CN1260071C - 平版印刷版用载体、其原版及其制造方法 - Google Patents

Abstract

一种平版印刷版用载体，是对铝板至少实施粗糙化处理而制得，其表面具有重叠平均孔径为0.5-5μm的中波结构和平均孔径为0.01-0.2μm的小波结构形成的砂目形状结构。本发明还涉及于该平版印刷版用载体上设置图像记录层而构成的平版印刷版用原版。本发明提供了同时具有良好的抗污性和高耐刷力的平版印刷版原版及用于它的平版印刷版用载体。

Description

平版印刷版用载体、其原版 及其制造方法

技术领域

本发明涉及一种平版印刷版用载体、平版印刷版原版及平版印刷版的制造方法，尤其是涉及一种作为平版印刷版时，可同时具有抗污性和耐刷性的最佳的表面形状的平版印刷版用载体及利用它的平版印刷版原版、以及抗污性及耐刷性良好的平版印刷版的制造方法。

背景技术

平版印刷法是利用水和油本质上不能混合的特点的印刷方式，适用于平版印刷法的平版印刷版的印刷版面上形成有可接受水而排斥油墨的区域(以下称该区域为“非图像部”)和排斥水的同时又接受油墨的区域(以下称该区域为“图像部”)。

用于平版印刷版的平版印刷版用铝载体(以下简称为“平版印刷版用载体”)的表面由于需要支持非图像部，因此要求其亲水性和保水性良好，同时还要求与形成于它的上面的图像记录层具有很好的密接性等各种互为相反的性能。

如果载体的亲水性过低，则在印刷时油墨会附着在非图像部，引起橡皮滚筒污垢，进而产生所谓浮垢。另外，如果载体的保水性过低，则在印刷时如果不使用较多的润版药水会导致阴影部分的缩小，因此所谓的水幅也变得狭窄。

为了得到具有良好的以上性能的平版印刷用载体，通常对铝板表面进行磨砂目(粗糙化处理)形成凹凸结构。如下所述，众人已经对该凹凸结构提出了各种各样的形状。在特开平8-300844号公报上记载有规定了中波和小波的孔径的具有大波、中波及小波的3重结构。特开平11-99758号公报及特开平11-208138号公报上记载了大小2重结构中规定小波直径的技术。特开平11-167207号公报上，记载了于大小2重凹部(坑)上再设置微小突起的技术。特许第2023476号说明书上记载了规定孔径的2重结构。特开平8-300843号公报上记载了规定表示表面平滑度的因子a30的2重结构。特开平10-35133号公报上记载了规定多个在进行电化学粗糙化处理(以下称“电解粗糙化处理”)时重叠的坑直径比的结构。

在该磨砂目中，通常采用球粒化、刷粒化、金属丝粒化、喷砂粒化等机械粗糙化方法；在含有盐酸或/和硝酸的电解液中对铝板进行电解蚀刻的电解粗糙化方法及记载于美国专利第4,476,006号说明书上的结合机械粗糙化方法和电解粗糙化方法的复合粗糙化方法。

另外，在美国专利US6103087A中公开了具有平均孔径大小为0.2至0.8μm的小坑和平均孔径大小为3至6μm的大坑的平版印刷版用载体，在日本专利特开平11-208138号中公开了具有孔径为2至30微米的坑和孔径为0.2至0.8微米的坑相重叠的结构的平版印刷版用支撑体。另外，在日本专利特开平11-167207号中公开了具有孔径为3至30微米的大坑和孔径为0.2至3.0微米的小坑相重叠的结构的平版印刷版用支撑体。

但是，在所述的以往技术中，抗污性和耐刷性之间为“通-断”(trade-off)的关系，无法同时具有抗污性和耐刷性。

发明内容

因此，本发明的第一目的在于解决上述问题，提供同时具有良好的抗污性和高耐刷力的平版印刷版原版及适用于它的平版印刷版用载体。另外，本发明的第二目的在于提供制造抗污性和耐刷性良好的平版印刷版的方法。

但是，近年来，伴随着图像形成技术的发展，可将很细的激光束扫描于其版面上，直接在版面形成文字原稿、图像原稿而无须用薄膜原稿，因此直接制版也正在成为可能。

尤其是，根据红外线激光束在图像记录层中利用由光热转换得到的热量形成图像的被称为热敏型的平版印刷版原版(thermal type或heat modetype)，由于可在亮室操作，因此已有多种多样的形式被提出。其中，受热后引发图像记录层的碱溶化而形成阳图像的所谓热敏阳型平版印刷版原版中，作为图像形成的原理，利用的是图像记录层内由激光曝光引起的结合剂分子间相互作用的微妙的变化，因此曝光/未曝光部分的碱溶性的“通-断”程度差异变得很小。因此，为了获得耐用的明确的识别能力，通常采用的是：把对显影液的表面难溶层设在图像记录层的最上层，形成可以抑制未曝光部分的显影溶解性的图像记录层结构的方法、显影液里添加对图像记录层表面未曝光部分的吸附性低的显影抑制剂成分以抑制未曝光部分的显影溶解性的方法等。

但是，当表面难溶层由于某种原因受损后，本应成为图像部的部分也变得容易溶解于显影液里。即，实际上成了一种非常容易受损的印刷版。因此，在装卸印刷版时的碰撞、层压纸微小的摩擦、版面与手指的接触等细微的接触也有可能导致缺陷型图像缺口，所以目前在进行刷版作业时很难操作。为了改善容易受损的缺点，尝试了在记录表面上设置氟类表面活性剂层或蜡料层以降低摩擦系数的方法，但效果并不十分理想。

另一方面，为了提高识别能力，也探讨了提高显影性的问题，试着在图像记录层与载体之间通过硅酸盐处理设置了亲水性层或碱溶性底涂层(碱溶层)。根据这些方法，在某种程度上确实可以确保显影性，可以得到实用的显影曝光范围，但是却降低了图像记录层与载体之间的密接性。此外，如果为了提高抗污性，消除成为余膜原因的存在于载体表面的深凹部使载体表面呈光滑的形状，则会大幅降低耐刷性，实际上无法使用。因此，迄今仍没有制造出耐刷性及抗污性优良的便于印刷的平版印刷版原版。

存在于图像记录层中的红外线吸收剂利用其光热转换作用经曝光之后发热，再根据该热量于图像记录层中形成图像的这种类型的平版印刷版原版中，还存在如下的问题：

即，这种热敏型图像形成过程中，是根据激光的照射在热敏层中由光热转换物质产生热量之后该热量再引发图像形成反应，但是由于经过粗糙化表面处理后的铝载体的导热系数远远高于图像记录层，因此产生于图像记录层与载体的界面附近的热量，还没等到充分利用于图像的形成就已经向载体的内部扩散出去了。

其结果，在所述热敏阳型图像记录层的情况下，如果由于热量向载体内部的扩散而导致碱溶化反应的不够充分，则在原来的非图像部分会留有余膜，进而降低其感度。这一点就是热敏阳型的图像记录层中存在的本质问题。另外，这种热敏型平版印刷版原版中，必须包括具有光热转换功能的红外线吸收剂，而它们的分子量较大，溶解性差，另外这些又很难用由阳极氧化处理形成的微型开口部(坑)吸附除去，因此也有在采用碱性显影液的显影工艺中，容易产生余膜的问题。

在本发明的第三种方案中，以提供可以克服所述的现有技术中存在的缺点的热敏性平版印刷版原版为目的。即，本发明的第三目的在于提供可以将热量有效地利用于图像的形成并且感度较高、表现出高耐刷性并在非图像部不易产生污垢的热敏性平版印刷版原版及用于该平版印刷版原版的平版印刷版用载体。

为了达到所述的第一目的，本发明人潜心研究了平版印刷版用载体表面的凹凸结构的大小及其组合，结果发现当组合特定大小的凹凸结构时，可以保持高水平的抗污性和耐刷性之间的平衡。

另外，为了达到所述的第一目的，本发明人潜心研究了平版印刷版用载体表面的形状，结果发现当用原子间作用力显微镜求出的表示表面形状的要素即表面粗糙度、表面积比及陡度分别组合为特定值时，可以在高水平保持抗污性和耐刷性之间的平衡。

另外，以往为了提高平版印刷版的抗污性(不易污染)，通常是在显影液中包含碱金属硅酸盐，只在除去图像记录层的非图像部吸附Si原子，以进一步提高非图像部的亲水性。但是，利用含有碱金属硅酸盐的显影液完成显影时，容易析出由SiO₂产生的固态物质，在处理显影废液时的中和处理中也可能由SiO₂发生凝胶化。其结果，有可能导致显影时的非图像部的白色化、或显影时的渣或污泥的产生。

另一方面，用实质上不含有碱金属硅酸盐的显影液完成显影时，如果平版印刷版用载体没有经过碱金属硅酸盐处理，则在停止印刷机，把平版印刷版放置于印刷机上之后重新开始印刷时，容易发生难以取墨的现象(耐放置污染性的劣化)。

本发明人发现：采用上述平版印刷版用载体的平版印刷版原版，即使该平版印刷版用载体没有经过碱金属硅酸盐处理，在曝光之后，用实质上不含有碱金属硅酸盐的显影液进行显影时，也可以获得耐放置污染性能良好的平版印刷版。

另外，本发明人为了解决所述的第三个目的，对平版印刷版用载体的表面形状及设在其上的亲水性薄膜进行了潜心研究，发现：当用原子间作用力显微镜求出的表示表面形状的要素即表面粗糙度、表面积比及陡度、以及亲水性薄膜的导热系数分别组合为特定值时，其感度较高，且表现出高耐刷性，而非图像部也不易产生污垢。即，具有特定的表面形状(中波结构及小波结构)或/和特定的表面形状物性(R_a、ΔS、a30及a60)，并在其上面配置持有特定范围内的导热系数的亲水性薄膜，再在其上面配有热敏层的平版印刷版原版的感度高，且用作平版印刷版时可表现出高耐刷性，其非图像部也不易产生污垢。

基于上述的见解，本发明人完成了本发明。

即，本发明提供了下述的(1)至(7)。

(1)对铝板实施粗糙化处理及阳极氧化处理后得到的平版印刷版用载体，其表面具有重叠平均孔径为0.5-5μm的中波结构和平均孔径为0.01-0.18μm的小波结构形成的砂目形状结构的平版印刷版用载体(本发明的第一技术方案)。

(2)对铝板实施粗糙化处理及阳极氧化处理后得到的平版印刷版用载体，其表面具有重叠平均波长为5-100μm的大波结构和平均孔径为0.5-5μm的中波结构及平均孔径为0.01-0.2μm的小波结构形成的砂目形状结构的平版印刷版用载体。

(3)所述小波结构的孔径和深度之比的平均值在0.2以上的所述(1)或(2)中记载的平版印刷版用载体。

(4)由用原子间作用力显微镜测定表面的50μm□的512×512点求出的三维数据得到的R_a、ΔS、a30及a60分别满足下述条件(i)-(iv)的平版印刷版用载体(本发明的第二技术方案)。

(i)R_a：0.45μm以上

(ii)ΔS：30％以上

(iii)a30：55％以上

(iv)a60：10％以下

在这里，R_a表示从所述三维数据除去波长在2μm以上的成分后得到的表面粗糙度。

ΔS是用由所述三维数据通过近似三点法求出的实际面积S_X和几何学测定面积S₀，根据下式求出的。

ΔS＝(S_X-S₀)/S₀×100(％)

a30和a60分别是从所述三维数据除去波长在2μm以上的成分后得到的倾斜度在30度以上的部分和倾斜度在60度以上的部分的面积百分比。

特别优选同时满足本发明第一技术方案和第二技术方案的平版印刷版用载体。

所述(1)至(4)中记载的平版印刷版用载体优选在铝板在按顺序依次进行机械粗糙化处理、碱蚀刻处理、酸去污处理、利用含硝酸的电解液的电化学粗糙化处理，之后用含盐酸的电解液进行电化学粗糙化处理，再进行碱蚀刻处理、酸去污处理后得到的平版印刷版用载体。

(5)其表面设有导热系数为0.05-0.5W/(m·K)的亲水性薄膜的所述(1)

至(4)中记载的平版印刷版用载体(本发明的第三个技术方案)。

所述亲水性薄膜优选经阳极氧化工艺形成的阳极氧化薄膜。

所述亲水性薄膜的密度以1000-3200kg/m³为宜，或者其空隙率以20-70％为宜。

再用碱金属硅酸盐处理所述亲水性薄膜则更好。

另外，由该碱金属硅酸盐处理所吸附的Si原子的量以大约1.0-15mg/m²为宜。

(6)所述(1)至(5)中记载的任一个平版印刷版用载体上设置有图像记录层的平版印刷版用原版。

使用所述(5)中记载的平版印刷版用载体时，优选所述图像记录层中含有不溶于水而溶于碱的高分子及光热转换物质，且受热后其对于碱性水溶液的溶解性发生变化的热敏层。

另外，使用所述(5)中记载的平版印刷版用载体时，所述图像记录层由设在亲水性载体上面的下层和设在其上面的热敏层组成为宜，且在热敏层或/和下层上配置含有酸根的高分子材料。

(7)曝光所述(6)中记载的任一个平版印刷版原版之后，用不含有碱金属硅酸盐的显影液进行显影得到平版印刷版的平版印刷版的制造方法。

附图说明

图1是表示制作本发明的平版印刷版用载体时用于机械粗糙化处理的刷式粒化工艺的示意侧视图。

图2是表示制作本发明的平版印刷版用载体时用于电化学粗糙化处理的交流波形一例的曲线图。

图3是表示制作本发明的平版印刷版用载体时采用交流电的电化学粗糙化处理中径向型电池一例的侧视图。

图4是制作本发明的平版印刷版用载体时用于阳极氧化处理的阳极氧化处理装置的示意图。

图5是可用于测定本发明的平版印刷版用载体的亲水性薄膜在膜厚方向上的导热系数的热比较仪的示意图。

具体实施方式

下面详细说明本发明。

[平版印刷版用载体]

<表面的砂目形状>

本发明第一技术方案的平版印刷版用载体的特征是，表面具有重叠平均孔径为0.5-5μm的中波结构和平均孔径为0.01-0.2μm的小波结构而形成的砂目形状结构。

本发明的第一技术方案中，平均孔径为0.5-5μm的中波结构主要利用固定效果(投锚)保持图像记录层，并具有赋予耐刷力的功能。中波结构的坑的平均孔径如果小于0.5μm，则与设在上层的图像记录层之间的密接性会下降，有可能导致平版印刷版的耐刷性的下降。另外，如果中波结构的坑的平均孔径超过5μm，则发挥固定效果的坑临界部分数会减少，因此也有可能降低耐刷性。

重叠于所述中波结构的平均孔径为0.01-0.2μm的小波结构主要是起到改善抗污性的作用。通过于中波结构中组合小波结构使用，在印刷时给平版印刷版供给润版药水后，其表面可以形成均匀的水膜，以抑制非图像部的污染。如果小波结构的坑平均孔径小于0.01μm，则水膜的形成无法产生良好的效果。另外，如果小波结构的坑平均孔径超过0.2μm，则中波结构会被破坏，无法取得上述的由中波结构带来的耐刷性提高的效果。

对于该小波结构，如果在控制坑孔径的同时也控制坑的深度，则可以得到更好的抗污性。即，将小波结构的孔径与深度之比控制在平均0.2以上为宜。这样就可以在其表面确实保持均匀的水膜，从而可以长时间保持非图像部表面的抗污性能。

重叠所述的中波结构和小波结构的结构，也可以是再与平均波长为5-100μm的大波结构重叠的结构。

该大波结构具有增加平版印刷版的非图像部表面的保水量的效果。该表面所保持的水越多，非图像部的表面越不易受周围环境气体污染的影响，在印刷过程中放置版时也可以得到不易被污染的非图像部。另外，大波结构被重叠之后，便于目测印刷时供于版面上的润版药水的量。即，平版印刷版的检版性得到了提高。如果大波结构的平均波长小于5μm，则不存在与中波结构的差异。而如果大波结构超过100μm，，则曝光显影之后，显出的非图像部变得有些晃眼，会影响其检版性。大波结构的平均波长以10-80μm为宜。

在本发明第一技术方案的平版印刷版用载体中，根据下述方法测定表面中波结构的平均孔径、小波结构的平均孔径及孔径与深度之比的平均值、以及大波的平均波长。

(1)中波结构的平均孔径

用电子显微镜从载体正上方以2000倍的倍率拍摄载体的表面，从所得电子显微镜照片中挑选至少50个坑周围以环状连接的中波结构的坑(中波坑)，读取其直径作为孔径，并算出平均孔径。重叠有大波结构时也采用同样的方法进行测定。

另外，为了抑制测定值的不规则，也可以根据市售的图像解析软件测定等价圆直径。此时，用扫描设备扫描所述电子显微镜照片以完成数字化，并通过软件完成二进制化后求出等价圆直径。

本发明人测定后发现，目测的结果和数字处理的结果基本上一致。重叠有大波结构的时候也是这样。

(2)小波结构的平均孔径

用高分辨率扫描型电子显微镜(SEM)从载体正上方以50000倍的倍率拍摄载体表面，从所得SEM照片中挑选至少50个小波结构的坑(小波坑)，读取其直径作为孔径，并算出平均孔径。

(3)小波结构的孔径与深度之比的平均值

小波结构的孔径与深度之比的平均值，是从用高分辨率SEM以50000倍的倍率拍摄载体的断裂面，从所得SEM照片中挑选至少20个小波坑，读取孔径与深度求出比值之后再求出其平均值。

(4)大波结构的平均波长

用触针式刮板细度计测定二维粗糙度，并测定5次规定于ISO4287上的平均山间隔S_m，再求出其平均值作为平均波长。

本发明的第二技术方案的平版印刷用载体，其特征是由用原子间作用力显微镜测定表面的50μm□的512×512点而求出的三维数据得到的R_a、ΔS、a30及a60，分别满足下述条件(i)-(iv)。

(i)R_a：0.45μm以上

(ii)ΔS：30％以上

(iii)a30：55％以上

(iv)a60：10％以下

如后所述，R_a表示从所述三维数据除去波长在2μm以上的成分后得到的表面粗糙度。具体地说，表面粗糙度R_a表示载体表面的凹凸状态。

如果该R_a过小，则表面会很光滑，光线容易发生单向反射。其结果，当印刷时平版印刷版的非图像部的表面接受润版药水之后，版面变得容易发光，难以通过目测确认所供给的润版药水的量以进行调节。

在本发明第二技术方案中，为了便于通过目测确定供给版面上的润版药水的量，即，为了提高平版印刷版的检版性，采用较大的R_a。本发明的第二技术方案中，R_a在0.45μm以上，最好在0.50μm以上。

如后所述，ΔS是用由所述三维数据通过近似三点法求出的实际面积S_X和几何学测定面积S₀，根据下式求出的。

ΔS＝(S_X-S₀)/S₀×100(％)

表面积比ΔS是表示相对于几何学测定面积S₀，经粗糙化处理的实际面积S_X所增加的程度的要素。ΔS越大，和图像记录层的接触面积也越大，其结果可以提高耐刷性。为了增加ΔS，比较有效的是在表面设置多个小型凹凸结构。作为这种在表面形成多个凹凸结构的方法，可以列举如采阁以盐酸为主要成分的电解液的电解粗糙化处理、采用以高浓度且高温的硝酸为主要成分的电解液的电解粗糙化处理方法。通过机械粗糙化处理、或采用以普通的硝酸为主要成分的电解液的电解粗糙化处理方法，也可以使ΔS变大，但幅度较小。

在本发明第二技术方案中，ΔS在30％以上，最好在40％以上。

如后所述，a30和a60分别是从所述三维数据除去波长在2μm以上的成分后得到的倾斜度在30度以上的部分和倾斜度在60度以上的部分的面积百分比。

陡度是表示载体表面细微形状的峭度状况的要素。具体是指，载体表面的凹凸结构中，具有一定大小角度以上的倾斜度的面积占表观面积之比例。本发明经过种种研究发现该陡度分别与图像记录层和载体之间的密接性(耐刷性)及非图像部的油墨附着性(抗污性)有关。尤其是，发现通过保持基于特定的角度即30度和60度的两个陡度间的平衡，可以在较高的水平上同时具备耐刷性和抗污性。

即，将倾斜度在30度以上的较为平滑的斜面的面积比例(陡度)a30，视为改善图像记录层与载体之间密接性的参数，为了提高耐刷性，最好取较大值。另外，为了提高平版印刷版非图像部的保水力，以提高抗污染性，最好也取较大值。本发明的第二技术方案中，a30在55％以上，优选在60％以上。

另一方面，为了抑制于非图像部上掛上油墨，提高抗污性，倾斜度在60度以上的较陡的斜面面积比例(陡度)a60，取较小值为宜。在本发明第二技术方案中，a60在10％以下，最好在7％以下。

在本发明第二技术方案的平版印刷版用载体中，求出R_a、ΔS、a30及a60的方法如下所述。

(5)采用原子间作用力显微镜的表面形状的测定

在本发明第二技术方案中，为了求出R_a、ΔS、a30及a60，用原子间作用力显微镜(Atomic Force Microscope：AFM)测定表面形状，并求出三维数据。

测定可在如下的条件下进行。即，将平版印刷版用载体切成边长1cm的正方形，放在压电扫描装置的水平试样台上，并使悬梁臂靠近试样表面到达原子间作用力的作用范围内后，沿XY方向进行扫描，此时，通过改变Z方向的压力的位置采集试样的凹凸状态数据。压电扫描装置选用在XY方向可扫描150μm，在Z方向可扫描10μm的仪器。悬梁臂采用共振频率为120-150kHz、弹簧常数为12-20N/m(如SI-DF20，NANOPROBE社制)的仪器，并用DFM模型(Dynamic Force Mode)测定。另外，对所求出的三维数据进行最小二乘法近似处理，修正试样的较小的倾斜度求出基准面。

在计算和测定时，取表面的50μm□的512×512点进行测定。XY方向的分辨率为1.9μm，Z方向的分辨率为1nm，扫描速度为60μm/sec。

(6)三维数据的修正

在计算ΔS时，直接用由所述(5)中求出的三维数据，但是在计算R_a、a30及a60时，使用的是从由所述(5)中求出的三维数据去掉波长在2μm以上成分的进行修正后的数据。通过该修正，在用AFM探针扫描像平版印刷版用载体具有较深的凹凸结构的表面时，可以削除由当探针触到凸部的蚀刻部分而跳动、或探针针尖以外的部分接触较深的凹部的壁面而发出的噪音。

修正时，先对由所述(5)求出的三维数据进行高速傅里叶变换求出频率分布，接着除去波长在2μm以上的成分之后，再进行傅里叶逆变换。

(7)各要素的计算

①R_a

用由所述(6)修正后得到的三维数据(f(x，y))，根据下式算出表面粗糙度R_a。

$R_a=\frac{1}{S_0}{\&Integral;}_0^{L_x}{\&Integral;}_0^{L_y}\left|f(x,y)\right|\mathrm{dx}\&CenterDot;\mathrm{dy}$

式中，L_X及L_Y分别表示测定区域(长方形)在x方向和y方向上的边长，在本发明第二技术方案中，L_X＝L_Y＝50μm。另外，S_o是几何学测定面积，由S_o＝L_X×L_Y求出。

②ΔS

从由所述(5)的三维数据(f(x，y))中，挑选出三个相邻的点，并求出由该三点形成的微小三角形面积的总和，视为实际面积S_X。表面积比ΔS是用所得的实际面积S_X和几何学测定面积S_o，根据下式求出的。

ΔS＝(S_X-S₀)/S₀×100(％)

③a30及a60

用由所述(6)修正后得到三维数据(f(x，y))，就各基准点算出由各基准点和所定方向(如右和下)上相邻两个点共三点形成的微小三角形和基准面之间的夹角。用全基准点的个数(从全部数据512×512点减去所定方向上没有相邻两点的点的个数，即511×511点)除微小三角形的倾斜度在30度以上(a30时)或60度以上(a60时)的基准点的个数，求出倾斜度在30度以上的部分的面积比例a30和倾斜度60度以上部分的面积比例a60。

作为本发明的一较佳例，可举出同时满足本发明第一技术方案和第二技术方案的平版印刷版用载体。

<表面处理>

本发明的平版印刷版用载体，通过在后述的铝板上实施表面处理，在铝板表面形成了所述的表面砂目形状。本发明的平版印刷版用载体，是在铝板上至少进行粗糙化处理后得到的，而对该载体的制造工艺没有特殊的限定，也可以包括除了粗糙化处理以外的各种工艺。

下面作为上述的在表面形成砂目形状的具有代表性的方法，可列举在铝板上依次实施机械粗糙化处理、碱蚀刻处理、酸去污处理及利用电解液的电化学粗糙化处理的方法；

在铝板上多次实施机械粗糙化处理、碱蚀刻处理、酸去污处理及利用不同电解液的电化学粗糙化处理的方法；

在铝板上依次实施碱蚀刻处理、酸去污处理及利用电解液的电化学粗糙化处理的方法；

在铝板上多次实施碱蚀刻处理、酸去污处理及利用不同电解液的电化学粗糙化处理的方法，但本发明并不限于这些。在这些方法中，在进行所述电化学粗糙化处理之后，也可以再实施碱蚀刻处理及酸去污处理。

另外，作为使本发明第二个技术方案中的表示表面形状的要素R_a、ΔS、a30及a60分别满足特定条件的理想的粗糙化处理方法，可列举依次实施机械粗糙化处理、采用以硝酸为主要成分的电解液的电化学粗糙化处理及采用以盐酸为主要成分的电解液的电化学粗糙化处理的方法，但也可以用其它的处理方法(如碱蚀刻处理等)。此外，也可列举只实施采用以盐酸为主要成分的电解液，增加阳极反应所存电量总和的电化学粗糙化处理的方法。

在本发明的第一技术方案及第二技术方案中，尤其优选在铝板上依次实施机械粗糙化处理、碱蚀刻处理、酸去污处理、用含硝酸的电解液的电化学粗糙化处理、碱蚀刻处理、酸去污处理、用含盐酸的电解液的电化学粗糙化处理、碱蚀刻处理、酸去污处理的方法。

如上所述，根据以上的方法得到的本发明第一技术方案的平版印刷版用载体，在其表面形成有重叠2种以上不同周期凹凸结构的结构，用作平版印刷版时的抗污性及耐刷性都很好。

根据以上的方法得到的、表示表面状态的所述各要素分别满足特定条件的本发明第二技术方案的平版印刷版用载体，在用作平版印刷版时的抗污性及耐刷性都很好。

下面详细说明表面处理的各个工艺。

<机械粗糙化处理>

与电化学粗糙化处理相比，机械粗糙化处理可以用较低的成本在表面形成平均波长为5-100μm的凹凸结构，因此是一个较为有效的粗糙化处理方法。

作为机械粗糙化处理方法，可以采用用金属丝刮铝表面的金属丝刷粒化法、用研磨球和研磨剂粒化铝表面的球粒化法、记载于特开平6-135175号公报和特公昭50-40047号公报上的用尼龙刷和研磨剂粒化表面的刷粒化法。

另外，也可以采用将凹凸面压接于铝板的转录方法。即，除了特开昭55-74898号、特开昭60-36195号、特开昭60-203496号等各公报上所记载的方法之外，也可以适用以进行多次转录为特征的特开平6-55871号公报、以表面具有弹性为特征的特开平6-024168号公报上所记载的方法。

此外，也可以采用利用放电加工、喷净法、激光、等离子体蚀刻法等，蚀刻有细微的凹凸结构的转录滚筒反复进行转录的方法、或将涂布有细微粒子的具有凹凸结构的面贴于铝板，在其上反复施加压力，于铝板上反复转录相当于细微粒子的平均直径的凹凸型结构的方法。作为给转录滚筒赋予细微的凹凸结构的方法，可以采用特开平3-8635号、特开平3-66404号、特开昭63-65017号的各公报上记载的公知的方法。另外，用挤压模、切削刀、激光等在滚筒表面从两个方向切成微槽，在其表面形成方形凹凸结构也可。该滚筒表面上，通过进行公知的蚀刻处理等，可以把形成的方形凹凸结构处理成弯形。

另外，为了提高表面的硬度，可以进行淬火、硬铬镀等。

除此之外，作为机械粗糙化处理，可以采用特开昭61-162351号公报、特开昭63-104889号公报等记载的方法。

在本发明中，从生产率角度考虑，可以并用上述的各种方法。这些机械粗糙化处理最好在电化学粗糙化处理之前进行。

作为较为理想的机械粗糙化处理，下面说明刷粒化法。

刷粒化法通常是用在圆柱形主体的表面植入由尼龙(商标名)、丙烯、氯乙烯树脂等合成树脂形成的合成树脂毛等刷毛的滚筒状刷，一边给旋转的滚筒状刷上喷涂含研磨剂的浆料液，一边摩擦所述铝板表面的一侧或两侧而进行。也可以用表面设有研磨层的滚筒即研磨滚筒代替所述滚筒状刷及浆料液使用。

使用滚筒状刷时，使用弯曲弹性模数最好为10,000-40,000kg/cm²，优选15,000-35,000kg/cm²，且毛腰的强度最好在500g以下，优选在400g以下的刷毛。刷毛的直径一般为0.2-0.9mm。刷毛的长度可以根据滚筒状刷的外径及主体的直径作适当选择，一般为10-100mm。

研磨剂可使用公知的研磨剂。如，浮石、硅砂、氢氧化铝、铝氧粉、碳化硅、氮化硅、火山灰、金刚砂、刚玉砂等研磨剂，也可以用它们的混合物。其中，优选浮石和硅砂。由于硅砂比浮石更硬，不易被破碎，具有良好的粗糙化效率，因此特别优选。

研磨剂的平均粒径以3-50μm为宜，优选6-45μm，此时可以取得良好的粗糙化效率，且可以缩小粒化间距。

研磨剂可以悬浮于水中，以浆料液的状态使用。浆料液里除了研磨剂之外，还可以包含增稠剂、分散剂(如表面活性剂)、防腐剂等。浆料液的比重以0.5-2为宜。

作为适于机械粗糙化处理的装置，可举如特公昭50-40047号公报上记载的装置。

<电化学粗糙化处理>

在电化学粗糙化处理中，可以使用通常用于采用交流的电化学粗糙化处理的电解液。其中，通过采用以盐酸或硝酸为主要成分的电解液，可以在本发明的表面形成特殊的凹凸结构。

作为本发明中的电解粗糙化处理，最好在阴极电解处理的前后，在酸性溶液中利用交流电流进行第1及第2电解处理。通过阴极电解处理，在铝板表面生成氢气并生成附着物，使表面状态均匀，可在之后进行的交流电流电解处理中完成均匀的电解粗糙化。

该电解粗糙化处理，可以根据如特公昭48-28123号公报及英国专利第896,563号说明书上记载的电化学粒化法(电解粒化法)实施。该电解粒化法使用正弦波形的交流电流，但是也可以使用特开昭52-58602号公报上所记载的特殊波形的交流电流。另外，也可以使用特开平3-79799号公报上记载的波形。此外，也可以适用特开昭55-158298号、特开昭56-28898号、特开昭52-58602号、特开昭52-152302号、特开昭54-85802号、特开昭60-190392号、特开昭58-120531号、特开昭63-176187号、特开平1-5889号、特开平1-280590号、特开平1-118489号、特开平1-148592号、特开平1-178496号、特开平1-188315号、特开平1-154797号、特开平2-235794号、特开平3-260100号、特开平3-253600号、特开平4-72079号、特开平4-72098号、特开平3-267400号、特开平1-141094号等的各公报上记载的方法。另外，除了上述的之外，也可以以作为电解冷凝器的制造方法提出的特殊频率的交流电流来进行电解。如，美国专利第4,276,129号说明书及同第4,676,879号说明书中也都有记载。

关于电解槽及电源有各种提案，可以使用美国专利第4203637号说明书、特开昭56-123400号、特开昭57-59770号、特开昭53-12738号、特开昭53-32821号、特开昭53-32822号、特开昭53-32823号、特开昭55-122896号、特开昭55-132884号、特开昭62-127500号、特开平1-52100号、特开平1-52098号、特开昭60-67700号、特开平1-230800号、特开平3-257199号等各公报上记载的相应仪器。

另外，也可以使用特开昭52-58602号、特开昭52-152302号、特开昭53-12738号、特开昭53-12739号、特开昭53-32821号、特开昭53-32822号、特开昭53-32833号、特开昭53-32824号、特开昭53-32825号、特开昭54-85802号、特开昭55-122896号、特开昭55-132884号、特公昭48-28123号、特公昭51-7081号、特开昭52-133838号、特开昭52-133840号、特开昭52-133844号、特开昭52-133845号、特开昭53-149135号、特开昭54-146234号等各公报上记载的相应仪器。

作为电解液的酸性溶液，除了硝酸、盐酸之外，可以使用美国专利第4,671,859号、同第4,661,219号，同第4,618,405号、同第4,600,482号、同第4,566,960号、同第4,566,958号、同第4,566,959号、同第4,416,972号、同第4,374,710号、同第4,336,113号、同第4,184,932号等各说明书中记载的电解液。

酸性溶液的浓度以0.5-2.5重量％为宜，若考虑在所述污迹除去处理中的使用，特别优选0.7-2.0重量％。另外，液体温度以20-80℃为宜，优选30-60℃。

以盐酸或硝酸为主要成分的水溶液，可以在浓度为1-100g/L的盐酸或硝酸水溶液里至少添加一种浓度在1g/L至饱和浓度范围内的硝酸铝、硝酸钠、硝酸铵等含有硝酸离子的硝酸化合物或氯化铝、氯化钠、氯化铵等盐酸离子的盐酸化合物使用。另外，以盐酸或硝酸为主要成分的水溶液中也可以溶解有铁、铜、锰、镍、钛、镁、二氧化硅等含在铝合金中的金属。最好是使用在0.5-2重量％的盐酸或硝酸水溶液里，添加氯化铝、硝酸铝使铝离子浓度达3-50g/L的溶液。

还有，通过添加可以与铜形成络合物的化合物使用，也可对含有大量铜的铝板进行均匀的磨砂目。作为可以与铜形成络合物的化合物有，如氨、甲胺、乙胺、二甲胺、二乙胺、三甲胺、环己胺、三乙醇胺、三异丙醇胺、EDTA(乙二胺四乙酸)等氨的氢原子被烃基(脂肪族、芳香族)取代后得到的胺类；碳酸铵、碳酸钾、碳酸氢钾等金属碳酸盐类。另外，也可列举硝酸铵、氯化铵、硫酸铵、磷酸铵、碳酸铵等铵盐。

温度优选10-60℃，更优选20-50℃。

对用于电化学粗糙化处理的交流电源的波形没有特殊的限定，可以用正弦波、矩形波、梯形波、三角波等，优选矩形波或梯形波，特别优选梯形波。梯形波如图2所示。在该梯形波中，电流从零开始达到波峰所需的时间(TP)以1-3msec为宜。如果小于1msec，则容易发生与铝板的前进方向垂直的叫作竹节痕的处理斑痕。如果超过3msec，特别是在采用硝酸电解液时，容易受以在电解处理过程中自然增加的铵离子等为代表的电解液中微量成分的影响，难以进行均匀粒化。其结果，会降低作为平版印刷版时的抗污性。

可以使用梯形交流波的duty比为1∶2-2∶1的电源，但如特开平5-195300号公报上所示，在铝板上不使用导体滚筒的间接供电方式中，duty比以1∶1为宜。

梯形交流波的频率可以是0.1-120Hz，从设备上讲，以50-70Hz为宜。如果低于50Hz，则主极碳极容易发生溶解，而如果高于70Hz，则容易受电路中电感成分的影响，会提高电源的成本。

在电解槽内可以连接一个以上的交流电源。为了通过控制加在对向于主极的铝板上的交流阳极及阴极的电流比，进行均匀的粒化，并溶解主极碳，如图3所示，最好设置补助阳极，分流一部分交流电流。图3中，11是铝板，12是径向滚筒，13a及13b是主极，14是电解处理液，15是电解液供给口，16是孔口，17是电解液的通路，18是补助阳极，19a及19b是闸流晶体管，20是交流电源，40是主电解槽，50是补助阳极槽。通过整流元件或开关元件，把一部分电流以直流电流形式分流到与两个主电极分开设在另一个槽内的补助阳极上，控制作用在对向于主极的铝板上的阳极反应所存的电流值和阴极反应所存的电流值之比。在对向于主极的铝板上，阳极反应和阴极反应所存的电量之比(阴极时电量/阳极时电量)最好是0.3-0.95。

电解槽可以使用纵型、扁型、径向型等公知的用于表面处理的电解槽，特别优选特开平5-195300号公报上记载的径向型电解槽。经过电解槽内部的电解液，可以平行或反向于铝连接板的前进方向。

(硝酸电解)

通过采用以硝酸为主要成分的电解液的电化学粗糙化处理，可以形成平均孔径为0.5-5μm的坑。但是，当电量较多时，电解反应比较集中，也生成超过5μm的蜂窝状坑。

为了得到这种砂目，当结束电解反应时，铝板的阳极反应所存的电量总和以1-1000C/dm²为宜，优选50-300C/dm²。此时，电流密度以20-100A/dm²为宜。

另外，如果使用高浓度或高温硝酸电解液，也可以形成平均孔径在0.2μm以下的小波结构。

(盐酸电解)

盐酸由于其本身的铝溶解能力较强，因此经少量电解就可在表面形成细微的凹凸结构。该细微的凹凸结构的平均孔径为0.01-0.2μm，并可在铝板整个表面形成。为了得到这种砂目，结束电解反应时铝板的阳极反应所存的电量总和以1-100C/dm²为宜，优选20-70C/dm²。此时，电流密度以20-50A/dm²为宜。

这种在以盐酸为主要成分的电解液中的电化学粗糙化处理中，如果阳极反应所存电量总和超过400-1000C/dm²，有时也可能同时形成月牙洼状的表面波纹，此时会全面生成重叠于平均孔径为10-30μm的月牙洼状的表面波纹上的平均孔径为0.01-0.4μm的细微的凹凸结构。由于此时没有重叠平均孔径0.5-5μm的中波结构，因此不能形成具有本发明第一技术方案特征的砂目形状。但是，有时本发明第二技术方案各要素也可以满足各个特定条件。

在本发明中，作为第一电解粗糙化处理，优选采用以所述的硝酸为主要成分的电解液的电解粗糙化处理(硝酸电解)，作为第二电解粗糙化处理，优选采用以所述的盐酸为主要成分的电解液的电解粗糙化处理(盐酸电解)。即，本发明中作为粗糙化处理至少在铝板上依次进行硝酸电解和盐酸电解后，再实施阳极氧化处理，即可得到平版印刷版用载体，同时也提供制造平版印刷版用载体的方法。

在所述的硝酸、盐酸等电解液中进行的第一及第二电解粗糙化处理之间，铝板进行阴极电解处理为宜。通过该阴极电解处理，在铝板表面形成附着物的同时，生成氢气，由此可以进行比较均匀的电解粗糙化处理。该阴极电解处理是在酸性溶液中以3-80C/dm²，优选5-30C/dm²的阴极电量进行。如果阴极电量少于3C/dm²，则，附着物附着量不足，而如果超过80C/dm²，则附着物附着量又过剩，两种情况都不好。另外，电解液可以相同或不同于在所述的第一及第二电解粗糙化处理中使用的溶液。

<碱蚀刻工艺>

碱蚀刻处理，是通过将所述铝板接触于碱溶液，溶解表层的处理。

在没有进行机械粗糙化处理时，在进行电解粗糙化处理之前进行的碱蚀刻处理是以去除所述铝板(轧制板)表面的轧制油、污垢、自然氧化薄膜等为目的，而已经进行机械粗糙化处理时，是以溶解由机械粗糙化处理生成的凹凸结构的边缘部分，将陡的凹凸结构修改成具有平滑的表面波纹的表面。

在碱蚀刻处理之前没有进行机械粗糙化处理时，蚀刻量以0.1-10g/m²为宜，优选1-5g/m²。如果蚀刻量少于0.1g/m²，则会残留有表面轧制油、污垢、自然氧化薄膜等，在后续的电解粗糙化处理中无法生成均匀的坑而产生斑痕。另一方面，如果蚀刻量为1-10g/m²，可以充分去除表面轧制油、污垢、自然氧化薄膜等。如果蚀刻量超过所述范围，则不够经济。

在碱蚀刻处理之前进行机械粗糙化处理时，蚀刻量以3-20g/m²为宜，优选5-15g/m²。如果蚀刻量少于3g/m²，则不能使由机械粗糙化处理等形成的凹凸变得平滑，在后续的电解处理中无法生成均匀的坑。另外，还会导致印刷时抗污性的劣化。另一方面，如果超过20g/m²，则会使凹凸结构消失。

进行电解粗糙化处理之后马上进行的碱蚀刻处理，是以溶解在酸性电解液中生成的附着物、并溶解由电解粗糙化处理形成的坑的边缘部分为目的而进行的。

由电解粗糙化处理形成的坑随电解液的种类而有所差异，因此其最佳蚀刻量也有区别，而在电解粗糙化处理之后进行的碱蚀刻处理的蚀刻量以0.1-5g/m²为宜。采用硝酸电解液时，其蚀刻量的设定需多于采用盐酸电解液时。

在进行多次的电解粗糙化处理时，各处理之后，可以根据需要进行碱蚀刻处理。

作为用于碱溶液的碱，可列举如苛性碱、碱金属盐等。具体说作为苛性碱有苛性钠、苛性钾等。另外，作为碱金属盐可列举如偏硅酸钠、硅酸钠、偏硅酸钾、硅酸钾等碱金属硅酸盐；碳酸钠、碳酸钾等碱金属碳酸盐；铝酸钠、铝酸钾等碱金属铝酸盐；葡糖酸钠、葡糖酸钾等碱金属糖醛酸盐；磷酸氢钠、磷酸氢钾、磷酸二氢钠、磷酸二氢钾等碱金属磷酸氢盐。其中，从蚀刻速度快和便宜的特点考虑，优选苛性碱的溶液及含有苛性碱和碱金属铝酸盐的溶液。尤其优选苛性钠水溶液。

碱溶液的浓度根据蚀刻量而定，以1-50重量％为宜，优选10-35重量％。当碱溶液中溶解有铝离子时，铝离子的浓度以0.01-10重量％为宜，更优选3-8重量％。碱溶液的浓度以20-90℃为宜。处理时间以1-120秒为宜。

作为将铝板接触于碱溶液的方法，可以列举如使铝板通过装有碱溶液的槽内部的方法、将铝板浸渍于装有碱溶液的槽内的方法、将碱溶液喷涂于铝板表面的方法。

<去污处理>

进行电解粗糙化处理或碱金属蚀刻处理之后，为了除去残留于表面的污垢，进行酸洗(去污处理)。所用的酸有如硝酸、硫酸、磷酸、铬酸、氢氟酸、硼氢氟酸等。

所述的去污处理是通过如将所述的铝板接触于0.5-30重量％的盐酸、硝酸、硫酸等的酸性溶液(含有0.01-5重量％的铝离子)而进行。作为将铝板接触于酸性溶液的方法，可列举如使铝板通过装有酸性溶液的槽内部的方法、将铝板浸渍于装有酸性溶液的槽内部的方法、把酸性溶液喷涂于铝板表面的方法。

在去污处理中，作为酸性溶液可以使用从所述的电解粗糙化处理中排出的以硝酸为主要成分的水溶液废液或以盐酸为主要成分的水溶液废液、或者是从后述的阳极氧化处理中排出的以硫酸为主要成分的水溶液废液。

去污处理的液温以25-90℃为宜。另外，处理时间以1-180秒为宜。用于去污处理的酸性溶液中，也可以溶进铝或铝合金成分。

<亲水性薄膜的形成>

通过以上方法实施粗糙化处理及根据需要进行其它处理的铝板上，最好再设置具有低导热系数的亲水性薄膜。

通过将亲水性薄膜在膜厚方向的导热系数控制在0.05-0.5W/(m·K)，可以抑制由激光曝光产生的热量向载体扩散。导热系数低的部分热扩散的抑制效果良好，优选0.08-0.3W/(m·K)，特别优选0.2W/(m·K)以下。

通过设置这种低导热系数的层结构，在利用热形成图像的热敏型平版印刷版原版中可以提高曝光时的感度，阳型时不易发生残膜，阴型时可以提高图像形成能力。

下面说明在本发明第三技术方案中规定的亲水性薄膜在膜厚方向的导热系数。

作为薄膜导热系数的测定方法，至今已有多种。1986年，ONO等利用温度记录仪记录了在薄膜平面方向上的导热系数。另外，也有测定薄膜的热物性时应用交流加热方法的报道。交流加热方法的起源可以追溯到1863年的报道，近年来，也提出了利用激光加热的方法的开发或和傅里叶变换组合应用的各种测定法。利用激光埃法的装置实际上也有市售的。用这种方法求出的都是薄膜平面方向上(面内方向)的导热系数。

但是，在考虑薄膜的导热系数时更重要的因素是深度方向上的热扩散。如各种报道中所述，薄膜的导热系数并不是各向同性，特别是在本发明这种情况下，直接测定膜厚方向的导热系数是非常重要的。从这种观点出发，作为测定薄膜膜厚方向上的热物性的尝试，在Lambropoulos等的论文(J.Appl.Phys.，66(9)(1 November 1989))和Henager等的论文(APPLIED OPTICS，Vol.32，No.1(1 January 1993))中提出了采用热比较仪的方法。进而，近年来桥本等提出了根据适用傅里叶分析的温度波热分析测定聚合物薄膜的热扩散率的方法(Netsu Sokutei，27(3)(2000))。

本发明中规定的亲水性薄膜在膜厚方向上的导热系数是根据采用所述热比较仪的方法测定的。下面具体说明上述方法，而关于上述方法的原理，在所述的Lambropoulos等的论文及Henager等的论文中已有详细的说明。另外，用于上述方法的装置，并不限于下述的装置。

图5是可用于本发明平版印刷版原版的亲水性薄膜的膜厚方向的导热系数测定的热比较仪530的概略图。在图5中，530为热比较仪，531为芯片，532为贮存槽(reservoir)，533为电热加热器，534为加热套，535为热电偶，536是散热器，537是薄膜，538是金属基体，539是接触式温度计，540是芯片前端温度记录仪，541是散热器温度记录仪，542是贮存槽温度记录仪。

采用热比较仪的方法中，很受与薄膜的接触面积及接触面状态(粗糙度)的影响。因此，关键在于把热比较仪530与薄膜接触的前端作得尽量小。如，可采用具有无氧铜制的半径r₁＝0.2mm的微小前端的芯片(线材)531。

把该芯片531固定在康铜制的贮存槽532的中心，并在贮存槽532的周围固定具有电热加热器533的无氧铜制的加热套534。当用该电热加热器533加热加热套534，一边反馈安装于贮存槽532内部的热电偶535的输出，一边把贮存槽532控制在60±1℃，则芯片531加热成60±1℃。另一方面，准备半径10cm、厚度10mm的无氧铜制的散热器536，把具有测定对象薄膜537的金属基体538设置在散热器536上。用接触式温度计539测定散热器536的表面温度。

这样设定热比较仪530之后，于薄膜537的表面贴合接触经加热的芯片531的前端。热比较仪530代替压头安装在动态微硬度计的前端，可被上下驱动，向下压至使芯片531抵在薄膜537表面造成0.5mN的负荷。通过以上措施可使测定对象薄膜537和芯片531的接触面积的误差降到最低。

当把加热的芯片531接触于薄膜537上时，芯片531的前端温度会下降，并在某一温度下达到稳定状态。这是由于由电热加热器533通过加热套534及贮存槽532传达至芯片531上的热量和从芯片531通过金属基体538向散热器536扩散的热量达到了平衡。分别用芯片前端温度记录仪540、散热器温度记录仪541有贮存槽温度记录仪542记录此时的芯片前端温度、散热器温度及贮存槽温度。

所述各温度和薄膜导热系数之间的关系，如下式[1]所示。

$\frac{(T_r-T_b)}{(T_r-T_t)}=\left(\frac{4K_1{r}_1}{K_{\mathrm{tf}}{A}_3}\right)t+(1+\left(\frac{4K_1{r}_1}{K_2{A}_2}\right)t_2+\left(\frac{K_1{r}_1}{K_4{r}_1}\right))---\left[1\right]$

上式[1]中各符号如下所述：

T_t：芯片前端温度、T_b：散热器温度、T_r：贮存槽温度、

K_tf：薄膜导热系数、K₁：贮存槽导热系数、

K₂：芯片导热系数(无氧铜时为400W/(m·K))、

K₄：(未设薄膜时的)金属基体导热系数、

r₁：芯片前端曲率半径、

A₂：贮存槽和芯片的接触面积、A₃：芯片和薄膜的接触面积、

t：膜厚、t₂：接触厚度(0)

通过改变膜厚(t)测定各温度(T_t、T_b、T_r)并绘制图表，求出所述式[1]的斜率，即可求出薄膜导热系数(K_tf)。即，由所述式[1]可见，斜率值决定于贮存槽导热系数(K₁)、芯片前端曲率半径(r₁)、薄膜导热系数(K_tf)及芯片和薄膜的接触面积(A₃)，而K₁、r₁及A₃是已知的，因此可从斜率求出K_tf值。

本发明人等用所述的测定方法求出了设在铝板上的阳极氧化薄膜(Al₂O₃)的导热系数。变换膜厚测定其温度，从其结果图表的斜率求出的Al₂O₃的导热系数为0.69W/(m·K)。这个结果与上述的Lambropoulos等的论文中的结果相当一致。而该结果也表示薄膜的热物性值不同于bulk的热物性(bulk的Al₂O₃的导热系数为28W/(m·K))。

如果测定本发明平版印刷版原版的亲水性薄膜在膜厚方向上的导热系数时采用所述的方法，则通过把芯片前端作成微型，且将向下负荷保持在一定值，可以得到对经粗糙化处理的平版印刷版用表面也没有产生误差的结果，因此可以优选。导热系数值最好是取试样中不同的几个点，如5个点，测定之后求出其平均值。

亲水性薄膜的膜厚从不易受损或耐刷性的特点考虑时，以0.1μm以上为宜，更优选0.3μm以上，特别优选0.6μm以上。另外，从制造成本考虑时，鉴于在设置厚膜时所需的能量大，因此膜厚以5μm以下为宜，更优选3μm以下，特别优选2μm以下。

对作为设置亲水性薄膜的方法，并没有特殊的限定，可适用阳极氧化法、蒸镀法、CVD法、溶胶-凝胶法、喷溅法、离子电镀法、扩散法等。另外，也可以采用涂布于亲水性树脂或溶胶-凝胶液里混合中空粒子的溶液的方法。

其中，优选通过对铝表面进行阳极氧化而形成高亲水性的铝氧化物薄膜的方法。所得薄膜不仅具有亲水性，而且有高硬度，可以提高载体表面的耐磨耗性。因此适于高速处理，可得到高生产率。

阳极氧化处理可以采用在该领域中常用的方法。具体为：在单独的硫酸、磷酸、铬酸、草酸、氨基磺酸、苯磺酸或混合2种以上的它们的水溶液或非水溶液里，于铝板上通过直流或交流，则可在铝板表面形成亲水性薄膜-阳极氧化薄膜。

此时，电解液中包含至少在铝板、电极、自来水、地下水等中通常含有的成分也无大碍。还可以再添加第2、第3成分。作为在这里所说的第2、第3成分，可列举如Na、K、Mg、Li、Ca、Ti、Al、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn等金属离子；铵离子等阳离子；硝酸离子、碳酸离子、氯化物离子、磷酸离子、氟化物离子、亚硫酸离子、钛酸离子、硅酸离子、硼酸离子等阴离子，可含有0-10000ppm左右的浓度。

阳极氧化处理的条件随使用的电解液的种类而有所改变，因此不能一概而论，但是一般用1-80重量％电解液浓度，5-70℃液温，0.5-60A/dm²的电流密度，1-100V的电压，15秒-50分的电解时间，就可以调节成所需的阳极氧化薄膜量。

另外，特开昭54-81133号、特开昭57-47894号、特开昭57-51289号、特开昭57-51290号、特开昭57-54300号、特开昭57-136596号、特开昭58-107498号、特开昭60-200256号、特开昭62-136596号、特开昭63-176494号、特开平4-176897号、特开平4-280997号、特开平6-207299号、特开平5-24377号、特开平5-32083号、特开平5-125597号、特开平5-195291号等各公报上记载的方法。

其中，如特开昭54-12853号公报及特开昭48-45303号公报上记载，优选使用硫酸溶液作电解液。电解液中硫酸的浓度以10-300g/L(1-30重量％)为宜，另外，铝离子浓度以1-25g/L(0.1-2.5重量％)为宜，更优选2-10g/L(0.2-1重量％)。这种电解液可由如硫酸浓度为50-200g/L的稀硫酸中添加硫酸铵等方法来调制。

在含有硫酸的电解液中进行阳极氧化处理时，在铝板和对极之间可以附加直流，也可以附加交流。

给铝板附加直流时，电流密度以1-60A/dm²为宜，更优选5-40A/dm²。

连续进行阳极氧化处理时，为了避免电流集中于部分铝板上而造成所谓的“烧伤”，在刚开始进行阳极处理时，流通5-10A/dm²的低电流密度的电流，随着阳极氧化处理的进行，再把电流密度增加至30-50A/dm²或其以上为宜。

在连续进行阳极氧化处理时，也可通过经电解液供电的液体供电方式在铝板上进行。

通过在这种条件下进行阳极处理，可得到具有多个被叫作pore(微孔)的孔的多孔质薄膜，通常其平均孔径为5-50nm，平均孔密度为300-800个/μm²左右。

在这种阳极氧化处理中，也可以采用在英国专利第1,412,768号说明书上记载的在硫酸电解液中以高电流密度进行阳极氧化处理的方法、及在美国专利第3,511,661号说明书上记载的以磷酸为电解浴进行阳极氧化处理的方法。另外，也可以采用既在硫酸中进行阳极氧化处理，又在磷酸中进行阳极氧化处理等多步阳极氧化处理方法。

在本发明中，从不易受伤及耐刷性等特点考虑，阳极氧化薄膜以0.1g/m²以上为宜，更优选0.3g/m²以上，特别优选2g/m²以上。另外，鉴于设置厚度厚的薄膜所需要的能量较多，因此以100g/m²以下为宜，更优选40g/m²以下，特别优选20g/m²以上。

通常4g/m²左右的薄膜的膜厚大约在1μm左右。

作为用于阳极氧化处理的电解装置，可以采用特开昭48-26638号、特开昭47-18739号、特公昭58-24517号等各公报上记载的装置。

其中，最佳的是图4所示的装置。图4是表示对铝板表面进行阳极氧化处理的装置之一例的概略图。在阳极氧化处理装置410中，按图4中箭头所示的方向输送铝板416。在贮存有电解液418的供电槽412中，铝板416由于供电电极420的作用带正电。之后，在供电槽412中，铝板416通过滚筒422输送至上方，再通过轧辊424把方向改换为下方之后，再被输送至贮存有电解液426的电解处理槽414里，通过滚筒428转换为水平方向。接着，铝板416由于电解电极430的作用带上负电，并由此在其表面形成阳极氧化薄膜，走出电解处理槽414的铝板被输送至后一工艺。在所述的阳极氧化处理装置410中，由滚筒422、轧辊424及滚筒428构成了方向转换机构，铝板416在供电槽412和电解处理槽414的槽间部，根据所述的滚筒422、424及428输送成山型或逆U型。供电电极420和电解电极430连接于直流电源434。

图4所示的阳极氧化处理装置的特征在于：用1面槽壁432隔开供电槽412和电解处理槽414，在槽间部把铝板416输送成山型或逆U型。通过这一点，可以使槽间部中的铝板416的长度缩小至最短。因此，可以缩短阳极氧化处理装置410的全长，从而可以减少设备费用。另外，由于把铝板416输送成山型或逆U型，因此无须在各槽412和414的槽壁上设置用于通过铝板416的开口部。所以，可以减少把各槽412及414内的液面高度保持在必要高度时所需的送液量，从而减少运转费用。

阳极氧化薄膜表面上同样形成有叫作微孔的细微的凹部。存在于阳极氧化薄膜的微孔密度，可以通过选择适当的处理条件来进行调整。通过提高微孔的密度，可使阳极氧化薄膜在膜厚方向上的导热系数达0.05-0.5W/(m·K)。

在本发明第三技术方案中，为了降低导热系数，在进行阳极氧化处理之后，进行了扩大微孔孔径的扩孔处理。该扩孔处理中，通过将形成有阳极氧化薄膜的铝板浸渍于酸水溶液或碱水溶液里，溶解阳极氧化薄膜，达到扩大微孔孔径的目的。扩孔处理时阳极氧化薄膜的溶解量以0.01-20g/m²为宜，更优选0.1-5g/m²，特别优选0.2-4g/m²。

在扩孔处理中使用酸溶液时，采用硫酸、磷酸、硝酸、盐酸等无机酸或它们的混合物为宜。酸水溶液的浓度以10-1000g/L为宜，优选20-500g/L。酸水溶液的温度以10-90℃为宜，更优选30-70℃。浸渍于酸水溶液的时间以1-300秒为宜，更优选2-100秒。

另一方面，在扩孔处理中使用碱溶液时，采用氢氧化钠、氢氧化钾及氢氧化锂中至少选择一种的碱的水溶液为宜。碱水溶液的pH值以10-13为宜，更优选11.5-13.0。碱水溶液的温度以10-90℃为宣，-更优选30-50℃。浸渍于碱水溶液的时间以1-500秒为宜，更优选2-100秒。

另外，除了上述的阳极氧化薄膜之外，亲水性薄膜也可以是由溅射法、CVD法设置的无机薄膜。作为构成无机薄膜的化合物，有氧化物、氮化物、硅化物、硼化物、碳化物等。另外，无机薄膜可以仅由一种化合物构成，也可由化合物的混合物构成。

作为构成无机薄膜的化合物，具体可列举氧化铝、氧化硅、氧化钛、氧化锆、氧化铪、氧化钒、氧化铌、氧化钽、氧化钼、氧化钨、氧化铬；氮化铝、氮化硅、氮化钛、氮化锆、氮化铪、氮化钒、氮化铌、氮化钽、氮化钼、氮化钨、氮化铬、氮化硼；硅化钛、硅化锆、硅化铪、硅化钒、硅化铌、硅化钽、硅化钼、硅化钨、硅化铬；硼化钛、硼化锆、硼化铪、硼化钒、硼化铌、硼化钽、硼化钼、硼化钨、硼化铬；碳化铝、碳化硅、碳化钛、碳化锆、碳化铪、碳化钒、碳化铌、碳化钽、碳化钼、碳化钨、碳化铬等。

所述亲水性薄膜优选密度为1000-3200kg/m³，孔隙率为20-70％的状态。

为了于铝板上形成低密度的绝热性良好的薄膜，可在适当进行使用二氧化硅、钠钙玻璃、硼硅酸玻璃等玻璃类的处理或所述阳极氧化薄膜形成处理。其中，在阳极氧化处理中，可以通过适当选择其阳极氧化的条件，形成具有所定孔隙的微孔。根据阳极氧化条件或其后处理的条件，可以控制微孔的容积，从而易于形成所望的低密度薄膜，因此可以优选。

作为具体的控制薄膜密度的方法，通过降低电流密度，长时间进行阳极氧化处理，则可以形成多个小孔，形成良好的低密度薄膜。另外，已知提高电解液温度或者提高电解液浓度，可以增大形成于阳极氧化薄膜表面的孔的直径，也可以把这一点和后述的封孔处理结合起来形成所需密度的薄膜。另外，也可以采用进行阳极氧化处理之后，用酸或碱溶液溶解微孔，使已经形成的阳极氧化薄膜低密度化的方法。关于这些控制方法，操作者可以作适当选择。

利用所述的条件形成低密度薄膜之后，可用由MEISON法(利用铬酸/磷酸的混合溶液的阳极氧化薄膜重量法)测定的重量和用SEM观察断面求出的膜厚，根据下式算出所形成的薄膜密度。

密度(kg/m³)＝(每单位面积薄膜的重量/膜厚)

如果在此形成的薄膜密度小于1000kg/m³，薄膜强度会下降，会影响图像形成性或耐刷性等，而如果超过3000kg/m³，则无法得到足够的绝热性，提高感度的效果会有所下降。

亲水性薄膜的孔隙率以20-70％为宜，更优选30-60％，特别优选40-50％。亲水性薄膜的孔隙率如果在20％以上，可以充分控制向载体的热扩散，可以充分发挥提高感度的效果。而如果亲水性薄膜的孔隙率低于70％，不易发生在非图像部出现污垢的问题。

在这里，亲水性薄膜的孔隙率是指薄膜中孔部分的体积比率，而对阳极氧化薄膜而言，可以用通过SEM观察求出的孔径、深度、孔数求出该比率。

作成1000-3200kg/m³密度的薄膜之后，进行以将载体表面积处理成表观表面积的1-30倍为目的的封孔处理。在这里所说的表观表面积是指如为100mm×100mm的印刷版时，在只有一面进行粗糙化处理及阳极氧化处理的情况下是指10000mm²，如果两面都进行处理而可以用作印刷版时是指20000mm²。

<封孔处理>

在本发明中，根据需要也可以进行封住存在于阳极氧化薄膜上的微孔的封孔处理。封孔处理可以利用沸水处理、热水处理、蒸气处理、硅酸钠处理、亚硝酸盐处理、乙酸铵处理等公知的方法进行。如，可以按照特公昭56-12518号公报、特开平4-4194号公报、特开平5-202496号公报、特开平5-179482号公报等记载的装置及方法来进行封孔处理。

<亲水化处理>

进行阳极氧化处理或封孔处理之后，也可以进行亲水化处理。作为亲水化处理，可以列举如美国专利第2,946,638号说明书上记载的氟锆酸钾处理、美国专利第3,201,247号说明书上记载的磷钼酸盐处理、英国专利第1,108,559号上记载的烷基钛酸盐处理、德国专利第1,091,433号说明书上记载的聚丙烯酸处理、德国专利第1,134,093号说明书及英国专利第1,230,447号说明书上记载的聚乙烯基膦酸处理、特公昭44-6409号公报上记载的膦酸处理、美国专利第3,307,951号说明书上记载的植酸处理、特开昭58-16893号公报及特开昭58-18291号公报上记载的用亲油性有机高分子化合物和2价金属的盐的处理、美国专利第3,860,426号说明书上记载的设置含水溶性金属盐(如乙酸锌)的亲水性纤维素(如羧甲基纤维素)的底涂层的处理、特开昭59-101651号公报上记载的底涂含磺基的水溶性聚合物的处理等。

另外，也可列举采用特开昭62-019494号公报上记载的磷酸盐、特开昭62-033692号公报上记载的水溶性环氧化合物、特开昭62-097892号公报上记载的磷酸改性淀粉、特开昭63-056498号公报上记载的二胺化合物、特开昭63-130391号公报上记载的氨基酸的无机或有机酸、特开昭63-145092号公报上记载的含羧基或羟基的有机膦酸、特开昭63-165183号公报上记载的含氨基或膦酸基的化合物、特开平2-316290号公报上记载的特定的羧酸衍生物、特开平3-215095号公报上记载的磷酸酯、特开平3-261592号公报上记载的带1个氨基和1个磷的含氧酸基的化合物、特开平5-246171号公报上记载的苯基膦酸等脂肪族或芳香族膦酸、特开平1-307745号公报上记载的如邻巯基苯甲酸等含S原子的化合物、特开平4-282637号公报上记载的含磷的含氧酸基的化合物等进行底涂的处理。

此外，还可以实施特开昭60-64352号公报上记载的用酸性染料着色的处理。

另外，最好是采用浸渍于硅酸钠、硅酸钾等碱金属硅酸盐的水溶液里的方法、涂布亲水性乙烯基聚合物或亲水性化合物形成亲水性底涂层的方法，进行亲水化处理。

采用硅酸钠、硅酸钾等碱金属硅酸盐水溶液的亲水化处理可以根据美国专利第2,714,066号说明书及美国专利第3,181,461号说明书上记载的方法及步骤进行。

作为碱金属硅酸盐，可列举硅酸钠、硅酸钾、硅酸锂等。碱金属硅酸盐的水溶液可以适当含有氢氧化钠、氢氧化钾、氢氧化锂等。

另外，碱金属硅酸盐的水溶液也可以含有碱土类金属盐或4族(第IVA族)金属盐。作为碱土类金属盐，可以列举硝酸钙、硝酸锶、硝酸镁、硝酸钡等硝酸盐，硫酸盐，盐酸盐，磷酸盐，乙酸盐，草酸盐，硼酸盐等。作为4族(第IVA族)金属盐可列举如四氯化钛、三氯化钛、氟钛酸钾、草酸钛钾、硫酸钛、四碘化钛、氯氧化锆、二氧化锆、氯氧化锆、四氯化锆等。这些碱土类金属盐或4族(第IVA族)金属盐可以单独或组合两种以上使用。

可以用荧光X射线分析装置测定由碱金属硅酸盐处理所吸附的Si量，其吸附量以1.0-15.0mg/m²为宜。

通过这种碱金属硅酸盐处理，可以提高平版印刷版用载体表面对于碱性显影液的耐溶解性，抑制了铝成分向显影液的溶解析出，可以减少由显影液疲劳引起的显影渣。

如上所述，本发明的平版印刷版用载体的图像记录层与载体之间的粘接性良好，因此即使进行了碱金属硅酸盐处理，也可得到足够的耐刷性。所以即使进行了碱金属硅酸盐处理，也不必担心耐刷性的下降，可以只享受抗污性的提高和显影气体的减少等优点。

另外，形成亲水性底涂层的亲水化处理，可以按照特开昭59-101651号公报及特开昭60-149491号公报上记载的条件及步骤进行。

作为用于该方法的亲水性乙烯基聚合物，可列举如聚乙烯基磺酸、含磺基的p-苯乙烯磺酸等含有磺基的乙烯基聚合物和(甲基)丙烯酸烷基酯等常用的乙烯基聚合物的共聚物。另外，作为用于该方法的亲水性化合物，可列举如含有-NH₂基、-COOH基及磺基中至少一种的化合物。

<水洗处理>

在经过上述的各个处理之后，最好再进行水洗。水洗时可用纯水、井水、自来水等。为了防止把处理液带入下一步骤，也可以用nip装置。

<铝板(轧制铝)>

为了得到本发明的平版印刷用载体，可以使用公知的铝板。用于本发明的铝板是尺寸稳定的以铝为主要成分的金属，由铝或铝合金组成。除了纯铝板之外，也可以使用以铝为主要成分的含有微量其它元素的合金板。

在本说明书中，把由所述的铝或铝合金组成的各种基板统称为铝板。可含于所述铝合金的元素有硅、铁、锰、铜、镁、铬、锌、铋、镍、钛等，合金中其它元素的含量在10重量％以下。

这种用于本发明的铝板的组成并不是特定的，可以适当选用如铝手册第4版(1990年，轻金属协会发行)上所记载的以往公知的材料，如JISA1050、JIS A1100、JIS A1070、含锰JIS A3004、国际注册合金3103A等Al-Mn类铝板。另外，为了提高拉伸强度，也可以使用在这些铝合金中添加0.1重量％以上的镁的Al-Mg类合金、Al-Mn-Mg类合金(JIS A3005)。此外，还可以用含Zr或Si的Al-Zr类合金或Al-Si类合金。还可以用Al-Mg-Si类合金。

关于JIS1050材，本申请人提出的技术记载于特开昭59-153861号、特开昭61-51395号、特开昭62-146694号、特开昭60-215725号、特开昭60-215726号、特开昭60-215727号、特开昭60-216728号、特开昭61-272367号、特开昭58-11759号、特开昭58-42493号、特开昭58-221254号、特开昭62-148295号、特开平4-254545号、特开平4-165041号、特公平3-68939号、特开平3-234594号、特公平1-47545号及特开昭62-140894号等各公报上。另外，特公平1-35910号公报、特公昭55-28874号公报上也公开有相应的技术。

关于JIS1070材，本申请人提出的技术记载于特开平7-81264号、特开平7-305133号、特开平8-49034号、特开平8-73974号、特开平8-108659号及特开平8-92679号等各公报上。

关于Al-Mg类合金，本申请人提出的技术记载于特公昭62-5080号、特公昭63-60823号、特公平3-61753号、特开昭60-203496号、特开昭60-203497号、特公平3-11635号、特开昭61-274993号、特开昭62-23794号、特开昭63-47347号、特开昭63-47348号、特开昭63-47349号、特开昭64-1293号、特开昭63-135294号、特开昭63-87288号、特公平4-73392号、特公平7-100844号、特开昭62-149856号、特公平4-73394号、特开昭62-181191号、特公平5-76530号、特开昭63-30294号及特公平6-37116号等各公报上。另外，也记载于特开平2-215599号公报、特开昭61-201747号公报等。

关于Al-Mn类合金，本申请人提出的技术记载于特开昭60-230951号、特开平1-306288号及特开平2-293189号等各公报上。另外，特公昭54-42284号、特公平4-19290号、特公平4-19291号、特公平4-19292号、特开昭61-35995号、特开昭64-51992号、特开平4-226394号等各公报、美国专利第5,009,722号说明书、同第5,028,276号说明书上也有记载。

关于Al-Mn-Mg类合金，本申请人提出的技术记载于特开昭62-86143号公报及特开平3-222796号公报上。另外，也记载于特公昭63-60824号、特开昭60-63346号、特开昭60-63347号、特开平1-293350号等各公报、欧洲专利第223,737号、美国专利第4,818,300号、英国专利第1,222,777号的各说明书上。

关于Al-Zr类合金，本申请人提出的技术记载于特公昭63-15978号公报及特开昭61-51395号公报上。另外，特开昭63-143234号、特开昭63-143235号等各公报上也有记载。

关于Al-Mg-Si类合金，英国专利第1,421,710号说明书上有记载。

为了将铝合金作为板材使用，可以采用下述的方法。首先，根据常用的方法，净化调节成所定的合金成分含有量的铝合金熔汤，并铸造。净化处理中为了除去熔汤中氢气等杂质气体，进行熔化处理；用氩气、氯气等的脱气处理；采用陶瓷管过滤器或陶瓷泡沫过滤器等所谓刚性介质过滤器、以氧化铝薄片或氧化铝球为过滤材料的过滤器、玻璃丝布过滤器等的过滤处理，或者是组合进行脱气处理和过滤处理。

为了防止由于熔汤中的非金属夹杂物、氧化物等异物引起的缺陷或由溶于熔汤里的气体所引起的缺陷，实施这些净化处理为宜。关于熔汤的过滤处理，在特开平6-57432号、特开平3-162530号、特开平5-140659号、特开平4-231425号、特开平4-276031号、特开平5-311261号、特开平6-136466号等公报上有记载。另外，关于熔汤的脱气处理，在特开平5-51659号公报、实开平5-49148号公报等有记载。本申请人也在特开平7-40017号公报中提出了有关熔汤脱气处理的技术。

接着，用经过上述净化处理的熔汤进行铸造。关于铸造方法，有以DC铸造法为代表的采用固体铸型的方法和以连续铸造法为代表的采用驱动铸型的方法。

在DC铸造中，在0.5-30℃/秒范围内的冷却速度进行凝固。如果低于0.5℃/秒，则会形成多个大块的金属互化物。在进行DC铸造时，可以制造出板厚300-800mm的铸块。按照常用法，根据需要切削该铸块，通常切削表层的1-30mm，优选切削1-10mm。在此前后，根据需要进行均热处理。在均热处理时，为了防止金属互化物的粗大化，在450-620℃进行1-48小时的热处理。如果热处理时间短于1小时，如均热化处理效果不够充分。

之后，经过热轧和冷轧，作成铝板轧制板。热轧的开始温度以350-500℃为宜。在热轧的前后或者在其过程中，也可以进行中间退火处理。中间退火处理的条件是用间歇式退火炉在280-600℃加热2-20小时，优选在350-500℃加热2-10小时，或者是用连续式退火炉在400-600℃加热6分钟以下，优选在450-550℃加热2分钟以下。也可以用连续退火炉以10-200℃/秒的升温速度加热，细化结晶组织。

根据以上的工艺，制造出的所定厚度如0.1-0.5mm的铝板也可以再用滚筒校平器或张力校平器等矫正装置改善其平面性。平面性的改善可以在把铝板切成板状之后进行，但为了提高生产率，也可以在连续的线圈状态下进行。另外，为了加工成所定的板宽，也可以使之通过纵剪切机线。此外，为了防止铝板之间由于摩擦而发生损伤，也可以在铝板表面设置薄的油膜。油膜中根据需要可以适用挥发性或不挥发性的物质。

另一方面，作为连续制造法，工业上采用的是以双辊法(Hunter法)、3C法为代表的冷却辊法，以双带法(Hazellet法)、Alysuisse caster-II型为代表的使用冷却带或冷却块的方法。在采用连续铸造法时，在100-1000℃/秒的冷却速度范围内进行凝固。通常连续铸造法的冷却速度快于DC铸造法，因此具有可以提高对铝基块的合金成分固溶度的特征。关于连续铸造法，本申请人提出的技术记载于特开平3-79798号、特开平5-201166号、特开平5-156414号、特开平6-262203号、特开平6-122949号、特开平6-210406号、特开平6-26308号等的各公报上。

在进行连续铸造时，如采用亨特法等使用冷却辊的方法，则可以直接地连续铸造出板厚为1-10mm的铸造板，因此具有可以省略热轧工艺的优点。如果采用是的Hazellet法等使用冷却带的方法，则可以铸造出板厚为10-50mm的铸造板，通常在铸造之后马上配置热轧辊连续地轧制，即可得到板厚为1-10mm的连续铸造轧制板。

这些连续铸造轧制板与关于DC铸造的说明相同，可以经过冷轧、中间退火、平面性的改善、纵切等工艺，制作成所定的板厚如0.1-0.5mm。关于采用连续铸造法时的中间退火条件及冷轧条件，本申请人提出的技术记载于特开平6-220593号、特开平6-210308号、特开平7-54111号、特开平8-92709号等各公报上。

通过这种方法制造的铝板可望得到下述的种种特性。

为了获得作为平版印刷版用载体所需要的刚柔性，铝板的强度最好是其0.2％耐力在140MPa以上。另外，为了在经过烧损处理之后也保持一定程度的刚柔性，最好在270℃加热处理3-10分钟之后的0.2％耐力在80MPa以上，更优选在100MPa以上。当特别要求铝板刚柔性时，可以采用添加有Mg或Mn的铝材，但如果增强刚柔性之后，向印刷机版身的装配的容易程度会下降，因此根据用途可以适当选择材质及微量成分的添加量。关于这一点，本申请人提出的技术记载于特开平7-126820号公报、特开昭62-140894号公报上。

由于在经过化学粗糙化处理或电化学粗糙化处理时，铝板表面的结晶组织会成为发生面质不良的原因，因此铝板的结晶组织在其表面以不太粗大为宜。铝板表面的结晶组织的宽度以200μm以下为宜，更优选100μm以下，特别优选50μm以下。另外，结晶组织的长度以5000μm以下为宜，更优选1000μm以下，特别优选500μm以下。关于这一点，本申请人提出的技术记载于特开平6-218495号、特开平7-39906号、特开平7-124609号等的公报上。

由于在经过化学粗糙化处理或电化学粗糙化处理时，铝板表面合金成分分布的不均匀会成为面质不良的原因，因此在表面铝板合金成分的分布以不过分不均匀为宜。关于这一点，本申请人提出的技术记载于特开平6-48058号、特开平5-301478号、特开平7-132689号等的公报上。

铝板的金属互化物的尺寸或密度有可能影响化学粗糙化处理或电化学粗糙化处理。关于这一点，本申请人提出的技术记载于特开平7-138687号、特开平4-254545号等的公报上。

本发明中，也可以在最后的轧制工艺中通过层压轧制、转录等在所述的铝板上形成凹凸结构使用。

用于本发明的铝板是连续的带状的片材或板材。即，可以是铝连接板，也可以是被裁剪成与以制品出厂的平版印刷版原版的大小相应的片状板。

铝板表面的伤口在加工成平版印刷板用载体时会成为缺陷，因此要尽可能避免在加工成平版印刷版用载体的表面处理工艺之前的过程中受伤。为此，运输时最好在不易受伤的稳定的状态下进行。

采用铝连接板时，作为铝板的运输状态，如在铁制的平板架板台上铺上硬纤维板和毡，在制品两端用段球环板挡住，并用多管包住全身，在线圈内径部插入木制环，用毡包住线圈的外周部后再用带铁系上，并在其外周部作标记。另外，作为包装材用的是聚乙烯薄膜，作为缓冲材用的是针状毡和硬纤维板。除此之外，也有很多形式，只要能以稳定的状态运输并不使之受伤，则不限于该方法。

用于本发明的铝板的厚度在0.1-0.6mm左右，优选0.15-0.4mm，更优选0.2-0.3mm。该厚度可以根据印刷机的大小、印刷版的大小、用户的要求进行适当变更。

[平版印刷版原版]

在本发明的平版印刷版用载体上可以设置下述的感光层、热敏层等图像记录层以用作本发明的平版印刷版原版。对图像记录层没有特殊的限定，较为理想的有常规阳型、常规阴型、光聚合物型、热敏阳型、热敏阴型、可机上显影的无处理型等。本发明的第三技术方案中的平版印刷版用载体，适合采用利用热形成图像的类型，如热敏阳型、热敏阴型、无处理型等。

下面，详细说明这些理想的图像记录层。

<常规阳型>

作为适用于常规阳型感光层的感光树脂组合物，可举如含有o-苯醌二迭氮化合物和不溶于水且溶于碱的高分子化合物(以下称为“碱溶性高分子化合物”)的组合物。

作为o-苯醌二迭氮化合物可列举由1，2-萘醌-2-二迭氮-5-磺酰氯化物和苯酚·甲醛树脂或甲酚·甲醛树脂生成的酯、美国专利第3,635,709号说明书上记载的由1，2-萘醌-2-二迭氮-5-磺酰氯化物和焦棓酚·丙酮树脂生成的酯。

作为碱溶性高分子化合物，可以列举如苯酚·甲醛树脂、甲酚·甲醛树脂、苯酚·甲酚·甲醛共缩聚树脂、聚羟基苯乙烯、N-(4-羟基苯基)甲基丙烯酰胺的共聚物、特开平7-36184号公报上记载的含羧基的聚合物、特开昭51-34711号公报上记载的含有苯酚性羟基的丙烯酸树脂、特开平2-866号上记载的含磺酰胺基的丙烯酸树脂、聚氨酯树脂等。

另外，感光性树脂组合物里最好添加特开平7-92660号公报的[0024]-[0027]中记载的感度调节剂、印像剂、染料等化合物或同公报的[0031]上记载的用于优化涂布性的表面活性剂。

<常规阴型>

作为适用于常规阴型感光层的感光树脂组合物，可举含有重氮树脂和碱溶性或膨胀性高分子(以下称为“结合剂”)的组合物。

作为重氮树脂，可列举如芳香族重氮鎓盐和甲醛等含活性羰基的化合物的缩聚物、p-重氮苯胺类和甲醛的缩聚物和六氟磷酸盐或四氟硼酸盐的反应产物即有机溶剂可溶性重氮树脂无机盐。特别优选特开昭59-78340号公报上记载的含20摩尔％以上六聚体的高分子量重氮化合物。

作为理想的结合剂，可列举如以丙烯酸、甲基丙烯酸、丁烯酸或马来酸为必要成分的共聚物，具体有特开昭50-118802号公报上记载的2-羟乙基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯腈、(甲基)丙烯酸等单体的多元共聚物；特开昭56-4144号公报上记载的由烷基丙烯酸酯、(甲基)丙烯腈、及不饱和羧酸形成的多元共聚物。

另外，感光性树脂组合物中，最好再添加特开平7-281425号公报的[0014]-[0015]中记载的印像剂、染料、可赋于涂膜的柔软性及耐摩耗性的增塑剂、显影促进剂等化合物或可优化涂布性的表面活性剂。

作为所述的常规阳型或常规阴型感光层的底涂层，最好设置特开2000-105462号公报上记载的含有包含带酸根的组成成分和带鎓基的组成成分的高分子化合物的中间层。

<光聚合物型>

适用于光聚合物型感光层的光聚合物型感光性组合物(以下称为“光聚合性组合物”)，包含作为必要成分的可加聚的含乙烯性不饱和键化合物(以下称为“含乙烯性不饱和键化合物”)和光聚合引发剂、高分子结合剂，根据需要还含有着色剂、增塑剂、热聚合阻聚剂等各种化合物。

包含于光聚合性组合物的含乙烯性不饱和键化合物，是当光聚合性组合物受到活性光线的照射时，受光聚合引发剂的作用进行加聚反应，并含有可交联固化的乙烯性不饱和键的化合物。乙烯性不饱和键的化合物可从含有至少1个，最好2个以上末端乙烯性不饱和键的化合物中任意挑选，如具有单体、预聚物(即，二聚物、三聚物及低聚物)、它们的混合物、它们的共聚物等化学形式。作为单体可以列举由不饱和羧酸(如丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、丁烯酸、异丁烯酸、马来酸)和脂肪族多元醇化合物生成的酯、由不饱和羧酸和脂肪族多元胺化合物生成的酰胺化合物。另外，也可适用氨基甲酸酯类加聚性化合物。

作为含于光聚合性组合物的光聚合引发剂，根据所用光源的波长，可以适当选择各种光聚合引发剂或含2种以上光聚合引发剂的并用体系(光引发体系)，优选如特开2001-22079号公报的[0021]-[0023]上记载的引发体系。

含于光聚合性组合物的高分子结合剂，由于不仅要用作光聚合性组合物的薄膜形成剂，还需要将感光层溶解于碱性显影液中，因此使用在碱性水里可溶或可膨胀的有机高分子聚合物。作为所述的高分子结合剂可使用同公报[0036]-[0063]中记载的物质。

光聚合性组合物中还可以含有同公报[0079]-[0088]中记载的添加剂(如用于优化涂布性的表面活性剂)。

另外，在所述的感光层上，为了防止氧的阻聚作用，设置遮氧保护层为宜。作为遮氧保护层中含有的聚合物，可列举聚乙烯醇及其共聚物。

另外，作为所述感光层的下层，可设置特开2001-228608号公报的[0131]-[0165]中记载的粘合层或底涂层。

<热敏阳型>

热敏阳型的热敏层中含有碱溶性高分子化合物和光热转换物质。

碱溶性高分子化合物包含高分子内含有酸性基团的均聚物、它们的共聚物及其混合物，从对碱显影液的溶解性来考虑，特别优选含(1)苯酚性羟基(-Ar-OH)、(2)磺酰胺基(-SO₂NH-R)等酸性基团的物质。尤其是从对红外线曝光的图像形成性良好的特点考虑，优选含苯酚性羟基的化合物。可列举如酚醛树脂、m-甲酚甲醛树脂、p-甲酚甲醛树脂、m-/p-混合甲酚甲醛树脂、苯酚/甲酚(m-、p-及m-/p-混合皆可)混合甲醛树脂等酚醛清漆树脂；焦棓酚丙酮树脂等。更具体说可采用特开2001-305722号公报的[0023]-[0042]上记载的高分子。

光热转换物质可以有效地将曝光能量转换为热量，并消除热敏层曝光部区域的相互作用力。从记录感度考虑，优选光吸收区在波长700-1200nm的红外区域的颜料或染料。作为染料，具体可列举偶氮染料、金属络盐偶氮染料、吡唑啉-5-酮偶氮染料、萘醌染料、蒽醌染料、酞菁染料、碳鎓染料、醌亚胺染料、甲川染料、菁染料、squarylium色素、吡喃鎓盐、金属硫羟酸酯络合物(如镍硫羟酸酯络合物)等。其中，优选菁染料，如特开2001-305722号公报中用通式(I)表示的菁染料。

用于热敏阳型热敏层的组合物中也可添加与所述的常规阳型中所描述的物质相同的感度调节剂、印像剂、染料等化合物或用于优化涂布性的表面活性剂。具体可优选特开2001-305722号公报的[0053]-[0059]上记载的化合物。

热敏阳型的热敏层可以是单层，也可以是特开平11-218914号公报上所记载的双层结构。

热敏阳型热敏层与载体之间可以设置底涂层。作为底涂层中含有的成分可举特开2001-305722号公报的[0068]上记载的各种有机化合物。

<热敏阴型>

热敏阴型热敏层是由红外激光照射部固化而形成图像的阴型热敏层。

作为这种热敏阴型热敏层的一种，理想的是聚合型的层(聚合层)。聚合层包含(A)红外线吸收剂、(B)自由基发生剂(自由基聚合引发剂)、由所产生的自由基被引发聚合反应并固化的(C)自由基聚合化合物及(D)胶粘剂聚合物。

在聚合层中，将红外线吸收剂所吸收的红外线转换为热量，而利用此时产生的热量，鎓盐等自由基聚合引发剂发生分解，产生自由基。自由基聚合化合物选自含末端乙烯性不饱和键的化合物，根据所产生的自由基发生连锁聚合反应，并固化。

作为(A)红外线吸收剂，可列举如所述热敏阳型的热敏层中所含的所述光热转换物质，特别是作为菁色素的具体例可举出特开2001-133969号公报的[0017]-[0019]中记载的化合物，作为(B)自由基发生剂可举出鎓盐，理想的鎓盐的具体例是特开2001-133969号公报的[0030]-[0033]中记载的化合物，而(C)自由基聚合化合物选自含1个或2个以上末端乙烯性不饱和键的化合物。作为(D)胶粘剂聚合物，可优选线型有机聚合物，选自对水或弱碱性水具有可溶性或膨胀性的线型有机聚合物。其中平衡考虑膜强度、感度及显影性，特别优选侧链带苄基或丙烯基和羧基的(甲基)丙烯酸树脂。关于(C)自由基聚合化合物和(D)胶粘剂聚合物，可使用同公报的[0036]-[0060]中详细记载的物质。作为其它的添加剂，可以加入同公报的[0061]-[0068]中记载的添加剂(如用于优化涂布性的表面活性剂)。

另外，除了聚合型之外，作为热敏阴型热敏层的一种，理想的是酸交联型层(酸交联层)。酸交联层包含(E)受光或热后产生酸的化合物(以下称为“酸发生剂”)、和(F)用所产生的酸发生交联的化合物(以下称为“交联剂”)、在酸的存在下与交联剂发生反应的(G)碱溶性高分子化合物。为了有效利用红外激光的能量，酸交联层中还配合有(A)红外线吸收剂。作为(E)酸发生剂，可列举光聚合的光引发剂、色素等光变色剂、用于microresist等的酸发生剂等受热后分解产生酸的化合物。作为(F)交联剂，可列举(i)被羟甲基或烷氧基甲基取代的芳香族化合物、(ii)含N-羟甲基、N-烷氧基甲基或N-酰氧基甲基的化合物、(iii)环氧化合物。作为(G)碱溶性高分子化合物，可举出酚醛清漆树脂、侧链带羟基芳基的聚合物。

<无处理型>

无处理型的热敏层有热塑性微粒聚合物型、微胶囊型、磺酸产生聚合物含有型等，本发明特别适于可在印刷机上显影的无处理型。

热塑性微粒聚合物型由(H)疏水性热熔融性树脂微粒分散于(J)亲水性高分子粘结剂中，并受曝光部的热量发生熔融，互相熔合后聚合物形成疏水性区域，即图像部。

(H)疏水性热熔融性树脂微粒(以下称“微粒聚合物”)最好是微粒聚合物之间可用热量熔融为一体的树脂，优选表面为亲水性并可以分散于润版药水等亲水性成分的微粒聚合物。作为微粒聚合物，优选列举ReseachDisclosure No.33303(1992年1月)、特开平9-123387号、同9-131850号、同9-171249号、同9-171250号的各公报、欧洲专利申请公开第931,647号说明书等记载的热塑性微粒聚合物。具体例为乙烯、苯乙烯、氯乙烯、丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、偏氯乙烯、丙烯腈、乙烯基咔唑等单体的均聚物、或共聚物或其混合物。其中，优选聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯。具有亲水性表面的微粒聚合物包括构成微粒的聚合物本身具有亲水性的物质；聚合物的主链或侧链上导入亲水基以赋予亲水性的聚合物自身具有亲水性的物质；将聚乙烯醇、聚乙二醇等亲水性聚合物、亲水性低聚物或亲水性低分子化合物吸附在微粒聚合物表面使表面亲水化的物质。作为微粒聚合物，更优选具有热反应性官能团的微粒聚合物。通过把上述的微粒聚合物分散于(J)亲水性高分子粘结剂中，在机上显影时可优化机上显影性，进而提高热敏层自身的薄膜强度。

作为微胶囊型，优选列举特开2000-118160号公报上记载的类型或特开2001-277740号公报上记载的内含具有热反应性官能团的化合物的微胶囊型。

用于磺酸发生聚合物含有型的磺酸发生聚合物，可列举如特开平10-282672号公报上记载的侧链上带有磺酸酯基、二磺基、仲-或叔-磺酰胺基的聚合物。

通过使无处理热敏层含有亲水性树脂，不仅可使机上显影性优良，也可以提高热敏层自身的薄膜强度。另外，通过交联固化亲水性树脂，可以得到无须显影处理的平版印刷版原版。作为亲水性树脂，可优选如含羟基、羧基、羟乙基、羟丙基、氨基、胺乙基、胺丙基、羧甲基等亲水基的物质、亲水性的溶胶-凝胶转换类粘合树脂。

作为亲水性树脂的具体例，可举出当作所述的(J)亲水性高分子粘结剂的亲水性树脂列举的物质。

其中，优选溶胶-凝胶转换类粘合树脂。

无处理型的感光层里需要添加光热转换物质。光热转换物质是只要可以吸收波长在700nm以上的光即可，特别优选与用于所述的热敏阳型的染料相同的染料。

<后涂层>

由此，在本发明的平版印刷版用载体上设置各种图像记录层后所得到的本发明的平版印刷版原版的里侧，根据需要，为了防止叠置等时图像记录层的受伤，也可以设置由有机高分子化合物的组成的后涂层。

<平版印刷版原版的制造方法>

图像记录层的各层通常是通过将把所述各成分溶解于溶剂中所得的涂布液涂布于平版印刷版用载体上完成制造。

作为在此使用的溶剂，可列举二氯化乙烯、环己酮、丁酮、甲醇、乙醇、丙醇、乙二醇一甲醚、1-甲氧基-2-丙醇、2-甲氧基乙酸乙酯、1-甲氧基-2-乙酸丙酯、二甲氧基乙烷、乳酸甲酯、乳酸乙酯、N，N-二甲基乙酰胺、N，N-二甲基甲酰胺、四甲基脲、N-甲基吡咯烷酮、二甲基亚砜、环丁砜、r-丁内酯、甲苯、水等，但是本发明并不限于这些。这些溶剂可以单独或混合使用。

溶剂中所述成分(全体固体成分)的浓度以1-50重量％为宜。

作为涂布的方法，可以采用各种方法，如棒材涂布机涂布、旋转涂布、喷涂、帘式涂布、浸涂、气动刮涂机涂布、刮涂、滚筒涂布等。

<平版印刷版的制造方法>

本发明的平版印刷版原版通过采用与图像记录层相应的各种处理方法，被制成平版印刷版。

通常进行图像曝光。作为用于图像曝光的活性光线的光源，可列举如汞灯、金属卤化物灯、氙灯、化学药品灯。作为激光束，可列举氦·氖激光(He-Ne激光)、氩激光、氪激光、氦·镉激光、KrF激态原子(excimer)激光、半导体激光、YAG激光、YAG-SHG激光等。

所述曝光之后，当图像记录层为感热型、常规型及光聚合物型的任何一种时，在曝光之后用显影液显影得到平版印刷版为宜。适用于本发明平版印刷版原版的显影液只要是碱显影液就没有其它特殊的限定，但优选实质上不含有有机溶剂的碱性水溶液。另外，也可以采用实质上不含有碱金属硅酸盐的显影液显影。关于采用实质上不含有碱金属硅酸盐的显影液显影的方法，详细记载于特开平11-109637号公报上，可以利用该公报上所记载的内容。另外，也可以用含有碱金属硅酸盐的显影液显影本发明的平版印刷版原版。

其中，当图像记录层为热敏阳型、常规阳型及光聚合物型的任何一种时，较为理想的实施例之一可以举出在曝光本发明的平版印刷版原版之后，用实质上不含有碱金属硅酸盐的显影液显影得到平版印刷版的采用本发明平版印刷版的制造方法(处理方法)的方案。下面说明本发明的平版印刷版的制造方法。

本发明的平版印刷版的制造方法的特征在于用实质上不含有碱金属硅酸盐的显影液显影本发明的平版印刷版原版。

本发明的平版印刷版原版即使其平版印刷版用载体没有进行碱金属硅酸盐处理，在曝光之后用实质上不含有碱金属硅酸盐的显影液显影时，也可以得到耐放置污染性良好的平版印刷版。当然用碱金属硅酸盐处理平版印刷版用载体也可以。

另外，根据本发明的平版印刷版的制造方法，所用的显影液实质上不含有碱金属硅酸盐，因此不存在显影时的非图像部的白色化或由显影时产生的渣或污泥所引发的问题。

还有，关于用实质上不含有碱金属硅酸盐的显影液显影的方法，详细记载于特开平11-109637号公报上，在本发明中，可以利用该公报上所记载的内容。

适用于本发明的平版印刷版的制造方法的显影液只要是实质上不含有碱金属硅酸盐的显影液就没有其它特殊的限定，但优选实质上不含有有机溶剂的碱性水溶液。但是，根据需要也可以含有有机溶剂。

此外，该显影液含有糖类为宜。如可举出作为主成分含有选自非还原糖的至少一种化合物和至少一种碱，并且pH为9.0-13.5的显影液。

另外，为了促进显影性，提高显影渣的分散及平版印刷版的图像部的亲油墨性，根据需要显影液中可以含有各种表面活性剂。本发明中可以采用阳离子性表面活性剂、阴离子性表面活性剂、非离子性表面活性剂及两性表面活性剂。显影液中还可以含有各种显影稳定剂。另外，为了防止平版印刷版被污染，显影液中还可以含有还原剂。在显影具有含感光性重氮鎓盐化合物的阴型感光层的平版印刷版原版时特别有效。此外，显影液还可以含有有机羧酸。

[实施例]

下面根据实施例详细说明本发明，但是本发明并不限于这些。

<本发明第一技术方案的实施例>

1-1.平版印刷版用载体的制作

(实施例1-1)

<铝板>

用含0.06重量％Si、0.30重量％Fe、0.005重量％Cu、0.001重量％Mn、0.001重量％Mg、0.001重量％Zn、0.03重量％Ti，剩下的是Al的不可排除杂质的铝合金调制熔汤，在进行熔汤处理及过滤之后，采用DC制造法制成500mm厚度、1200mm宽度的铸块。用面削机从表面切除平均10mm厚度之后，在550℃均热保持约5小时，温度下降至400℃时用热轧机制成2.7mm厚度的轧制板。再用连续退火炉在500℃进行热处理之后，通过冷轧将厚度加工为0.24mm，即可得到JIS 1050材的铝板。使该铝板的宽度达1030mm之后，进行下述的表面处理。

<表面处理>

表面处理是连续进行下述的(b)-(j)的各种处理。另外，各处理及水洗之后用nip滚筒进行液切(liquid squeezing)。

(b)碱蚀刻处理

用苛性钠浓度为2.6重量％、铝离子浓度为6.5重量％、温度为70℃的水溶液对由上得到的铝板进行喷雾蚀刻处理，溶解成6g/m²的铝板。之后进行喷雾水洗。

(c)去污处理

用30℃、1重量％硝酸浓度的水溶液(含0.5重量％的铝离子)，进行喷雾去污处理，之后再进行喷雾水洗。用于去污处理的硝酸水溶液采用的是在硝酸水溶液中用交流进行电化学粗糙化处理工艺的废除液。

(d)电化学粗糙化处理

用60Hz的交流电压进行连续的电化学粗糙化处理。此时的电解液是硝酸10.5g/L水溶液(含有5g/L铝离子，0.007重量％氨离子)，液体温度为50℃。交流电压的波形是图2所示的波形，用电流值从零到峰值所需的时间TP为0.8msec、duty比为1∶1的梯形的矩形交流波，以碳电极为对电极进行电化学粗糙化处理。补助阳极用的是铁素体。所用的电解槽是图3所示的槽。

电流峰值的电流密度为30A/dm²，铝板为阳极时的电量总和为220C/dm²。分流到补助阳极的是从电源流出的电流的5％。

之后，进行喷雾水洗。

<e>碱蚀刻处理

在32℃用苛性钠浓度为26重量％、铝离子浓度为6.5重量％的水溶液对铝板进行喷雾蚀刻处理，将铝板溶解成0.25g/m²，并除去前段用交流进行电化学粗糙化处理时产生的以氢氧化铝为主成分的污点成分，并溶解生成的坑的边缘部分，使边缘部分变得平滑。之后进行喷雾水洗。

<f>去污处理

用30℃的硫酸浓度为15重量％的水溶液(含4.5重量％的铝离子)，进行喷雾去污处理，之后进行喷雾水洗。用于去污处理的硝酸水溶液是采用在硝酸溶液中用交流进行电化学粗糙化处理的工艺的废液。

<g>电化学粗糙化处理

利用60Hz的交流电压进行连续的电化学粗糙化处理。此时的电解液是盐酸的7.5g/L水溶液(含有5g/L铝离子)，温度为35℃。交流电源的波形如图2所示，采用电流值从零到峰值所需的时间TP为0.8msec，duty比为1∶1的梯形的矩形交流波，并以碳电极为对电极进行电化学粗糙化处理。补助阳极用的是铁素体。所用的电解槽是图3所示的槽。

电流峰值的电流密度为25A/dm²，铝板为阳极时的电量总和为50C/dm²。

之后，进行喷雾水洗。

<h>碱蚀刻处理

在32℃用苛性钠浓度为26重量％、铝离子浓度为6.5重量％的水溶液对铝板进行喷雾蚀刻处理，将铝板溶解成0.1g/m²，并除去前段用交流进行电化学粗糙化处理时产生的以氢氧化铝为主成分的污点成分，并溶解生成的坑的边缘部分，使边缘部分变得平滑。之后进行喷雾水洗。

<i>去污处理

用60℃的硫酸浓度为25重量％的水溶液(含0.5重量％的铝离子)，进行喷雾去污处理，之后进行喷雾水洗。

<j>阳极氧化处理

用图4所示结构的阳极氧化装置进行阳极氧化处理，得到实施例1-1的平版印刷版用载体。作为供于第一及第二电解部的电解液，用的是硫酸。电解液都是170g/L的硫酸浓度(含0.5重量％的铝离子)、38℃的温度。之后进行喷雾水洗。最终的氧化薄膜量为2.7g/m²。

(实施例1-2及1-3)

除了在所述的(h)中，将铝板的溶解量分别改为0.2g/m²和0.5g/m²之外，采用与实施例1-1相同的方法，制得实施例1-2及实施例1-3的平版印刷版用载体。

(实施例1-4)

除了在所述的(g)中，将交流电压的频率改为30Hz，并且不进行所述(h)之外，采用与实施例1-1相同的方法制得实施例1-4的平版印刷版用载体。

(实施例1-5及1-6)

除了在所述的(g)中，分别将交流电压的频率改为300Hz及500Hz之外，采用与实施例1-1相同的方法，制得实施例1-5及实施例1-6的平版印刷版用载体。

(实施例1-7)

除了在所述的(d)中，将电流峰值的电流密度改为15A/dm²之外，采用与实施例1-1相同的方法，制得实施例1-7的平版印刷版用载体。

(实施例1-8)

除了在所述的(d)中，将电解液的液温改为70℃以外，采用与实施例1-1相同的方法，制得实施例1-8的平版印刷版用载体。

(实施例1-9---1-13)

除了在所述的(b)之前，进行下述的(a)之外，采用与实施例1-1、1-4、1-5、1-7及1-8相同的方法，制得实施例1-9--1-13的平版印刷版用载体。

(a)机械粗糙化处理

采用图1所示的装置，一边把研磨剂(浮石)和水的悬浮液(比重为1.12)作为研磨浆料液供给于铝板的表面上，一边由旋转的滚筒状尼龙刷进行机械粗糙化处理。在图1中，1为铝板，2和4为滚筒状刷，3是研磨浆料液，5、6、7及8是支持滚筒。研磨剂的平均粒径为40μm，最大粒径为100μm。尼龙刷的材质是6 10尼龙，毛长为50mm，毛的直径是0.3mm。尼龙刷密密地植毛于Φ300mm的不锈钢制的筒上，并空出孔。使用的旋转刷有3条。刷下部的两条支持滚筒(Φ200mm)之间的距离是300mm。旋转滚筒状刷的驱动马达的负荷，将滚筒状刷压至使加在抵于铝板的前端的负荷的压力达到7kW。刷的旋转方向同铝板的移动方向。刷的转数为200rpm。

(实施例1-14)

除了在所述的(a)中，用硅砂作研磨剂以外，用与实施例1-9相同的方法，制得实施例1-14的平版印刷版用载体。

(实施例1-15)

除了在所述的(a)中，将刷的转数改为100rpm以外，用与实施例1-14相同的方法，制得实施例1-15的平版印刷版用载体。

(实施例1-16)

除了在所述(b)之前，进行下述的(z)以外，用与实施例1-1相同的方法，制得实施例1-16的平版印刷版用载体。

(z)珩磨处理

将悬浮有粒径为100μm的铁球的水加压喷射在铝板表面上，形成凹凸结构。

(实施例1-17)

除了用国际注册合金3103材代替JIS1050材使用以外，用与实施例1-9相同的方法，制得实施例1-17的平版印刷版用载体。

(比较例1-1)

除了在所述(g)中，将交流电压的频率改为10Hz以外，用与实施例1-1相同的方法，制得比较例1-1的平版印刷版用载体。

(比较例1-2)

除了在所述(g)中，将交流电压的频率改为10Hz，且在所述(h)中，将铝板的溶解量改为1.0g/m²以外，用与实施例1-1相同的方法，制得比较例1-2的平版印刷版用载体。

(比较例1-3)

除了在所述(d)中，将交流电压的频率改为15Hz以外，用与实施例1-1相同的方法，制得比较例1-3的平版印刷版用载体。

(比较例1-4)

除了在所述(d)中，将电解液的液温改为80℃且TP改为0msec之外，用与实施例1-1相同的方法，制得比较例1-4的平版印刷版用载体。

(比较例1-5)

除了在所述(g)中，将交流电压的频率改为10Hz，且在所述(h)中，将铝板的溶解量改为1.0g/m²以外，用与实施例1-8相同的方法，制得比较例1-5的平版印刷版用载体。

(比较例1-6)

除了未进行所述(g)、(h)及(i)之外，用与实施例1-9相同的方法，制得比较例1-6的平版印刷版用载体。

(比较例1-7)

除了未进行所述(g)、(h)及(i)之外，用与实施例1-1相同的方法，制得比较例1-7的平版印刷版用载体。

(比较例1-8)

除了未进行所述(d)、(e)及(f)，且在所述(g)中将铝板为阳极时的电量总和改为500C/dm²之外，用与实施例1-1相同的方法，制得比较例1-8的平版印刷版用载体。

(比较例1-9-及1-10)

除了在所述(h)中，将铝板的溶解量分别改为0.2g/m²和0.5g/m²以外，用与比较例1-8相同的方法，制得比较例1-9及1-10的平版印刷版用载体。

(比较例1-11)

除了未进行所述的(d)、(e)、(f)、(g)、(h)及(i)之外，用与实施例1-9相同的方法，制得比较例1-11的平版印刷版用载体。

(比较例1-12)

除了未进行所述的(d)、(e)及(f)之外，用与实施例1-1相同的方法，制得比较例1-12的平版印刷版用载体。

(比较例1-13)

除了未进行所述的(d)、(e)及(f)之外，用与实施例1-9相同的方法，制得比较例1-13的平版印刷版用载体。

(比较例1-14)

除了在所述(g)中，作为电解液使用盐酸和乙酸的混合液(盐酸浓度为7.5g/L，乙酸浓度为15g/L)以外，用与比较例1-9相同的方法，制得比较例1-14的平版印刷版用载体。

1-2.平版印刷版用载体表面形状的测定

对于由上得到的平版印刷版用载体的表面的凹部，进行了下述(1)-(4)的测定。

结果示于表1。表1中“-”表示没有对应波长的凹部。

(1)中波结构的平均孔径

用SEM从正上方以2000倍的倍率拍摄载体的表面，在所得的SEM照片中挑选50个坑周围以环状相连的中波结构的坑(中波坑)，读取其直径作为孔径，并算出平均孔径。

(2)小波结构的平均孔径

用高分辨率SEM以50000倍的倍率从正上方拍摄载体的表面，在所得的SEM照片中挑选50个小波结构的坑(小波坑)，读取其直径作为孔径，并算出平均孔径。

(3)小波结构的孔径与深度之比的平均值

用高分辨率SEM以50000倍的倍率拍摄载体的断裂面，并在所得SEM照片中挑选20个孔径在0.3μm以下的小波坑，读取孔径和深度再求出比值并算出平均值，即可得到小波结构的孔径与深度之比的平均值。

(4)大波结构的平均波长

用触针式刮板细度计(sufcom575，东京精密社制)进行二维粗糙度的测定，测定5次ISO4287中规定的平均山间隔S_m，将其平均值作为平均波长。按以下条件进行二维粗糙度的测定。

cut off0.8μm、斜率补正FLAT-ML、测定长3mm、纵倍率10000倍、扫描速度0.3mm/sec、触针前端直径2μm

1-3.平版印刷版原版的制作

用表1中所示的组合，在所得的平版印刷版用载体上设置下述的3种图像记录层中的任何一种，即可得到平版印刷版原版。

(1)常规阳型的图像记录层

于所得的平版印刷版用载体上，涂布下述组成的底涂层，在80℃干燥30秒钟形成底涂层的涂膜。干燥后涂膜的被覆量为10mg/m²。

<底涂液组成>

二羟基乙基甘氨酸    0.05重量份

甲醇                94.95重量份

水                  5.00重量份

在底涂层的上层涂布下述组成的感光性树脂溶液，在100℃干燥2分钟，形成感光层(常规阳型的图像记录层)，得到平版印刷版原版。干燥后的被覆量为2.5g/m²。

<感光性树脂溶液组成>

萘醌-1，2-二迭氮-5-磺酰氯化物和焦棓酚-丙酮树脂的酯化合物0.73g

甲酚-酚醛清漆树脂   2.00g

染料(oil blue # ORIENT化学工业社制)  0.04g

二氯化乙烯   16g

2-甲氧基乙酸乙酯  12g

(2)热敏阳型的图像记录层

将所得的平版印刷版用载体于30℃1重量％的3号硅酸钠水溶液处理槽中浸渍10秒钟，进行碱金属硅酸盐处理(硅酸盐处理)。之后用井水进行喷雾水洗。

所得的经碱金属硅酸盐处理的平版印刷版用载体上涂布下述组成的底涂液，在80℃干燥15秒钟，形成涂膜。干燥后涂膜的被覆量为10mg/m²。

<底涂液的组成>

下述高分子化合物  0.2g

甲醇  100g

水    1g

分子量2.8万

进而，再调制下述组成的热敏层涂布液，于经底涂的平版印刷版用载体上涂布该热敏层涂布液，使干燥后的涂布量(热敏层涂布量)达1.7g/m²，使之干燥形成热敏层(热敏阳型的图像记录层)，得到平版印刷版原版。

<热敏层涂布液的组成>

酚醛清漆型树脂(m-甲酚/p-甲酚＝60/40，重均分子量为7000，含0.5重量％未反应的甲酚)  1.0g

以下式结构式表示的菁染料A  0.1g

四氢邻苯二酸酐  0.05g

p-甲苯磺酸  0.002g

以6-羟基-β-萘磺酸为乙基紫的平衡离子的物质  0.02g

氟类表面活性剂(Megaface F-177，大日本油墨化学工业社制)  0.05g

丁酮  12g

菁染料A

(3)光聚合物型的图像记录层

于所得的平版印刷版用载体上，涂布将由下式U-1表示的聚合物(数均分子量为1万)溶解于水/甲醇＝5/95(重量比)的混合溶液里形成的溶液，在80℃干燥30秒钟，形成底涂层(粘合层)(溶胶-凝胶底涂)。干燥后底涂层的被覆量为10mg/m²。

U-1

再调制下述组成的高感度光聚合性组合物P-1，在经底涂的平版印刷版用载体上涂布该高感度光聚合性组合物，直至干燥后的涂布量(感光层涂布量)达1.5g/m²，然后在100℃干燥1分钟，形成感光层。

<光聚合性组合物P-1>

.由下式A1表示的含乙烯性不饱和键化合物    1.5重量份

.由下式B1表示的线型有机高分子聚合物(高分子结合剂)

                                         2.0重量份

.由下式C1表示的增感剂                    0.15重量份

.由下式D1表示的光聚合引发剂              0.2重量份

.由下式F1表示的ε-酞菁的分散物           0.02重量份

.氟类非离子性表面活性剂(MEGAFAC F177，大日本油墨化学工业社制)        0.03重量份

.丁酮      9.0重量份

.丙二醇一甲醚乙酸酯    7.5重量份

              .甲苯                                                           11.0重量份

分子量Mw＝6万

在该感光层上涂布3重量％聚乙烯醇(皂化度为98摩尔％，聚合度500)水溶液，直至干燥后的涂布量达2.5g/m²，然后在120℃干燥3分钟，形成感光层(光聚合物阴型的图像记录层)，得到平版印刷原版。

1-4.曝光及显影处理

按照图像记录层种类，用下述方法对由上得到的平版印刷版原版进行图像曝光及显影处理，得到平版印刷版。

(1)常规阳型的图像记录层时

在真空晒版架中，透过透明阳膜从1m以外用3kW的金属卤化物灯将平版印刷版原版曝光50秒钟。

之后，用含4重量％氧化硅SiO₂和氧化钾K₂O的混合比为SiO₂/K₂O为1.1的硅酸钾和0.015重量％OLFINE AK-02(日信化学工业社制)的水溶液1L里添加下述的化合物a使其浓度达1.0g/L而形成的碱性显影液(显影液1)进行显影。显影处理时用装满所述显影液1的自动显影机PS900NP(富士胶卷株式会社制)，在25℃显影温度下显影12秒。结束显影处理之后，经过水洗工艺，再用树胶(GU-7(1∶1))等处理，得到完成制版的平版印刷版。另外，在采用以相同添加量的下述化合物b或c代替化合物a而形成的碱性显影液时，也同样可以进行显影处理(以下各实施例中也相同)。

<化合物a-c>

化合物a：C₁₂H₂₅N(CH₂CH₂COONa)₂

化合物b：C₁₂H₂₅O(CH₂CH₂O)₇H

化合物c：(C₆H₁₃)₂CHO(CH₂CH₂O)₂₀H

(2)热敏阳型的图像记录层时

用装备有输出功率500mW、波长830nm、束径17μm(1/e²)半导体激光的CREO社制的TtenndSetter3244，以5m/秒的扫描速度，将图像曝光至版面能量达140mJ/cm²。

之后，用含有5.0重量％组合非还原糖和碱的由D-山梨糖醇/氧化钾K₂O构成的钾盐及0.015重量％OLFINE AK-02(日信化学工业社制)的水溶液1L里添加化合物a而形成的碱显影液(显影液2)进行显影。显影处理时用装满所述的显影液2的自动显影机PS900NP(富士胶卷株式会社制)，在25℃显影温度下显影12秒。结束显影处理之后，经过水洗工艺，再用树胶(GU-7(1∶1))等处理，得到了完成制版的平版印刷版。

(3)光聚合物型图像记录层时

以4000dpi在175条/英寸的条件下，用FD YAG激光(platejet4、CSI社制)以100μJ/cm²的曝光量扫描曝光全图像和1-99％的网点图像(1％刻度)。曝光之后，在版面到达温度为100℃的条件下进行了预热。

之后，用装有下述组成的显影液3(pH11.5(25℃)、导电率5mS/cm)及树胶制品液FP-2W(富士胶卷株式会社制)的自动显影机(LP-850P2，富士胶卷株式会社制)进行了标准处理。显影液的温度为30℃，在显影液里的浸渍时间约为15秒。

<显影液3组成>

氢氧化钾  0.15g

聚环氧乙烷苯醚(聚环氧乙烷链的重复单元数n＝13)  5.0g

螯合剂(Chelest 400，Chelest社制)  0.1g

水                    94.75g

1.5平版印刷版的评价

用下述方法评价所得平版印刷版的抗污性、耐放置污染性、耐刷性及上水的辨别难度。

(1)抗污性

采用三菱dia型F2印刷机(三菱重工业社制)，用DIC-GEOS(s)红油墨进行印刷，目测印刷1万张之后的橡皮布的污垢并进行评价。

结果示于表1。根据橡皮布被污染程度分10个级别进行评价。数字越大抗污性越好。

(2)耐放置污染性

在所述的抗污性评价中，印刷1万张之后将版放置1小时，之后再开始印刷，目测非图像部分的橡皮布的污垢并进行评价。

结果示于表1中。从橡皮布的被污染程度少的情况开始，分别用◎、○、△、×四个级别进行评价。

(3)耐刷性

采用小森公司制的Lithrone印刷机，用大日本油墨化学工业社制的DIC-GEOS(N)黑色油墨进行印刷，目测全部图像的浓度开始变浅的时刻，并根据此时的印刷张数来评价耐刷性。

结果示于表1。

(4)检版性

将所得的平版印刷版安装于小森公司制的Lithrone印刷机上，一边增加润版药水的供给量一边肉眼观察版面非图像部的亮度情况，以刚开始发亮时的润版药水的供给量来评价检版性(上水的辨别难度)。

结果示于表1中。根据开始发亮时的润版药水由多至少按顺序依次用○、△、×三个级别进行评价。

由表1可见，采用表面具有重叠特定孔径的中波结构和特定孔径的小波结构形成的砂目形状结构的第一技术方案的平版印刷版用载体(实施例1-1-1-17)的本发明平版印刷原版，在用作平版印刷版时具有良好的抗污性和耐刷性。特别是相对于小波坑的孔径具有足够深的深度时(实施例1-1、1-2及1-4-1-17)，抗污性良好。

另外，于所述砂目形状结构上再重叠特定波长的大波结构时(实施例1-9-1-15及1-17)，具有良好的检版性及耐放置污染性。

相比而言，如果小波坑的平均孔径过大(比较例1-1、1-2及1-5)，会影响抗污性。另外，如果中波坑的平均孔径过大(比较例1-4)，抗污性和耐刷性都较差。还有，如果小波坑和中波坑的平均孔径都过大(比较例1-14)，则耐刷性较差。如果没有小波结构(比较例1-6、1-7及1-11)，则抗污性较差，如果没有中波结构(比较例1-8---1-13)，则耐刷性较差。

表1(1)

	图像记录层				常规阳型				热敏阳型		光聚合物型
													载体表面处理				无				硅酸盐处理		无
	载体表面形状				抗污性	耐放置污染性	耐刷性(万张)	检版性	抗污性	耐刷性(万张)	抗污性	耐刷性(万张)
													大波	中波	小波
	平均波长(μm)	平均孔径(μm)	平均孔径(μm)	深度/孔径的平均值
													实施例1-1	-	1.4	0.14	0.46	10	○	11.0	△	10	8.0	10	20.0
实施例1-2	-	1.4	0.16	0.22	8	○	11.0	△
													实施例1-3	-	1.4	0.15	0.16	8	○	12.0	△
实施例1-4	-	1.4	0.18	0.22	8	○	10.0	△	8	8.0
													实施例1-5	-	1.4	0.07	0.22	7	○	11.0	△
实施例1-6	-	1.4	0.03	0.30	8	○	10.0	△
													比较例1-1	-	1.4	0.25	0.20	6	○	11.0	△	6	9.0
比较例1-2	-	1.4	0.25	0.12	5	○	11.0	△
													实施例1-7	-	3.5	0.14	0.46	8	○	9.0	△
实施例1-8	-	1.0	0.14	0.46	8	○	10.0	△	8	8.0
													比较例1-3	-	5.6	0.14	0.46	4	○	9.0	△
比较例1-4	-	0.4	0.14	0.46	6	○	10.0	△	6	3.0
													实施例1-9	65	1.4	0.14	0.46	10	◎	10.0	○	10	10.0	10	18.0
实施例1-10	65	1.4	0.18	0.22	8	○	10.0	○	8	9.0
													实施例1-11	65	1.4	0.07	0.22	7	○	10.0	○

表1(2)

	图像记录层				常规阳型				热敏阳型		光聚合物型
													载体表面处理				无				硅酸盐处理		无
	载体表面形状				抗污性	耐放置污染性	耐刷性(万张)	检版性	抗污性	耐刷性(万张)	抗污性	耐刷性(万张)
													大波	中波	小波
	平均波长(μm)	平均孔径(μm)	平均孔径(μm)	深度/孔径的平均值
													比较例1-5	65	1.4	0.25	0.12	5	○	8.0	○
实施例1-12	65	3.5	0.14	0.46	8	○	10.0	○	8	9.0
													实施例1-13	65	1.0	0.14	0.46	8	○	9.0	○
实施例1-14	37	3.5	0.14	0.46	8	◎	11.0	○
													实施例1-15	14	1.4	0.14	0.46	7	◎	10.0	○	7	9.0
实施例1-16	120	3.5	0.14	0.46	8	◎	9.0	△
													实施例1-17	79	3.5	0.14	0.46	10	◎	13.0	○
比较例1-6	70	1.6	-	-	6	○	8.0	○	6	6.0	6	10.0
													比较例1-7	-	1.4	-	-	2	○	10.0	△	2	8.0	2	16.0
比较例1-8	51	-	0.25	0.46	8	○	6.0	○	8	4.0	8	14.0
													比较例1-9	51	-	0.25	0.22	9	○	4.0	○
比较例1-10	51	-	0.25	0.14	9	○	3.0	○
													比较例1-11	60	-	-	-	2	○	8.0	○	2	6.0	2	8.0
比较例1-12	-	-	0.14	0.46	10	△	0.5	×	10	0.5	10	0.5
													比较例1-13	65	-	0.14	0.46	6	×	7.0	○	6	5.0	6	12.0
比较例1-14		5.8	0.25	0.26	9	○	5.0	○

<有关本在发明第二技术方案的实施例>

2-1.平版印刷版用载体的制作

(实施例2-1)

除了在上述的(e)中，将铝板溶解量改为1.0g/m²以外，用与实施例1-9相同的方法，制得实施例2-1的平版印刷版用载体。

(实施例2-2-2-6及比较例2-1-2-11)

除了如表2所示变更各个处理的条件以外，用与实施例2-1相同的方法，制得实施例2-2-2-6及比较例2-1-2-11的平版印刷版用载体。表2中的“-”表示没有进行处理。用于比较例2-6的(d)电解粗糙化处理的电解液中盐酸浓度为1重量％，乙酸浓度为1重量％。实施例2-4及2-5以及比较例2-3中使用的电解液中铝离子浓度都是5g/L。

2.平版印刷版用载体表面形状的要素的计算

关于由上得到的平版印刷版用载体的表面，用下述的方法求出R_a、ΔS、a30及a60。

结果示于表2。

(1)用原子间作用力显微镜的表面形状的测定

用原子间作用力显微镜(SP13700，SEIKO电子工业社制)测定表面形状，求出三维数据。下面说明步骤。

将平版印刷版用载体切成边长1cm的正方形，放置于压电扫描装置的水平试样台上，并使悬梁臂靠近试样表面到达原子间作用力的作用范围内后，沿XY方向进行扫描，此时，在Z方向改变压力的位置采集试样的凹凸状态数据。压电扫描装置选用在XY方向可扫描150μm，在Z方向可扫描10μm的仪器。悬梁臂采用共振频率为120-150kHz、弹簧常数为12-20N/m的仪器(SI-DF20，NANOPROBE社制)，并用DFM模型(DynamicForce Mode)测定。另外，对所求出的三维数据进行最小二乘法近似处理，修正试样的较小的倾斜度求出基准面。

在计算和测定时，取表面的50μm□的512×512点进行测定。XY方向的分辨率为1.9μm，Z方向的分辨率为1nm，扫描速度为60μm/sec。

(2)三维数据的修正

在计算ΔS时，直接用由所述(1)中求出的三维数据，但是在计算R_a、a30及a60时，使用的是从由所述(1)中求出的三维数据去掉波长在2μm以上成分的进行修改后的数据。

修正时，先用由所述(1)求出的三维数据进行高速傅里叶变换求出频率分布，接着再除去波长在2μm以上的成分之后，进行傅里叶逆变换。

(3)各要素的计算

①R_a

用由所述(2)修改的三维数据(f(x，y))，根据下式算出表面粗糙度R_a。

$R_a=\frac{1}{S_0}{\&Integral;}_0^{L_x}{\&Integral;}_0^{L_y}\left|f(x,y)\right|\mathrm{dx}\&CenterDot;\mathrm{dy}$

式中，L_X及L_Y分别表示测定区域(长方形)在x方向和y方向上的边长，在本实施例中，L_X＝L_Y＝50μm。另外，S_o是几何学测定面积，由S_o＝L_X×L_Y求出。

②ΔS

从由所述(1)的三维数据(f(x，y))中，选出三个相邻的点，并求出由该三点形成的微小三角形面积的总和，视为实际面积S_X。表面积比ΔS用所得的实际面积S_X和几何学测定面积S_o，根据下式求出的。

ΔS＝(S_X-S₀)/S₀×100(％)

③a30及a60

用由所述(2)修改的三维数据(f(x，y))，就各基准点算出由各基准点和所定方向(如右和下)上相邻两个点共三点形成的微小三角形和基准面之间的夹角。用全基准点的个数(从全部数据个数512×512点减去所定方向上没有相邻两点的点的个数，即511×511点)除微小三角形的倾斜度在30度以上(a30时)或60度以上(a60时)的基准点的个数，求出倾斜度在30度以上的部分的面积比例a30和倾斜度60度以上部分的面积比例a60。

3.平版印刷版原版的制作

用与本发明的第一技术方案的实施例相同的方法，于所得的各平版印刷版用载体上，设置热敏阳型图像记录层A及常规阳型图像记录层B中的任何一种，得到平版印刷版原版。

4.曝光及显影处理

按照图像记录层的种类，用下述方法对所得的各平版印刷版原版进行图像曝光及显影处理得到平版印刷版。

(1)热敏阳型的图像记录层时

用与上述的本发明第一技术方案中的实施例相同的方法，进行图像曝光及显影处理，制得平版印刷版。

(2)常规阳型的图像记录层时

除了用所述显影液2代替所述显影液1之外，用与上述的本发明第一技术方案中的实施例相同的方法，进行图像曝光及显影处理，制得平版印刷版。

5.平版印刷版的评价

用下述方法对所得平版印刷版的抗污性、耐刷性、耐放置污染性及检版性进行评价。

(1)抗污性

用与上述的本发明第一技术方案中的实施例相同的方法，评价抗污性。

结果示于表3及表4中。

(2)耐刷性

用与上述的本发明第一技术方案中的实施例相同的方法，评价耐刷性。

结果示于表3及表4中。耐刷性用在实施例2-5的平版印刷版用载体上设置图像记录层A的平版印刷版的印刷张数为100张时的相对值表示。

(3)耐放置污染性

用与上述的本发明第一技术方案中的实施例相同的方法，评价耐放置污染性。

当设置有图像记录层B时，为了进行比较，采用除了在曝光之后用显影液1代替显影液2使用外，用相同的条件进行显影处理而得到的平版印刷版，进行了相同的评价。

结果示于表3及表4中。根据橡皮布被污染的程度分10级别评价了耐放置污染性。数字越大，耐放置污染性越好。

(4)检版性

用与上述的本发明第一技术方案中的实施例相同的方法，评价检版性。

结果示于表3中。开始发亮时的润版药水量由多至少的顺序，分别用○、△、△×三个级别进行了评价。

如表3及表4可见，用由用原子间作用力显微镜取表面的50μm□的512×512点测定而求出的三维数据得到的R_a、a30及a60分别满足特定的条件的本发明的第二技术方案的平版印刷版用载体(实施例2-1---2-6)制造的本发明的平版印刷版原版，在用作平版印刷版时的抗污性及耐刷性良好。另外，耐放置污染性及检版性也良好。

特别是采用表4中未进行碱金属硅酸盐处理的平版印刷版用载体时(设置图像记录层B的情况)，即使用实质上含有碱金属硅酸盐的显影液2进行显影处理，也可显示出与用含有碱金属硅酸盐的显影液1进行显影处理时同等的耐放置污染性。

表2

	表面处理						表面形状
											(a)机械粗糙化处理	(d)电解粗糙化处理	(e)碱蚀刻处理	(g)电解粗糙化处理	(h)碱蚀刻处理	(i)去污处理	Ra(μm)	ΔS(％)	a30(％)	a60(％)
	滚筒状刷压力(kW)	电解液/电气量(C/dm2)	Al溶解量(g/m2)	电解液浓度(g/L)	Al溶解量(g/m2)
						实施例2-1	7	硝酸     /220	1.0	7.5	0.1	有	0.49	41	69.7						9.1
实施例2-2	7	硝酸     /220	3.5	7.5	0.1											有	0.52	31	56.4	6.1
						比较例2-1	7	硝酸     /220	6.0	7.5	0.1	有	0.50	31	50.2						7.0
实施例2-3	7	硝酸     /220	1.0	7.5	1.0											有	0.52	39	60.3	5.0
						比较例2-2	7	硝酸     /220	1.0	7.5	5.0	有	0.50	28	57.0						3.3
实施例2-4	7	硝酸     /220	1.0	2.5	0.1											有	0.51	40	67.2	5.7
						实施例2-5	7	硝酸     /220	1.0	5.0	0.1	有	0.53	35	64.8						6.0
比较例2-3	7	硝酸     /220	1.0	10.0	0.1											有	0.49	29	68.0	7.1
						实施例2-6	-	盐酸     /1500	6.0	-	-	-	0.78	30	55.5						5.2
比较例2-4	-	盐酸     /1500	1.0	-	-											-	0.74	35	60.0	12.3
						比较例2-5	-	盐酸     /800	6.0	-	-	-	0.60	22	46.2						2.4
比较例2-6	-	盐酸+乙酸/800	10	-	-											-	0.53	28	55.9	4.3
						比较例2-7	-	硝酸     /400	1.0	-	-	-	0.69	41	59.5						12.1
比较例2-8	-	硝酸     /400	5.0	-	-											-	0.60	28	56.0	8.7
						比较例2-9	7	硝酸     /220	3.5	-	-	-	0.59	29	52.2						6.0
比较例2-10	3	硝酸     /220	1.0	-	-											-	0.40	45	62.5	15.0
						比较例2-11	3	硝酸     /220	5.0	-	-	-	0.39	39	57.0						9.4

表3

平版印刷版原版		印刷性能
						平版印刷版用载体	图像记录层	抗污性	耐刷性	耐放置污染性	检版性
实施例2-1实施例2-2比较例2-1实施例2-3比较例2-2实施例2-4实施例2-5比较例2-3实施例2-6比较例2-4比较例2-5比较例2-6比较例2-7比较例2-8比较例2-9比较例2-10比较例2-11	AAAAAAAAAAAAAAAAA	89108910107747845677	14012080120801201006010015060120100801008060	88886776727345666	○○○○○○○○○○○△△×△×○△△

表4

平版印刷版原版		印刷性能
						平版印刷版用载体	图像记录层	抗污性	耐刷性	耐放置污染性
显影液1	显影液2
		实施例2-1实施例2-2比较例2-1比较例2-2实施例2-4比较例2-3实施例2-6比较例2-5比较例2-7比较例2-9	BBBBBBBBBB	891091077746	140120806012080806010080					8882747624	8886767746

<有关本发明第三技术方案的实施例>

3-1.平版印刷版用载体的制作

(实施例3-1)

除了在上述的(e)中，将铝板溶解量改为3.5g/m²以外，用与实施例1-9相同的方法，对铝板进行所述(a)-(i)的表面处理。

接着形成亲水性薄膜，设置图像记录层，并成为本发明平版印刷版原版，但在之前测定了决定铝板表面物性的要素。将由实施例3-1制造的(形成亲水性薄膜之前)载体称为“载体A”。

(实施例3-2-3-4及比较例3-1-3-5)

除了如表5所示变更各个处理的条件以外，用与实施例3-1相同的方法，制得实施例3-2-3-4及比较例3-1-3-5的形成亲水性薄膜之前的的载体(依次称为“载体B”-“载体I”)。表5中的“-”表示没有进行处理。

3-2.平版印刷版用载体表面形状的要素的计算

对于由上得到的平版印刷版用载体的表面，用与上述的本发明第二技术方案中的实施例相同的方法，求出R_a、ΔS、a30及a60。

结果示于表5。

3-3.平版印刷版原版的制作

(实施例3-5-3-20及比较例3-6-3-43)

在由实施例3-1-3-4及比较例3-1-3-5制造的载体A-I上，根据以下方法用表6中所示的组合形成了亲水性薄膜。

<亲水性薄膜形成法I>

用图4所示的阳极氧化装置进行阳极氧化处理，得到平版印刷版用载体。作为供于第一及第二电解部的电解液，使用的是硫酸。电解液中都含有170g/L浓度的硫酸(含0.5重量％的铝离子)，温度为38℃。之后进行喷雾水洗。最终的氧化薄膜量为2.7g/m²。

用所述的装置测定阳极氧化薄膜的导热系数，求出5个点的平均值。每次测定时都测定金属铝及氧化铝，并分别与文献值比较进行修正。用下式[1]求出导热系数时，其值为0.4W/(m·K)。

$\frac{(T_r-T_b)}{(T_r-T_t)}=\left(\frac{4K_1{r}_1}{K_{\mathrm{tf}}{A}_3}\right)t+(1+\left(\frac{4K_1{r}_1}{K_2{A}_2}\right)t_2+\left(\frac{K_1{r}_1}{K_4{r}_1}\right))---\left[1\right]$

<亲水性薄膜的形成法II>

首先进行亲水性薄膜形成法I。之后为了降低阳极氧化薄膜的导热系数，进行了扩孔处理(PW处理)。扩孔处理时，于将pH值调整为13的30℃的氢氧化钠水溶液里浸渍70秒钟。

最终的氧化薄膜量为1.6g/m²。用与上相同的方法求出阳极氧化薄膜的导热系数，其值为0.05W/(m·K)。

<亲水性薄膜形成法III>

除了电解液用草酸代替之外，用与亲水性薄膜形成法I相同的条件进行。

所求出的阳极氧化薄膜的导热系数为0.2W/(m·K)。

<亲水性薄膜形成法IV>

采用常用的反应性堆焊法将SiO₂薄膜蒸镀于载体上。具体为用500W的高频电源采用SiO₂在6.7×10^-1pa压力下处理20分30秒钟，设置0.2μm厚度的SiO₂薄膜。求出SiO₂薄膜的导热系数，其值为0.2W/(m·K)。

<亲水性薄膜形成法V>

采用常用的磁控管堆焊法，将铝薄膜蒸镀于载体上。具有为用常用的蒸镀法形成0.2μm厚度的铝薄膜。

求出铝薄膜的导热系数，其值为237W/(m·K)。

<亲水性薄膜形成法VI>

采用常用的反应性堆焊法将Al₂O₃薄膜蒸镀于载体上。具体为用500W的高频电源采用Al₂O₃在6.7×10^-1Pa压力下处理44分45秒钟，设置0.2μm厚度的Al₂O₃薄膜。求出Al₂O₃薄膜的导热系数，其值为36W/(m·K)。

于所得的形成亲水性薄膜之后的各平版印刷版用载体上，用与本发明第一技术方案的实施例相同的方法，设置热敏阳型图像记录层，制得平版印刷版原版。

4.曝光及显影处理

对所得的各平版印刷版原版，用下述方法进行图像曝光及显影处理，得到平版印刷版。

用装备有波长为830nm、束径为8μm(l/e²)的半导体激光的CREO社制的TrenndSetter3244，以1m/秒的主扫描速度，进行不同程度曝光，使版面能量分别达10、20、30、40、50、60、70、80、90、100、120、150、170、200、400及800mJ/cm²。后述的抗污性及耐刷性的评价中使用的是曝光成使版面能量达150mJ/cm²的印刷版。

之后，用显影液2进行显影处理。显影处理的条件是用装满所述碱性显影液的自动显影机PS900NP(富士胶卷株式会社制)，在25℃显影12秒钟。结束显影处理之后，经过水洗工艺，用树胶(GU-7(1∶1))等进行处理，得到完成制版的平版印刷版。

5.平版印刷版原版及平版印刷版的评价

用下述的方法评价了所得平版印刷版的抗污性及耐刷性和平版印刷版原版的感度。

(1)耐污性

对于采用设置有SiO₂薄膜的载体A-I的平版印刷版，用与所述的本发明第一技术方案的实例例相同的方法评价抗污性。

结果见表5。

(2)耐刷性

对于采用设置有SiO₂薄膜的载体A-I的平版印刷版，用与所述的本发明第一技术方案的实例例相同的方法评价耐刷性。

结果示于表5。耐刷性是用在实施例3-4的平版印刷版用载体上设置有图像记录层的平版印刷版的印刷张数为100时的相对值来表示。

(3)感度

根据显影处理后的非图像部的白色度等于载体时的曝光量，评价其感度。

结果示于表6。曝光量(版面能量的量)的值越小，表示可以在低曝光量条件下显影，感度也越高，曝光量的值越大，表示只有在高曝光量条件下显影，感度也越低。

表5(之一)

	载体	表面处理变更条件
								工艺(a)刷式滚筒的压力(kw)	工艺(d)	工艺(e)Al溶解量(g/m2)	工艺(g)电解液浓度(g/L)	工艺(h)Al溶解量(g/m2)	工艺(i)
		电解液/电量(C/dm2)
			实施例3-1实施例3-2实施例3-3实施例3-4	ABCD	777-	硝酸/220硝酸/220硝酸/220盐酸/1500	3.56.06.06.0		7.52.55.0-					0.10.10.1-	有有有-
比较例3-1比较例3-2比较例3-3比较例3-4比较例3-5	EFGHI	77--7						硝酸/220硝酸/220盐酸/800硝酸/400硝酸/220		6.06.06.01.03.5	7.510.0---	0.10.1---	有有---

表5(之二)

	表面形状				印刷性能
							Ra	ΔS	a30	a60	抗污性	耐刷性
	实施例3-1实施例3-2实施例3-3实施例3-4	0.520.510.530.78	31403530	56.467.264.855.5	6.15.76.05.2	10997							120120100100
比较例3-1比较例3-2比较例3-3比较例3-4比较例3-5							0.500.490.600.690.59	3129224129	50.268.046.259.552.2	7.07.12.412.16.0	97756	806060100100

表6(之一)

	载体	薄膜形成法	感度(mJ/cm2)
				实施例3-5实施例3-6实施例3-7实施例3-8实施例3-9实施例3-10实施例3-11实施例3-12实施例3-13实施例3-14实施例3-15实施例3-16实施例3-17实施例3-18实施例3-19实施例3-20	AAAABBBBCCCCDDDD	IIIIIIIVIIIIIIIVIIIIIIIVIIIIIIIV	70405050704050507040505070405050

表6(之二)

	载体	薄膜形成法	感度(mJ/cm2)
				比较例3-6比较例3-7比较例3-8比较例3-9比较例3-10比较例3-11比较例3-12比较例3-13比较例3-14比较例3-15比较例3-16比较例3-17比较例3-18比较例3-19比较例3-20比较例3-21比较例3-22比较例3-23比较例3-24比较例3-25比较例3-26比较例3-27比较例3-28比较例3-29比较例3-30比较例3-31比较例3-32比较例3-33比较例3-34比较例3-35比较例3-36	AABBCCDDEEEEEEFFFFFFGGGGGGHHHHH	VVIVVIVVIVVIIIIIIIIVVVIIIIIIIIVVVIIIIIIIIVVVIIIIIIIIVV	80015080015080015080015070405050800150805060608001706540505080015080506060900

比较例3-37比较例3-38比较例3-39比较例3-40比较例3-41比较例3-42比较例3-43

HIIIIII

VIIIIIIIIVVVI

20075455050800170

由表5及表6可见，采用由用原子间作用力显微镜测定表面的50μm□512×512点求出的三维数据得到的R_a、ΔS、a30及a60分别满足特定的条件(实施例3-1---3-4)，且其表面形成有导热系数满足特定条件的亲水性薄膜的本发明第三技术方案的平版印刷版用载体的本发明的平版印刷版原版，在用作平版印刷版时的抗污性及耐刷性都很好，另外由于感度高，即使曝光量低也具有充分的性能。

如上所述，当采用表面形状具有特征的本发明第一及第二技术方案的平版印刷版用载体时，可以在较高的水平上保持以往无法摆脱“通-断”关系的抗污性与耐刷性之间的平衡。

尤其是，采用具有特定的传导率的亲水性薄膜的本发明第三技术方案的平版印刷版用载体时，可以将热量有效地利用于形成图像，可以得到感度高且可表现出高耐刷性并在非图像部不易产生污垢的热敏性平版印刷版原版。

Claims (6)

1.一种平版印刷版用载体，是对铝板至少实施粗糙化处理而制得，其特征在于：表面具有重叠平均孔径为0.5-5μm的中波结构和平均孔径为0.01-0.18μm的小波结构形成的砂目形状结构。

2.一种平版印刷版用载体，是对铝板至少实施粗糙化处理而制得，其特征在于：表面具有重叠平均波长为5-100μm的大波结构、平均孔径为0.5-5μm的中波结构和平均孔径为0.01-0.2μm的小波结构形成的砂目形状结构。

3.根据权利要求1或2所述的平版印刷版用载体，其特征在于：所述小波结构孔径与深度之比的平均值在0.2以上。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的平版印刷版用载体，其特征在于：表面具有导热系数为0.05-0.5W/(m·K)的亲水性薄膜。

5.一种平版印刷版原版，其特征在于：于权利要求1至4中任一项所述的平版印刷版用载体上设置图像记录层而形成。

6.一种平版印刷版的制造方法，其特征在于：曝光权利要求1至5中任一项所述的平版印刷版原版之后，用不含有碱金属硅酸盐的显影液完成显影而制得平版印刷版。

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