TWI341857B - Curable organopolysiloxane composition and semiconductor device - Google Patents
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- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 119
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 74
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 title claims abstract 8
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 52
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 29
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims abstract description 20
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims abstract description 15
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims abstract 2
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims description 27
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 8
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000004575 stone Substances 0.000 claims description 6
- 229920002098 polyfluorene Polymers 0.000 claims description 3
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 claims description 2
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical group [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000000779 smoke Substances 0.000 claims 1
- -1 siloxane units Chemical group 0.000 abstract description 23
- 238000011049 filling Methods 0.000 abstract description 8
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 6
- 239000007809 chemical reaction catalyst Substances 0.000 abstract description 4
- 238000006459 hydrosilylation reaction Methods 0.000 abstract 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 59
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 31
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 26
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 21
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 16
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 14
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 14
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 12
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 11
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 11
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 11
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 10
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 10
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 10
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 9
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 9
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 9
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 9
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 7
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 7
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical group [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 150000002923 oximes Chemical group 0.000 description 6
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 6
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 6
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 5
- 238000007373 indentation Methods 0.000 description 5
- 239000011253 protective coating Substances 0.000 description 5
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 5
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 4
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N Hydrazine Chemical compound NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 4
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 4
- MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N anthracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C21 MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 4
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 4
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N n-butylhexane Natural products CCCCCCCCCC DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical group C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DHXVGJBLRPWPCS-UHFFFAOYSA-N Tetrahydropyran Chemical compound C1CCOCC1 DHXVGJBLRPWPCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 239000002318 adhesion promoter Substances 0.000 description 3
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000007530 organic bases Chemical class 0.000 description 3
- 150000008116 organic polysulfides Chemical class 0.000 description 3
- 150000002924 oxiranes Chemical class 0.000 description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 3
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 3
- KSLSOBUAIFEGLT-UHFFFAOYSA-N 2-phenylbut-3-yn-2-ol Chemical compound C#CC(O)(C)C1=CC=CC=C1 KSLSOBUAIFEGLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical group O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000001444 catalytic combustion detection Methods 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 2
- 239000003599 detergent Substances 0.000 description 2
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 235000013399 edible fruits Nutrition 0.000 description 2
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000004020 luminiscence type Methods 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002910 rare earth metals Chemical class 0.000 description 2
- 239000002683 reaction inhibitor Substances 0.000 description 2
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 2
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- POIHBQZRXFDOPO-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)-9h-fluorene Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=C(C=C)C(C=C)=C3CC2=C1 POIHBQZRXFDOPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KQURJSFNROIZBJ-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis(ethenyl)anthracene Chemical compound C(=C)C1=CC(=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C12)C=C KQURJSFNROIZBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZEMPKEQAKRGZGQ-AAKVHIHISA-N 2,3-bis[[(z)-12-hydroxyoctadec-9-enoyl]oxy]propyl (z)-12-hydroxyoctadec-9-enoate Chemical compound CCCCCCC(O)C\C=C/CCCCCCCC(=O)OCC(OC(=O)CCCCCCC\C=C/CC(O)CCCCCC)COC(=O)CCCCCCC\C=C/CC(O)CCCCCC ZEMPKEQAKRGZGQ-AAKVHIHISA-N 0.000 description 1
- CEBKHWWANWSNTI-UHFFFAOYSA-N 2-methylbut-3-yn-2-ol Chemical compound CC(C)(O)C#C CEBKHWWANWSNTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGIHARDIZKOSBE-UHFFFAOYSA-N 2-methylprop-1-enylhydrazine Chemical compound CC(C)=CNN QGIHARDIZKOSBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- GNPSQUCXOBDIDY-UHFFFAOYSA-N 4-(trimethoxymethyl)dodecane Chemical class C(CCCCCCC)C(C(OC)(OC)OC)CCC GNPSQUCXOBDIDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical group N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012935 Averaging Methods 0.000 description 1
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 1
- AXFLBOSEPGBATJ-UHFFFAOYSA-N C(CCC)OC(C(OC)(OC)OC)(CCCCCCCC)CCC Chemical compound C(CCC)OC(C(OC)(OC)OC)(CCCCCCCC)CCC AXFLBOSEPGBATJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- GXBYFVGCMPJVJX-UHFFFAOYSA-N Epoxybutene Chemical compound C=CC1CO1 GXBYFVGCMPJVJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N Gallium nitride Chemical group [Ga]#N JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000219991 Lythraceae Species 0.000 description 1
- LOMVENUNSWAXEN-UHFFFAOYSA-N Methyl oxalate Chemical compound COC(=O)C(=O)OC LOMVENUNSWAXEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFCARXCZXQIEQB-UHFFFAOYSA-N N-[3-oxo-3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propyl]-2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound O=C(CCNC(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)N1CC2=C(CC1)NN=N2 AFCARXCZXQIEQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102100026459 POU domain, class 3, transcription factor 2 Human genes 0.000 description 1
- 101710133394 POU domain, class 3, transcription factor 2 Proteins 0.000 description 1
- 229930182556 Polyacetal Natural products 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 235000014360 Punica granatum Nutrition 0.000 description 1
- 229910052769 Ytterbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 150000001345 alkine derivatives Chemical class 0.000 description 1
- PSNPEOOEWZZFPJ-UHFFFAOYSA-N alumane;yttrium Chemical compound [AlH3].[Y] PSNPEOOEWZZFPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RJGDLRCDCYRQOQ-UHFFFAOYSA-N anthrone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3CC2=C1 RJGDLRCDCYRQOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000006267 biphenyl group Chemical group 0.000 description 1
- GKPOMITUDGXOSB-UHFFFAOYSA-N but-3-yn-2-ol Chemical compound CC(O)C#C GKPOMITUDGXOSB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 210000000078 claw Anatomy 0.000 description 1
- 238000003776 cleavage reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 229930004069 diterpene Natural products 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000011440 grout Substances 0.000 description 1
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000006038 hexenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N hydroquinone methyl ether Natural products COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIAGBSSWEZDNMT-UHFFFAOYSA-N hydroxidotrioxidosulfur(.) Chemical group [O]S(O)(=O)=O NIAGBSSWEZDNMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 1
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002641 lithium Chemical group 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- CNHDIAIOKMXOLK-UHFFFAOYSA-N monomethylhydroquinone Natural products CC1=CC(O)=CC=C1O CNHDIAIOKMXOLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 1
- SFJGCXYXEFWEBK-UHFFFAOYSA-N oxazepine Chemical compound O1C=CC=CC=N1 SFJGCXYXEFWEBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003544 oxime group Chemical group 0.000 description 1
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001820 oxy group Chemical group [*:1]O[*:2] 0.000 description 1
- 125000005702 oxyalkylene group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-L phthalate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)C1=CC=CC=C1C([O-])=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000193 polymethacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 1
- 238000004382 potting Methods 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003304 ruthenium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012265 solid product Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N stilbene Chemical group C=1C=CC=CC=1C=CC1=CC=CC=C1 PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000003017 thermal stabilizer Substances 0.000 description 1
- 239000002562 thickening agent Substances 0.000 description 1
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 1
- NAWDYIZEMPQZHO-UHFFFAOYSA-N ytterbium Chemical group [Yb] NAWDYIZEMPQZHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
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- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
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- H01L2224/481—Disposition
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- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48245—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
- H01L2224/48247—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
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Description
1341857 九、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種可固化之有機聚矽氧烷組合物及半導 體裝置,明確而言,其係關於一種具有低黏度、優異填充 性及優異可固化性,其可固化以形成高折射率、高透光率 及對基材之高黏附性之軟固化產物之可固化之有機聚矽氧 烷組合物,以及關於一種具有優異可靠性之半導體裝置, 其半導體元件塗有上述組合物之固化產物。 【先前技術】 •可由氫硬化反應固化之可固化之有機聚_氧燒組合物用 作光學半導體裝置如光搞合器、發光二極體、固態影像感 傳元件等之半導體元件用之保護性塗料。關於上述發光或 受光凡件’其條件是該半導體元件用之保護性塗料不應吸 收光或散射光。 種可固化之有機聚矽氧烷組合物,包含含有矽接合苯 基及石夕接合稀基之有機聚石夕氧院、有機氣環石夕氧環及切 化反應觸媒(參照日本特許公開(公開或未審幻專利申靖案 號㈣8·Ι76447(】76侧996)); 一種可固化之有機聚石夕氧 烧組合物,包含固態或液態有機聚石夕氧貌,具有黏度為 :,。? :Ρ並在25t以上,及含切接合苯基切接合稀 /刀子具有至少二個石夕接合氨原子之有機氨聚石夕氧貌 =夕化反應觸媒(參照曰本特許公開(公開或未 :;=ni,(_999));-種可固化之有物 减為物’包含每分子具有至少二個接合至石夕原子之稀 96045.doc 丄叫857 基及具有接合切原子之芳基之有機氫㈣氧烧、每分子 具有至:二個接合至矽原子之氫原子之有機氫聚矽氧烷及 紐與含芳基之有機碎氧烧低聚物之錯合物(參照日本特許 1 ( a ΡΘ 或未審查)專利申請案號 2〇〇3_128922(128922/2〇〇3)) 提出作為可ιυ化之有機聚石m组合物,其可藉氫石夕化反 應口化以形成具有尚折射率與高透光率之固化產物。 >然而,問題在力此等可固化之有機聚石夕氧院組合物具有 回黏度、+良填充性或形成之固化產物具有容易自基材剝 除之不良黏附性。 【發明内容】 本發明之目的為提供一種具有低黏度、優異填充性及優 異可固化性,其可固化以形成高折射率、高透光率及對基 材之高黏附性之軟固化產物之可固化之有機聚矽氧烷組合 物,以及一種具有優異可靠性之半導體裝置,其半導體元 件塗有上述組合物之固化產物。 本發明之可固化之有機聚矽氧烷組合物具有特徵為,包 含: (A) 每分子具有至少二個矽接合之烯基及至少—個矽接 合之芳基之線性有機聚矽氧烷, (B) 每分子具有至少一個矽接合之烯基及至少—個石夕接 合之芳基並具有由通式:RSi〇3/2(其中R為經取代或未經取 代之單價烴基)表示之矽氧烷單元之分支有機聚矽氧烷(以 相對於成份(A)重量比為自1/99至99/1所需之量}, (C) 具有分子鏈之二個終端由每分子具有至少_個带接 96045.doc 1341857 合之芳基之矽接合氫原子封塞之線性有機聚矽氧烷丨以相 對於成份(A)與成分(B)全部1〇〇重量份提供1至2〇〇重量份 所需之量},及 (D)矽氫化反應觸媒(以促進本發明組合物之固化所需之 量)。 此外,本發明之半導體裝置具有特徵為,其半導體元件 塗有上述可固化之有機聚矽氧烷組合物之固化產物。 首先,說明本發明之有機聚矽氧烷組合物。 組合物之主要成分,成分(A),為每分子具有至少二個矽 結合之烯基及至少一個矽結合之芳基之線性有機聚矽氧 烷成刀(A)之烯基之例為乙烯基、烯丙基、丁稀基、戊稀 基及己烯基,以乙烯基較佳。此外,成分(A)之芳基之例為 苯基、甲苯基、二曱苯基及萘基,以苯基較佳。此外成 分(A)除了烯基及芳基以外之矽接合之有機基為經取代或 未經取代烴基,其例包括甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、 己基、庚基及其他烷基;苄基及苯乙基,及其他芳烷基; 及鹵化烧基如氣甲基、3_氣丙基及3,3,3_三氣丙基,以甲基 較佳。在藉固化組合物所得之固化產物中達成由於光折 2、反射、*欠射等之低阻光度需要在成分⑷内之所有矽接 合之有機基中矽接合之芳基之含量應不低於40莫耳%,特 佳為不低於45莫耳%。雖然成分⑷在2,c下之黏度未受限 制其範圍較佳為10至1,000,000 mPa.s,其範圍特佳為1〇〇 至5〇,_ mPa,s ^此75由於當成分(A)之黏度在上述範圍之 下限以下h ’所得固化產物之機械強度傾向降低,另一方 96045.doc :向::超過上述範圍之上限時,所得組合物之操作性則 由通式表示之有機聚矽氧烷: [式1] f /f \ f R —丨5 卜- 〇|-Si—R1 R1 \R1 /m R1 較佳作為成分(A)。在上式中,以為經取代或未經取代單 價經基’明確而言’其例為上述烧基、上述烯基、上述芳 基、上述芳烷基、及上述自化烷基。然而,每分子至少二 個R必須為上述烯基,而每分子至少一個r1必須為上述芳 基之一。又,在上述式中,<<111>>為5至1,〇〇〇之整數,較佳為 一整數,使有機聚矽氧烷在25〇c下之黏度之範圍為1〇至 1,000’000 mPa.s,較佳範圍為 100至 50,000 mPa s。 用以提供強度至由固化本發明組合物所得之固化產物之 成份(B)為每分子具有至少—個矽結合之烯基及至少一個 矽結合之芳基並具有由通式RSl〇3,2表示之矽氧烷單元之分 支有機聚矽氧烷。成分(B)之烯基之例為如上述相同基,以 乙烯基較佳。成分(B)之芳基之例為如上述相同基,以苯基 較佳。此外,除了烯基與芳基以外之成分(B)之矽接合有機 基之例為經取代或未經取代單價烴基如上述烷基、上述烯 基、上述芳烷基、上述_化烷基等,以甲基較佳。在由通 式RSiOw表示之成分(B)之矽氧烷單元中,R表示經取代或 96045.doc 1341857 未經取代單價烴基,明確而言,其例為上述烧基、上述稀 基、上述芳基、上述芳烧基、及上述齒化烷基,以上述烧 基及上述芳基較佳。 由平均單元之式表示之有機聚矽氧烷: (R Sl〇3/2)a(R22Si02/2)b(R23Si〇1/2)c(Si〇4/2)d(x〇i/2)c *較佳作為成分⑻。在上式中,經取代或未經取代單 價基’明確而言,其例為上述院基、上述稀基、上述芳 基、上述芳院基、及上述函化烧基。此處,每分子〇1至4〇 ^耳从2較佳為上述稀基。此乃由於當稀基之含量在上述 範圍之下限以下時,其與成分(C)之反應性傾向降低,另一 方面,即使當其超過上述範圍之上限時,其與成分(C)之反 應性亦傾向降低。此外,在藉固化組合物所得之固化產物 中達成由於光折射、反射、散射等之低阻光度需要不低於 10莫耳%R2應為上述芳基,特別是,在由通式R2si0w表示 之矽氧烷單元中,較佳的是不低於30莫耳%R2應由上述芳 基表示,除了烯基及芳基以外之R2較佳由甲基表示。此外, 在上述式中,<<3>>為正數,<<15>>為0或正數,《⑼為0或正數, «d»為〇或正數,《e>>為〇或正數,《b/a>>為〇與丨〇之間之數, «c/a»為〇與〇,5之間之數,《^/(a+b+c + d)»為〇與之間之 數,及《e/(a+b+C + d)>>為〇與〇.4之間之數。雖然對於成份(B) 之分子量並無任何限制,當轉化成標準聚苯乙烯時,其重 量平均分子量(Mw)較佳範圍應為5〇〇至ι〇,〇〇〇 ,特佳為7〇〇 至 3,000。 成伤(B)之含量使得成份(b)對成份(A)之重量比{成份(B) 96045.doc -10- 1341857 之重量/成份⑷之重量}範圍為1/99至99/],較佳為1〇/9〇至 70/30。此乃由於當成份⑻之含量低於上述範圍之下限以下 時,所得固化產物之強度傾向降⑯,另一方面,當其超過 上述範圍之上限時,所得組合物之操作性會惡化而所得固 化產物傾向成為極端硬。 本發明之固化劑,成分(c),為具有分子鏈之二個終端由 每分子具有至少一個石夕接合之芳基之石夕接合 < 氫原子封塞 之線性有機聚矽氧烷。成分(c)之芳基之例為如上述相同 基,以苯基較佳。此外,除了芳基以外之成分(c)之石夕接合 之有機基之例為除了烯基以外之經取代或未經取代單價烴 基,如上述烷基、上述芳烷基、及上述鹵化烷基,以甲基 較佳。在藉固化組合物所得之固化產物中達成由於光折 射、反射 '散射等之低阻光度需要在成分(c)内之所有矽接 合之有機基中矽接合之芳基之含量應不低於15莫耳%,特 佳為不低於30莫耳%。雖然成分(C)在251下之黏度未受限 制,其$IL圍較佳為!至!,〇〇〇 mPa. s,其範圍特佳為2至5〇〇 mPa · s。此乃由於當成分(C)之黏度在上述範圍之下限以下 時,其傾向揮發而所得組合物之補充會不穩定,另一方面, 田其超過上述範圍之上限時,所得組合物之操作性則傾向 惡化。 由通式表示之有機聚矽氧烷: [式2] 96045.doc r3 /R3 \ R3 H—Si-〇--i;i-〇si—h R3 \R3 /n R3 . 較佳作為成分(c)。在上式中,R3為氫原子或除了烯基u ' 外之經取代或未經取代單價烴基,明確而言,^之單價煙. 基之例為上述烷基、上述烯基、上述芳基、及上述函化烷 基。此處,每分子至少—個r3必須為上述芳基之一,較佳 為苯基。此外,在上述式中,《⑽為丨或以上之整數,較佳 為1至2G之整數,特佳為1至1G之整數。此乃由於當《η»超過 上述範圍之上限所得組合物之填充性或固化產物之點附性 傾向惡化。 旦成分(c)之含量為相對於全部成分(Α)與成分之丨⑻重 , £份提供1至200重量份’ 1至1〇〇重量份,特佳為1至50重量 份所需之量。此乃由於當成分(c)之含量在上述範圍之下限 以下時,所得組合物傾向無法完全固化,另一方面,當其 超過上述範圍之上限時,所得固化產物之耐熱性則傾向惡 籲 化此外’為了上述理由,成分(c)之含量較佳為保持由此 成分提供之石夕接合t氫原子之量每1莫耳包含於成分㈧與 成分(B)内之所㈣基在範圍為〇」至1〇莫耳較佳為〇⑴ 莫耳,特佳為0.5至2莫耳所需之量。 成分(D)之氫矽化反應觸媒為用以促進成分(a)與成分(b) 之烯基與成分(C)之矽接合之氫原子之反應之觸媒。成分⑼ 之例為鉑觸媒、铑觸媒、及鈀觸媒,以鉑觸媒較佳,由於 96045.doc 12 1341857 其明顯促進本發明組合物之固化之能力。觸媒之例_ 細粉、氣鉑酸、氣鉑酸之醇溶液、鉑,烯基矽氡烷錯合物、 鉑/烯焓錯合物、及鉑/羰基錯合物,以鉑/烯基矽氧烷錯合 物較佳。烯基石夕氧烧之例為13_二乙稀基丄^^四甲基二 夕氧烷1,3,5,7-四甲基- mi四乙稀環四石夕氧炫、由取 代如乙基、苯基等之基供上述稀基石夕氧烧之若干甲基所得 之稀基石夕氧烧及由取代如烤丙基、己稀基等之基供上述稀 基石夕氧烧之乙烯基所得之烯基碎氧炫。使用•二乙稀基 -1’1’3’3·四甲基二妙氧烧較佳’由於舶/烯基碎氧院錯合物 之優異安定性。此外,由於其加成可引起之錯合物之安定 陡,希望加入ι,3-二乙稀基^,;^·四曱基二石夕氧烷、 二烯丙基-1,1,3,3-四甲基二矽氧烷、丨,^二乙烯基_丨,3二甲 基-1,3-二苯基二矽氧烷、1,3_二乙烯基_丨,1,3,3_四苯基二矽 氧烧、1,3,5,7-四曱基_i,3,5,7-四乙稀環四石夕氧烧及其他稀 基石夕氧烧與有機石夕氧炫低聚合物如二甲基石夕氧院低聚合物 至鉑/烯基矽氧烷錯合物,以烯基矽氧烷較佳。 對成分(D)之含量並無任何限制,只要其量可促進本發明 組合物之固化即可 '然而’明確而言,在本發明組合物中, 較佳為以包含於此成份内之金屬原子之量,以重量單元 計,範圍為0·0】至500 Ppm,更佳為範圍為〇〇丨至】〇〇卯爪, 特佳為範圍為〇,〇1至50 ppm使用。此乃由於當成份⑼之含 2:在上述範圍之下限以下時,本發明組合物傾向無法完全 固化,另一方面,當其超過上述範圍之上限時,問題會因 賦予各種顏色至所得固化產物而引起。 96045.doc 13 1341857 除了成份(c)之固化劑以外,每分子具有至少二個矽接合 之氫原子之有機聚矽氧烷,成分(E),亦可加入本發明組合 物内作為視需要固化劑。然而’除了如上述成份(c)相时 機聚石夕氧提以外,成分(E)可為任何有機聚碎氧烧。成分(e) 之矽接合之有機基之例為除烯基以外之經取代或未經取代 單價烴基,如上述炫基、上衫基、上述芳絲及上述函 化烷基,以上述烷基與上述芳基較佳。關於成分(E)之稠度
並無任何限制,但在2rc下成分可為液態或固態,以液態 較佳。 U 成分(E)之分子結構之例為線性、局部分支線性、分支及 網狀結構,由提供更多強度至藉固化本發明組合物所得之 固化產物之觀點而言,以分支結構較佳。該分支有機聚矽 氧烷較佳為由平均單元之式表示之有機聚矽氧烷: (R4Si〇3/2)f(R42Si02/2)g(R43Si01/2)h(Si〇4/2)j(x〇1/2)j 在上式中,R4為氫原子或除了烯基以外之經取代或未經取 代單價烴基。R4之單價烴基之例為上述烷基、上述芳基、 上述芳烷基及上述鹵化烷基。此處,每分子〇1至4〇莫耳%尺4 較佳為氫原子。此乃由於石夕接合之氫原子之含量在上述範 圍之下限以下時,其變成很難完全固化本發明組合物,另 一方面,當其超過上述範圍之上限時,所得固化產物之耐 …|·生傾向惡化。此外,在藉固化組合物所得之固化產物中 達成由於光折射、反射 '散射等之低阻光度需要不低於10 莫耳%R4應為上述芳基,特別是,在由通式R4si〇w表示之 矽氧烷單元中,較佳的是不低於30莫耳%114應由上述芳基 96045.doc ^341857 表不,除了芳基以外之R4較佳由甲基表示。此外,在上述 式中,X為氫原子或如上述相同基例示之烷基,以甲基較 佳此外,在上式中,<<5>為正數,《g»為〇或正數,《h»為〇 或正數《丨》為〇或正數,《j»為0或正數,《g/f»為〇與1 〇之間 之數《h/f»為0與〇·5之間之數,《丨/(|^ + |1+1)>>為〇與〇·3之間 之數,及<<j/(f+g+h+i)»為〇與〇·4之間之數。雖然對於成份(ε) 之刀子里並無任何限制,當轉化成標準聚苯乙烯時,其重 里平均分子量(Mw)較佳範圍應為3〇〇至〗〇,〇〇〇,特佳為 至 3,〇〇〇 〇 虽成份(E)包括於本發明組合物内時,成份之含量相對 於全部成份(C)與成份(E)較佳範圍為〇丨至5〇重量。/。。此乃 由於當成份(E)之含量低於上述範圍之下限以下時,藉固化 組合物所得之固化產物之強度傾向降低,另一方面;當其 超過上述範圍之上限時,所得組合物之固化能力會惡化而 稭固化組合物所得之固化產物對基材之黏附性亦傾向惡 I明組合物可包含2-甲基-3-丁炔-2-醇、3,5_二甲基q 己炔-3-醇、2_苯基_3_ 丁炔_2_醇及其他炔醇; 炔、3 S -田甘, ,-—甲基-3-己-丨-炔及其他烯-炔化合物; 甲基-1,3,5,7-四乙烯環四矽氧烷、13,5,7_四甲基_1,以7 四矽氧烷、苯并三唑及其他反應抑制劑作為其他 *要成分。關於該反應抑制劑之含量雖無任何限制,其 相對於1 G0重量份全部成份⑷及成份(b)範圍為〇 至5重量份。 96045.doc 此外’本發明組合物亦可包含黏附促進劑以改良其黏附 性。點附促進劑較佳為每分子具有至少一個石夕接合之烧氧 基之有機石夕化合物。院氧基之例為甲氧基、乙氧基、丙氧 基丁氧基及甲氧乙氧基,以甲氧基較佳。此外,在此等 有機石夕化合物中除了院氧基以外之石夕接合之基之例為上述 烷基、上述稀基'上述芳基、上述芳炫基、上述函化烧基 及其他經取代與未經取代單價烴基;3•去水甘油氧基丙 基4-去水甘油氧基丁基、及其他去水甘油氧基燒基; = ’4-環氧環己基)乙基、3_(3,心環氧環己基)丙基、及其他 環氧環己基烷基;4-環氧乙烷基-丁基、8_環氧乙烷基-辛 基、及其他環氧乙烧基燒基,以及其他含環氧化物之單價 有機基;3·甲基丙稀氧基丙基及其他含丙烯基之單價有機 基;及氫原子。有機石夕化合物較佳具有可與成分⑷及成分 (Β)或成分(C)反應之基,明確而言,矽接合之烯基或矽接合 之氫原子。此外,為了可提供優異黏附性至各種基材,: 機石夕化合物每分子較佳具有至少—個含環氧化物之單價有 機基。該有機石夕化合物之例為有機石夕燒化合物、有機石夕氧 院低聚合物或料㈣。有機⑪氧院低聚合物切酸烧賴 之分子結構之例為線性、局部分支線性、分支、環狀及; 狀結構,以線性、分支及網狀結構較佳。該有機矽化合物 之例為3-去水甘油氧基丙基三甲氧矽烷' 2_(3,*環氧環己 基)乙基三甲氧矽烷、3-甲基丙烯氧基丙基三甲氧矽烷、及 其他砂院化合物;每分子具有至少—㈣接合之烯基或一 個石夕接合之氫原子及石夕接合之烧氧基之石夕氧烧化合物具 96045.doc 1341857 有至少一個矽接合之烷氧基之矽氧烷化合物或矽烷化合物 及具有至少一個矽接合之羥基及一個矽接合之烯基之矽氧 烧化合物、由下式表示5之矽氧烷化合物: [式3] {(CH2=CH)CH3Si02/2}k(CH301/2)p{CH2-([:HCH20(CH2)3Si〇3y2}q 0 (其中《k» ’為正數),由下式表示之矽氧烷化合 物: · [式4] {(CH2=CH)CH3Si02/2}k(CH3〇1/2)p{CH2^HCH20(CH2)3Si〇3/2}q{(CH3)2Si02/2}r • · 0 (其中<<k>>,《ρ>> ’ <<〇1>>及<<Γ>>為正數)、聚矽酸甲酯、聚矽酸 乙醋及含環氧化物之聚矽酸乙酯之混合物。該黏附促進劑 較佳為具有低黏度之液體,對其黏度雖無任何限制,惟其 範圍較佳在25t下為1至500 mPa · s。此外,上述組合物内 鲁 之黏附性促進劑之含量雖無任何限制,惟其較佳相對於1 重I份全部成份(A)及成份(B)範圍為〇 ο〗至丨〇重量份。 此外,只要此不會損害本發明之目的,本發明組合物可 包含氧化矽、玻璃、氧化鋁、氧化鋅及其他無機填充料; 有機樹脂如聚甲基丙烯酸酯樹脂之細粉;熱安定劑、染料、 顏料、阻燃劑、溶劑等作為視需要成分。 對於具有波長為589毫微米之可見光,較佳的是,藉固化 此組合物所得之粗產物之2 51下之折射率應不低於h 5。藉 96045.doc • 17- 1341857 固化。此組合物所得之粗產物之25t下之透光率較佳為不低 於〇/。此乃由於若粗產物之折射率為低於〗·5而其透光率 低;〇 /〇時其無法提供具有塗有組合物之固化產物之半 導體元件之半導體敦置充分可靠度。為了獲得可產生具有 高折射率極高透光率之固化產物之可固化之有機聚矽氧 烷,最好使得所有成分,自成份(Α)至成份(D)之折射率實 際上相同。明確而言’關於成份(Α),較佳使用有機聚石夕氧 烧其中在所有石夕接合之有機基中之石夕接合之芳基含量為 不低於40% ’較佳為不低於45%,且其中除了芳基與烯基以 外之夕接&之有機基為烧基,特別是甲基;又關於成份 (Β)’較佳使用有機聚石夕氧烧,其中在所切接合之有機基 中之矽接合之芳基含量為不低於1〇%,且其中除了芳基與 烯基以外之矽接合之有機基為烷基,特別是甲基;另外, 關於成份(C)及成份(Ε) ’較佳使用有機聚矽氧烷,其中在所 有石夕接合之有機基中之石夕接合之芳基含量為不低於跳, 且其中除了芳基以外之石夕接合之有機基為烧基,特別是甲 基。此外’折射率之測定可使用’例如,阿貝折射計進行。 此時’折射率可藉改變阿貝折射計之光源之波長測定絕對 波長。此外’折射率可藉’例如,使用光譜儀獲得以測 疋一片具有光控長度為1.0毫米之固化產物。 此外,在波長為200毫微米至25〇毫微米,藉固化本發明 組合物所得之固化產物較佳具有在25<t下紫外線透射率為 不超過10%。此乃由於當半導體元件塗有本發明組合物之 • 旧匕產物之半導體裝置受到在短波長為_毫微米至250毫 96045.doc 18 支米下之i外線照射時,其無法防止用以製造半導體裝置 之材料之降解。紫外線透射率可,例如,使用光譜儀獲得, 以測疋—片具有光徑長度為1 ·〇毫米之固化產物。 ^發明組合物可在室溫或在加熱下固化,但為求較快固 化取好是加熱。加熱之溫度較佳在溫度範圍為50至20CTC。 乂此方式藉固化本發明組合物所得之固化產物具有彈性體 狀外覜,特別是凝膠狀或軟橡膠狀外觀。該組合物可用作 底層填料、保護性塗佈劑、洗灌劑或黏附劑供電氣及電子 產=用,且由於其高透光率,其特別適用於用於光學應用 之半導體7L件方面之底層填料、保護性塗佈劑、邊灌劑或 黏附劑。 其次’詳述有關本發明之半導體裝置。 本發明裝置具有特徵為,其半導體元件塗有上述可固化 之有機聚矽氧烷組合物之固化產物。該半導體元件之例為 用於二極體、電晶體、矽控整流器、固態影像感傳元件、 單片ICS及混合ICs之半導體元件。此外,該半導體元件之 例亦為二極體、發光二極體(LEDS)、電晶體、矽控整流器、 光耦合态、CCDs '單片iCs、混合ICs、乙此及VLsis。明確 而&,由於其高度透光率,其較佳用於發光元件如光耦合 器及LEDs。 光耦合器之截面圖例示於圖丨作為本發明裝置之例。圖^ 例示之絲合器係由半導體元们所組成,其係由化合物半 導體構成並為接合至錯框2之模具。元件亦為使用接合線3 接合至另-脑2(圖未示)之線。此外,面向半導體元件i 96045.doc 1341857 定位之光接收半導體元件4為接合至純5之模具,亦為使 用接合線6接合至另一敍框5(圖未示)之線。半導體元件間之 空間裝填有本發明可固化之有機聚咬氧烧組合物之固化產 物7。此外,塗佈有固化產物7之半導體元件為具有封閉樹 脂8封閉之樹脂。 為了製造圖1所示之光耦合器’半導體元们為接合至鉛 框2之杈具,因此,半導體元件1為使用金接合線3接合至另 -錯框2(圖未示)之線。以相同方式,光接收半導體元件4 為接合至面向半導體元件丨定位之鉛框5之模具,因此,半 導體7L件4為使用金接合線6接合至另一鉛框5(圖未示)之 線。其次,在裝填半導體元件與本發明可固化之有機聚矽 氧烷組合物間之空間後,其係在溫度範圍為5〇至2〇〇它下加 熱固化。然後,塗佈有本發明可固化之有機聚矽氧烷組合 物之固化產物7之半導體元件為使用白色環氧樹脂8之封= 樹脂。 此外,圖2顯示單一 LED之戴面圖作為本發明裝置之例。 圖2例示之LED係由接合至鉛框1〇之半導體元件9模具所組 成,半導體元件9線係使用接合線丨2接合至另一鉛框丨丨。半 導體7L件9塗佈有含有丨〇重量%螢光材料(YAG,釔鋁_石榴) 之本叙明可固化之有機聚石夕氧烧組合物之固化產物1 3。此 外,塗佈有固化產物13之半導體元件9亦為使用供13者相同 可固化之有機聚矽氧烷組合物14(但不含有螢光材料)之封 閉樹脂。 為了製造圖2所示之LED,半導體元件9為接合至鉛框1〇 96045.doc • 20· 1341857 之模具’然後,半導體元件9為使用金接合線12接合至船框 11之線。其次’在使用本發明可固化之有機聚矽氧烷組合 物塗佈半導體疋件9後’其係在溫度範圍為5〇至2〇代下加 …、口化,然後,塗佈有上述可固化之有機聚石夕氧烧組合物 之固化產物13之半導體元件9為使用供13者相同可固化之 有機聚矽氧烷組合物丨4之封閉樹脂。 應用例 現參照應關詳述本發明之可@化之有機聚♦氧烧組合 物及半導體襄置。須知,應用例所用之術語"黏度"意指在 25°C下所得之值。此外,可固化之有機聚珍氧烧組合物及 其固化產物之特徵測定如下。 [可固化之有機聚石夕氧烧組合物之填充性] 具有100平方大出物,寬度為1毫米χ1毫米及深度為2毫 米’其係在間隔為1毫米下隔開之聚乙烯片材用於試驗。壓 痕填充有來自分配器之可固化之有機聚石夕氧烧組合物。當 可固化之有機聚矽氧烷組合物適當地填充所有壓痕而未散 佈至鄰近壓痕時,4充之量標示為#有丨至5個未填充位 置時,其標示為△,而當有超過6個未填充位置時,其標示 為X。 [可固化之有機聚石夕氧烧組合物之可固化性] 由在1 5 0 C下於熱氣循j哀爐内加熱12小時固化可固化之 有機聚矽氧烷組合物所得之固化產物之根據JIS κ 222〇之 針入刻痕除以由在12〇。(:下於熱氣循環爐内固化上述組合 物1小時所得之固化產物之針入刻痕所得之值用作固化能 96045.doc 1341857 力之指數。此外,愈接近值為丨時,可固化之有機聚矽氧烷 組合物之固化能力愈佳。 [固化產物之針入刻痕] 固化產物係藉在120°C下於熱氣循環爐内固化可固化之 .. 有機聚矽氧烷組合物1小時獲得。為了測定針入刻痕,固化 / 產物係根據JIS K 2220試驗。 [固化產物之折射率] 藉在1 20°C下於熱氣循環爐内固化可固化之有機聚矽氧 烷組合物1小時所產生之固化產物之折射率係在25它下使 鲁 用阿貝折射計測定。具有波長為589毫微米之可見光用作測 量之光源。 [固化產物之透光率] 藉在120°C下於熱氣循環爐内固化可固化之有機聚矽氧 烷組合物1小時所產生之固化產物(光徑長度:1〇毫米)之透 . 光率係使用具有波長為420毫微米之可見光測定。 [固化產物之黏附性] 在實施下述評估試驗(2)進行之評估後,在顯微鏡下檢驗 · 半導體裝置以評估可固化之矽酮之固化產物對透明環氧樹 月曰之黏附性。當間隙存在時,黏附性之品質標示為X,冬界 面清楚可見時,標示為△,及當界面不清楚時 "| 此外,半導體裝置之可靠性評估如下。 不為〇。 [半導體裝置可靠性評估法(1)] 圖1所示之光耦合器製造如下。即,Ga_A1_As化合物為主 之半導體元件為使用導電膏接合至鉛框2之模具,而半導體 96045.doc -22- 1341857 元件1為使用金接合線3接合至另一鉛框2之線(圖未示)。使 用導電膏,光接收半導體元件4為以面向半導體元件】之位 置接合至鉛框5之模具,而半導體元件4為使用金接合線6 接合至另一鉛框5之線(圖未示)。在用可固化之有機聚矽氧 烷組合物填充半導體元件間之空間後,其係在15〇。匸下於熱 .’ 氣#環爐内加熱1小時固化。其次,塗佈有可固化之有機聚 矽氧烷組合物之固化產物7之半導體元件為使用白色環氧 樹脂8之封閉樹脂。以上述方式製造丨〇個光耦合器。在1 5〇 C下於熱氣循環爐内加熱處理1 〇〇小時前後測定此等光耦 鲁 合器之發光輸出量,裝置之可靠性係以在熱處理後其發光 輸出量之相對值與在熱處理前其發光輸出量之準位視為 100之平均值表示。 [半導體裝置可靠性評估法(2)] 圖2所示之LED製造如下。即,GaN化合物之半導體元件9 為使用導電膏接合至鉛框1〇之模具,而半導體元件9為使用 金接合線12接合至另-錯框u之線。其次,在用可固化之 有機聚矽氧烷組合物塗佈半導體元件9後,其係在1 5〇充下 於熱氣循環爐内加熱1小時削匕。塗佈有可固化之有機聚矽 氧I组合物之固化產物13之+導體元件9為使用透明環氧 樹脂14之封閉樹脂。以上述方式製造1(h@]leDs。 ”在15(TC下於熱氣循環爐内加熱處理1〇〇小時前後測定此 寺LEDs之發光輸出量’裝置之可靠性係以在熱處理後其發 光輪出量之相對值與在熱處理前其發光輸出量之準位視為 1 00之平均值表示。 96045.doc -23- 1341857 【實施方式】 [應用例1] 具有黏度為I,700 mpa . s之可固化之有機聚矽氧烷組合 物係藉均勻地混合5 5重量份線性甲基笨基聚矽氧烷,具有 黏度為3,50〇mPa. s,具有分子鏈之二端由二甲基乙烯基矽 氧基封塞(矽接合之乙烯基之含量=〇 2〇重量%,矽接合之苯 基於所有矽接合之有機基内之百分比=49莫耳%)、45重量份 分支有機聚矽氧烷,由平均單元式表示: (C6H5Si03/2)。75[(CH2 . CH)(CH3)2Si〇l/2]0 25 {在25 C下之稠度=固體,矽接合之乙烯基於所有矽接合 之有機基内之百分比=17莫耳%,矽接合之苯基於所有矽接 合之有機基内之百分比=50莫耳%,重量平均分子量,如轉 化成標準聚苯乙烯=16〇〇}、24重量份甲基苯基聚矽氧烷, 具有分子鏈之二端由二曱基氫矽氧基封塞,由下式表示: H(CH3)2Si〇[CH3(C6H5)SiO]4Si(CH3)2H、 鉑與1,3-二乙烯基_丨,丨,3,3_四甲基二矽氧烷之錯合物(以重 量車疋提供2.5 ppm來自本發明組合物之錯合物之鉑金屬 所需之量)、及0.05重量份2_笨基_3_ 丁炔_2_醇製備。 測定可固化之有機聚矽氧烷組合物及其固化產物之特 徵。其結果顯示於表丨《此外,使用可固化之有機聚矽氧烷 組合物製造光耦合器及LEDs。對半導體裝置之可靠性評估 結果顯示於表1。 [應用例2] 具有黏度為1,860 mPa . s之可固化之有機聚矽氧院組合 96045.doc •24· 京为係藉均勻地混合55重量份線性甲基苯基聚石夕氧燒,具有 :又為3,500 mpa . s,具有分子鏈之二端由二甲基乙烯基矽 故 于塞(石夕接合之乙稀基之含量=0.20重量%,石夕接合之苯 斤有石夕接合之有機基内之百分比=49莫耳%)、45重量份 刀支有機聚矽,由平均單元式表‘ (C6H5Si〇3/2)0 75 [(CH2 . CH)(CH3)2Si01/2]〇.25 {在25 C下之稠度=固體,矽接合之乙烯基於所有矽接合之 有機基内之百分比=17莫耳%,矽接合之苯基於所有矽接合 之有機基内之百分比=5〇莫耳%,重量平均分子量如轉化i 成標準聚苯乙稀=1600}、22重量份曱基笨基聚石夕氧炫,具 有刀子鏈之二端由二甲基氫矽氧基封塞,由下式表示: H(CH3)2Si〇[CH3(C6H5)SiO]4Si(CH3)2H、 1重量份分支有機聚矽氧烷,具有黏度為950 mPa . S,由 · 平均單元式表示: (C6H5SiO3/2)0 60[(cH3)2HSiO1/2]0.40 (夕接a之氫原子於所有石夕接合之基内之百分比莫耳 · %,矽接合之苯基於所有矽接合之基内之百分比=33莫耳 % ,重量平均分子量,如轉化成標準聚苯乙烯=1,1〇〇)、0:1 重里份矽氧烷化合物用作稠化劑,由平均單元式表示: [式5] {(CH2=CH)CH3Si〇2/2}3(CH3〇1/2)5{CH2-(pHCH20(CH2)3Si〇3/2}5{(CH3)2Si02/2}2〇 • · 96045.doc -25· 0 ^41857 旦二,3_二乙烯基],丨,3,3-四甲基二矽氧烷之錯合物(以重 里早元提供2,5卯⑺來自本發明組合物之錯合物之鉑金屬 所需之量)、及〇.〇5重量份2·苯基_3_ 丁炔_2_醇製備。 測定可固化之有機聚矽氧烷組合物及其固化產物之特 ^ °其結果顯示於表卜此外,使用可固化之有機Μ⑽ 組合物製造光耦合器及LEDs。對半導體裝置之可靠性評^ 結果顯示於表1。 [比較例1 ] 具有黏度為2,460 mPa . s之可固化之有機聚矽氧烷組合 物係藉均勻地混合55重量份線性甲基苯基聚矽氧烷,具= 點度為3,5(K)mPa.s,具有分子鏈之二端^二曱基乙稀基石夕 礼基封塞(矽接合之乙烯基之含量=〇,2〇重量%,矽接合之苯 基於所有矽接合之有機基内之百分比=49莫耳%)、45重量份 分支有機聚矽氧烷,由平均單元式表示: (C6H5SiO3/2)0‘75[(CH2 . CH)(CH3)2Si〇1/2]〇25 {在25°(:下之稠度=固體,矽接合之乙烯基於所有矽接合 之有機基内之百分比=1 7莫耳% 接合之笨基於所有石夕接 合之有機基内之百分比=50莫耳%,重量平均分子量,如轉 化成標準聚苯乙稀,}、24重量份二甲基聚石夕氧烷由 下式表示: H(CH3)2SiO[(CH3)2SiO]4Si(CH3)2H、 紐與U3-二乙烯基-U,3,3-四甲基二石夕氧院之錯合物(以重 量單元提供2.5 ppm來自本發明組合物之錯合物之勒金屬 所需之量)、及0_05重量份2-笨基·3_ 丁炔_2醇製備。 96045.doc -26- U41857 測定可固化$古秘 徵。其結果顯示於表】::,院組合物及其固化產物之特 組合物製造光轉气,及,使料固化之有機聚石夕氧炫 結果顯示於表h S。對半㈣裝置之可靠性評估 [比較例2] 具f黏度為3’5()() mPa. s之可固化之有機聚石夕氧燒組合 糸错均勻地混合55重量份線性甲基笨基聚矽氧烷,具有 :占度為3,5G〇 mPa· s,具有分子鏈之二端由二p基乙稀基石夕 氧基封塞(石夕接合之乙稀基之含量=()2()重量。心_接合之苯 基於所㈣接合之有機基内之百分比=49莫耳%)、45重量份 分支有機聚矽氧烷,由平均單元式表示: (C6H5Si03/2)〇 75[(Ch2 - CH)(CH3)2SiO1/2]0 25 {在25它下之稠度=固體,矽接合之乙烯基於所有矽接合之 有機基内之百分比=17莫耳%,矽接合之苯基於所有矽接合 之有機基内之百分比=50莫耳%,重量平均分子量,如轉化 成標準聚笨乙烯=16〇〇}、12重量份分支有機聚矽氧烷,具 有黏度為950 mPa . s’由平均單元式表示: (C6H5Si〇3/2)〇.6〇[(CH3)2HSi〇1/2]〇.4〇 (石夕接合之氫原子於所有矽接合之基内之百分比=22莫耳 % ’矽接合之苯基於所有矽接合之基内之百分比=3 3莫耳 % ’重量平均分子量,如轉化成標準聚笨乙烯=1,1〇〇)、翻 與1,3 -—乙稀基-1,1,3,3-四甲基二石夕氧院之錯合物(以重量 單元提供2.5 ppm來自本發明組合物之錯合物之叙金屬所 需之量)、及0.05重量份2-苯基-3-丁炔-2-醇製備。 96045.doc -27· 徵。:可固化之有機聚矽氧烷組合物及其固化產物之特 組A:“,果』不於表1。此外,使用可固化之有機聚矽氧烷 6士 、光轉合Θ及LEDS。對半導體裝置之可靠性評估 ,,,σ果顯示於表1。 [比較例3] 榀/:'占度為3’丨00 mPa · ^可固化之有機聚矽氧烷組合 係错均勻地混合⑽重量份線性甲基笨基聚石夕氧規,具有 :度為3,5GGmPa. s’具有分子鏈之二端由二甲基乙稀基石夕 氧基封塞(矽接合之乙烯基之含量=〇.2〇重量%,矽接合之苯 土;斤有石夕接口之有機基内之百分比莫耳%)、1 8重量份 甲基本基聚矽氧烷’具有分子鏈之二端由二甲基氫矽氧基 封塞,由下式表示: H(CH3)2SiO[CH3(C6H5)S]〇]4Si(CH3)2H ^ ^與1,3_二乙稀基·丨,丨,3,3.四甲基二錢院之錯合物(以重 量單元提供2.5 ppm來自本發明組合物之錯合物之鉑金屬 所需之量)、及0.05重量份2-苯基_3_丁炔_2_醇製備。 測定可固化之有機聚矽氧烷組合物及其固化產物之特 徵。其結果顯示於表1。此外,使用可固化之有機聚石夕氧烧 組合物製造光耦合器及LEDs。對半導體裝置之可靠性評估 結果顯示於表1。 [比較例4] 具有黏度為7,800 mPa · s之可固化之有機聚石夕氧院組合 物係藉均勻地混合100重量份分支有機聚矽氧炫,由平均單 元式表示: 96045.doc -28 · 1341857 (C6H5Si〇3/2)0 75 [(〇Η2 · CH)(CH3)2Si01/2]〇.25 {在25 °C下之稠度=固體,矽接合之乙烯基於所有矽接合之 有機基内之百分比=17莫耳。/。,矽接合之苯基於所有矽接合 之有機基内之百分比=50莫耳%,重量平均分子量,如轉化 成標準聚苯乙烯= 1600}、25重量份曱基苯基聚矽氧烷,具 有分子鏈之二端由二曱基氫矽氧基封塞,由下式表示: H(CH3)2SiO[CH3(C6H5)SiO]4Si(CH3)2H、 鉑與1,3-二乙烯基-1,1,3,3-四甲基二矽氧烷之錯合物(以重 量單元提供2.5 ppm來自本發明組合物之錯合物之鉑金屬 所需之量)、及〇.〇5重量份2-苯基-3-丁炔-2-醇製備。 測定可固化之有機聚矽氧烷組合物及其固化產物之特 徵。其結果顯示於表1。此外,使用可固化之有機聚矽氧烧 組合物製造光耦合器及LEDs。對半導體裝置之可靠性評估 結果顯示於表1。 96045.doc 29· 1341857 [表i] 類型 項目 應用例 比較例 1 2 1 2 3 4 ¥刼 sk- 填充性 〇 〇 〇 Δ 〇 X 可固化性 1.0 0.9 0.6 0.5 0.8 0.5 0 針穿透 77 75 70 55 51 60 透光度(%) 100 100 72 92 92 92 折射指數 1.54 1.53 1.48 1.54 1.51 1.53 黏附至環氧樹脂 〇 〇 X 〇 X Δ 一 Μ 評估(No. 1) 光輸出之相對值(%) 100 100 55 87 85 53 評估(No. 2) 光輸出之相對值(%) 100 98 49 75 78 48 [工業應用性1 本發明之可固化之有機聚矽氧烷組合物可用作底層填 料、保護性塗佈劑、澆灌劑或黏附劑供電氣及電子產品用, 且由於其高透光率,其特別適用於光學應用之半導體元件 方面之底層填料、保護性塗佈劑、洗灌劑或黏附劑。此外, 本發明之半導體裝置適用於二極體、發光二極體(LEDs)、 電晶體、矽控整流器、光耦合器、CCDs、單片ICs、混合ICs、 96045.doc -30- 1341857 混合 ICs、LSIs及 VLSIs。 【圖式簡單說明】 圖1包含光耦合器作為本發明半導體裝置之例之截面圖 圖2包含LED作為本發明半導體裝置之例之截面圖。 【主要元件符號說明】 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14 半導體元件 船框 S 接合線 半導體元件 鉛框 接合線 可固化之有機組合物之固化產物 封閉樹脂 半導體元件 鉛框 錯框 接合線 可固化之有機聚石夕氧烧組合物 透明封閉樹脂 之固化產物 96045.doc * 31 -
Claims (1)
- 十、申請專利範圍: h 一種可固化之有機聚矽氧烷組合物,包含: ()每刀子具有至少二個矽接合之烯基及至少—個矽 接合之芳基之線性有機聚矽氧烷, (B) 每刀子具有至少一個矽接合之烯基及至少一個矽接 合之芳基並具有由通式: RS!〇3/2(其中R為經取代或未經取代之單價㉟基)表示 ^氧烧單元之分支有機聚砂氧灿⑼對於成份⑷重 量比為自1/99至99/1所需之量}, (C) 具有分子鏈之二個終端由每分子具有至少一個矽接 合之芳基之矽接合氫原子封塞之線性有機聚矽氧烷{以 相對於成份(A)與成分(B)全部1〇〇重量份提供1至2〇〇重量 份所需之量},及 (D) 石夕氫化反應觸媒(以促進本發明組合物之固化所需 之量)。 .如請求項1之可固化之有機聚矽氧烷組合物,其中矽接合 之芳基相對於成份(A)内之所有矽接合之有機基之含量為 不低於40莫耳0/〇。 .如请求項1之可固化之有機聚矽氧烷組合物,其中成份(A) 為由通式表示之有機聚矽氧烷: [式1] R1 /R1 \ R1 R1 —S卜 〇--〒-〇|-Si—r1 R1 \R1 /m R1 96045.doc 1341857 {其中V為經取代或未經取代之單價烴基(至少二個R1 為烯基而至少一個R為芳基),及“⑴”為5至之整數 (如請求⑷之可固化之有機聚石夕氧院組合物,其令成份⑻ 為由平均單元式表示之有機聚矽氧烷: (R2Si〇3/2)a(R22si〇2/2)b(R23Sl〇i/2)c(Si〇4/2)d(x〇i/2)i {其中R2為經取代或未經取代之單價烴基(以範圍為〇】 至40莫耳%之尺2由烯基構成而不低於莫耳%之尺2由芳 基構成),X為氩原子或烧基,<<a>>為正數,咖為〇或正數, 嶋為0或正數’ <<(1>>為〇或正數,❿》為〇或正數,<物》為〇 與10之間之數,<<c/a>>為〇與〇 5之間之數,<<d/(a+b+c + d)》 為〇與0.3之間之數,及為〇與〇 *之間之數卜 5·如請求項1之可固化之有機聚石夕氧烧組合物,其中成份⑹ 為由通式表示之有機聚矽氧烷: [式2]{其中R3為氫原子或除了縣以外之經取代或未經取 代之單價煙基(至少-舰3㈣基),及·為以以上之整 數}。 6. 如請求項1之可固化之有機聚石夕氧烧組合物,其固化以形 成在2 5 °C下具有折㈣為!. 5或以上供具有波長為$ 8 9毫 微米之可見光之固化產物。 組合物,其固化以形 7.如請求項1之可固化之有機聚矽氧烧 96045.doc 1341857 成在25°C下具有透光率為不低於80%之固化產物。 8·如請求項1之可固化之有機聚矽氧烷組合物,其固化以形 成具有針入刻痕為不低於5之固化產物》 9' 一種半導體裝置,其中半導體元件塗佈有如請求項丨至8 令任一項之可固化之有機聚矽氧烷組合物之固化產物。 1〇.如凊求項9之半導體裝置,其中半導體元件為發光元件。 96045.doc
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003343622A JP4908736B2 (ja) | 2003-10-01 | 2003-10-01 | 硬化性オルガノポリシロキサン組成物および半導体装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW200524987A TW200524987A (en) | 2005-08-01 |
TWI341857B true TWI341857B (en) | 2011-05-11 |
Family
ID=34419307
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW93128364A TWI341857B (en) | 2003-10-01 | 2004-09-20 | Curable organopolysiloxane composition and semiconductor device |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7527871B2 (zh) |
EP (1) | EP1670863B1 (zh) |
JP (1) | JP4908736B2 (zh) |
KR (3) | KR101499709B1 (zh) |
CN (1) | CN100378172C (zh) |
AT (1) | ATE463537T1 (zh) |
DE (1) | DE602004026456D1 (zh) |
TW (1) | TWI341857B (zh) |
WO (1) | WO2005033207A1 (zh) |
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EP1670863A1 (en) | 2006-06-21 |
KR20060096429A (ko) | 2006-09-11 |
DE602004026456D1 (de) | 2010-05-20 |
CN1863875A (zh) | 2006-11-15 |
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KR20150006490A (ko) | 2015-01-16 |
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