TWI510858B - 觸控式面板用電極的保護膜的形成方法及觸控式面板的製造方法 - Google Patents

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Description

觸控式面板用電極的保護膜的形成方法及觸控式面板的製造方法
本發明是有關於一種觸控式面板用電極的保護膜的形成方法，特別是有關於一種適於保護靜電電容方式觸控式面板的電極之保護膜的形成方法、該保護膜的形成方法中所用的感光性樹脂組成物與感光性元件、以及觸控式面板的製造方法及觸控式面板用電極的保護膜。
於自個人電腦(personal computer)或電視的大型電子設備至汽車導航(car navigation)、行動電話、電子詞典等小型電子設備或辦公自動化(Office Automation，OA)、工廠自動化(Factory Automation，FA)設備等的顯示設備中，一直使用液晶顯示元件或觸控式面板(觸控式感測器(touch sensor))。於該些液晶顯示元件或觸控式面板中設有包含透明導電電極材的電極。作為透明導電電極材，已知有氧化銦錫(Indium-Tin-Oxide，ITO)、氧化銦或氧化錫，該些材料由於表現出高的可見光透射率，故作為液晶顯示元件用基板等的電極材而成為主流。
對於觸控式面板而言，已將各種方式的觸控式面板加以實際應用，而近年來，正在推進靜電電容方式的觸控式面板的應用。於靜電電容方式觸控式面板中，若作為導電體的指尖與觸控式輸入面接觸，則指尖與導電膜之間進行靜電電容耦合(electrostatic capacitance coupling)，形成電容器。因此，靜電電容方式觸控式面板藉由捕捉指尖的接 觸位置的電荷變化，來檢測該接觸位置的座標。
特別是投影型靜電電容方式的觸控式面板，由於可實現指尖的多點檢測，故具備可進行複雜指示的良好操作性，由於該良好操作性，故正在推進以下用途，即，用作行動電話或可攜式音樂播放器等具有小型顯示裝置的設備中的顯示面上的輸入裝置。
通常，於投影型靜電電容方式的觸控式面板中，為了表現X軸與Y軸的二維座標，多個X電極與和該X電極正交的多個Y電極形成二層結構，作為該電極，一直使用氧化銦錫(Indium-Tin-Oxide，ITO)。
再者，觸控式面板的額緣區域為無法檢測觸控位置的區域，故縮小該額緣區域的面積為用以提高產品價值的重要的要素。於額緣區域中，為了傳達觸控位置的檢測信號而需要金屬配線，但為了實現額緣面積的狹小化，必須使金屬配線的寬度變窄。通常金屬配線是使用銅。
然而，如上所述的觸控式面板有時與指尖接觸時水分或鹽分等腐蝕成分自感測區域侵入至內部。若腐蝕成分侵入至觸控式面板的內部，則金屬配線腐蝕，可能電極與驅動用電路間的電阻增加或發生斷線。
為了防止金屬配線的腐蝕，揭示有於金屬上形成有絕緣層的靜電電容方式的投影型觸控式面板(例如專利文獻1)。該觸控式面板中，藉由電漿化學氣相成長法(電漿化學氣相沈積(Chemical Vapor Deposition，CVD)法)於金屬上形成二氧化矽層，防止金屬的腐蝕。然而，該方法由 於使用電漿CVD法，故有需要高溫處理而基材受到限定的問題。另外，亦有製造成本變高的問題。
再者，作為於必要部位設置抗蝕劑膜的方法，已知以下方法：於既定基材上設置包含感光性樹脂組成物的感光層，對該感光層進行曝光、顯影(例如專利文獻2~專利文獻4)。
先前技術文獻
專利文獻
專利文獻1：日本專利特開2011-28594號公報
專利文獻2：日本專利特開平7-253666號公報
專利文獻3：日本專利特開2005-99647號公報
專利文獻4：日本專利特開平11-133617號公報
利用感光性樹脂組成物的保護膜的製作與電漿CVD法相比較，可期待成本的削減。然而，於在觸控式面板用電極上形成保護膜的情形時，若保護膜的厚度大，則有時於存在膜的部位與不存在膜的部位的階差顯眼。因此，必須使保護膜儘可能薄。然而，關於厚度10μm以下的水準，並無對由感光性樹脂組成物形成的膜的防銹性進行研究的例子。
於觸控式面板的製造步驟中，有時對觸控式面板自身施加負荷。尤其於將保護膜設置於可撓性顯示器基板上般的情形時，伴隨著基板的彎曲而保護膜所受的負荷亦變大，容易產生龜裂。
本發明的目的在於提供一種觸控式面板用電極的保護膜的形成方法、可形成此種保護膜的感光性樹脂組成物與感光性元件、以及觸控式面板的製造方法及觸控式面板用電極的保護膜，上述觸控式面板用電極的保護膜的形成方法可於既定的觸控式面板用電極上形成雖為薄膜但亦具有充分的防銹性、且耐龜裂性優異的保護膜。
本發明者等人為了解決上述課題而進行了精心研究，結果發現：含有特定的黏合聚合物、特定的光聚合性化合物及光聚合起始劑的感光性樹脂組成物具有充分的顯影性，並且藉由光硬化而形成的膜即便為10μm以下的厚度亦顯示充分的防銹性，可充分防止銅等金屬的腐蝕，可形成拉伸試驗中的彈性模數充分小的膜，從而完成了本發明。
本發明的觸控式面板用電極的保護膜的第1形成方法的特徵在於：於具有觸控式面板用電極的基材上設置包含感光性樹脂組成物的感光層，使該感光層的既定部分藉由照射活性光線而硬化後，將既定部分以外去除，形成被覆上述電極的一部分或全部的包含上述感光性樹脂組成物的硬化物的保護膜，上述感光性樹脂組成物含有具有羧基且酸值為30mg KOH/g~120mg KOH/g的黏合聚合物、光聚合性化合物及光聚合起始劑，且上述光聚合性化合物含有具有至少3個乙烯性不飽和基及環氧烷基的化合物。
根據本發明的觸控式面板用電極的保護膜的第1形成方法，藉由使用上述特定的感光性樹脂組成物，可確保充分的顯影性，並且能以10μm以下的厚度形成具有充分的 防銹性且耐龜裂性優異的保護膜。根據本發明，可使用感光性樹脂組成物來形成美觀、防銹性及耐龜裂性充分的保護膜，故可實現觸控式面板的製造中的製造成本的降低。
就進一步提高防銹性及耐龜裂性的觀點而言，上述具有至少3個乙烯性不飽和基及環氧烷(alkylene oxide)基的化合物較佳為含有選自由環氧烷改質季戊四醇(甲基)丙烯酸酯化合物(alkylene oxide modified pentaerythritol(meth)acrylate compound)、環氧烷改質二季戊四醇(dipentaerythritol)(甲基)丙烯酸酯化合物、環氧烷改質三羥甲基丙烷(trimethylolpropane)(甲基)丙烯酸酯化合物及環氧烷改質甘油(甲基)丙烯酸酯化合物所組成的組群中的至少一種化合物。
另外，本發明的觸控式面板用電極的保護膜的第2形成方法的特徵在於：於具有觸控式面板用電極的基材上設置包含感光性樹脂組成物的感光層，使該感光層的既定部分藉由照射活性光線而硬化後，將既定部分以外去除，形成被覆上述電極的一部分或全部的包含上述感光性樹脂組成物的硬化物的保護膜，上述感光性樹脂組成物含有具有羧基且酸值為30mg KOH/g~120mg KOH/g的黏合聚合物、光聚合性化合物及光聚合起始劑，且上述光聚合性化合物含有具有胺基甲酸酯(urethane)鍵的(甲基)丙烯酸酯化合物。
根據本發明的觸控式面板用電極的保護膜的第2形成方法，藉由使用上述特定的感光性樹脂組成物，可確保充 分的顯影性，並且能以10μm以下的厚度形成具有充分的防銹性且耐龜裂性優異的保護膜。根據本發明，可使用感光性樹脂組成物來形成美觀、防銹性及耐龜裂性充分的保護膜，故可實現觸控式面板的製造中的製造成本的降低。
就進一步提高保護膜的電極腐蝕的抑制力的觀點而言，上述具有胺基甲酸酯鍵的(甲基)丙烯酸酯化合物較佳為具有至少3個乙烯性不飽和基。
上述感光性樹脂組成物更含有具有胺基甲酸酯鍵的(甲基)丙烯酸酯化合物以外的第2光聚合性化合物。
就進一步提高保護膜的電極腐蝕的抑制力的觀點而言，上述第2光聚合性化合物較佳為具有至少3個乙烯性不飽和基。
於本發明的觸控式面板用電極的保護膜的第1形成方法及第2形成方法中，就充分確保觸控式面板的視認性的觀點而言，上述感光層較佳為400nm~700nm下的可見光透射率的最小值為90%以上。於該情形時，適於形成被覆感測區域的電極的保護膜。
光聚合起始劑較佳為含有肟酯(oxime ester)化合物及/或氧化膦(phosphine oxide)化合物。藉由含有肟酯化合物及/或氧化膦化合物作為光起始劑，即便於感光層薄的情形時，亦能以充分的解析度來形成圖案。
若考慮到觸控式面板的視認性或美觀，則理想的是保護膜的透明性更高。然而，另一方面，本發明者等人發現：於將透明性高的薄膜的感光層圖案化的情形時，有解析性 降低的傾向。關於其原因，本發明者等人認為：若感光層的厚度變小，則容易受到來自基材的光散射的影響，產生光暈(halation)。
相對於此，於本發明中，上述光聚合起始劑含有肟酯化合物及/或氧化膦化合物，藉此能以充分的解析度來形成圖案。
再者，本發明者等人推測可獲得上述效果的原因在於：肟酯化合物所含的肟部位或氧化膦化合物所含的氧化膦部位雖然具有相對較高的光分解效率，但亦具有在稍許的漏光下不分解的適當臨限值，故漏光的影響得到抑制，結果可獲得上述效果。
於本發明的觸控式面板用電極的保護膜的第1形成方法及第2形成方法中，可準備感光性元件，該感光性元件具備支撐膜及設於該支撐膜上的包含上述感光性樹脂組成物的感光層，將該感光性元件的感光層轉印至上述基材上而設置上述感光層。於該情形時，藉由使用感光性元件，可容易地實現捲對捲(roll-to-roll)製程，可縮短溶劑乾燥步驟等，從而可對製造步驟的縮短或成本降低作出大的貢獻。
另外，本發明提供第1感光性樹脂組成物，其含有具有羧基且酸值為30mg KOH/g~120mg KOH/g的黏合聚合物、光聚合性化合物及光聚合起始劑，且上述光聚合性化合物含有具有至少3個乙烯性不飽和基及環氧烷基的化合物，並且上述第1感光性樹脂組成物是用於形成觸控式 面板用電極的保護膜。
根據本發明的第1感光性樹脂組成物，可於既定的觸控式面板用電極上，形成雖為薄膜但亦具有充分的防銹性且耐龜裂性優異的保護膜。
就進一步提高防銹性及耐龜裂性的觀點而言，上述具有至少3個乙烯性不飽和基及環氧烷基的化合物較佳為含有選自由環氧烷改質季戊四醇(甲基)丙烯酸酯化合物、環氧烷改質二季戊四醇(甲基)丙烯酸酯化合物、環氧烷改質三羥甲基丙烷(甲基)丙烯酸酯化合物及環氧烷改質甘油(甲基)丙烯酸酯化合物所組成的組群中的至少一種化合物。
另外，本發明提供第2感光性樹脂組成物，其含有具有羧基且酸值為30mg KOH/g~120mg KOH/g的黏合聚合物、光聚合性化合物及光聚合起始劑，且上述光聚合性化合物含有具有胺基甲酸酯鍵的(甲基)丙烯酸酯化合物，並且上述第2感光性樹脂組成物是用於形成觸控式面板用電極的保護膜。
根據本發明的第2感光性樹脂組成物，可於既定的觸控式面板用電極上，形成雖為薄膜但亦具有充分的防銹性且耐龜裂性優異的保護膜。
就進一步提高保護膜的電極腐蝕的抑制力的觀點而言，具有胺基甲酸酯鍵的(甲基)丙烯酸酯化合物較佳為具有至少3個乙烯性不飽和基。
較佳為更含有具有胺基甲酸酯鍵的(甲基)丙烯酸酯化 合物以外的第2光聚合性化合物。
就進一步提高保護膜的電極腐蝕的抑制力的觀點而言，第2光聚合性化合物較佳為具有至少3個乙烯性不飽和基。
就充分確保觸控式面板的視認性的觀點而言，本發明的第1感光性樹脂組成物及第2感光性樹脂組成物較佳為形成保護膜時的可見光線透射率的最小值為90%以上。
另外，於本發明的第1感光性樹脂組成物及第2感光性樹脂組成物中，較佳為上述光聚合起始劑含有肟酯化合物及/或氧化膦化合物。於該情形時，能以具有充分的解析度的圖案來形成透明性高的薄膜的保護膜。
另外，本發明提供一種感光性元件，其具備支撐膜、及設於該支撐膜上且包含上述本發明的第1感光性樹脂組成物或第2感光性樹脂組成物的感光層。
根據本發明的感光性元件，可於既定的觸控式面板用電極上形成雖為薄膜但亦具有充分的防銹性的保護膜。
上述感光層的厚度可設定為10μm以下。
另外，本發明提供一種觸控式面板的製造方法，其包括以下步驟：於具有觸控式面板用電極的基材上，藉由上述本發明的保護膜的第1形成方法或第2形成方法來形成被覆電極的一部分或全部的保護膜。
另外，本發明提供一種觸控式面板用電極的保護膜，其包含上述本發明的第1感光性樹脂組成物或第2感光性樹脂組成物的硬化物。再者，本發明的保護膜可藉由光及/ 或熱使本發明的第1感光性樹脂組成物或第2感光性樹脂組成物硬化而獲得。因此，藉由光及/或熱硬化，上述硬化物中的上述第1感光性樹脂組成物或第2感光性樹脂組成物的反應性基的一部分或全部因反應而消失。
根據本發明，可提供一種觸控式面板用電極的保護膜的形成方法、可形成此種保護膜的感光性樹脂組成物與感光性元件、以及觸控式面板的製造方法及觸控式面板用電極的保護膜，上述觸控式面板用電極的保護膜的形成方法可於既定的觸控式面板用電極上，形成雖為薄膜但亦具有充分的防銹性且耐龜裂性優異的保護膜。
另外，根據本發明，可保護靜電電容式觸控式面板的金屬電極。進而，根據本發明，可保護觸控式面板的額緣區域中的電極，該觸控式面板的額緣區域中的電極是形成有容易因水分或鹽分而產生銹的銅等金屬層以提高導電性。
以下，對本發明的實施形態加以詳細說明。然而，本發明不限定於以下的實施形態。特別是本發明的感光性樹脂組成物由於透明性及防銹性優異，故只要是以保護觸控式面板(觸控式感測器)的電極形成部位為目的，則無論觸控式面板的構成如何變化，均可較佳地使用。具體而言，於將觸控式面板的構成由蓋玻璃、觸控式面板、液晶面板的三片構成變更為蓋玻璃一體式、外嵌(on cell)式時， 只要以保護觸控式面板(觸控式感測器)的電極形成部位為目的，則亦可較佳地使用。
本說明書中所謂觸控式面板用電極，不僅是指位於觸控式面板的感測區域內的電極，亦包括額緣區域的金屬配線。設置保護膜的電極可為任一者，亦可為兩者。
另外，本說明書中所謂透明性優異，是指透射90%以上的400nm~700nm的可見光，即便使光以某種程度散射，亦包括在透明的概念內。
再者，本說明書中，所謂(甲基)丙烯酸，是指丙烯酸或甲基丙烯酸，所謂(甲基)丙烯酸酯，是指丙烯酸酯或與其對應的甲基丙烯酸酯，所謂(甲基)丙烯醯基，是指丙烯醯基或甲基丙烯醯基。另外，(聚)氧乙烯鏈是指氧乙烯基或聚氧乙烯基，(聚)氧丙烯鏈是指氧丙烯基或聚氧丙烯基，(聚)氧丁烯鏈是指氧丁烯基或聚氧丁烯基。進而，所謂「(EO)改質」，是指具有(聚)氧乙烯鏈的化合物，所謂「(PO)改質」，是指具有(聚)氧丙烯鏈的化合物，所謂「(BO)改質」，是指具有(聚)氧丁烯鏈的化合物。所謂「(EO)-(PO)改質」，是指具有(聚)氧乙烯鏈及(聚)氧丙烯鏈兩者的化合物，所謂「(EO)‧(BO)改質」，是指具有(聚)氧乙烯鏈及(聚)氧丁烯鏈兩者的化合物，所謂「(EO)‧(PO)‧(BO)改質」，是指具有(聚)氧乙烯鏈、(聚)氧丙烯鏈及(聚)氧丁烯鏈的化合物。
另外，於本說明書中，「步驟」一詞不僅是指獨立的步驟，即便於無法與其他步驟明確區分的情形時，只要可達 成該步驟的預期作用，則亦包括在該用語中。另外，本說明書中使用「~」表示的數值範圍表示包含「~」前後所記載的數值分別作為最小值及最大值的範圍。
進而，本說明書中關於組成物中的各成分的含量，於組成物中存在多種相當於各成分的物質的情形時，只要無特別說明，則是指存在於組成物中的該多種物質的合計量。
圖1為表示本發明的感光性元件的一實施形態的示意剖面圖。圖1所示的感光性元件1包含：支撐膜10、設於支撐膜上的包含本發明的感光性樹脂組成物的感光層20、及設於感光層20的與支撐膜10為相反之側的保護膜30。
本實施形態的感光性元件可較佳地用於形成觸控式面板用電極的保護膜。
支撐膜10例如可列舉：包含聚對苯二甲酸乙二酯、聚碳酸酯、聚乙烯、聚丙烯、聚醚碸等的厚度為5μm~100μm左右的膜。
就確保被覆性與抑制經由支撐膜進行曝光時的解析度降低的觀點而言，支撐膜的厚度較佳為5μm~100μm，更佳為10μm~70μm，進而佳為15μm~40μm，特佳為20μm~35μm。
作為構成感光層20的本發明的感光性樹脂組成物的第一實施形態，感光性樹脂組成物含有具有羧基且酸值為30mg KOH/g~120mg KOH/g的黏合聚合物(以下亦稱為(A)成分)、光聚合性化合物(以下亦稱為(B)成分) 及光聚合起始劑(以下亦稱為(C)成分)，且上述光聚合性化合物含有具有至少3個乙烯性不飽和基及環氧烷基的化合物(以下亦稱為(B1)成分)。
另外，作為構成感光層20的本發明的感光性樹脂組成物的第二實施形態，感光性樹脂組成物含有具有羧基且酸值為30mg KOH/g~120mg KOH/g的黏合聚合物、光聚合性化合物及光聚合起始劑，且上述光聚合性化合物含有具有胺基甲酸酯鍵的(甲基)丙烯酸酯化合物(以下亦稱為(B2)成分)。
首先，對第一實施形態加以說明。
於本實施形態中，藉由將酸值處於上述範圍內的(A)成分與滿足上述條件的(B1)成分組合使用，可確保顯影性及對基材的密接性，並且能以10μm以下的厚度形成具有充分的防銹性且耐龜裂性優異的保護膜。因此，根據本實施形態的感光性樹脂組成物，可形成美觀、防銹性及耐龜裂性充分的保護膜。
於考慮到膜特性的先前的感光性元件中，通常以超過10μm的厚度來形成感光層，為了確保此時的顯影性，對所使用的感光性樹脂組成物所含的黏合聚合物的酸值進行調整。通常，酸值是設定為140mg KOH/g~250mg KOH/g左右的值。若使用此種感光性樹脂組成物於電極上以10μm以下的厚度形成保護膜，則無法獲得充分的防銹性。本發明者等人推測其原因在於：於10μm以下的薄膜的情形時，水分或鹽分等腐蝕成分容易含有於膜內，進而該傾 向因黏合聚合物所含的羧基而變大。可認為若酸值過低，則有難以確保充分的顯影性或對基材的密接性的傾向，但於本實施形態中，藉由組合具有適當酸值的上述(A)成分、與可進一步提高防銹性而且可對保護膜賦予韌性的上述(B1)成分，能以高水準兼具防銹性、顯影性及耐龜裂性。
黏合聚合物的酸值可如以下般測定。即，首先準確稱量作為酸值的測定對象的黏合聚合物1g。於上述準確稱量的黏合聚合物中添加丙酮30g並使其均勻溶解。繼而，將作為指示劑的酚酞適量添加至上述溶液中，使用0.1N的KOH水溶液進行滴定。然後，藉由下式來算出酸值。
酸值=0.1×Vf×56.1/(Wp×I/100)
式中，Vf表示KOH水溶液的滴定量(mL)，Wp表示所測定的含有黏合聚合物的溶液的重量(g)，I表示所測定的含有黏合聚合物的溶液中的不揮發成分的比例(質量%)。
再者，於將黏合聚合物以與合成溶劑或稀釋溶劑等揮發成分混合的狀態調配的情形時，於準確稱量前預先於較揮發成分的沸點高10℃以上的溫度下加熱1小時~4小時，去除揮發成分後測定酸值。
於本實施形態中，(A)成分較佳為含有來源於(a)(甲基)丙烯酸、及(b)(甲基)丙烯酸烷基酯的結構單元的共 聚物。
(b)(甲基)丙烯酸烷基酯例如可列舉：(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯及(甲基)丙烯酸羥乙酯。
上述共聚物可進一步於結構單元中含有可與上述(a)成分及/或(b)成分共聚合的其他單體。
可與上述(a)成分及/或(b)成分共聚合的其他單體例如可列舉：(甲基)丙烯酸四氫糠酯、(甲基)丙烯酸二甲基胺基乙酯、(甲基)丙烯酸二乙基胺基乙酯、(甲基)丙烯酸縮水甘油酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸2,2,2-三氟乙酯、(甲基)丙烯酸2,2,3,3-四氟丙酯、(甲基)丙烯醯胺、(甲基)丙烯腈、二丙酮(甲基)丙烯醯胺、苯乙烯及乙烯基甲苯。於合成作為(A)成分的黏合聚合物時，上述單體可單獨使用一種，亦可組合使用兩種以上。
作為(A)成分的黏合聚合物的分子量並無特別限制，就塗佈性及塗膜強度、顯影性的觀點而言，通常重量平均分子量較佳為10,000~200,000，更佳為30,000~150,000，極佳為50,000~100,000。再者，重量平均分子量的測定條件是設定為與本申請案說明書的實施例相同的測定條件。
就於藉由顯影步驟選擇性地去除感光性樹脂組成物層而形成圖案的步驟中，可藉由公知的各種顯影液進行顯影，且作為電極的保護膜發揮功能時提高對水分或鹽分等腐蝕成分的耐性的觀點而言，作為(A)成分的黏合聚合物的酸值是設定為30mg KOH/g~120mg KOH/g的範圍。
另外，藉由將黏合聚合物的酸值設定為30mg KOH/g~120mg KOH/g，可使用含有水、鹼金屬鹽及界面活性劑的鹼性水溶液來進行顯影。藉由黏合聚合物的酸值為30mg KOH/g以上，可充分獲得顯影性，藉由黏合聚合物的酸值為120mg KOH/g以下，可提高對水分或鹽分等腐蝕成分的耐性。
另外，例如於使用碳酸鈉、碳酸鉀、氫氧化四甲基銨、三乙醇胺等鹼性水溶液進行顯影的情形，更佳為將酸值設定為50mg KOH/g~120mg KOH/g。就顯影性優異的方面而言，較佳為50mg KOH/g以上，更佳為60mg KOH/g以上，進而佳為70mg KOH/g以上。另外，保護觸控式面板用電極時，就保護電極不受水分或鹽分等腐蝕成分的影響的觀點而言，特佳為100mg KOH/g以下。
就電極腐蝕的抑制力及顯影容易性的觀點而言，作為(B1)成分的具有至少3個乙烯性不飽和基及環氧烷基的化合物較佳為含有選自環氧烷改質三羥甲基丙烷(甲基)丙烯酸酯化合物、環氧烷改質四羥甲基甲烷(甲基)丙烯酸酯化合物、環氧烷改質季戊四醇(甲基)丙烯酸酯化合物、環氧烷改質二季戊四醇(甲基)丙烯酸酯化合物、環氧烷改質甘油(甲基)丙烯酸酯化合物及環氧烷改質三羥甲基丙烷三縮水甘油醚(甲基)丙烯酸酯中的至少一種化合物，更佳為含有選自環氧烷改質二季戊四醇(甲基)丙烯酸酯化合物及環氧烷改質三羥甲基丙烷(甲基)丙烯酸酯化合物中的至少一種化合物。
上述具有至少3個乙烯性不飽和基及環氧烷基的化合物例如可列舉：環氧烷改質三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、環氧烷改質四羥甲基甲烷三(甲基)丙烯酸酯、環氧烷改質四羥甲基甲烷四(甲基)丙烯酸酯、環氧烷改質二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、環氧烷改質二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、環氧烷改質甘油(甲基)丙烯酸酯化合物等使α,β-不飽和羧酸與多元醇反應所得的化合物；環氧烷改質三羥甲基丙烷三縮水甘油醚三丙烯酸酯等使α,β-不飽和羧酸加成於含縮水甘油基的化合物上所得的化合物。
上述所謂環氧烷改質三羥甲基丙烷(甲基)丙烯酸酯化合物，是指環氧烷改質三羥甲基丙烷與(甲基)丙烯酸的酯化物。上述酯化物只要含有一分子中的酯鍵的個數為3的化合物即可，亦可混合有酯鍵的個數為1~2的化合物。
另外，所謂環氧烷改質季戊四醇(甲基)丙烯酸酯，是指環氧烷改質季戊四醇與(甲基)丙烯酸的酯化物。上述酯化物較佳為一分子中的酯鍵的個數為4，亦可混合有酯鍵的個數為2或3的化合物。
另外，所謂環氧烷改質二季戊四醇(甲基)丙烯酸酯，是指環氧烷改質二季戊四醇與(甲基)丙烯酸的酯化物。上述酯化物較佳為一分子中的酯鍵的個數為6，亦可混合有酯鍵的個數為3~5的化合物。
上述具有至少3個乙烯性不飽和基及環氧烷基的化合物較佳為氧伸烷基(oxyalkylene)鏈的結構單元數為3~20，更佳為5~20，進而更佳為9~20。就提高耐龜裂性的 觀點而言，較佳為5~20，更佳為9~20。
於本實施形態中，可較佳地使用環氧乙烷改質三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、環氧乙烷改質二季戊四醇六丙烯酸酯、EO改質季戊四醇四丙烯酸酯、EO改質季戊四醇四丙烯酸酯、PO改質季戊四醇四丙烯酸酯等。環氧乙烷改質三羥甲基丙烷三丙烯酸酯可作為SR454(沙多瑪(SARTOMER)公司製造，商品名)、SR499(沙多瑪(SARTOMER)公司製造，商品名)、SR502(沙多瑪(SARTOMER)公司製造，商品名)、SR415(沙多瑪(SARTOMER)公司製造，商品名)而獲取。環氧乙烷改質二季戊四醇六丙烯酸酯可作為DPEA-12(日本化藥(股)製造，商品名)而獲取。EO改質季戊四醇四丙烯酸酯可作為RP-1040(日本化藥(股)製造，商品名)、ATM-4E(新中村化學工業(股)製造，商品名)而獲取。PO改質季戊四醇四丙烯酸酯可作為ATM-4P(新中村化學工業(股)製造，商品名)而獲取。
就防銹性優異的方面而言，上述具有至少3個乙烯性不飽和基及環氧烷基的光聚合性化合物較佳為酸值為5mg KOH/g以下。
上述化合物可單獨使用一種或組合使用兩種以上。
藉由使用具有至少3個乙烯性不飽和基及環氧烷基的化合物可提高耐龜裂性的理由雖不明確，但本發明者等人認為：若使用經環氧烷改質的化合物作為(B1)成分，則光聚合性化合物的分子鏈變長，故交聯點間距離變長而硬 化後的交聯結構變鬆弛，由此樹脂的韌性變高，可提高耐龜裂性。
相對於(A)成分及(B1)成分的合計量100質量份，本實施形態的感光性樹脂組成物中的(A)成分及(B1)成分的含量較佳為(A)成分為40質量份~80質量份、(B1)成分為20質量份~60質量份，更佳為(A)成分為50質量份~70質量份、(B1)成分為30質量份~50質量份，進而佳為(A)成分為55質量份~65質量份、(B1)成分為35質量份~45質量份。
藉由將(A)成分的含量設定為上述範圍內，可充分確保塗佈性或感光性元件中的膜性，並且可獲得充分的感度，可充分確保光硬化性、顯影性及電極腐蝕的抑制力。
本實施形態的感光性樹脂組成物可含有上述(B1)成分以外的光聚合性化合物。作為光聚合性化合物，例如可將上述(B1)成分與單官能單體及二官能單體中的一種以上組合使用。單官能單體例如可列舉：作為用於合成上述(A)成分的黏合聚合物的較佳單體而已例示的(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸烷基酯及可與該等共聚合的單體。
二官能乙烯系單體例如可列舉：聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A聚氧乙烯聚氧丙烯二(甲基)丙烯酸酯(即，2,2-雙(4-丙烯醯氧基聚乙氧基聚丙氧基苯基)丙烷)、雙酚A二縮水甘油醚二(甲基)丙烯酸酯等；多元羧酸(鄰苯二甲酸酐等)與具有羥基及乙烯性不飽和基的物質 (丙烯酸-β-羥乙酯、甲基丙烯酸-β-羥乙酯等)的酯化物。
於將作為(B1)成分的具有至少3個乙烯性不飽和基及環氧烷基的化合物、與單官能乙烯系單體或二官能乙烯系單體組合使用的情形時，該些單體的調配比例並無特別限制，就獲得光硬化性及電極腐蝕的抑制力的觀點而言，該些單體的調配比例相對於作為(B1)成分的具有至少3個乙烯性不飽和基及環氧烷基的化合物100質量份，較佳為100質量份以下，更佳為50質量份以下，進而佳為25質量份以下。
作為(C)成分的光聚合起始劑例如可列舉：二苯甲酮、N,N,N',N'-四甲基-4,4'-二胺基二苯甲酮(diamino benzophenone)(米其勒酮)、N,N,N',N'-四乙基-4,4'-二胺基二苯甲酮、4-甲氧基-4'-二甲基胺基二苯甲酮、2-苄基(benzyl)-2-二甲基胺基-1-(4-嗎啉基苯基)-丁酮-1、2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-嗎啉基-丙酮-1等芳香族酮；安息香甲醚(benzoin methyl ether)、安息香乙醚、安息香苯醚等安息香醚化合物；安息香(benzoin)、甲基安息香、乙基安息香等安息香化合物；1,2-辛二酮,1-[4-(苯硫基)苯基,2-(O-苯甲醯基肟)]、乙酮,1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲醯基)-9H-咔唑-3-基]-,1-(O-乙醯基肟)等肟酯化合物；苯偶醯(benzil)二甲基縮酮等苯偶醯衍生物；9-苯基吖啶、1,7-雙(9,9'-吖啶基)庚酮等吖啶衍生物；N-苯基甘胺酸、N-苯基甘胺酸衍生物；香豆素化合物；噁唑化合物。
該等中，就所形成的保護膜的透明性、及將膜厚設定 為10μm以下時的圖案形成能力的方面而言，較佳為肟酯化合物及/或氧化膦化合物。肟酯化合物可列舉下述通式(C-1)及通式(C-2)所表示的化合物，就快速硬化性、透明性的觀點而言，較佳為下述通式(C-1)所表示的化合物。
上述通式(C-1)中，R1 表示碳數1~12的烷基或碳數3~20的環烷基。再者，只要不損及本發明的效果，則亦可於上述通式(C-1)中的芳香環上具有取代基。
上述通式(C-1)中，R1 較佳為碳數3~10的烷基或碳數4~15的環烷基，更佳為碳數4~8的烷基或碳數4~10的環烷基。
[化2]
上述通式(C-2)中，R2 表示氫原子或碳數1~12的烷基，R3 表示碳數1~12的烷基或碳數3~20的環烷基，R4 表示碳數1~12的烷基，R5 表示碳數1~20的烷基或芳基。p1表示0~3的整數。再者，於p1為2以上的情形時，多個存在的R4 可分別相同亦可不同。再者，亦可於咔唑上於不損及本發明效果的範圍內具有取代基。
上述通式(C-2)中，R2 較佳為碳數1~8的烷基，更佳為碳數1~4的烷基，進而佳為乙基。
上述通式(C-2)中，R3 較佳為碳數1~8的烷基或碳數4~15的環烷基，更佳為碳數1~4的烷基或碳數4~10的環烷基。
上述通式(C-1)所表示的化合物可列舉1,2-辛二酮,1-[4-(苯硫基)苯基,2-(O-苯甲醯基肟)]等。上述通式(C-2)所表示的化合物可列舉乙酮,1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲醯基)-9H-咔唑-3-基]-,1-(O-乙醯基肟)等。1,2-辛二酮,1-[4-(苯硫基)苯基,2-(O-苯甲醯基肟)]可作為易璐佳(IRGACURE)OXE 01(巴斯夫(BASF)(股)製造，商品名)而獲取。另外，乙酮,1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲醯基)-9H-咔唑-3-基]-,1-(O-乙醯基肟)可作為易璐佳 (IRGACURE)OXE 02(巴斯夫(BASF)(股)製造，商品名)而於商業上獲取。該等可單獨使用或組合使用兩種以上。
上述通式(C-1)中，尤其極佳為1,2-辛二酮,1-[4-(苯硫基)苯基,2-(O-苯甲醯基肟)]。上述通式(C-2)中，尤其極佳為乙酮,1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲醯基)-9H-咔唑-3-基]-,1-(O-乙醯基肟)。
上述氧化膦化合物可列舉下述通式(C-3)及通式(C-4)所表示的化合物。就快速硬化性、透明性的觀點而言，較佳為下述通式(C-3)所表示的化合物。
上述通式(C-3)中，R6 、R7 及R8 分別獨立表示碳數1~20的烷基或芳基。通式(C-4)中，R9 、R10 及R11 分別獨立表示碳數1~20的烷基或芳基。
於上述通式(C-3)中的R6 、R7 或R8 為碳數1~20的烷基的情形及上述通式(C-4)中的R9 、R10 或R11 為碳數1~20的烷基的情形時，該烷基可為直鏈狀、分支鏈狀及環狀的任一種，另外該烷基的碳數更佳為5~10。
於上述通式(C-3)中的R6 、R7 或R8 為芳基的情形及上述通式(C-4)中的R9 、R10 或R11 為芳基的情形時，該芳基亦可具有取代基。該取代基例如可列舉碳數1~6的烷基及碳數1~4的烷氧基。
該等中，上述通式(C-3)較佳為R6 、R7 及R8 為芳基。另外，上述通式(C-4)較佳為R9 、R10 及R11 為芳基。
就所形成的保護膜的透明性、及將膜厚設定為10μm以下時的圖案形成能力的方面而言，上述通式(C-3)所表示的化合物較佳為2,4,6-三甲基苯甲醯基-二苯基-氧化膦。2,4,6-三甲基苯甲醯基-二苯基-氧化膦例如可作為路西林(LUCIRIN)TPO(巴斯夫(BASF)(股)公司製造，商品名)而於商業上獲取。
相對於(A)成分及(B1)成分的合計量100質量份，作為(C)成分的光聚合起始劑的含量較佳為0.1質量份~20質量份，更佳為1質量份~10質量份，進而佳為2質量份~5質量份。
藉由將(C)成分的含量設定為上述範圍內，光感度變充分，並且可抑制於曝光時於組成物的表面的吸收增大而內部的光硬化變得不充分、或可見光透射率降低等不良狀況。
繼而，對第二實施形態加以說明。第二實施形態中的(A)成分及(C)成分與上文第一實施形態中所述者相同。以下，對(B2)成分加以說明。
作為(B2)成分的具有胺基甲酸酯鍵的(甲基)丙烯酸 酯化合物例如可列舉：二(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯、異氰尿酸酯衍生(甲基)丙烯酸酯、具有基於聚酯多元醇的結構單元的(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯、具有基於聚碳酸酯的結構單元的(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯。
(B2)成分較佳為具有環氧烷基。具有環氧烷基及胺基甲酸酯鍵的(甲基)丙烯酸酯化合物例如可列舉：EO改質二(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯、PO改質二(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯、BO改質二(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯、EO-PO改質二(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯、EO‧BO改質二(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯、EO‧PO‧BO改質二(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯、EO改質異氰尿酸酯衍生(甲基)丙烯酸酯、PO改質異氰尿酸酯衍生(甲基)丙烯酸酯、BO改質異氰尿酸酯衍生(甲基)丙烯酸酯、EO‧PO改質異氰尿酸酯衍生(甲基)丙烯酸酯、EO‧BO改質異氰尿酸酯衍生(甲基)丙烯酸酯及EO‧PO‧BO改質異氰尿酸酯衍生(甲基)丙烯酸酯、具有基於含有環氧烷基的聚酯多元醇的結構單元的(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯、具有基於含有環氧烷基的聚碳酸酯的結構單元的(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯。
上述中，具有胺基甲酸酯鍵的(甲基)丙烯酸酯化合物較佳為含有EO改質二(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯、PO改質二(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯、EO‧PO改質二(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯、EO改質異氰尿酸酯衍生(甲基)丙烯酸酯、PO改質異氰尿酸酯衍生(甲基)丙烯酸酯、EO‧PO改質異氰尿酸酯衍生(甲基)丙烯酸酯、具有基於聚酯多元醇的結構單 元的(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯或具有基於聚碳酸酯的結構單元的(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯，更佳為含有EO改質異氰尿酸酯衍生(甲基)丙烯酸酯、具有基於聚酯多元醇的結構單元的(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯或具有基於聚碳酸酯的結構單元的(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯，進而佳為含有具有基於聚酯多元醇的結構單元的(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯或具有基於聚碳酸酯的結構單元的(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯。
另外，就兼具防銹性與耐龜裂性的觀點而言，上述具有胺基甲酸酯鍵的(甲基)丙烯酸酯化合物的重量平均分子量較佳為100~20000，更佳為300~20000，進而佳為500~20000，特佳為1000~15000，極佳為1500~15000。再者，重量平均分子量的測定條件是設定為與本申請案說明書的實施例相同的測定條件。
EO改質二(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯、PO改質二(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯、EO‧PO改質二(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯、EO改質異氰尿酸酯衍生(甲基)丙烯酸酯、PO改質異氰尿酸酯衍生(甲基)丙烯酸酯、EO‧PO改質異氰尿酸酯衍生(甲基)丙烯酸酯可使用下述通式(1)或通式(2)所表示的化合物。
上述通式(1)中，Q表示碳數1~20的伸烷基、碳數1~10的伸環烷基或伸苯基，R1 及R2 分別獨立表示氫原子或甲基，L1 、L2 及L3 分別獨立表示碳數2~4的伸烷基。r1及r2分別獨立表示1~40的整數，s1、s2、t1及t2分別獨立表示0~40的整數。其中，於s1、s2、t1及t2為0的情形時，L1 表示伸乙基。於r1、r2、s1、s2、t1或t2為2以上的情形時，多個存在的-L1 -O-、-L2 -O-或-L3 -O-所表示的結構單元可無規地存在亦可形成嵌段。再者，r1、r2、s1、s2、t1及t2表示各結構單元的個數。因此，於單一分子的情況下，r1、r2、s1、s2、t1及t2如上述般表示整數值，於作為多種分子的集合體的情況下，r1、r2、s1、s2、t1及t2表示作為平均值的有理數。以下，結構單元的個數的表述相同。
上述通式(2)中，R5 、R6 及R7 分別獨立表示碳數1~20的伸烷基，R8 、R9 及R10 分別獨立表示氫原子或甲基，L1 、L2 及L3 分別獨立表示碳數2~4的伸烷基。r3、r4及r5分別獨立表示1~40的整數，s3、s4、s5、t3、t4及t5分別獨立表示0~40的整數。其中，於s3、s4、s5、t3、 t4及t5為0的情形時，L1 表示伸乙基，於r3、r4、r5、s3、s4、s5、t3、t4或t5為2以上的情形時，多個存在的-L1 -O-、-L2 -O-或-L3 -O-所表示的結構單元可無規地存在亦可形成嵌段。
上述通式(1)及通式(2)中，較佳為-L1 -O-為環氧乙烷，-L2 -O-為環氧丙烷，-L3 -O-為環氧丁烷。再者，-L1 -O-、-L2 -O-及-L3 -O-所表示的結構單元的排列順序並無特別限定，亦可與上述通式(1)及通式(2)中記載的排列不同。
於上述通式(1)中，就使解析性更良好的觀點而言，Q較佳為碳數1~18的伸烷基、碳數1~8的伸環烷基或伸苯基，更佳為碳數1~15的伸烷基、碳數1~7的伸環烷基或伸苯基，進而佳為碳數1~10的伸烷基、碳數1~6的伸環烷基或伸苯基。
於上述通式(1)中，-L1 -O-為環氧乙烷、-L2 -O-為環氧丙烷、-L3 -O-為環氧丁烷的情形時，就使顯影性、剝離性更良好的觀點而言，r1及r2較佳為分別獨立為1~35，更佳為1~30，進而佳為1~25。另外，就使解析性更良好的觀點而言，s1及s2較佳為分別獨立為0~30，更佳為0~25，進而佳為0~20。進而，就使解析性更良好的觀點而言，t1及t2較佳為分別獨立為0~25，更佳為0~20，進而佳為0~15。
上述通式(1)所表示的化合物可使用市售品，亦可使用合成品。該等可單獨使用或任意組合使用兩種以上。
作為上述通式(1)所表示的化合物，可於商業上獲取下述式(3)所表示的EO改質二甲基丙烯酸胺基甲酸酯(日立化成工業(股)製造，樣品名「UA-11」：環氧乙烷平均10mol加成物)及下述式(4)所表示的EO改質二甲基丙烯酸胺基甲酸酯(日立化成工業(股)製造，樣品名「UA-13」：環氧乙烷平均2mol及環氧丙烷平均18mol加成物)。
於上述通式(2)中，就使解析性更良好的觀點而言，R5 、R6 及R7 較佳為分別獨立為碳數1~18的伸烷基，更佳為碳數1~15的伸烷基基，進而佳為碳數1~10的伸烷基。
於上述通式(2)中，-L1 -O-為環氧乙烷、-L2 -O-為環氧丙烷、-L3 -O-為環氧丁烷的情形時，就使顯影性、剝離性更良好的觀點而言，r3、r4及r5較佳為分別獨立為1~35，更佳為1~30，進而佳為1~25。另外，就使解析性更 良好的觀點而言，s3、s4及s5較佳為分別獨立為0~30，更佳為0~25，進而佳為0~20。進而，就使解析性更良好的觀點而言，t3、t4及t5較佳為分別獨立為0~30，更佳為0~25，進而佳為0~20。
上述通式(2)所表示的化合物可使用市售品，亦可使用合成品。該等可單獨使用或任意組合使用兩種以上。
作為上述通式(2)所表示的化合物，可於商業上獲取下述式(5)所表示的EO改質異氰尿酸酯衍生三甲基丙烯酸酯(新中村化學工業(股)製造，產品名「UA-7100」：環氧乙烷平均27mol加成物)及下述式(6)所表示的EO改質異氰尿酸酯衍生三甲基丙烯酸酯(新中村化學工業(股)製造，產品名「UA-21」：環氧乙烷平均12mol加成物)。
具有基於聚碳酸酯的結構單元的(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯或具有基於聚酯多元醇的結構單元的(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯可無特別限制地使用。
具有基於聚碳酸酯的結構單元的(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯例如可藉由以下方式獲得：使1,6-六亞甲基二異氰酸酯、2,2,4-三甲基-1,6-六亞甲基二異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯等二異氰酸酯化合物，丙烯酸2-羥乙酯、甲基丙烯酸2-羥乙酯等具有羥基及(甲基)丙烯醯基的化合物以及具有羥基的聚碳酸酯進行加成反應。市售品例如有UF-8001、UF-8003(共榮社化學股份有限公司，商品名)等。上述化合物能以單一化合物的形式使用，亦能以兩種以上的化合物的混合物的形式使用。
具有基於聚酯多元醇的結構單元的(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯例如可藉由以下方式獲得：使1,6-六亞甲基二異氰酸酯、2,2,4-三甲基-1,6-六亞甲基二異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯等二異氰酸酯化合物，丙烯酸2-羥乙酯、甲基丙烯酸2-羥乙酯等具有羥基及(甲基)丙烯醯基的化合物以及聚酯多元醇進行加成反應。市售品例如有UX-3204(日本化藥股份有限公司製造，商品名)等。具有基於上述聚酯多元醇的結構單元的(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯化合物能以單一化合物的形式使用，亦能以兩種以上的化合物的混合物的形式使用。
就進一步提高電極腐蝕的抑制力的觀點而言，(B2) 成分更佳為具有至少3個乙烯性不飽和基。此種化合物例如可列舉上述通式(5)及通式(6)所表示的化合物。另外，市售品可列舉UX-5000、DPHA-40H(均為日本化藥股份有限公司製造，多官能丙烯酸胺基甲酸酯)。
相對於(A)成分及(B2)成分的合計量100質量份，本實施形態的感光性樹脂組成物中的(A)成分及(B2)成分的含量較佳為(A)成分為75質量份~99質量份、(B2)成分為1質量份~25質量份，更佳為(A)成分為80質量份~97質量份、(B2)成分為3質量份~20質量份，進而佳為(A)成分為85質量份~95質量份、(B2)成分為5質量份~15質量份。
本實施形態的感光性樹脂組成物較佳為更含有上述具有胺基甲酸酯鍵的(甲基)丙烯酸酯化合物以外的第2光聚合性化合物。
第2光聚合性化合物可使用：可用作上述(B1)成分的化合物及可與(B1)成分併用的化合物。
於含有第2光聚合性化合物的情形時，相對於作為(B2)成分的具有胺基甲酸酯鍵的(甲基)丙烯酸酯化合物100質量份，較佳為2000質量份以下，更佳為1000質量份以下，進而佳為700質量份以下。
相對於(A)成分及含有(B2)成分的(B)成分的合計量100質量份，本實施形態的感光性樹脂組成物中的(A)成分的含量及含有(B2)成分的(B)成分的含量分別較佳為(A)成分為40質量份~80質量份、含有(B2) 成分的(B)成分為20質量份~60質量份，更佳為(A)成分為50質量份~70質量份、含有(B2)成分的(B)成分為30質量份~50質量份，進而佳為(A)成分為55質量份~65質量份，含有(B2)成分的(B)成分為35質量份~45質量份。
於第一實施形態及第二實施形態的感光性樹脂組成物中，亦可視需要而含有相對於(A)成分及(B)成分的合計量100質量份而分別為0.01質量份~20質量份左右的以下成分：防銹劑、矽烷偶合劑等密接性賦予劑、勻化劑、塑化劑、填充劑、消泡劑、阻燃劑、穩定劑、抗氧化劑、香料、熱交聯劑、聚合抑制劑等。該等可單獨使用或組合使用兩種以上。
第一實施形態及第二實施形態的感光性樹脂組成物較佳為400nm~700nm下的可見光線透射率的最小值為90%以上，更佳為92%以上，進而佳為95%以上。
此處，感光性樹脂組成物的可見光透射率可如以下般求出。首先，於支撐膜上以乾燥後的厚度成為10μm以下的方式塗佈含有感光性樹脂組成物的塗佈液，將其乾燥，藉此形成感光性樹脂組成物層(感光層)。繼而，於玻璃基板上使用層壓機以感光性樹脂組成物層接觸玻璃基板的方式層壓。如此而獲得於玻璃基板上積層有感光性樹脂組成物層及支撐膜的測定用試樣。然後，對所得的測定用試樣照射紫外線而使感光性樹脂組成物層進行光硬化後，使用紫外可見分光光度計對測定波長範圍為400nm~700nm 下的透射率進行測定。
若通常的可見光波長範圍的光線即400nm~700nm的波長範圍內的透射率為90%以上，則例如於保護觸控式面板(觸控式感測器)的感測區域的透明電極的情形、或保護觸控式面板(觸控式感測器)的額緣區域的金屬層(例如於ITO電極上形成有銅層的層等)時自感測區域的端部可見保護膜的情形時，可充分抑制感測區域中的圖像顯示品質、色度、亮度降低。
第一實施形態及第二實施形態的感光性樹脂組成物可用於在基材上形成感光層。例如，可製備可使感光性樹脂組成物均勻地溶解或分散於溶劑中所得的塗佈液，並塗佈於基材上，由此形成塗膜，藉由乾燥而去除溶劑，由此形成感光層。
就各成分的溶解性、塗膜形成的容易性等方面而言，溶劑可使用酮、芳香族烴、醇、二醇醚、二醇烷基醚、乙二醇烷基醚乙酸酯、酯或二乙二醇。該些溶劑可單獨使用一種，亦能以包含兩種以上的溶劑的混合溶劑的形式使用。
上述溶劑中，較佳為使用乙二醇單丁醚乙酸酯、二乙二醇單乙醚乙酸酯、二乙二醇二乙醚、二乙二醇乙基甲醚、二乙二醇二甲醚、丙二醇單甲醚、丙二醇單甲醚乙酸酯等。
第一實施形態及第二實施形態的感光性樹脂組成物較佳為如本實施形態的感光性元件般製成感光性膜而使用。藉由將感光性膜積層於具有觸控式面板用電極的基材上，可容易地實現捲對捲製程，可縮短溶劑乾燥步驟等，從而 可對製造步驟的縮短或成本減少作出大的貢獻。
感光性元件1的感光層20可藉由以下方式形成：製備含有第一實施形態及第二實施形態的感光性樹脂組成物的塗佈液，將其塗佈於支撐體膜上並加以乾燥。塗佈液可藉由以下方式獲得：將構成上述第一實施形態及第二實施形態的感光性樹脂組成物的各成分均勻地溶解或分散於溶劑中。
溶劑並無特別限制，可使用公知的溶劑，例如可列舉：丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、甲苯、甲醇、乙醇、丙醇、丁醇、亞甲基二醇、乙二醇、丙二醇、乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、二乙二醇二甲醚、二乙二醇乙基甲醚、二乙二醇二乙醚、丙二醇單甲醚、乙二醇單丁醚乙酸酯、二乙二醇單乙醚乙酸酯、丙二醇單甲醚乙酸酯、氯仿及二氯甲烷。該些溶劑可單獨使用一種，亦能以包含兩種以上的溶劑的混合溶劑的形式使用。
塗佈方法例如可列舉：刮刀塗佈法、繞線棒塗佈法(Meyerbar coating method)、輥塗佈法、網版塗佈法、旋轉塗佈法、噴墨塗佈法、噴霧塗佈法、浸漬塗佈法、凹版塗佈法、簾幕式塗佈法、模塗佈法等。
乾燥條件並無特別限制，乾燥溫度較佳為設定為60℃~130℃，乾燥時間較佳為設定為30秒~30分鐘。
關於感光層的厚度，為了發揮充分保護電極的效果、且使因局部地形成電極保護膜而產生的觸控式面板(觸控式感測器)表面的階差變得極小，感光層的厚度以乾燥後 的厚度計而較佳為1μm以上、9μm以下，更佳為1μm以上、8μm以下，進而佳為2μm以上、8μm以下，特佳為3μm以上、8μm以下。
感光層20較佳為可見光透射率為90%以上，更佳為92%以上，進而佳為95%以上。
關於感光層20的黏度，就將感光性元件製成輥狀的情形時，於一個月以上的期間中防止感光性樹脂組成物自感光性元件的端面滲出的方面、及防止於切斷感光性元件時感光性樹脂組成物的碎片附著於基板上而引起的照射活性光線時的曝光不良或顯影殘渣等的方面而言，感光層20的黏度於30℃下較佳為15mPa．s~100mPa．s，更佳為20mPa．s~90mPa．s，進而佳為25mPa．s~80mPa．s。
再者，上述黏度為以下的值：將由感光性樹脂組成物形成的直徑為7mm、厚度為2mm的圓形的膜作為測定用試樣，於該試樣的厚度方向上於30℃及80℃下施加1.96×10-2 N的荷重時，測定厚度的變化速度，根據該變化速度假設其為牛頓流體而換算成黏度的值。
保護膜30(蓋膜)例如可列舉：包含聚乙烯、聚丙烯、聚對苯二甲酸乙二酯、聚碳酸酯、聚乙烯-乙酸乙烯酯共聚物及聚乙烯-乙酸乙烯酯共聚物與聚乙烯的積層膜等的膜。
保護膜30的厚度較佳為5μm~100μm左右，就捲成輥狀而保管的觀點而言，較佳為70μm以下，更佳為60μm以下，進而佳為50μm以下，特佳為40μm以下。
感光性元件1可捲成輥狀而保管或使用。
於本發明中，亦可將含有上述第一實施形態及第二實施形態的感光性樹脂組成物及溶劑的塗佈液塗佈於具有觸控式面板用電極的基材上，加以乾燥，設置包含感光性樹脂組成物的感光層。於該用途的情況下，亦較佳為感光層滿足上述膜厚、可見光線透射率的條件。
繼而，對本發明的觸控式面板用電極的保護膜的形成方法加以說明。圖2為用以說明本發明的觸控式面板用電極的保護膜的形成方法的一實施形態的示意剖面圖。
本實施形態的觸控式面板用電極的保護膜的形成方法包括以下步驟：第1步驟，於具有觸控式面板用電極110及觸控式面板用電極120的基材100上，設置包含上述本實施形態的感光性樹脂組成物的感光層20；第2步驟，藉由照射含有紫外線的活性光線使感光層20的既定部分硬化；及第3步驟，於照射活性光線後將既定部分以外的感光層(感光層的未照射活性光線的部分)去除，形成保護膜22，該保護膜22被覆電極的一部分或全部的包含感光性樹脂組成物的硬化膜圖案。如此，可獲得作為觸控式輸入片材的帶有保護膜的觸控式面板(觸控式感測器)200。
本實施形態中使用的基材100可列舉通常被用作觸控式面板(觸控式感測器)用的玻璃板、塑膠板、陶瓷板等基板。基材100的厚度可根據使用目的而適當選擇，亦可使用膜狀的基板。膜狀的基材例如可列舉：聚對苯二甲酸乙二酯膜、聚碳酸酯膜、環烯烴聚合物膜。於該基板上設置觸控式面板用電極(該觸控式面板用電極成為形成保護 膜的對象)。電極可列舉ITO、Cu、Al、Mo等的電極、TFT等。另外，亦可於基板上於基板與電極之間設有絕緣層。
圖2所示的具有觸控式面板用電極110及觸控式面板用電極120的基材100例如可由以下順序獲得。於PET膜等的基材上100以ITO、Cu的順序藉由濺鍍形成金屬膜後，於金屬膜上貼附蝕刻用感光性膜，形成所需的抗蝕劑圖案，利用氯化鐵水溶液等蝕刻液將不需要的Cu去除後，將抗蝕劑圖案剝離去除。
於本實施形態的第1步驟中，將本實施形態的感光性元件1的保護膜30去除後，一面加熱感光性元件，一面於基材100的設有觸控式面板用電極110及觸控式面板用電極120的表面上壓接感光層20，藉此進行轉印、積層(參照圖2(a))。
壓接機構可列舉壓接輥。壓接輥亦可具有加熱機構以可進行加熱壓接。
關於加熱壓接的情形的加熱溫度，為了充分確保感光層與基材的密接性、以及感光層20與觸控式面板用電極110及觸控式面板用電極120的密接性，並且使感光層的構成成分不易發生熱硬化或熱分解，加熱溫度較佳為設定為10℃~180℃，更佳為設定為20℃~160℃，進而佳為設定為30℃~150℃。
另外，關於加熱壓接時的壓接壓力，就充分確保感光層與基材的密接性、並且抑制基材的變形的觀點而言，壓接壓力以線壓計而較佳為設定為50N/m~1×105 N/m，更 佳為設定為2.5×102 N/m~5×104 N/m，進而佳為設定為5×102 N/m~4×104 N/m。
若如上述般加熱感光性元件1，則無需對基材進行預熱處理，但就進一步提高感光層與基材的密接性的方面而言，較佳為對基材進行預熱處理。此時的預熱溫度較佳為設定為30℃~180℃。
於本實施形態中，亦可代替使用感光性元件，而製備含有本實施形態的感光性樹脂組成物及溶劑的塗佈液，塗佈於基材100的設有觸控式面板用電極110及觸控式面板用電極120的表面上，加以乾燥而形成感光層20。
感光層20較佳為滿足上述膜厚、可見光線透射率的條件。
於本實施形態的第2步驟中，對感光層20的既定部分經由光罩130以圖案狀照射活性光線L(參照圖2(b))。
照射活性光線時，於感光層20上的支撐膜10為透明的情形時，可直接照射活性光線，於感光層20上的支撐膜10為不透明的情形時，將該支撐膜10去除後照射活性光線。就保護感光層的方面而言，較佳為使用透明的聚合物膜作為支撐膜10，保持該聚合物膜殘存的狀態通過該聚合物膜照射活性光線。
用於照射活性光線的活性光線的光源可使用公知的活性光源，例如可列舉碳弧燈、超高壓水銀燈、高壓水銀燈及氙氣燈，只要是有效地放射紫外線的光源，則並無特別限制。
此時的活性光線的照射量通常為1×102 J/m2 ~1×104 J/m2 ，照射時亦可伴有加熱。若該活性光線照射量小於1×102 J/m2 ，則有光硬化的效果變得不充分的傾向，若該活性光線照射量超過1×104 J/m2 ，則有感光層變色的傾向。
於本實施形態的第3步驟中，利用顯影液對照射活性光線後的感光層進行顯影，將未照射活性光線的部分(即感光層的既定部分以外)去除，形成保護膜22，該保護膜22被覆電極的一部分或全部的包含本實施形態的感光性樹脂組成物的硬化物(參照圖2(c))。所形成的保護膜22可具有既定的圖案。
再者，照射活性光線後，於感光層上積層有支撐膜的情形時將該支撐膜去除後，進行利用顯影液將未照射活性光線的部分去除的顯影。
顯影方法可列舉：使用鹼性水溶液、水系顯影液、有機溶劑等公知的顯影液，藉由噴霧、噴淋、搖晃浸漬、刷洗、刮擦(scraping)等公知的方法進行顯影，將不需要的部分去除的方法等，其中，就環境、安全性的觀點而言較佳為使用鹼性水溶液。
鹼性水溶液中，較佳為碳酸鈉的水溶液。例如可較佳地使用20℃~50℃的碳酸鈉的稀薄溶液(0.5質量%~5質量%水溶液)。
顯影溫度及時間可根據本實施形態的感光性樹脂組成物的顯影性來調整。
另外，可於鹼性水溶液中混入界面活性劑、消泡劑、 用以促進顯影的少量的有機溶劑等。
另外，顯影後，可使用有機酸、無機酸或該等的酸水溶液，藉由噴霧、搖晃浸漬、刷洗、刮擦等公知方法對光硬化後的感光層中殘存的鹼性水溶液的鹼進行酸處理(中和處理)。
進而，亦可於酸處理(中和處理)後進行水洗步驟。
顯影後，視需要亦可藉由照射活性光線(例如5×103 J/m2 ~2×104 J/m2 )使硬化物進一步硬化。再者，本實施形態的感光性樹脂組成物即便不進行顯影後的加熱步驟亦對金屬顯示優異的密接性，但視需要亦可代替顯影後的活性光線的照射或與活性光線的照射一起實施加熱處理(80℃~250℃)。
如上所述，本實施形態的感光性樹脂組成物與感光性元件適合用於形成觸控式面板用電極的保護膜。關於感光性樹脂組成物的上述使用，可使用與溶劑混合的塗佈液來形成保護膜。
另外，本發明可提供一種含有本發明的感光性樹脂組成物的保護膜的形成材料。該保護膜的形成材料可含有上述本實施形態的感光性樹脂組成物，較佳為更含有上述溶劑的塗佈液。
繼而，使用圖3、圖4及圖5對本發明的保護膜的使用部位的一例加以說明。圖3為表示靜電電容式的觸控式面板的一例的示意俯視圖。圖3所示的觸控式面板於透明基板101的單面上具有用以檢測觸控位置座標的觸控式畫 面102，於基板101上設有用以檢測該觸控式畫面102的區域的靜電電容變化的透明電極103及透明電極104。透明電極103及透明電極104分別檢測觸控位置的X座標及Y座標。
於透明基板101上，設有用以自透明電極103及透明電極104將觸控位置的檢測信號傳達至外部電路的伸出配線105。另外，伸出配線105與透明電極103及與透明電極104藉由設於透明電極103及透明電極104上的連接電極106而連接。另外，於伸出配線105的與和透明電極103及透明電極104的連接部為相反側的端部，設有與外部電路連接的連接端子107。本發明的感光性樹脂組成物可較佳地用於形成作為伸出配線105、連接電極106及連接端子107的保護膜122的樹脂硬化膜圖案。此時，亦可同時保護位於感測區域中的電極。圖3中，藉由保護膜122來保護伸出配線105、連接電極106、感測區域的一部分電極及連接端子107的一部分，但設置保護膜的部位亦可適當變更。例如，亦可如圖4所示般以保護整個觸控式畫面102的方式設置保護膜123。
使用圖5，於圖3所示的觸控式面板中對透明電極與伸出配線的連接部的剖面結構加以說明。圖5為沿著圖3所示的C部分的V-V線的局部剖面圖，為用以說明透明電極104與伸出配線105的連接部的圖。如圖5(a)所示，透明電極104與伸出配線105經由連接電極106而電性連接。如圖5(a)所示，透明電極104的一部分以及伸出配 線105及連接電極106的全部是由作為保護膜122的樹脂硬化膜圖案所覆蓋。同樣地，透明電極103與伸出配線105經由連接電極106而電性連接。再者，如圖5(b)所示，透明電極104與伸出配線105亦可直接電性連接。本發明的感光性樹脂組成物與感光性元件適合用於形成作為上述結構部分的保護膜的樹脂硬化膜圖案。
對本實施形態的觸控式面板的製造方法加以說明。首先，於設於基材100上的透明電極101上形成透明電極(X位置座標)103。繼而，形成透明電極(Y位置座標)104。透明電極103及透明電極104的形成可使用對形成於透明基材100上的透明電極層進行蝕刻的方法等。
繼而，於透明基板101的表面上，形成用以與外部電路連接的伸出配線105、以及將該伸出配線與透明電極103及透明電極104連接的連接電極106。伸出配線105及連接電極106可於形成透明電極103及透明電極104後形成，亦可於形成各透明電極時同時形成。伸出配線105及連接電極106的形成可於金屬濺鍍後使用蝕刻法等。伸出配線105例如可使用含有鱗片狀銀的導電糊材料，使用網版印刷法於形成連接電極106的同時形成。繼而，形成用以將伸出配線105與外部電路連接的連接端子107。
以覆蓋藉由上述步驟而形成的透明電極103及透明電極104、伸出配線105、連接電極106以及連接端子107的方式，壓接本實施形態的感光性元件1，於上述電極上設置感光層20。繼而，對經轉印的感光層20以所需形狀 經由光罩以圖案狀照射活性光線L。照射活性光線L後，進行顯影，將感光層20的既定部分以外去除，由此形成包含感光層20的既定部分的硬化物的保護膜122。如此可製造具有保護膜122的觸控式面板。
實施例
以下，列舉實施例對本發明加以更具體說明。然而，本發明不限定於以下的實施例。
[黏合聚合物溶液(A1)的製作]
於具備攪拌機、回流冷凝機、惰性氣體導入口及溫度計的燒瓶中加入表1所示的(1)，於氮氣環境下升溫至80℃，一面將反應溫度保持於80℃±2℃，一面用4小時均勻滴加表1所示的(2)。滴加(2)後，於80℃±2℃下繼續攪拌6小時，獲得重量平均分子量為約65,000、酸值為78mg KOH/g的黏合聚合物的溶液(固體成分為45質量%)(A1)。
[黏合聚合物溶液(A2)的製作]
與上述(A1)同樣地獲得重量平均分子量為約80,000、酸值為115mg KOH/g的黏合聚合物的溶液(固體成分為45質量%)(A2)。
[黏合聚合物溶液(A3)的製作]
與上述(A1)同樣地獲得重量平均分子量為約35,000、酸值為156mg KOH/g的黏合聚合物的溶液(固體成分為45質量%)(A3)。
[黏合聚合物溶液(A4)的製作]
與上述(A1)同樣地獲得重量平均分子量為約45,000、酸值為195mg KOH/g的黏合聚合物的溶液(固體成分為45質量%)(A4)。
再者，重量平均分子量(Mw)是藉由以下方式導出：藉由凝膠滲透層析法(Gel Permeation Chromatography，GPC)進行測定，並使用標準聚苯乙烯的校準曲線進行換算。以下示出GPC的條件。
GPC條件
泵：日立L-6000型(日立製作所(股)製造，產品名)
管柱：Gelpack GL-R420、Gelpack GL-R430、Gelpack GL-R440(以上為日立化成工業(股)製造，產品名)
溶離液：四氫呋喃
測定溫度：40℃
流量：2.05mL/min
檢測器：日立L-3300型折射率檢測器(Refractive Index，RI)(日立製作所(股)製造，產品名)
[酸值的測定方法]
酸值是如以下般測定。首先，將黏合聚合物溶液於130℃下加熱1小時，將揮發成分去除而獲得固體成分。繼而，準確稱量作為酸值的測定對象的黏合聚合物1g後，於該黏合聚合物中添加丙酮30g並使其均勻溶解。繼而，將作為指示劑的酚酞適量添加至該溶液中，使用0.1N的KOH水溶液進行滴定。繼而，藉由下式算出酸值。
酸值=0.1×Vf×56.1/(Wp×I/100)
式中，Vf表示KOH水溶液的滴定量(mL)，Wp表示所測定的樹脂溶液的重量(g)，I表示所測定的樹脂溶液中的不揮發成分的比例(質量%)。
(實施例1)
[含有感光性樹脂組成物的塗佈液(V-1)的製作]
使用攪拌機將表2所示的材料混合15分鐘，製作用以形成保護膜的含有感光性樹脂組成物的塗佈液(V-1)。
[感光性元件(E-1)的製作]
使用厚度為50μm的聚對苯二甲酸乙二酯膜作為支撐膜，使用刮刀式塗佈機(comma coater)將感光性樹脂組成物(V-1)均勻塗佈於支撐膜上，利用100℃的熱風對流式乾燥機乾燥3分鐘而去除溶劑，形成包含感光性樹脂組 成物的感光層(感光性樹脂組成物層)。所得的感光層的厚度為5μm。
繼而，於所得的感光層上進一步貼合厚度為25μm的聚乙烯膜作為蓋膜，製作感光性元件(E-1)。
[保護膜的透射率的測定]
一面剝離所得的感光性元件(E-1)的聚乙烯膜，一面於厚度為1mm的玻璃基板上以感光層接觸玻璃基板的方式，使用層壓機(日立化成工業(股)製造，商品名HLM-3000型)於輥溫度為120℃、基板進給速度為1m/min、壓接壓力(汽缸壓力)為4×105 Pa(由於使用厚度為1mm、縱10cm×橫10cm的基板，故此時的線壓為9.8×103 N/m)的條件下進行層壓，製作於玻璃基板上積層有感光層及支撐膜的積層體。
繼而，使用平行光線曝光機(歐維希(ORC)製作所(股)製造，EXM1201)，對所得的積層體的感光層自感光層側上方以5×102 J/m2 的曝光量(i射線(波長365nm)下的測定值)照射紫外線後，去除支撐膜，獲得具有厚度為5.0μm的保護膜(感光性樹脂組成物進行光硬化而成的硬化膜)的透射率測定用試樣。
繼而，使用日立製作所製造的紫外可見分光光度計(U-3310)，對所得的試樣於400nm~700nm的測定波長範圍內測定可見光線透射率。所得的保護膜的透射率於波長700nm下為97%，於波長為550nm下為96%，於波長為400nm下為94%，400nm~700nm下的透射率的最小 值為94%，可確保良好的透射率。
[保護膜的鹽水噴霧試驗(人工汗液耐性評價試驗)]
一面剝離所得的感光性元件(E-1)的聚乙烯膜，一面於帶有濺鍍銅的聚醯亞胺膜(東麗膜加工(股)製造)上以感光層接觸濺鍍銅的方式，使用層壓機(日立化成工業(股)製造，商品名HLM-3000型)於輥溫度為120℃、基板進給速度為1m/min、壓接壓力(汽缸壓力)為4×105 Pa(由於使用厚度為1mm、縱10cm×橫10cm的基板，故此時的線壓為9.8×103 N/m)的條件下進行層壓，製作於濺鍍銅上積層有感光層及支撐膜的積層體。
繼而，使用平行光線曝光機(歐維希(ORC)製作所(股)製造，EXM1201)，對所得的積層體的感光層自感光層側上方以5×102 J/m2 的曝光量(i射線(波長365nm)下的測定值)照射紫外線後，去除支撐膜，進而自感光層側上方以1×104 J/m2 的曝光量(i射線(波長為365nm)下的測定值)照射紫外線，獲得具有厚度為5.0μm的保護膜(感光性樹脂組成物進行光硬化而成的硬化膜)的人工汗液耐性評價用試樣。
繼而，參考日本工業規格(Japanese Industrial Standards，JIS)標準(Z2371)，使用鹽水噴霧試驗機(斯加試驗機(Suga tester)(股)製造，STP-90V2)於試驗槽內載置上述試樣，於試驗槽溫度為35℃的條件下，將濃度為50g/L的鹽水(pH值=6.7)以1.5mL/h的噴霧量噴霧48小時。噴霧結束後拭去鹽水，觀察評價用試樣的表面狀 態，按照以下的評級進行評價。
A：保護膜表面完全未變化。
B：保護膜表面上可見極少的痕跡，但銅未變化。
C：保護膜表面上可見痕跡，但銅未變化。
D：保護膜表面上有痕跡，且銅變色。
觀察評價用試樣的表面狀態，結果保護膜表面上可見極少的痕跡但銅未變化，評價為B。
[感光層的顯影殘渣試驗]
一面剝離所得的感光性元件的聚乙烯膜，一面於帶有濺鍍銅的聚醯亞胺膜(東麗膜加工(股)製造)上以感光層接觸濺鍍銅的方式，使用層壓機(日立化成工業(股)製造，商品名HLM-3000型)於輥溫度為120℃、基板進給速度為1m/min、壓接壓力(汽缸壓力)為4×105 Pa(由於使用厚度為1mm、縱10cm×橫10cm的基板，故此時的線壓為9.8×103 N/m)的條件下進行層壓，製作於濺鍍銅上積層有感光層及支撐膜的積層體。
製作上述所得的積層體後，於溫度23℃、濕度60%的條件下保管24小時後，使用活性光線透射部與活性光線遮光部交替圖案化的線/間隙為300μm/300μm的光罩，於支撐膜上載置光罩，使用平行光線曝光機(歐維希(ORC)製作所(股)製造，EXM1201)自光罩面垂直上方以5×102 J/m2 的曝光量(i射線(波長為365nm)下的測定值)以圖像狀照射紫外線。
繼而，將積層於感光層上的支撐膜去除，使用1.0質 量%碳酸鈉水溶液，於30℃下噴霧顯影40秒鐘，選擇性地去除感光層，形成保護膜圖案。利用顯微鏡對所得的帶有保護膜圖案的基板的選擇性地去除了感光層的部分的基材表面狀態進行觀察，按照以下的評級來評價顯影殘渣。
A：基材表面完全未變化。
B：基材表面的銅稍許變色，但並無顯影殘渣。
C：基材表面的銅稍許變色，稍許產生顯影殘渣。
D：產生顯影殘渣。
對評價用試樣的表面狀態進行觀察，結果基材表面完全未變化，評價為A。
[保護膜的拉伸試驗]
將所得的感光性膜的元件(感光層厚為40μm)切出成10mm×50mm的樣品片，使用平行光線曝光機(歐維希(ORC)製作所(股)製造，EXM1201)，自感光層側上方以1×104 J/m2 的曝光量(i射線(波長365nm)下的測定值)自支撐膜側照射紫外線。其後，去除支撐膜及聚乙烯膜，獲得具有厚度為40.0μm的保護膜(感光性樹脂組成物進行光硬化而成的硬化膜)的拉伸試驗用試樣。
繼而，參考JIS標準(K7127)實施拉伸試驗。於島津製作所製造的(奧托格拉芙(Autograph)AGS-5kNG)試驗機中，以夾具間距離為20mm而設置上述所得的拉伸試驗用試樣，以5mm/min的速度進行拉伸試驗，按照以下的評級來評價保護膜的彈性模數及伸長率。
A：彈性模數小於1.0GPa
B：彈性模數為1.0GPa以上、小於1.5GPa
C：彈性模數為1.5GPa以上、小於2.0GPa
D：彈性模數為2.0GPa以上
根據對評價用試樣的拉伸試驗結果，彈性模數為1.489GPa，評價為B。
(實施例2~實施例13、比較例1~比較例4)
除了使用表2~表4(表中的數值的單位為質量份)所示的感光性樹脂組成物溶液以外，與實施例1同樣地製作感光性元件，並進行透射率的測定、鹽水噴霧試驗、顯影殘渣試驗、保護膜的拉伸試驗。如表5~表7所示，與比較例1~比較例4相比較，實施例1~實施例13中，透射率的測定、鹽水噴霧耐性評價、耐龜裂性均為良好的結果。
表2~表4的成分的記號表示以下含意。
(A)成分
(A1)：單體調配比(甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/丙烯酸乙酯：12/58/30(質量比))的共聚物的丙二醇單甲醚/甲苯溶液，重量平均分子量為65,000，酸值為78mg KOH/g
(A2)：單體調配比(甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/丙烯酸乙酯=17.5/52.5/30(質量比))的共聚物的丙二醇單甲醚/甲苯溶液，重量平均分子量為80,000、酸值為115mg KOH/g
(A3)：單體調配比(甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/丙烯酸丁酯/甲基丙烯酸丁酯=24/43.5/15/17.5(質量比))的共聚物的丙二醇單甲醚/甲苯溶液，重量平均分子量為35,000、酸值為156mg KOH/g
(A4)：單體調配比(甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/甲基丙烯酸丁酯=30/35/35(質量比))的共聚物的丙二醇單甲醚/甲苯溶液，重量平均分子量為45,000，酸值為195mg KOH/g
(B)成分
SR454：環氧乙烷改質三羥甲基丙烷三丙烯酸酯，環氧乙烷的平均值為3(沙多瑪(SARTOMER)公司製造)
SR499：環氧乙烷改質三羥甲基丙烷三丙烯酸酯，環氧乙烷的平均值為6(沙多瑪(SARTOMER)公司製造)
SR502：環氧乙烷改質三羥甲基丙烷三丙烯酸酯，環氧乙烷的平均值為9(沙多瑪(SARTOMER)公司製造)
SR415：環氧乙烷改質三羥甲基丙烷三丙烯酸酯，環氧乙烷的平均值為20(沙多瑪(SARTOMER)公司製造)
SR315S：三羥甲基丙烷三丙烯酸酯(沙多瑪(SARTOMER)公司製造)
DPEA-12：環氧乙烷改質二季戊四醇六丙烯酸酯，環氧乙烷的平均值為6(日本化藥(股)製造)
RP-1040：EO改質季戊四醇四丙烯酸酯，環氧乙烷的平均值為4(日本化藥(股)製造)
ATM-4E：EO改質季戊四醇四丙烯酸酯，環氧乙烷的平均值為4(新中村化學工業(股)製造)
ATM-4P：PO改質季戊四醇四丙烯酸酯，環氧丙烷的平均值為4(新中村化學工業(股)製造)
UX-3204：具有基於聚酯多元醇的結構單元及基於六亞甲基二異氰酸酯的結構單元的丙烯酸胺基甲酸酯(日本化藥股份有限公司製造，商品名，重量平均分子量為13000)
UF-8001：具有基於聚碳酸酯的結構單元及基於二甲基異佛爾酮二異氰酸酯的結構單元的丙烯酸胺基甲酸酯(共榮社化學股份有限公司製造，商品名，重量平均分子量為4500)
UF-8003：具有基於聚碳酸酯的結構單元及基於二甲基異佛爾酮二異氰酸酯的結構單元的丙烯酸胺基甲酸酯(共榮社化學股份有限公司製造，商品名，重量平均分子量為14200)
UA-21：三(甲基丙烯醯氧基四乙二醇異氰酸酯六亞甲基)異氰尿酸酯(新中村化學工業(股)製造，商品名，重量平均分子量為1290)
A-TMMT：季戊四醇四丙烯酸酯(新中村化學工業(股)製造)
TMPTA：三羥甲基丙烷三丙烯酸酯(日本化藥(股)製造)
DPHA：二季戊四醇六丙烯酸酯(日本化藥(股)製 造)
BPE-500：乙氧基化雙酚A二甲基丙烯酸酯(新中村化學工業(股)製造)
9G：聚乙二醇#400二甲基丙烯酸酯(新中村化學工業(股)製造)
(C)成分
易璐佳(IRGACURE)OXE 01：1,2-辛二酮,1-[(4-苯硫基)苯基,2-(O-苯甲醯基肟)](巴斯夫(BASF)(股)製造)
其他成分
安塔格(Antage)W-500：2,2'-亞甲基-雙(4-乙基-6-第三丁基苯酚)(川口化學(股)製造)
甲基乙基酮：東燃化學(股)製造
可確認：實施例1~實施例13具有充分的顯影性，並且即便藉由光硬化所形成的膜為10μm以下的厚度亦可顯示充分的防銹性，且可形成拉伸試驗中的彈性模數充分小的膜。
1‧‧‧感光性元件
10‧‧‧支撐膜
20‧‧‧感光層
22、30、122、123‧‧‧保護膜
100‧‧‧基材
101‧‧‧透明基板
102‧‧‧觸控式畫面
103‧‧‧透明電極(X位置座標)
104‧‧‧透明電極(Y位置座標)
105‧‧‧伸出配線
106‧‧‧連接電極
107‧‧‧連接端子
110、120‧‧‧觸控式面板用電極
130‧‧‧光罩
200‧‧‧觸控式面板
C‧‧‧部分
L‧‧‧活性光線
V-V‧‧‧剖面線
X、Y‧‧‧座標軸
圖1為表示本發明的感光性元件的一實施形態的示意剖面圖。
圖2(a)至圖2(c)為用以說明本發明的觸控式面板用電極的保護膜的形成方法的一實施形態的示意剖面圖。
圖3為表示靜電電容式的觸控式面板的一例的示意俯視圖。
圖4為表示靜電電容式的觸控式面板的另一例的示意俯視圖。
圖5(a)為沿著圖3所示的C部分的V-V線的局部剖面圖，圖5(b)為表示其他態樣的局部剖面圖。
1‧‧‧感光性元件
10‧‧‧支撐膜
20‧‧‧感光層
30‧‧‧保護膜

Claims (12)

  1. 一種觸控式面板用電極的保護膜的形成方法，包括：於具有觸控式面板用電極的基材上設置包含感光性樹脂組成物的感光層，上述感光性樹脂組成物含有具有羧基且酸值為30mg KOH/g~120mg KOH/g的黏合聚合物、光聚合性化合物及光聚合起始劑，且上述光聚合性化合物含有具有至少3個乙烯性不飽和基及環氧烷基的化合物；以及使該感光層的既定部分藉由照射活性光線而硬化後，將上述既定部分以外去除，形成被覆上述電極的一部分或全部的包含上述感光性樹脂組成物的硬化物的保護膜。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之觸控式面板用電極的保護膜的形成方法，其中上述具有至少3個乙烯性不飽和基及環氧烷基的化合物包含選自由環氧烷改質季戊四醇(甲基)丙烯酸酯化合物、環氧烷改質二季戊四醇(甲基)丙烯酸酯化合物、環氧烷改質三羥甲基丙烷(甲基)丙烯酸酯化合物及環氧烷改質甘油(甲基)丙烯酸酯化合物所組成的組群中的至少一種化合物。
  3. 一種觸控式面板用電極的保護膜的形成方法，包括：於具有觸控式面板用電極的基材上設置包含感光性樹脂組成物的感光層，上述感光性樹脂組成物含有具有羧基且酸值為30mg KOH/g~120mg KOH/g的黏合聚合物、光 聚合性化合物及光聚合起始劑，且上述光聚合性化合物含有具有胺基甲酸酯鍵的(甲基)丙烯酸酯化合物；以及使該感光層的既定部分藉由照射活性光線而硬化後，將上述既定部分以外去除，形成被覆上述電極的一部分或全部的包含上述感光性樹脂組成物的硬化物的保護膜。
  4. 如申請專利範圍第3項所述之觸控式面板用電極的保護膜的形成方法，其中上述具有胺基甲酸酯鍵的(甲基)丙烯酸酯化合物具有至少3個乙烯性不飽和基。
  5. 如申請專利範圍第3項所述之觸控式面板用電極的保護膜的形成方法，其中上述感光性樹脂組成物更含有上述具有胺基甲酸酯鍵的(甲基)丙烯酸酯化合物以外的第2光聚合性化合物。
  6. 如申請專利範圍第4項所述之觸控式面板用電極的保護膜的形成方法，其中上述感光性樹脂組成物更含有上述具有胺基甲酸酯鍵的(甲基)丙烯酸酯化合物以外的第2光聚合性化合物。
  7. 如申請專利範圍第5項所述之觸控式面板用電極的保護膜的形成方法，其中上述第2光聚合性化合物具有至少3個乙烯性不飽和基。
  8. 如申請專利範圍第6項所述之觸控式面板用電極的保護膜的形成方法，其中上述第2光聚合性化合物具有至少3個乙烯性不飽和基。
  9. 如申請專利範圍第1項至第8項中任一項所述之觸控式面板用電極的保護膜的形成方法，其中上述感光層的 400nm~700nm下的可見光透射率的最小值為90%以上。
  10. 如申請專利範圍第1項至第8項中任一項所述之觸控式面板用電極的保護膜的形成方法，其中上述光聚合起始劑含有肟酯化合物及/或氧化膦化合物。
  11. 如申請專利範圍第1項至第8項中任一項所述之觸控式面板用電極的保護膜的形成方法，其中準備感光性元件，該感光性元件具備支撐膜及設於該支撐膜上且包含上述感光性樹脂組成物的感光層，將該感光性元件的感光層轉印至上述基材上而設置上述感光層。
  12. 一種觸控式面板的製造方法，其包括：於具有觸控式面板用電極的基材上，藉由如申請專利範圍第1項至第11項中任一項所述之方法形成被覆上述電極的一部分或全部的保護膜。
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