在阳极氧化被膜中存在的微孔的封孔处理。通过进行封孔处理，可以改善平版印刷版原版的显影性(灵敏度)。
众所周知，阳极氧化被膜是在与被膜表面大致垂直的方向上具有称为微孔的细孔的多孔质膜。本发明中，优选在阳极氧化处理中进行高封孔率的封孔处理。封孔率优选50％以上，更优选70％以上，进一步优选90％以上。其中，“封孔率”用下述式定义。
封孔率＝(封孔前的表面积-封孔后的表面积)/封孔前的表面积×100％
表面积可以使用例如简易BET方式的表面积测量装置(例如，QUANTASORB(カンタン-ブ)，汤浅アイオニクス公司制)进行测量。
对封孔处理没有特别的限制，可以使用以往公知的方法。可列举例如热水处理、沸水处理、水蒸汽处理、重铬酸盐处理、亚硝酸盐处理、醋酸铵处理、电沉积封孔处理、如在特开昭36-22063号公报等中记载的氟化锆酸处理、特开平9-244227号公报中记载的用含有磷酸盐和无机氟化物的水溶液的处理、特开平9-134002号公报中记载的用含糖水溶液的处理、特开2000-81704号公报和特开2000-89466号公报中记载的用含钛和氟的水溶液的处理、美国专利3,181,461号说明书等中记载的碱金属硅酸盐处理。
作为适合的封孔处理的一个例子，可列举碱金属硅酸盐处理。碱金属硅酸盐处理可以在不引起溶液凝胶化和阳极氧化被膜溶解的25℃下使用pH为10～13的碱金属硅酸盐水溶液，适当选择碱金属硅酸盐浓度、处理温度、处理时间等处理条件来进行。作为适合的碱金属硅酸盐，可列举例如硅酸钠、硅酸钾、硅酸锂。另外，为了较高地调整碱金属硅酸盐水溶液的pH，可以混合氢氧化钠、氢氧化钾、氢氧化锂等。
另外，也可以根据需要在碱金属硅酸盐水溶液中混合碱土金属盐和/或4族(第IVA族)金属盐。作为该碱土金属盐，可列举例如硝酸钙、硝酸锶、硝酸镁、硝酸钡等硝酸盐；碱土金属的硫酸盐、盐酸盐、磷酸盐、乙酸盐、草酸盐、硼酸盐等水溶性盐。作为4族(第IVA族)金属盐，可列举例如四氯化钛、三氯化钛、氟化钛钾、草酸钛钾、硫酸钛、四碘化钛、氯氧化锆、二氧化锆、四氯化锆等。碱土金属盐和4族(第IVA族)金属盐可以单独或者组合二种以上使用。
碱金属硅酸盐水溶液的浓度优选0.01～10质量％，更优选0.05～5.0质量％。
作为适合的封孔处理的一个例子，可列举氟化锆酸处理。氟化锆酸处理可以使用氟化锆酸钠、氟化锆酸钾等氟化锆酸盐进行。其中，优选使用氟化锆酸钠。由此，平版印刷版原版的显影性(灵敏度)出色。用于氟化锆酸处理的氟化锆酸溶液的浓度优选0.01～2质量％，更优选0.1～0.3质量％。
氟化锆酸盐溶液优选含有磷酸二氢钠。磷酸二氢钠的浓度优选0.01～3质量％，更优选0.1～0.3质量％。
氟化锆酸盐溶液也可以含有铝离子。这时，氟化锆酸盐溶液的铝离子浓度优选1～500mg/L。
封孔处理的温度优选20～90℃，更优选50～80℃。
封孔处理的时间(向溶液中的浸渍时间)优选1～20秒，更优选5～15秒。
另外，可以根据需要在进行封孔处理后，可以进行上述的碱金属硅酸盐处理、如下所述的处理等表面处理，其中，后一处理是浸渍于含有聚乙烯膦酸、聚丙烯酸、在侧链具有磺基的聚合物或者共聚物、具有特开平11-231509号公报中记载的氨基和选自膦酰基(ホスフイン基)、膦基(ホスホン基)和磷酸基的基团的有机化合物或者其盐等的溶液，或者进行涂布的处理等。
在封孔处理后，优选进行后述的亲水化处理。
<亲水化处理>
阳极氧化处理后或封孔处理后，也可以进行亲水化处理。作为亲水化处理，可以列举例如美国专利第2,946,638号说明书中所述的氟化锆酸钾处理、美国专利第3,201,247号说明书中所述的磷钼酸盐处理、英国专利第1,108,559号中所述的钛酸烷基酯处理、德国专利第1,091,433号说明书所述的聚丙烯酸处理、德国专利第1,134,093号说明书和英国专利第1,230,447号说明书所述的聚乙烯膦酸处理、特公昭44-6409号公报所述的膦酸处理、美国专利第3,307,951号说明书所述的植酸处理、特开昭58-16893号公报和特开昭58-18291号公报所述的亲油性有机高分子化合物和2价金属形成的盐的处理、如美国专利第3,860,426号说明书所述设置含有水溶性金属盐(如，醋酸锌)的亲水性纤维素(如，羧甲基纤维素)的底涂层的处理、特开昭59-101651号公报所述的将具有磺基的水溶性聚合物进行底涂的处理。
另外，还可以列举用以下物质等进行底涂的处理，即特开昭62-019494号公报所述的磷酸盐、特开昭62-033692号公报所述的水溶性环氧化合物、特开昭62-097892号公报所述的磷酸改性淀粉、特开昭63-056498号公报中所述的二胺化合物、特开昭63-130391号公报所述的氨基酸的无机或有机盐、特开昭63-145092号公报所述的含有羧基或羟基的有机膦酸、特开昭63-165183号公报所述的含有氨基和膦酸基的化合物、特开平2-316290号公报所述的特定的羧酸衍生物、特开平3-215095号公报所述的磷酸酯、特开平3-261592号公报所述的带有1个氨基和1个磷的含氧酸基的化合物、特开平5-246171号公报所述的苯膦酸等脂肪族或芳香族膦酸、特开平1-307745号公报所述的如硫代水杨酸那样的含S原子的化合物、特开平4-282637号公报所述的带有磷的含氧酸的基团的化合物等。
再有，还可以用特开昭60-64352号公报所述的酸性染料进行着色。
另外，优选的进行亲水化处理的方法是：在硅酸钠、硅酸钾等碱金属硅酸盐的水溶液中浸渍的方法；涂布亲水性乙烯基聚合物或亲水性化合物形成亲水性的底涂层的方法等。
用硅酸钠、硅酸钾等碱金属硅酸盐的水溶液进行的亲水化处理，可以按照美国专利第2,714,066号说明书和美国专利第3,181,461号说明书中所述的方法和步骤来实施。
作为碱金属硅酸盐，可以列举例如硅酸钠、硅酸钾、硅酸锂等。碱金属硅酸盐的水溶液，也可以适当量地含有氢氧化钠、氢氧化钾、氢氧化锂等。
另外，碱金属硅酸盐的水溶液，还可以含有碱土金属盐或4族(第IVA族)金属盐。碱土金属盐可以列举例如硝酸钙、硝酸锶、硝酸镁、硝酸钡等的硝酸盐；硫酸盐；盐酸盐；磷酸盐；醋酸盐；草酸盐；硼酸盐等。4族(第IVA族)金属盐可以列举例如四氯化钛、三氯化钛、氟化钛钾、草酸钛钾、硫酸钛、四碘化钛、氯氧化锆、二氧化锆、氧氯化锆、四氯化锆。这些碱土金属盐和4族(第IVA族)金属盐可以单独或组合2种以上使用。
通过碱金属硅酸盐处理而吸附的Si量可以用萤光X线分析装置进行测定，其吸附量优选约为1.0～15.0mg/m2。
通过该碱金属硅酸盐处理，可以获得平版印刷版用支持体的表面相对于碱性显影液的耐溶解性提高的效果，能够抑制铝成分在显影液中的洗脱，降低由显影液的疲劳所引起的显影气体的产生。
再有，通过亲水性的底涂层的形成来进行的亲水化处理，可以按照特开昭59-101651号公报和特开昭60-149491号公报中所述的条件及步骤来实施。
作为该方法使用的亲水性乙烯基聚合物，可以列举例如聚乙烯磺酸、含有磺基的对苯乙烯磺酸等含有磺基的乙烯基聚合性化合物和(甲基)丙烯酸烷基酯等通常的乙烯基聚合性化合物的共聚物。另外，该方法使用的亲水性化合物，可以列举例如含有选自-NH2基、-COOH基以及磺基中的至少一种基团的化合物。
<干燥>
在如上所述得到平版印刷版用支持体之后，在设置图像记录层之前，优选对平版印刷版用支持体的表面进行干燥。干燥优选在表面处理的最后处理之后、水洗处理和用夹持辊进行轧液之后再进行。
干燥温度优选70℃以上，更优选80℃以上，另外，优选110℃以下，更优选100℃以下。
干燥时间优选1秒以上，更优选2秒以上，另外优选20秒以下，更优选15秒以下。
[平版印刷版原版]
在由本发明得到的平版印刷版用支持体上，可以设置图像记录层得到本发明的平版印刷版原版。图像记录层中使用感光性组合物。
作为适用于本发明的感光性组合物，可以列举例如含有碱溶性高分子化合物和光热变换物质的热正型感光性组合物(以下，把该组合物和使用它的图像记录层称作“热正型”)、含有固化性化合物和光热变换物质的热负型感光性组合物(以下同样称作“热负型”)、光聚合型感光性组合物(以下同样称作“光聚合物型”)、含有重氮树脂或光交联树脂的负型感光性组合物(以下同样称作“普通负型”)、含有醌二叠氮基化合物的正型感光性组合物(以下同样称作“普通正型”)、不需要特别的显影工序的感光性组合物(以下同样称作“无处理型”)，特别优选热正型、热负型、无处理型。下面对这些适合的感光性组合物加以说明。
<热正型>
<感光层>
热正型的感光性组合物，含有碱溶性高分子化合物和光热变换物质。在热正型的图像记录层中，光热变换物质将红外线激光等光能转变成热，该热能有效解除使碱溶性高分子化合物的碱溶解性下降的相互作用。
作为碱溶性高分子化合物，可以举出例如分子中含有酸性基的树脂及其2种以上的混合物。特别是含有酚性羟基、磺酰胺基(-SO2NH-R(式中，R代表烃基))、活性亚氨基(-SO2NHCOR、-SO2NHSO2R、-CONHSO2R(各式中，R是与上述相同的意思))等酸性基的树脂，从对碱显影液的溶解性方面考虑较理想。
尤其在通过红外线激光等光的曝光中图像成形性出色的观点来看，优选含有酚性羟基的树脂，可以适当列举例如苯酚-甲醛树脂、间甲酚-甲醛树脂、对甲酚-甲醛树脂、间/对混合甲酚-甲醛树脂、酚/甲酚(可以是间、对以及间/对混合的任一种)混合-甲醛树脂(苯酚-甲酚-甲醛共缩合树脂)等酚醛清漆树脂。
另外，还可适当列举在特开2001-305722号公报(特别是[0023]～[0042])中记载的高分子化合物、在特开2001-215693号公报中记载的含有用通式(1)所表示的重复单元的高分子化合物、在特开2002-311570号公报(特别是[0107])中记载的高分子化合物。
作为光热变换物质，从记录灵敏度方面考虑，可以适当列举在波长700～1200nm的红外区域有光吸收区域的颜料或染料。作为染料，可以列举例如偶氮染料、金属络盐偶氮染料、吡唑啉酮偶氮染料、萘醌染料、蒽醌染料、酞菁染料、碳鎓染料、苯醌亚胺染料、次甲基染料、花青苷染料、斯夸琳(スクワリリウム)色素、吡喃鎓盐、金属硫醇盐配位化合物(如，硫醇镍配位化合物)。其中，优选花青苷染料，尤其优选特开2001-305722号公报中记载的通式(1)所表示的花青苷染料。
在热正型的感光性组合物中，可以含有溶解阻止剂。作为溶解阻止剂，可以适当列举如特开2001-305722号公报的[0053]～[0055]中记载的溶解阻止剂。
另外，在热正型的感光性组合物中，作为添加剂，优选含有灵敏度调节剂、用于曝光加热后立即得到可视图像的烘干剂、作为图像着色剂的染料等化合物、用于使涂布性和处理稳定性提高的表面活性剂。对于这些化合物，优选如在特开2001-305722号公报的[0056]～[0060]中记载的化合物。
除了上述以外，优选使用在特开2001-305722号公报中详细记载的感光性组合物。
另外，热正型的图像记录层不限于单层，也可以是2层构造。
作为2层构造的图像记录层(多层系的图像记录层)，可以适当举出下面的类型：在接近支持体的一侧设置耐刷性和耐溶剂性出色的底层(以下称作「A层」)，其上面设置正型图像形成性优良的层(以下称作「B层」)。该类型灵敏度高，能够实现宽的显影宽容度。B层一般含有光热变换物质。光热变换物质可以列适当举如上所述的染料。
作为A层中所使用的树脂，从耐刷性和耐溶剂性优良方面考虑，可以适当举出以含有磺酰胺基、活性亚氨基、酚性羟基等的单体为共聚成分的聚合物。作为B层中所使用的树脂，可以适当举出含有酚性羟基的碱水溶液可溶性树脂。
在A层和B层所使用的组合物中，除了所述树脂之外，还可以根据需要含有各种添加剂。具体而言，特开2002-3233769号公报的[0062]～[0085]中记载的各种添加剂较适用。另外，上述的特开2001-305722号公报的[0053]～[0060]中记载的添加剂也可以适用。
对于构成A层和B层的各成分及其含量，优选特开平11-218914号公报中记载的有关内容。
<中间层>
热正型的图像记录层和支持体之间优选设置中间层。作为中间层所含有的成分，可以适当列举特开2001-305722号公报的[0068]中记载的各种有机化合物。
<其它>
对于热正型的图像记录层的制造方法和制版方法，可以使用特开2001-305722号公报中详细记载的方法。
<热负型>
热负型的感光性组合物含有固化性化合物和光热变换物质。热负型的图像记录层，是被红外线激光等光照射的部分发生固化而形成图像部的负型的感光层。
<重叠层>
作为热负型的图像记录层的一种类型，可以适当举出重叠型的图像记录层(重叠层)。重叠层含有光热变换物质、自由基发生剂、作为固化性化合物的自由基聚合性化合物和胶粘剂聚合物。在重叠层中，光热变换物质将吸收的红外线转变成热，自由基发生剂被该热分解而产生自由基，自由基聚合性化合物因产生的自由基而连锁地聚合，并固化。
作为光热变换物质，可以举例为在上述的热正型中所使用的光热变换物质。作为特别优选的花青苷色素的具体例，可以举出记载在特开2001-133969号公报的[0017]～[0019]中的物质。
作为自由基发生剂，可以适当列举鎓盐。特别优选的鎓盐记载在特开2001-133969号公报的[0030]～[0033]中。
作为自由基聚合性化合物，可以列举具有至少1个、优选是2个以上的末端乙烯性不饱和键的化合物。
作为胶粘剂聚合物，可以适当举出线状有机聚合物。可以适当举出对水或弱碱水具有可溶性或溶胀性的线状有机聚合物。其中，在侧链具有烯丙基、丙烯酰基等不饱和基或苄基、羧基的(甲基)丙烯酸树脂，从膜强度、灵敏度和显影性的均衡优良方面考虑较适宜。
有关自由基聚合性化合物和胶粘剂聚合物，可以使用特开2001-133969号公报的[0036]～[0060]中详细记载的物质。
在热负型的感光性组合物中，优选含有特开2001-133969号公报的[0061]～[0068]中记载的添加剂(例如，用于提高涂布性的表面活性剂)。
对于重叠层的制造方法和制版方法，可以使用特开2001-133969号公报中详细记载的方法。
<酸交联层>
另外，作为热负型的图像记录层的一种类型，还可以适当举出酸交联型的图像记录层(酸交联层)。酸交联层含有光热变换物质、热产酸剂、作为固化性化合物的通过酸交联的化合物(交联剂)、以及在酸的存在下可与交联剂发生反应的碱溶性高分子化合物。酸交联层中，光热变换物质将吸收的红外线转变成热，热产酸剂被该热分解产生酸，交联剂和碱溶性高分子化合物通过产生的酸发生反应，并固化。
作为光热变换物质，可以列举和重叠层中所使用的同样的物质。
作为热产酸剂，可以举例为光聚合的光引发剂、色素类的光变色剂、微抗蚀剂(マイクロレジスト)等中所使用的产酸剂等热分解化合物。
作为交联剂，可以列举如被羟甲基或烷氧基甲基取代的芳香族化合物；具有N-羟甲基、N-烷氧基甲基或N-酰氧基甲基的化合物；环氧化合物。
作为碱溶性高分子化合物，可以列举如酚醛清漆树脂、侧链含有羟基芳基的聚合物。
<光聚合物型>
光聚合物型感光性组合物含有加聚性化合物、光聚合引发剂和高分子粘合剂。
作为加聚性化合物，可以适当举出含有能够加聚的乙烯性不饱和键的化合物。含有乙烯性不饱和键的化合物是末端上具有乙烯性不饱和键的化合物。具体而言，例如有单体、预聚物、它们的混合物等化学形态。作为单体的例子，可列举不饱和羧酸(如，丙烯酸、异丁烯酸、衣康酸、马来酸)和脂肪族多元醇化合物形成的酯、不饱和羧酸和脂肪族多元胺化合物形成的酰胺。
另外，作为加聚性化合物，还可以适当举出氨基甲酸酯系加聚性化合物。
作为光聚合引发剂，可以根据使用的光源的波长适宜地选择使用各种光聚合引发剂或2种以上的光聚合引发剂的并用体系(光引发体系)。可以适当举出例如特开2001-22079号公报的[0021]～[0023]中记载的引发体系。
高分子粘合剂不仅作为光聚合型感光性组合物的被膜形成剂起作用，还必须使图像记录层溶解在碱显影液中，因此使用对碱性水具有可溶性或溶胀性的有机高分子聚合物。作为如上所述的有机高分子聚合物，可以适当举出在特开2001-22079号公报的[0036]～[0063]中记载的物质。
在光聚合物型的光聚合型感光性组合物中，优选含有特开2001-22079号公报的[0079]～[0088]中记载的添加剂(如，用于提高涂布性的表面活性剂、着色剂、增塑剂、热聚合抑制剂)。
另外，在光聚合物型的图像记录层上，为了防止氧的聚合抑制作用，优选设置氧遮断性保护层。作为氧遮断性保护层中含有的聚合物，可以举例为聚乙烯醇、其共聚物。
再有，还优选设置如特开2001-228608号公报的[0124]～[0165]中记载的那样的中间层或粘接层。
<普通负型>
普通负型的感光性组合物含有重氮树脂或光交联树脂。其中，可以适当举出含有重氮树脂和碱溶性或溶胀性的高分子化合物(粘合剂)的感光性组合物。
作为重氮树脂，可列举例如芳香族重氮鎓盐和甲醛等含有活性羰基的化合物形成的缩合物；作为对重氮苯基胺类和甲醛的缩合物与六氟磷酸盐或四氟硼酸盐的反应产物的有机溶剂可溶性重氮树脂无机盐。特别优选在特开昭59-78340号公报中记载的含有20摩尔％以上六聚物以上的高分子量重氮化合物。
作为粘合剂，可以举例为含有丙烯酸、甲基丙烯酸、巴豆酸或马来酸作为必须成分的共聚物。具体地讲，可以举出如特开昭50-118802号公报中记载的那样的(甲基)丙烯酸2-羟乙酯、(甲基)丙烯腈、(甲基)丙烯酸等单体形成的多元共聚物，如特开昭56-4144号公报中记载的那样的丙烯酸烷基酯、(甲基)丙烯腈以及不饱和羧酸所形成的多元共聚物。
在普通负型的感光性组合物中，作为添加剂，优选含有在特开平7-281425号公报的[0014]～[0015]中记载的烘干剂、染料、用于赋予涂膜柔软性和耐磨耗性的增塑剂、显影促进剂等化合物、用于提高涂布性的表面活性剂。
在普通负型的感光层的下面，优选设置在特开2000-105462号公报中记载的含有高分子化合物的中间层，该高分子化合物具有含酸根的构成成分和含鎓基的构成成分。
<普通正型>
普通正型的感光性组合物含有醌二叠氮基化合物。其中，还可以适当举出含有邻醌二叠氮基化合物和碱溶性高分子化合物的感光性组合物。
作为邻醌二叠氮基化合物，可列举例如1，2-萘醌-2-二叠氮基-5-磺酰氯和苯酚-甲醛树脂或甲酚-甲醛树脂形成的酯、美国专利第3,635,709号说明书中记载的1，2-萘醌-2-二叠氮基-5-磺酰氯和连苯三酚-丙酮树脂形成的酯。
作为碱溶性高分子化合物，可以列举例如苯酚-甲醛树脂、甲酚-甲醛树脂、苯酚-甲酚-甲醛共缩合树脂、聚羟基苯乙烯、N-(4-羟基苯基)甲基丙烯酰胺的共聚物、在特开平7-36184号公报中记载的含有羧基的聚合物、在特开昭51-34711号公报中记载的含有酚性羟基的丙烯酸系树脂、在特开平2-866号公报中记载的含有磺酰胺基的丙烯酸系树脂、氨基甲酸酯系树脂。
在普通正型的感光性组合物中，作为添加剂，优选含有在特开平7-92660号公报的[0024]～[0027]中记载的灵敏度调节剂、烘干剂、染料等化合物、或在特开平7-92660号公报的[0031]中记载的用于提高涂布性的表面活性剂。
在普通正型的感光层下面，优选设置与适用于上述的普通负型的中间层同样的中间层。
<无处理型>
作为无处理型的感光性组合物，可以列举热塑性微粒聚合物型、微胶囊型、含有磺酸产生聚合物型。它们都是含有光热变换物质的热敏型。光热变换物质优选和上述的热正型中所使用的同样的染料。
热塑性微粒聚合物型的感光性组合物，是疏水性并且热熔融性的微粒聚合物分散在亲水性高分子基体中而形成的。在热塑性微粒聚合物型的图像记录层中，疏水性的微粒聚合物因曝光所产生的热而熔融，相互熔合形成疏水性区域，即图像部。
作为微粒聚合物，优选是微粒之间通过热熔融而得到的融合体，表面是亲水性并有可能分散到润版水等亲水性成分中的物质更加理想。具体地，可适当举出Research Disclosure No.33303(1992年1月)、特开平9-123387号、特开平9-131850号、特开平9-171249号以及特开平9-171250号的各公报、欧洲专利申请公开第931,647号说明书等中记载的热塑性微粒聚合物。其中，还优选聚苯乙烯和聚甲基丙烯酸甲酯。作为具有亲水性表面的微粒聚合物，可以举例为聚合物本身是亲水性的物质；使聚乙烯醇、聚乙二醇等亲水性化合物吸附在微粒聚合物表面而使表面亲水化的物质。
微粒聚合物优选含有反应性官能团。
作为微胶囊型的感光性组合物，可以适当举出在特开2000-118160号公报中记载的物质、在特开2001-277740号公报中记载的将具有热反应性官能团的化合物内包的微胶囊型。
作为含有磺酸产生聚合物型的感光性组合物中使用的磺酸产生聚合物，可以举例为在特开平10-282672号公报中记载的侧链上具有磺酸酯基、二磺酸基或者仲或叔磺酰胺基的聚合物。
通过使无处理型的感光性组合物中含有亲水性树脂，不仅在机器上显影性变得良好，感光层本身的膜强度也提高。作为亲水性树脂，优选例如含有羟基、羧基、羟乙基、羟丙基、氨基、氨乙基、氨丙基、羧甲基等亲水基的物质、亲水性的溶胶凝胶变换系粘结树脂。
无处理型的图像记录层不需要特别的显影工序，可以在印刷机上显影。有关无处理型的图像记录层的制造方法和制版印刷方法，可以使用特开2002-178655号公报中详细记载的方法。
<后涂层>
如上所述，在由本发明所得到的平版印刷版用支持体上设置各种图像记录层而得到的本发明的平版印刷版原版的背面，可以根据需要设置由有机高分子化合物构成的覆盖层，以便防止重叠时图像记录层的擦伤。
[制版方法(平版印刷版的制造方法)]
使用了由本发明所得到的平版印刷版用支持体的平版印刷版原版，通过适合图像记录层的各种处理方法，成为平版印刷版。
作为用于图像曝光中的活性光线的光源，可以列举例如水银灯、金属卤化物灯、氙灯、化学灯。作为激光束，可以列举例如氦-氖激光(He-Ne激光)、氩激光、氪激光、氦-镉激光、KrF激元激光、半导体激光、YAG激光、YAG-SHG激光。
在所述曝光后，在图像记录层为热正型、热负型、普通负型、普通正型以及光聚合物型中的任何一种的情况下，在曝光之后优选用显影液进行显影得到平版印刷版。
显影液优选碱性显影液，更优选实质上不含有有机溶剂的碱性水溶液。
另外，实质上不含有碱金属硅酸盐的显影液也较理想。作为使用实质上不含有碱金属硅酸盐的显影液进行显影的方法，可以使用在特开平11-109637号公报中详细记载的方法。
再有，也可以使用含有碱金属硅酸盐的显影液。
实施例
下面通过所示实施例具体说明本发明。但是，本发明并不限于这些实施例。
1.铝板轧纹整理用辊的制造
使用将工具钢(SKD11)淬火形成Hv750的辊，依次进行以下处理(1)～(5)，从而获得各铝板轧纹整理用辊。
(1)镜面研磨处理
作为镜面研磨处理进行表面抛光研磨处理，除去已研磨辊表面的磨石的痕迹。在研磨后的表面上，平均粗糙度Ra为0.2μm，最大高度Rmax为1μm。另外，平均粗糙度Ra和最大高度Rmax分别按照JIS B0601-1994的算术平均粗糙度Ra和最大高度Rmax的测量进行测量。
(2)喷砂处理
通过在辊的表面上，进行两次使用#80筛目(mesh)的氧化铝颗粒作为格子材料的喷气法，进行粗面化处理。关于各次喷气法，喷射压力为2kgf/cm2(1.96×105Pa)。在喷砂处理后的表面上，平均粗糙度Ra为0.8μm。
(3)脱脂处理
使其浸渍于液温30℃的脱脂槽中30秒，用脱脂液除去表面的油分。然后，进行水洗处理，喷气，除去水分。
(4)电解处理
在含有铬酸300g/L、硫酸2g/L、铁1g/L的液温50℃的电解液中，连续施加直流电流，以辊为阳极在电流密度30A/dm2下进行电解处理。电解处理的电量为10000C/dm2。
电流波形进行三相全波整流，另外使用通过滤波电路而使波纹成分为5％以下的直流。配极使用铅。将辊纵向置于电解液中，圆筒状配置铅电极以便包围其周围。用氯乙烯进行掩蔽处理以便不对辊的旋转轴部分进行电解处理。
(5)镀铬处理
接着，在含有铬酸300g/L、硫酸2g/L、铁1g/L的液温50℃的电解液中，连续施加直流电流，以辊为阴极在电流密度40A/dm2下进行电镀处理。设定电镀处理时间，以便使电镀厚度为6μm。
电流波形进行三相全波整流，另外使用通过滤波电路而使波纹成分为5％以下的直流。配极使用铅。将辊纵向置于电解液中，圆筒状配置铅电极以便包围其周围。用氯乙烯进行掩蔽处理以便不对辊的旋转轴部分进行电解处理。
2.铝板的制造
使用含有第1表中所示的各成分(质量％)，剩余部分由Al和不可避免杂质组成的铝合金调制熔融金属，进行熔融处理和过滤后，用DC铸造法制作厚500mm、宽1200mm的铸锭。按照平均10mm的厚度使用平面切削机切削表面，然后在550℃下，均热约5小时并保持，即使降为温度400℃，也可使用热轧机形成厚2.7mm的轧制板。另外，使用连续退火机在500℃下进行热处理后，进行冷轧，精加工为厚0.3mm、宽1060mm，从而获得铝板1～3。
另外，在冷轧中，除了使用由上述获得的铝板轧纹整理用辊外，还用分别与铝板1～3相同的方法，分别获得铝板4～6。
表1
  铝板   Si   Fe   Cu   Mn   Mg   Cr   Zn   Ti
  1   0.080   0.300   0.001   0.001   0.000   0.001   0.003   0.021
  2   0.076   0.270   0.023   0.001   0.000   0.001   0.003   0.021
  3   0.278   0.413   0.201   0.892   0.783   0.022   0.122   0.034
3.平版印刷版用支持体的制作
(实施例1-1～实施例1-38、实施例3-1～3-7、实施例3-9、比较例1-1～1-2)
将由上述获得的铝板提供于以下所示的表面处理，从而获得示于第2表中的各平版印刷版用支持体。
<表面处理>
表面处理通过连续地进行以下(a)～(g)的各种处理来进行。
(a)在碱水溶液中的腐蚀处理(第1腐蚀处理)
在铝板上，从喷射管喷射苛性钠浓度370g/L、铝离子浓度100g/L、温度60℃的水溶液，进行腐蚀处理。铝板的在之后进行电化学粗面化处理的面的腐蚀量为3g/m2。
然后，用夹持辊进行轧液，另外，使用具有喷射水扩散成扇形的喷射片的喷射管进行5秒钟水洗处理，再用夹持辊进行轧液。
(b)酸性水溶液中的除污处理(第1除污处理)
在铝板上，由喷射管喷射硫酸浓度170g/L、铝离子浓度50g/L、温度50℃的水溶液，进行5秒钟除污处理。作为硫酸水溶液，使用后述的(f)阳极氧化处理工序的废液。
然后，用夹持辊进行轧液，另外，使用具有喷射水扩散成扇形的喷射片的喷射管进行5秒钟水洗处理，再用夹持辊进行轧液。
(c)酸性水溶液中使用交流的电化学粗面化处理(电化学粗面化处理)
作为电解液，使用第2表所示的氯化物离子浓度、硝酸离子浓度、铝离子浓度、pH的水溶液(温度35℃)，通过使用了IGBT元件的变压器控制来控制电流，使用可以产生任意波形的交流的电源，对实施了(b)处理的铝板进行电化学粗面化处理。
另外，氯化物离子浓度使用盐酸和/或氯化铝进行调整，硝酸离子浓度使用硝酸进行调整，铝离子浓度使用氯化铝进行调整。
此外，使用的电流的波形、当波形为梯形波时的上升时间、使用的电流的频率、电量、电流比分别如第2表中所示的那样。还有，电量是铝板为阳极时的电量总和，电流比是铝板为阴极时的电量总和与铝板为阳极时的电量总和之比。
另外，交流在波峰时且铝板为阳极时的电流密度为50A/dm2。此外，能率(duty)为0.5。
电解液的浓度控制可以按照事先求出的数据表，加入与导通量成比例的量的氯化物离子、硝酸离子和水，用毛细管电泳分析法进行多成分浓度测量，从该结果出发，使用补偿氯化物离子、硝酸离子和水的加入量的方法。
然后，用夹持辊进行轧液，另外，使用具有喷射水扩散成扇形的喷射片的喷射管进行5秒钟水洗处理，再用夹持辊进行轧液。
(d)在碱水溶液中的腐蚀处理(第2腐蚀处理)
在铝板上，由喷射管喷射苛性钠浓度50g/L、铝离子浓度5g/L、温度35℃的水溶液，进行腐蚀处理。铝板的在之后进行电化学粗面化处理的面的腐蚀量如第2表中所示的那样。
然后，用夹持辊进行轧液，另外，使用具有喷射水扩散成扇形的喷射片的喷射管进行5秒钟水洗处理，再用夹持辊进行轧液。
(e)在酸性水溶液中的除污处理(第2除污处理)
在铝板上，由喷射管喷射硫酸浓度170g/L、铝离子浓度5g/L、温度50℃的水溶液，进行5秒钟除污处理。作为硫酸水溶液，使用后述的(f)阳极氧化处理工序的废液。
然后，用夹持辊进行轧液，另外，使用具有喷射水扩散成扇形的喷射片的喷射管进行5秒钟水洗处理，再用夹持辊进行轧液。
(f)阳极氧化处理
作为电解液，使用使硫酸铝溶解于170g/L硫酸水溶液中而使铝离子浓度为5g/L的电解液(温度50℃)。进行阳极氧化处理，以便铝板进行阳极反应期间的平均电流密度为15A/dm2，最终氧化被膜量为2.7g/m2。
然后，用夹持辊进行轧液，另外，使用具有喷射水扩散成扇形的喷射片的喷射管进行5秒钟水洗处理，再用夹持辊进行轧液。
(g)亲水化处理
使铝板浸渍于硅酸钠1质量％水溶液(温度20℃)中10秒钟。用荧光X线分析装置测量的铝板表面的Si量为3.5g/m2。
然后，用夹持辊进行轧液，另外，使用具有喷射水扩散成扇形的喷射片的喷射管进行5秒钟水洗处理，再用夹持辊进行轧液。另外，喷射90℃的风10秒钟使其干燥，获得平版印刷版用支持体。
(实施例2-1～2-4、实施例3-8)
在上述(a)之前进行下述(z)，在上述(a)中，使铝板的在之后进行电化学粗面化处理的面的腐蚀量为10g/m2，除此以外，用与实施例1-1～实施例1-38相同的方法，获得示于第2表中的实施例2-1～2-4和3-8的平版印刷版用支持体。
(z)机械粗面化处理
使用如图6中所示的装置，一边把研磨剂(浮石)和水的悬浊液(比重1.12)作为研磨浆液提供给铝板表面，一边用旋转的辊状尼龙刷进行机械粗面化处理。在图6中，1是铝板，2和4是辊状刷，3是研磨浆液，5、6、7和8是支承辊。研磨剂的平均粒径为30μm。尼龙刷的材质是6·10尼龙，毛长为50mm，毛的直径为0.3mm。尼龙刷是在φ300mm的不锈钢制的筒上钻孔而紧密地进行植绒形成的。旋转刷使用3根。刷下部的两根支承辊(φ200mm)的距离为300mm。刷的旋转方向与铝板的移动方向相同。刷的转速为200rpm。机械粗面化处理的Ra为0.45μm。
4.平版印刷版用支持体表面的观察
用扫描型电子显微镜(JSM-5500，日本电子公司制。以下相同)在50000倍的放大倍率下观察在实施例1-1～1-38、实施例2-1～2-4、实施例3-1～3-9中所得到的各平版印刷版用支持体的表面形状，结果是在其表面均匀并且致密地生成了直径0.01～0.5μm的微细的凹凸。另外，用扫描型电子显微镜在2000倍的放大倍率下进行观察，结果在这些平版印刷版用支持体的表面上生成了直径1～5μm的凹凸。直径0.01～0.5μm的微细的凹凸与直径1～5μm的凹凸重叠生成。另外，直径1～5μm的凹凸通常不重叠，独立地生成，而且均匀。
与此相反，同样观察在比较例1～2中获得的平版印刷版用支持体的表面形状，结果在其表面上生成了直径0.01～0.5μm的微细的凹凸和直径1～5μm的凹凸，但是直径1～5μm的凹凸与实施例的情况相比，多数周边部分互相重叠，不均匀。
5.平版印刷版原版的制作
在上述所得到的各平版印刷版用支持体上，如下所述设置热正型的图像记录层得到平版印刷版原版。另外，在设置图像记录层之前，如后所述地设置底涂层。
在平版印刷版用支持体上涂布下述组成的底涂液，在80℃下干燥15秒钟，形成底涂层的涂膜。干燥后的涂膜的覆盖量为15mg/m2。
<底涂液组成>
·下述高分子化合物    0.3g
·甲醇    100g
·水      1g
[化学式1]
Figure A20051009199200441
分子量2.8万
另外，调制下述组成的热敏层涂布液，在设置了底涂层的平版印刷版用支持体上，按照涂布该热敏层涂布液并使其干燥后的涂布量(热敏层涂布量)为1.8g/m2，使其干燥形成热敏层(热正型的图像记录层)，从而得到平版印刷版原版。
<热敏层涂布液组成>
·酚醛清漆树脂(间甲酚/对甲酚＝60/40，重均分子量7,000，含有未反应甲酚0.5质量％)                               0.90g
·甲基丙烯酸乙酯/甲基丙烯酸异丁酯/甲基丙烯酸共聚物(摩尔比35/35/30)                                        0.10g
·用下述结构式表示的花青苷染料A              0.1g
·四氢化苯二甲酸酐                           0.05g
·对甲苯磺酸                                 0.002g
·使乙基紫的平衡离子为6-羟基-β-萘磺酸的物质 0.02g
·氟系表面活性剂(メガフアツクF-780F，大日本油墨化学工业公司制，固体成分30质量％)                          0.0045g(固体成分换算)
·氟系表面活性剂(メガフアツクF-781F，大日本油墨化学工业公司制，固体成分100质量％)                           0.035g
·甲基乙基酮                                 12g
[化学式2]
花青苷染料A
Figure A20051009199200451
6.平版印刷版原版的评价
平版印刷版的耐刷性、耐污染性和发光按照以下方法进行评价。
(1)耐刷性
用Creo公司制的Trend Setter在滚筒旋转速度150rpm、射束(beam)强度10W下对得到的平版印刷版原版进行图像样的描绘。
之后，用装有下述组成的碱显影液的富士胶片(株)制的PSプロセツサ-940H，在保持液温为30℃、显影时间20秒的条件下进行显影，得到平版印刷版。另外，任何一个平版印刷版原版都灵敏度良好。
<碱显影液组成>
·D-山梨糖醇                          2.5质量％
·氢氧化钠                            0.85质量％
·聚乙二醇月桂基醚(重均分子量1000)    0.5质量％
·水                                  96.15质量％
用小森コ-ポレ-ション公司制的リスロン印刷机，使用大日本油墨化学工业公司制的DIC-GEOS(N)墨的油墨对所得到的平版印刷版进行印刷，通过用目视确认的全部图像浓度开始变薄时的印刷张数来评价耐刷性。
结果如第2表中所示。第2表中的符号的含义如下所述。
A：30000张以上
A-B：20000张以上但不到30000张
B：10000张以上但不到20000张
C：10000张以下。
(1)耐污染性
和上述(1)耐刷性的评价时一样，使用得到的平版印刷版，用三菱ダイヤ型F2印刷机(三菱重工业公司制)，使用DIC-GEOS(s)红的油墨进行印刷，用目视评价印刷1万张后的橡皮布(blanket)的污染情况。
结果如第2表中所示。第2表中的符号的含义如下所述。
A：橡皮布几乎无污染
A-B：橡皮布稍微有点污染
B：橡皮布污染在允许范围内
C：橡皮布污染，印刷物明显污染
(3)发光
将与由上述(1)耐刷性的评价相同的方法获得的平版印刷版安装在小森コ-ポレ-ション公司制的リスロン印刷机上，一边收拢润版水的供给量，一边目视观察版面的非图像部的发光情况，用开始发光时的润版药水的供给量评价发光(观察版面发亮状态的容易程度)。
结果如第2表中所示。第2表中的附号的含义如下所述。
A：收拢润版水时，版面难以发光
B：收拢润版水时，版面易于发光，目视下润版水的调整稍微有点困难。
如由第2表可以清楚地知道，使用通过本发明的平版印刷版用支持体的制造方法(实施例1-1～1-38、实施例2-1～2-4、实施例3-1～3-9)获得的平版印刷版用支持体的平版印刷版，耐刷性和耐污染性都出色，另外，发光也出色。
另外，当在第1腐蚀工序之前通过压接铝板轧纹整理用辊而在表面形成凹凸时(实施例1-1～1-18、实施例1-37、实施例3-5)、以及在第1腐蚀工序之前通过进行机械粗面化处理在表面形成凹凸时(实施例2-1～2-4、实施例3-8)，使用得到的平版印刷版用支持体的平版印刷版，其发光也特别出色。
与此相反，就电化学粗面化处理中铝板为阳极时的电量总和过多的比较例1-1而言，使用得到的平版印刷版用支持体的平版印刷版的耐污染性差。
另外，就用于电化学粗面化处理的水溶液的pH过高的比较例1-2来说，得到的平版印刷版用支持体的凹坑分散不充分，此外凹坑的大小不均匀，由于形成了大的凹部，所以耐污染性差，耐刷性和发光也差。
表2-1
  铝板   机械粗面化处理   第1腐蚀处理   电化学粗面化处理   第2腐蚀处理   印刷性能
  铝溶解量(g/m2)   波形   [HCl](g/L)   [Cl-](g/L)   [HNO3](g/L)   [NO3 -](g/L)   [Al3+](g/L)   pH   电流上升时间(毫秒)   电量(C/dm2)   能率   电流比   频率(Hz)   铝溶解量(g/m2)   耐刷性   耐污性   发光
  实施例1-1   4   无   3   正弦波   7.5   11.3   1.0   0.98   5.0   0.78   -   200   0.5   0.95   60   0.10   A   A   A
  实施例1-2   4   无   3   正弦波   7.5   11.3   3.0   2.95   5.0   0.73   -   200   0.5   0.95   60   0.10   A   A   A
  实施例1-3   4   无   3   正弦波   7.5   11.3   5.0   4.92   5.0   0.68   -   200   0.5   0.95   60   0.10   A   A   A
  实施例1-4   4   无   3   正弦波   7.5   11.3   8.0   7.87   5.0   0.60   -   200   0.5   0.95   60   0.10   A   A   A
  实施例1-5   4   无   3   正弦波   7.5   11.3   5.0   4.92   5.0   0.68   -   200   0.5   0.95   60   0.05   A   B   A
  实施例1-6   4   无   3   正弦波   7.5   11.3   5.0   4.92   5.0   0.68   -   200   0.5   0.95   60   0.20   A-B   A   A
  实施例1-7   4   无   3   正弦波   7.5   11.3   5.0   4.92   5.0   0.68   -   200   0.5   0.95   60   0.30   A-B   A   A
  实施例1-8   4   无   3   正弦波   7.5   11.3   5.0   4.92   5.0   0.68   -   200   0.5   0.95   60   0.50   A-B   A   A
  实施例1-9   4   无   3   正弦波   7.5   11.3   5.0   4.92   5.0   0.68   -   200   0.5   0.95   60   1.00   B   A   A
  实施例1-10   4   无   3   正弦波   7.5   11.3   5.0   4.92   5.0   0.68   -   200   0.5   1.0   60   0.10   A   A   A
  实施例1-11   4   无   3   正弦波   7.5   11.3   5.0   4.92   5.0   0.68   -   200   0.5   1.0   50   0.10   A   A   A
  实施例1-12   4   无   3   正弦波   7.5   11.3   5.0   4.92   5.0   0.68   -   100   0.5   0.95   60   0.10   B   A   A
  实施例1-13   4   无   3   正弦波   7.5   11.3   5.0   4.92   5.0   0.68   -   150   0.5   0.95   60   0.10   A-B   A   A
  实施例1-14   4   无   3   正弦波   7.5   11.3   5.0   4.92   5.0   0.68   -   250   0.5   0.95   60   0.10   A   A   A
  实施例1-15   4   无   3   正弦波   7.5   11.3   5.0   4.92   5.0   0.68   -   300   0.5   0.95   60   0.10   A   A-B   A
  实施例1-16   5   无   3   正弦波   7.5   11.3   5.0   4.92   5.0   0.68   -   200   0.5   0.95   60   0.10   A   A   A
  实施例1-17   6   无   3   正弦波   7.5   11.3   5.0   4.92   5.0   0.68   -   200   0.5   0.95   60   0.10   A   A   A
  实施例1-18   4   无   3   梯形波   7.5   11.3   5.0   4.92   5.0   0.68   0.8   200   0.5   0.95   60   0.10   A   A   A
  实施例1-19   1   无   3   正弦波   7.5   11.3   1.0   0.98   5.0   0.78   -   200   0.5   095   60   0.10   A   A   B
  实施例1-20   1   无   3   正弦波   7.5   11.3   3.0   2.95   5.0   0.73   -   200   0.5   0.95   60   0.10   A   A   B
  实施例1-21   1   无   3   正弦波   7.5   11.3   5.0   4.92   5.0   0.68   -   200   0.5   0.95   60   0.10   A   A   B
  实施例1-22   1   无   3   正弦波   7.5   11.3   8.0   7.87   5.0   0.60   -   200   0.5   0.95   60   0.10   A   A   B
  实施例1-23   1   无   3   正弦波   7.5   11.3   5.0   4.92   5.0   0.68   -   200   0.5   0.95   60   0.05   A   B   B
  实施例1-24   1   无   3   正弦波   7.5   11.3   5.0   4.92   5.0   0.68   -   200   0.5   0.95   60   0.20   A-B   A   B
  实施例1-25   1   无   3   正弦波   7.5   11.3   5.0   4.92   5.0   0.68   -   200   0.5   0.95   60   0.30   A-B   A   B
表2-2
  铝板   机械粗而化处理   第1腐蚀处理   电化学粗面化处理   第2腐蚀处理   印刷性能
  铝溶解量(g/m2)   波形   [HCl](g/L)   [Cl-](g/L)   [HNO3](g/L)   [NO3 -](g/L)   [Al3+](g/L)   pH   电流上升时间(毫秒)   电量(C/dm2)   能率   电流比   频率(Hz)   铝溶解量(g/m2)   耐刷性   耐污性   发光
  实施例1-26   1   无   3   正弦波   7.5   11.3   5.0   4.92   5.0   0.68   -   200   0.5   0.95   60   0.50   A-B   A   B
  实施例1-27   1   无   3   正弦波   7.5   11.3   5.0   4.92   5.0   0.68   -   200   0.5   0.95   60   1.00   B   A   B
  实施例1-28   1   无   3   正弦波   7.5   11.3   5.0   4.92   5.0   0.68   -   200   0.5   1.00   60   0.10   A   A   B
  实施例1-29   1   无   3   正弦波   7.5   11.3   5.0   4.92   5.0   0.68   -   200   0.5   1.00   50   0.10   A   A   B
  实施例1-30   1   无   3   正弦波   7.5   11.3   5.0   4.92   5.0   0.68   -   100   0.5   0.95   60   0.10   B   A   B
  实施例1-31   1   无   3   正弦波   7.5   11.3   5.0   4.92   5.0   0.68   -   150   0.5   0.95   60   0.10   A-B   A   B
  实施例1-32   1   无   3   正弦波   7.5   11.3   5.0   4.92   5.0   0.68   -   250   0.5   0.95   60   0.10   A   A   B
  实施例1-33   1   无   3   正弦波   7.5   11.3   5.0   4.92   5.0   0.68   -   300   0.5   0.95   60   0.10   A   A-B   B
  实施例1-34   2   无   3   正弦波   7.5   11.3   5.0   4.92   5.0   0.68   -   200   0.5   0.95   60   0.10   A   A   B
  实施例1-35   3   无   3   正弦波   7.5   11.3   5.0   4.92   5.0   0.68   -   200   0.5   0.95   60   0.10   A   A   B
  实施例1-36   1   无   3   梯形波   7.5   11.3   5.0   4.92   5.0   0.68   0.8   200   0.5   0.95   60   0.10   A   A   B
  实施例1-37   4   无   3   三角波   10.0   16.1   5.0   4.92   8.0   0.54   17   295   0.5   0.95   30   0.20   A   A   A
  实施例1-38   1   无   3   三角波   10.0   16.1   5.0   4.92   8.0   0.54   14   295   0.5   0.95   30   0.20   A   A   B
  实施例2-1   1   有   10   正弦波   7.5   11.3   5.0   4.92   5.0   0.68   -   200   0.5   0.95   60   0.10   A   A   A
  实施例2-2   2   有   10   正弦波   7.5   11.3   5.0   4.92   5.0   0.68   -   200   0.5   0.95   60   0.10   A   A   A
  实施例2-3   3   有   10   正弦波   7.5   11.3   5.0   4.92   5.0   0.68   -   200   0.5   0.95   60   0.10   A   A   A
  实施例2-4   2   有   10   梯形波   7.5   11.3   5.0   4.92   5.0   0.68   0.8   200   0.5   0.95   60   0.10   A   A   A
  实施例3-1   1   无   3   正弦波   7.5   24.5   5.0   4.50   4.5   0.43   -   200   0.5   0.95   60   0.10   A   A-B   B
  实施例3-2   1   无   3   正弦波   0.0   52.0   13.0   12.0   13.5   0.45   -   200   0.5   0.95   60   0.10   A   B   B
  实施例3-3   1   无   3   正弦波   7.5   24.5   3.0   2.70   4.5   0.46   -   200   0.5   0.95   60   0.10   A-B   A   B
  实施例3-4   1   无   3   正弦波   7.5   24.5   1.0   0.90   4.5   0.51   -   200   0.5   0.95   60   0.10   A-B   A   B
  实施例3-5   4   无   3   正弦波   7.5   24.5   5.0   4.50   4.5   0.43   -   200   0.5   095   60   0.10   A   A   A
  实施例3-6   2   无   3   正弦波   7.5   24.5   5.0   4.50   4.5   0.43   -   200   0.5   0.95   60   0.10   A   A-B   A
  实施例3-7   3   无   3   正弦波   7.5   24.5   5.0   4.50   4.5   0.43   -   200   0.5   0.95   60   0.10   A   B   A
  实施例3-8   1   有   3   正弦波   7.5   24.5   5.0   4.50   4.5   0.43   -   200   0.5   0.95   60   0.10   A   A-B   A
  实施例3-9   1   无   3   正弦波   0.0   7.0   1.0   1.00   1.8   1.56   -   200   0.5   0.95   60   0.10   B   B   B
  比较例1-1   1   无   3   正弦波   7.5   11.3   5.0   4.92   5.0   0.68   -   900   0.5   0.95   60   0.10   C   C   A
  比较例1-2   1   无   3   正弦波   0.0   7.0   0.0   0.00   1.8   2.70   -   200   0.5   0.95   60   0.10   C   C   C

Claims (6)

1.一种平版印刷版用支持体的制造方法，其是在至少含有氯化物离子和硝酸离子的水溶液中，对铝板施加交流电流并使所述铝板为阳极时的电量总和为100～300C/dm2，进行电化学粗面化处理，获得平版印刷版用支持体。
2.如权利要求1所述的平版印刷版用支持体的制造方法，其中，
所述水溶液含有盐酸和硝酸。
3.如权利要求1所述的平版印刷版用支持体的制造方法，其中，
所述水溶液氯化物离子的浓度为3g/L以上，硝酸离子的浓度为0.50g/L以上。
4.如权利要求1所述的平版印刷版用支持体的制造方法，其中，
所述水溶液的pH为0.8以下。
5.如权利要求1所述的平版印刷版用支持体的制造方法，其中，
所述水溶液含有2g/L以上的铝离子。
6.如权利要求1所述的平版印刷版用支持体的制造方法，其中，
所述铝板在表面上具有凹凸字样。
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