JP3177071B2 - 平版印刷版支持体 - Google Patents
平版印刷版支持体Info
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- JP3177071B2 JP3177071B2 JP20254893A JP20254893A JP3177071B2 JP 3177071 B2 JP3177071 B2 JP 3177071B2 JP 20254893 A JP20254893 A JP 20254893A JP 20254893 A JP20254893 A JP 20254893A JP 3177071 B2 JP3177071 B2 JP 3177071B2
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- JP
- Japan
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- aluminum
- printing plate
- lithographic printing
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- plate support
- Prior art date
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41N—PRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
- B41N1/00—Printing plates or foils; Materials therefor
- B41N1/04—Printing plates or foils; Materials therefor metallic
- B41N1/08—Printing plates or foils; Materials therefor metallic for lithographic printing
- B41N1/083—Printing plates or foils; Materials therefor metallic for lithographic printing made of aluminium or aluminium alloys or having such surface layers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C21/00—Alloys based on aluminium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25F—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC REMOVAL OF MATERIALS FROM OBJECTS; APPARATUS THEREFOR
- C25F3/00—Electrolytic etching or polishing
- C25F3/02—Etching
- C25F3/04—Etching of light metals
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、平版印刷版支持体に関
し、特に電解粗面化，陽極酸化等表面処理性が良好で、
しかもバーニング処理を行っても強度低下の小さいアル
ミニウム支持体の製造方法に関するものである。
し、特に電解粗面化，陽極酸化等表面処理性が良好で、
しかもバーニング処理を行っても強度低下の小さいアル
ミニウム支持体の製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】印刷版アルミニウム支持体、とくにオフ
セット印刷版支持体としてはアルミニウム板（アルミニ
ウム合金板を含む）が用いられている。一般にアルミニ
ウム板をオフセット印刷版支持体として使用するために
は、感光材料との適度な接着性と保水性を有しているこ
とが必要である。このためにはアルミニウム板の表面を
均一かつ緻密な砂目を有するように粗面化しなければな
らない。この粗面化処理は製版後実際にオフセット印刷
を行ったときに版材の印刷性能や耐刷力に著しい影響を
およぼすので、その良否は版材製造上重要な要素となっ
ている。
セット印刷版支持体としてはアルミニウム板（アルミニ
ウム合金板を含む）が用いられている。一般にアルミニ
ウム板をオフセット印刷版支持体として使用するために
は、感光材料との適度な接着性と保水性を有しているこ
とが必要である。このためにはアルミニウム板の表面を
均一かつ緻密な砂目を有するように粗面化しなければな
らない。この粗面化処理は製版後実際にオフセット印刷
を行ったときに版材の印刷性能や耐刷力に著しい影響を
およぼすので、その良否は版材製造上重要な要素となっ
ている。
【０００３】印刷版アルミニウム支持体の粗面化法とし
ては交流電解エッチング法が一般的に採用されており、
電流としては、普通の正弦波交流電流、矩形波などの特
殊交番波形電流が用いられている。そして、黒鉛等の適
当な電極を対極として交流電流により、アルミニウム板
の粗面化処理を行うもので、通常一回の処理で行われて
いるが、そこで得られるピット深さは全体的に浅く、耐
刷性能に劣るものであった。このため、その直径に比べ
て深さの深いピットが均一かつ緻密に存在する砂目を有
する平版印刷版支持体として好適なアルミニウム板が得
られるように、数々の方法が提案されている。その方法
としては、特殊電解電源波形を使った粗面化方法（特開
昭５３−６７５０７号公報），交流を使った電解粗面化
時の陽極時と陰極時の電気量の比率（特開昭５４−６５
６０７号公報），電源波形（特開昭５５−２５３８１号
公報），単位面積あたりの通電量の組み合わせ（特開昭
５６−２９６９９号公報）などが知られている。
ては交流電解エッチング法が一般的に採用されており、
電流としては、普通の正弦波交流電流、矩形波などの特
殊交番波形電流が用いられている。そして、黒鉛等の適
当な電極を対極として交流電流により、アルミニウム板
の粗面化処理を行うもので、通常一回の処理で行われて
いるが、そこで得られるピット深さは全体的に浅く、耐
刷性能に劣るものであった。このため、その直径に比べ
て深さの深いピットが均一かつ緻密に存在する砂目を有
する平版印刷版支持体として好適なアルミニウム板が得
られるように、数々の方法が提案されている。その方法
としては、特殊電解電源波形を使った粗面化方法（特開
昭５３−６７５０７号公報），交流を使った電解粗面化
時の陽極時と陰極時の電気量の比率（特開昭５４−６５
６０７号公報），電源波形（特開昭５５−２５３８１号
公報），単位面積あたりの通電量の組み合わせ（特開昭
５６−２９６９９号公報）などが知られている。
【０００４】また、機械的な粗面化と組合わせた方法
（特開昭５５−１４２６９５号公報）なども知られてい
る。一方、アルミニウム支持体の製造方法としては、ア
ルミニウムのインゴットを溶解保持してスラブ（厚さ４
００〜６００ｍｍ，幅１０００〜２０００ｍｍ，長さ２
０００〜６０００ｍｍ）を鋳造し、スラブ表面の不純物
組織部分を面削機にかけて３〜５０ｍｍずつ切削する面
削工程を経た後、スラブ内部の応力の除去と組織の均一
化の為、均熱炉において４８０〜６００℃，６〜１２時
間保持する均熱化処理工程を行い、しかる後に熱間圧延
を４５０〜５５０℃で行う。熱間圧延で５〜４０ｍｍの
厚みに圧延した後、室温で所定の厚みに冷間圧延を行
う。またその後組織の均一化と平坦度の良い板にするた
め焼鈍を行い圧延組織等を均質化した後、規定の厚みに
冷間圧延を行い、矯正する。この様にして作られたアル
ミニウム支持体を平版印刷版支持体としていた。
（特開昭５５−１４２６９５号公報）なども知られてい
る。一方、アルミニウム支持体の製造方法としては、ア
ルミニウムのインゴットを溶解保持してスラブ（厚さ４
００〜６００ｍｍ，幅１０００〜２０００ｍｍ，長さ２
０００〜６０００ｍｍ）を鋳造し、スラブ表面の不純物
組織部分を面削機にかけて３〜５０ｍｍずつ切削する面
削工程を経た後、スラブ内部の応力の除去と組織の均一
化の為、均熱炉において４８０〜６００℃，６〜１２時
間保持する均熱化処理工程を行い、しかる後に熱間圧延
を４５０〜５５０℃で行う。熱間圧延で５〜４０ｍｍの
厚みに圧延した後、室温で所定の厚みに冷間圧延を行
う。またその後組織の均一化と平坦度の良い板にするた
め焼鈍を行い圧延組織等を均質化した後、規定の厚みに
冷間圧延を行い、矯正する。この様にして作られたアル
ミニウム支持体を平版印刷版支持体としていた。
【０００５】本発明者らは、先に双ロール連続鋳造機に
よって歩留り等を向上させることを提案した。（特開平
１−７９７９８号公報）また連続鋳造後のアルミ板の結
晶粒径が２μｍ〜５００μｍ，最終的な板の粒径が２〜
１００μｍであることを特徴とする平版印刷版支持体を
提案した。（特願平４−２５８８８８号明細書）
よって歩留り等を向上させることを提案した。（特開平
１−７９７９８号公報）また連続鋳造後のアルミ板の結
晶粒径が２μｍ〜５００μｍ，最終的な板の粒径が２〜
１００μｍであることを特徴とする平版印刷版支持体を
提案した。（特願平４−２５８８８８号明細書）
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら先に提案
した方法について更に検討を行った結果、結晶粒の平均
粒径，粒径分布，形状が表面処理性，バーニング適性等
に大きく影響していることがわかった。
した方法について更に検討を行った結果、結晶粒の平均
粒径，粒径分布，形状が表面処理性，バーニング適性等
に大きく影響していることがわかった。
【０００７】本発明の目的は、アルミニウム支持体の材
質のバラツキを一層少なくし、電解粗面化等の表面処理
性を向上させ、更にバーニング適性を向上させた平版印
刷版支持体を提供することにある。
質のバラツキを一層少なくし、電解粗面化等の表面処理
性を向上させ、更にバーニング適性を向上させた平版印
刷版支持体を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段及び作用】本発明者らは、
アルミニウム支持体を中心に鋭意研究して来た結果、本
発明を見出したものである。 即ち、本発明の上記目的は アルミニウム溶湯から双ロール連続鋳造機によって
直接板状に連続鋳造した後、冷間圧延、熱処理を各々１
回以上行ったアルミニウム支持体を粗面化することによ
って得られる平版印刷版用支持体において、最終板横断
面結晶粒の平均円相当径（Ｄ）が１５μｍ〜３５μｍ、
結晶粒の円相当径４０μｍ以上の個数の割合が３０％以
下、形状係数が４，０以上であることを特徴とする平版
印刷版用支持体 前記アルミニウム溶湯の成分が、Ｆｅの含有量が
０．２〜０．４％、Ｓｉの含有量が０．０５〜０．２０
％、Ｃｕの含有量が０．０３％以下、Ｔｉの含有量が
０．０４％以下、残部がアルミニウム及び不可避的不純
物からなることを特徴とする請求項１記載の平版印刷版
用支持体によって達成される。
アルミニウム支持体を中心に鋭意研究して来た結果、本
発明を見出したものである。 即ち、本発明の上記目的は アルミニウム溶湯から双ロール連続鋳造機によって
直接板状に連続鋳造した後、冷間圧延、熱処理を各々１
回以上行ったアルミニウム支持体を粗面化することによ
って得られる平版印刷版用支持体において、最終板横断
面結晶粒の平均円相当径（Ｄ）が１５μｍ〜３５μｍ、
結晶粒の円相当径４０μｍ以上の個数の割合が３０％以
下、形状係数が４，０以上であることを特徴とする平版
印刷版用支持体 前記アルミニウム溶湯の成分が、Ｆｅの含有量が
０．２〜０．４％、Ｓｉの含有量が０．０５〜０．２０
％、Ｃｕの含有量が０．０３％以下、Ｔｉの含有量が
０．０４％以下、残部がアルミニウム及び不可避的不純
物からなることを特徴とする請求項１記載の平版印刷版
用支持体によって達成される。
【０００９】本発明のアルミニウム溶湯から双ロールを
用い連続的に鋳造したコイルを形成させる方法として
は、ハンター法，３Ｃ法などの薄板連鋳技術が実用化さ
れている。本発明はアルミニウム溶湯から双ロールで連
続鋳造する際、結晶粒径を一定範囲におさめることで、
結晶粒界に集まりやすい合金成分の分布を一定範囲にお
さめることができる。さらに連続鋳造後の圧延や焼鈍工
程において粒界を変形させ、合金成分を拡散させること
で、最終的なアルミ板中の合金成分の分布を均一にする
ことができるが、結晶粒界の影響を皆無にすることはで
きないため、最終的なアルミ板の結晶粒径を一定範囲に
おさめる。これらの方法により粗面化時にムラのない上
質な表面を持つ品質上すぐれた平版印刷版支持体を低コ
ストでかつ得率よく製造することができる。図２の工程
概念図を用いて本発明に用いるアルミニウム支持体の製
造方法の実施態様について更に具体的に説明する。１は
溶解保持炉でここでインゴットは溶解保持される。ここ
から双ロール連続鋳造機２に送られる。つまりアルミニ
ウム溶湯から直接薄板のコイルを形成する、コイラー６
によって巻取っても良いし、引続いて熱処理，冷間圧延
機，矯正装置にかけてもよい。
用い連続的に鋳造したコイルを形成させる方法として
は、ハンター法，３Ｃ法などの薄板連鋳技術が実用化さ
れている。本発明はアルミニウム溶湯から双ロールで連
続鋳造する際、結晶粒径を一定範囲におさめることで、
結晶粒界に集まりやすい合金成分の分布を一定範囲にお
さめることができる。さらに連続鋳造後の圧延や焼鈍工
程において粒界を変形させ、合金成分を拡散させること
で、最終的なアルミ板中の合金成分の分布を均一にする
ことができるが、結晶粒界の影響を皆無にすることはで
きないため、最終的なアルミ板の結晶粒径を一定範囲に
おさめる。これらの方法により粗面化時にムラのない上
質な表面を持つ品質上すぐれた平版印刷版支持体を低コ
ストでかつ得率よく製造することができる。図２の工程
概念図を用いて本発明に用いるアルミニウム支持体の製
造方法の実施態様について更に具体的に説明する。１は
溶解保持炉でここでインゴットは溶解保持される。ここ
から双ロール連続鋳造機２に送られる。つまりアルミニ
ウム溶湯から直接薄板のコイルを形成する、コイラー６
によって巻取っても良いし、引続いて熱処理，冷間圧延
機，矯正装置にかけてもよい。
【００１０】それらの製造条件について更に詳しく説明
すると、溶解保持炉１ではアルミニウムの融点以上の温
度に保持させる必要があり、その温度はアルミニウム合
金成分によって適時変化する。一般に７００℃以上であ
る。また、アルミニウム溶湯の酸化物発生の抑制、品質
上有害となるアルカリ金属の除去策として、適宜不活性
ガスパージ、フラックス処理等の溶湯処理が行なわれ
る。引き続き双ロール連続鋳造機２によって鋳造され
る。鋳造方式にはいろいろあるが、現在工業的に稼働し
ているいのはハンター法，３−Ｃ法などが殆どである。
鋳造温度は鋳型の冷却条件で異なるが、７００℃付近が
最適である。連続鋳造後の結晶粒径、冷却条件、鋳造速
度、鋳造中の板厚変化量が制御され、この様に連続鋳造
によって得られた板材に、図２（Ｂ）に示すように冷間
圧延機３によって、規定の厚みに圧延する。その後、図
２（Ｃ）の矯正装置５によって矯正を行ない、所定の平
面性を与え、アルミニウム支持体を作り、これを粗面化
する。また、矯正は最後の冷間圧延に含めて行うことも
ある。
すると、溶解保持炉１ではアルミニウムの融点以上の温
度に保持させる必要があり、その温度はアルミニウム合
金成分によって適時変化する。一般に７００℃以上であ
る。また、アルミニウム溶湯の酸化物発生の抑制、品質
上有害となるアルカリ金属の除去策として、適宜不活性
ガスパージ、フラックス処理等の溶湯処理が行なわれ
る。引き続き双ロール連続鋳造機２によって鋳造され
る。鋳造方式にはいろいろあるが、現在工業的に稼働し
ているいのはハンター法，３−Ｃ法などが殆どである。
鋳造温度は鋳型の冷却条件で異なるが、７００℃付近が
最適である。連続鋳造後の結晶粒径、冷却条件、鋳造速
度、鋳造中の板厚変化量が制御され、この様に連続鋳造
によって得られた板材に、図２（Ｂ）に示すように冷間
圧延機３によって、規定の厚みに圧延する。その後、図
２（Ｃ）の矯正装置５によって矯正を行ない、所定の平
面性を与え、アルミニウム支持体を作り、これを粗面化
する。また、矯正は最後の冷間圧延に含めて行うことも
ある。
【００１１】この様にして鋳造，圧延した最終板横断面
結晶粒の平均円相当径が１５μｍ〜３５μｍ，結晶粒の
円相当径４０μｍ以上の個数の割合３０％以下，形状係
数が４．０以上であるように結晶粒を調節する。図１に
横断面を示す（７ａ）平均円相当径Ｅとは、各結晶粒の
面積（Ｓ）を測定してその図形と等しい面積を持つ円を
仮定し、その円の直径を表し、Ｄ＝（４／π×Ｓ）1/2
で計算されたＤの平均値である。また形状係数は、丸さ
の度合を表わし、形状係数＝（π／４Ｌ2 ）／（π／４
Ｅ2 ）＝Ｓl ／Ｓe ＝（結晶の最長辺Ｌを直径とする円
の面積）÷（結晶の円相当径Ｅを直径とする円の面積）
で求める。つまり、真円であれば１であり、形が長細く
なるにつれて１よりも大きくなる。アルミニウム溶湯の
成分としてはＦｅ＝０．２〜０．４％，Ｓi ＝０．０５
〜０．２０％，Ｃｕ＜０．０３％，Ｔｉ＜０．０４％が
望ましい。
結晶粒の平均円相当径が１５μｍ〜３５μｍ，結晶粒の
円相当径４０μｍ以上の個数の割合３０％以下，形状係
数が４．０以上であるように結晶粒を調節する。図１に
横断面を示す（７ａ）平均円相当径Ｅとは、各結晶粒の
面積（Ｓ）を測定してその図形と等しい面積を持つ円を
仮定し、その円の直径を表し、Ｄ＝（４／π×Ｓ）1/2
で計算されたＤの平均値である。また形状係数は、丸さ
の度合を表わし、形状係数＝（π／４Ｌ2 ）／（π／４
Ｅ2 ）＝Ｓl ／Ｓe ＝（結晶の最長辺Ｌを直径とする円
の面積）÷（結晶の円相当径Ｅを直径とする円の面積）
で求める。つまり、真円であれば１であり、形が長細く
なるにつれて１よりも大きくなる。アルミニウム溶湯の
成分としてはＦｅ＝０．２〜０．４％，Ｓi ＝０．０５
〜０．２０％，Ｃｕ＜０．０３％，Ｔｉ＜０．０４％が
望ましい。
【００１２】本発明における平版印刷版支持体の粗面化
の方法は機械的粗面化，化学的粗面化，電気化学的粗面
化及びそれらの組合わせ等各種用いられる。機械的な砂
目立て法としては、例えばボールグレイン，ワイヤーグ
レイン，ブラッシグレイン，液体ホーニング法などがあ
る。また電気化学的砂目立て方法としては、交流電解エ
ッチング法が一般的に採用されており、電流としては、
普通の正弦波交流電流あるいは矩形波など、特殊交番電
流が用いられている。またこの電気化学的砂目立ての前
処理として、苛性ソーダなどでエッチング処理をしても
良い。また電気化学的粗面化を行う場合、塩酸または硝
酸主体の水溶液で交番電流によって粗面化されるのが良
い。以下詳細に説明する。先ず、アルミニウム支持体は
アルカリエッチングされる。好ましいアルカリ剤は、苛
性ソーダ，苛性カリ，メタ珪酸ソーダ，炭酸ソーダ，ア
ルミン酸ソーダ，グルコン酸ソーダ等である。濃度０．
０１〜２０％，温度は２０〜９０℃，時間は５ｓｅｃ〜
５ｍｉｎ間の範囲から選択されるのが適当であり、好ま
しいエッチング量としては０．１〜１０ｇ／ｍ2 であ
る。特に不純物の大い支持体の場合、０．０１〜１ｇ／
ｍ2 が適当である（特開平１−２３７１９７号公報）。
引き続き、アルカリエッチングしたアルミニウム板の表
面にアルカリに不溶な物質（スマット）が残存するの
で、必要に応じてデスマット処理を行っても良い。
の方法は機械的粗面化，化学的粗面化，電気化学的粗面
化及びそれらの組合わせ等各種用いられる。機械的な砂
目立て法としては、例えばボールグレイン，ワイヤーグ
レイン，ブラッシグレイン，液体ホーニング法などがあ
る。また電気化学的砂目立て方法としては、交流電解エ
ッチング法が一般的に採用されており、電流としては、
普通の正弦波交流電流あるいは矩形波など、特殊交番電
流が用いられている。またこの電気化学的砂目立ての前
処理として、苛性ソーダなどでエッチング処理をしても
良い。また電気化学的粗面化を行う場合、塩酸または硝
酸主体の水溶液で交番電流によって粗面化されるのが良
い。以下詳細に説明する。先ず、アルミニウム支持体は
アルカリエッチングされる。好ましいアルカリ剤は、苛
性ソーダ，苛性カリ，メタ珪酸ソーダ，炭酸ソーダ，ア
ルミン酸ソーダ，グルコン酸ソーダ等である。濃度０．
０１〜２０％，温度は２０〜９０℃，時間は５ｓｅｃ〜
５ｍｉｎ間の範囲から選択されるのが適当であり、好ま
しいエッチング量としては０．１〜１０ｇ／ｍ2 であ
る。特に不純物の大い支持体の場合、０．０１〜１ｇ／
ｍ2 が適当である（特開平１−２３７１９７号公報）。
引き続き、アルカリエッチングしたアルミニウム板の表
面にアルカリに不溶な物質（スマット）が残存するの
で、必要に応じてデスマット処理を行っても良い。
【００１３】前処理は上記の通りであるが、引き続き、
塩酸，または硝酸を主体とする電解液中で交流電解エッ
チングされる。交流電解電流の周波数としては、0.1 〜
100Ｈｚ，より好ましくは０．１〜１．０Ｈｚ又は１０
〜６０Ｈｚである。液濃度としては、３〜１５０ｇ／リ
ットル，より好ましくは５〜５０ｇ／リットル，浴内の
アルミニウムの溶解量としては５０ｇ／リットル以下が
適当であり、より好ましくは２〜２０ｇ／リットルであ
る。必要によって添加物を入れても良いが、大量生産を
する場合は、液濃度制御などが難しくなる。また、電流
密度は、５〜１００Ａ／ｄｍ2 が適当であるが、１０〜
８０Ａ／ｄｍ2 がより好ましい。また、電源波形として
は、求める品質，使用されるアルミニウム支持体の成分
によって適時選択されるが、特公昭５６−１９２８０
号，特公昭５５−１９１９１号各公報に記載の特殊交番
波形を用いるのがより好ましい。この様な波形，液条件
は、電気量と共に求める品質，使用されるアルミニウム
支持体の成分などによって適時選択される。電解粗面化
されたアルミニウムは、次にスマット処理の一部として
アルカリ溶液に浸漬しスマットを溶解する。アルカリ剤
としては、苛性ソーダなどの各種あるが、ＰＨ１０以
上，温度２５〜６０℃，浸漬時間１〜１０ｓｅｃの極め
て短時間で行うことが好ましい。次に硫酸主体の液に浸
漬する。硫酸の液条件としては、濃度５０〜４００ｇ／
リットル，温度２５〜６５℃が好ましい。硫酸の濃度を
４００ｇ／ｌ以上，又は温度を６５℃以上にすると処理
層などの腐食が大きくなり、しかも、マンガンが０．３
％以上あるアルミニウム合金では、電気化学的に粗面化
された砂目が崩れてしまう。また、アルミニウム素地の
溶解量が０．２ｇ／ｍ2 以上エッチングされると、耐刷
力が低下して来るので、０．２ｇ／ｍ2 以下にすること
が好ましい。陽極酸化被膜は、０．１〜１０ｇ／ｍ2 、
より好ましくは０．３〜５ｇ／ｍ2を表面に形成するの
が良い。陽極酸化の処理条件は、使用される電解液によ
んて種々変化するので一概には決定されてないが、一般
的には電解液の濃度が１〜８０重量％、液温５〜７０
℃、電流密度０．５〜６０Ａ／ｃｍ2 ，電圧１〜１００
Ｖ、電解時間１秒〜５分の範囲が適当である。
塩酸，または硝酸を主体とする電解液中で交流電解エッ
チングされる。交流電解電流の周波数としては、0.1 〜
100Ｈｚ，より好ましくは０．１〜１．０Ｈｚ又は１０
〜６０Ｈｚである。液濃度としては、３〜１５０ｇ／リ
ットル，より好ましくは５〜５０ｇ／リットル，浴内の
アルミニウムの溶解量としては５０ｇ／リットル以下が
適当であり、より好ましくは２〜２０ｇ／リットルであ
る。必要によって添加物を入れても良いが、大量生産を
する場合は、液濃度制御などが難しくなる。また、電流
密度は、５〜１００Ａ／ｄｍ2 が適当であるが、１０〜
８０Ａ／ｄｍ2 がより好ましい。また、電源波形として
は、求める品質，使用されるアルミニウム支持体の成分
によって適時選択されるが、特公昭５６−１９２８０
号，特公昭５５−１９１９１号各公報に記載の特殊交番
波形を用いるのがより好ましい。この様な波形，液条件
は、電気量と共に求める品質，使用されるアルミニウム
支持体の成分などによって適時選択される。電解粗面化
されたアルミニウムは、次にスマット処理の一部として
アルカリ溶液に浸漬しスマットを溶解する。アルカリ剤
としては、苛性ソーダなどの各種あるが、ＰＨ１０以
上，温度２５〜６０℃，浸漬時間１〜１０ｓｅｃの極め
て短時間で行うことが好ましい。次に硫酸主体の液に浸
漬する。硫酸の液条件としては、濃度５０〜４００ｇ／
リットル，温度２５〜６５℃が好ましい。硫酸の濃度を
４００ｇ／ｌ以上，又は温度を６５℃以上にすると処理
層などの腐食が大きくなり、しかも、マンガンが０．３
％以上あるアルミニウム合金では、電気化学的に粗面化
された砂目が崩れてしまう。また、アルミニウム素地の
溶解量が０．２ｇ／ｍ2 以上エッチングされると、耐刷
力が低下して来るので、０．２ｇ／ｍ2 以下にすること
が好ましい。陽極酸化被膜は、０．１〜１０ｇ／ｍ2 、
より好ましくは０．３〜５ｇ／ｍ2を表面に形成するの
が良い。陽極酸化の処理条件は、使用される電解液によ
んて種々変化するので一概には決定されてないが、一般
的には電解液の濃度が１〜８０重量％、液温５〜７０
℃、電流密度０．５〜６０Ａ／ｃｍ2 ，電圧１〜１００
Ｖ、電解時間１秒〜５分の範囲が適当である。
【００１４】この様にして得られた陽極酸化皮膜を持つ
砂目のアルミニウム板はそれ自身安定で親水性に優れた
ものであるから、直ちに感光性塗膜を上に設ける事も出
来るが、必要により更に表面処理を施す事が出来る。た
とえば、先に記載したアルカリ金属珪酸塩によるシリケ
ート層あるいは、親水性高分子化合物よりなる下塗層を
設けることができる。下塗層の塗布量は５〜１５０ｍｇ
／ｍ2 が好ましい。次に、このように処理したアルミニ
ウム支持体上に感光性塗膜を設け、画像露光、現像して
製版した後に、印刷機にセットし、印刷を開始する。ま
た内型タイプの平版印刷版の感光層は主に高分子化合物
からなるため、現像処理後、高温で加熱し、その耐摩耗
性等をいちじるしく増大させるバーニング処理を行う。
加熱温度は２００℃以上が通常行われる。以下実施例を
下記に示す。
砂目のアルミニウム板はそれ自身安定で親水性に優れた
ものであるから、直ちに感光性塗膜を上に設ける事も出
来るが、必要により更に表面処理を施す事が出来る。た
とえば、先に記載したアルカリ金属珪酸塩によるシリケ
ート層あるいは、親水性高分子化合物よりなる下塗層を
設けることができる。下塗層の塗布量は５〜１５０ｍｇ
／ｍ2 が好ましい。次に、このように処理したアルミニ
ウム支持体上に感光性塗膜を設け、画像露光、現像して
製版した後に、印刷機にセットし、印刷を開始する。ま
た内型タイプの平版印刷版の感光層は主に高分子化合物
からなるため、現像処理後、高温で加熱し、その耐摩耗
性等をいちじるしく増大させるバーニング処理を行う。
加熱温度は２００℃以上が通常行われる。以下実施例を
下記に示す。
【００１５】
（実施例１，２及び比較例１〜４）アルミニウム溶湯の
成分が表１に示すごとく種々変更したものを用い図2(A)
に示したような双ロール連続鋳造機（１）によって７ｍ
ｍの板厚のアルミニウム板材を形成させ、図２（Ｂ）に
示す冷間圧延機３によって１ｍｍの板厚まで冷間圧延
し、図２（Ｃ）の熱処理機４によって焼鈍，温度，時間
を適時変更し、更に０．３ｍｍ迄冷間圧延し，矯正装置
５にて矯正を行いＪＩＳ１０５０材を形成した。この板
材の鋳造圧延の横断面（図１）をバフにて鏡面に加工
し、フッ酸12％中でエッチングを施し、偏光顕微鏡を用
いて表面の結晶粒径の観察測定を行った。測定結果から
平均円相当径，円相当径（分布），形状係数をまとめ
た。平均円相当径等サンプル数は，５０個以上の結晶粒
が測定出来る様範囲を定めた。この様にして出来たアル
ミニウム板を平版印刷版支持体として用い、次に１５％
苛性ソーダ水溶液で温度５０℃エッチング量が６ｇ／ｍ
2 になる様エッチングして水洗後１００ｇ／リットル，
６０℃の硫酸中でデスマットし、水洗した。更に支持体
を１１ｇ／リットルの硝酸中で特公昭５５−１９１９１
号公報に記載の交番波形電流を用いて電気化学的に粗面
化した。電解条件としては、アノード電圧ＶA ＝１３
Ｖ，カソード電圧ＶC ＝１１Ｖとして陽極時電気量が２
９０クーロン／ｄｍ2 になる様にした。その後，１５０
ｇ／リットル，６０℃の硫酸浴中でデスマットを行い、
硫酸１８０ｇ／リットル，温度５０℃で陽極酸化皮膜量
が１．８ｇ／ｍ2 になる様に陽極酸化を行い、感光層を
塗布した。感光層を塗布後、２８０℃で１０分間バーニ
ング処理を行い、バーニング処理による強度を調べると
共に、現像処理後の表面面質の評価を行なった。感光性
平版印刷版に、ネガフィルム又はポジフィルムを通して
露光を行なった後、現像すると、（一部感光層が取
れ、）基板の表面自体が平版印刷版の非画像部又は画像
部となるため、基板表面の面質自体が印刷性、印刷版の
視認性に大きな影響を与えるからである。以上述べた実
施例，比較例の円相当径，形状係数の測定結果８，表面
面質，バーニング適性等を下表にまとめて示す。
成分が表１に示すごとく種々変更したものを用い図2(A)
に示したような双ロール連続鋳造機（１）によって７ｍ
ｍの板厚のアルミニウム板材を形成させ、図２（Ｂ）に
示す冷間圧延機３によって１ｍｍの板厚まで冷間圧延
し、図２（Ｃ）の熱処理機４によって焼鈍，温度，時間
を適時変更し、更に０．３ｍｍ迄冷間圧延し，矯正装置
５にて矯正を行いＪＩＳ１０５０材を形成した。この板
材の鋳造圧延の横断面（図１）をバフにて鏡面に加工
し、フッ酸12％中でエッチングを施し、偏光顕微鏡を用
いて表面の結晶粒径の観察測定を行った。測定結果から
平均円相当径，円相当径（分布），形状係数をまとめ
た。平均円相当径等サンプル数は，５０個以上の結晶粒
が測定出来る様範囲を定めた。この様にして出来たアル
ミニウム板を平版印刷版支持体として用い、次に１５％
苛性ソーダ水溶液で温度５０℃エッチング量が６ｇ／ｍ
2 になる様エッチングして水洗後１００ｇ／リットル，
６０℃の硫酸中でデスマットし、水洗した。更に支持体
を１１ｇ／リットルの硝酸中で特公昭５５−１９１９１
号公報に記載の交番波形電流を用いて電気化学的に粗面
化した。電解条件としては、アノード電圧ＶA ＝１３
Ｖ，カソード電圧ＶC ＝１１Ｖとして陽極時電気量が２
９０クーロン／ｄｍ2 になる様にした。その後，１５０
ｇ／リットル，６０℃の硫酸浴中でデスマットを行い、
硫酸１８０ｇ／リットル，温度５０℃で陽極酸化皮膜量
が１．８ｇ／ｍ2 になる様に陽極酸化を行い、感光層を
塗布した。感光層を塗布後、２８０℃で１０分間バーニ
ング処理を行い、バーニング処理による強度を調べると
共に、現像処理後の表面面質の評価を行なった。感光性
平版印刷版に、ネガフィルム又はポジフィルムを通して
露光を行なった後、現像すると、（一部感光層が取
れ、）基板の表面自体が平版印刷版の非画像部又は画像
部となるため、基板表面の面質自体が印刷性、印刷版の
視認性に大きな影響を与えるからである。以上述べた実
施例，比較例の円相当径，形状係数の測定結果８，表面
面質，バーニング適性等を下表にまとめて示す。
【００１６】
【表１】
【００１７】
【発明の効果】合金成分を選び、結晶粒径分布を管理し
た本発明の平版印刷版支持体によって、電解粗面化等の
表面処理性を向上させ、更にバーニング適性を向上させ
ることが出来た。
た本発明の平版印刷版支持体によって、電解粗面化等の
表面処理性を向上させ、更にバーニング適性を向上させ
ることが出来た。
【図１】本発明の平版印刷版支持体の結晶粒管理のし方
についての説明図 (A),(B),(C),(D)
についての説明図 (A),(B),(C),(D)
【図２】本発明の平版印刷版支持体の工程の説明図・双
ロール連続鋳造機（Ａ），冷間圧延機（Ｂ），熱処理機
（Ｃ），矯正装置（Ｄ）
ロール連続鋳造機（Ａ），冷間圧延機（Ｂ），熱処理機
（Ｃ），矯正装置（Ｄ）
１ 溶解保持炉 ２ 双ロール連続鋳造機 ３ 冷間圧延機 ４ 熱処理機 ５ 矯正装置 ７ 連続鋳造したアルミニウム ７ａ 最終板横断面 ８ 結晶粒 ８ａ 結晶粒界 Ｄ 円相当径 Ｌ 絶対最大長 Ｓ，Ｓａ 結晶粒面積
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭63−47349（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−215725（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−215726（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−215727（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−124609（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−210308（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−218495（ＪＰ，Ａ) 特許2982093（ＪＰ，Ｂ２) 特公 平４−19293（ＪＰ，Ｂ２) 特公 平３−68939（ＪＰ，Ｂ２) 特公 平５−28198（ＪＰ，Ｂ２) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) B21B 1/46 B21B 3/00 B41N 1/08
Claims (2)
- 【請求項１】 アルミニウム溶湯から双ロール連続鋳造
機によって直接板状に連続鋳造した後、冷間圧延、熱処
理を各々１回以上行ったアルミニウム支持体を粗面化す
ることによって得られる平版印刷版用支持体において、
最終板横断面結晶粒の平均円相当径（Ｄ）が１５μｍ〜
３５μｍ、結晶粒の円相当径４０μｍ以上の個数の割合
が３０％以下、形状係数が４，０以上であることを特徴
とする平版印刷版用支持体。 - 【請求項２】 前記アルミニウム溶湯の成分が、Ｆｅの
含有量が０．２〜０．４％、Ｓｉの含有量が０．０５〜
０．２０％、Ｃｕの含有量が０．０３％以下、Ｔｉの含
有量が０．０４％以下、残部がアルミニウム及び不可避
的不純物からなることを特徴とする請求項１記載の平版
印刷版用支持体。
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| CN102165106B (zh) | 2008-09-30 | 2014-09-17 | 富士胶片株式会社 | 电解处理方法及电解处理装置 |
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| US20120256224A1 (en) | 2009-12-25 | 2012-10-11 | Fujifilm Corporation | Insulated substrate, process for production of insulated substrate, process for formation of wiring line, wiring substrate, and light-emitting element |
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|---|---|---|---|---|
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| FR2615530B1 (fr) * | 1987-05-19 | 1992-05-22 | Cegedur | Alliage d'aluminium pour toles minces adaptees a l'obtention de couvercles et de corps de boites et procede de fabrication desdites toles |
| JP2767711B2 (ja) * | 1989-08-22 | 1998-06-18 | 富士写真フイルム株式会社 | 平版印刷版用支持体の製造方法 |
| US5350010A (en) * | 1992-07-31 | 1994-09-27 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method of producing planographic printing plate support |
| EP0603476B1 (en) * | 1992-11-20 | 1998-08-12 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Support for a planographic printing plate and method for producing same |
| EP0615801B1 (en) * | 1993-03-09 | 1999-06-02 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method of producing support for planographic printing plate |
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1993
- 1993-07-26 JP JP20254893A patent/JP3177071B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1994
- 1994-07-22 US US08/278,949 patent/US5507887A/en not_active Expired - Lifetime
- 1994-07-25 DE DE69427438T patent/DE69427438T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1994-07-25 EP EP94111554A patent/EP0638435B1/en not_active Expired - Lifetime
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|---|---|
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