KR101546024B1 - 파장 동조 소스용 방법 및 장치 - Google Patents

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Abstract

전자기 복사의 주파수에 기초하여 전자기 복사의 하나 이상의 성분을 물리적으로 분리하도록 구성된 적어도 하나의 스펙트럼 분리 배열을 포함할 수 있는 적어도 하나의 전자기 복사를 필터링하는 장치 및 그 소스 배열을 제공할 수 있다. 이러한 장치 및 배열은 또한 하나 이상의 성분과 관련된 적어도 하나의 신호를 수신하도록 구성된 적어도 하나의 연속 회전식 광학 배열도 구비할 수 있다. 또한, 이러한 장치 및 배열은 상기 신호를 수신하도록 구성된 적어도 하나의 빔 선택 배열을 포함할 수 있다.

Description

파장 동조 소스용 방법 및 장치{PROCESS AND APPARATUS FOR A WAVELENGTH TUNNING SOURCE}
본 출원은 2003년 6월 6일자로 출원된 미국 특허출원번호 제60/476,600호에 대한 우선권을 주장하며, 그 전체적 개시 내용은 참조로서 본 발명에 포함된다.
본 출원은 일반적으로 광학적 시스템에 관한 것이며, 특히 파장 동조용 광파장 필터 시스템에 관한 것이다.
광 반사측정(optical reflectometry), 생의학(biomedical) 영상화, 센서 인테로게이션(sensor interrogation) 및 테스트 및 측정을 위해 빠르면서 광범위하게 동조 가능한 파장 레이저 소스를 개발하기 위한 상당한 노력이 기울여지고 있다. 공동내(intra-cavity) 협대역 파장 스캐닝 필터를 사용함으로써 좁은 선폭, 넓은 범위 및 빠른 동조가 얻어진다. 모드 호핑(mode-hopping) 없는 단일 주파수 작동은 확장 공동(extended-cavity) 반도체 레이저에서 회절 격자 필터 설계를 사용하여 실증되고 있다. 그러나, 단일 주파수 레이저 동작을 실현하고 모드 호핑 없는 동조를 보장하기 위해서, 복잡한 기계 장치를 사용하며 최대 동조 속도를 제한할 수 있다. 지금까지 실증된 최고속 동조 속도의 하나는 10nm/s 미만으로 제한되고 있다. 생의학 영상화와 같은 특정 응용에서, 10 GHz 이상의 순간 선폭에 대응하는 다중 종축 모드 작동이 충분할 수 있다. 이러한 폭은 광학 결맞음 단층촬영기에서 수 밀리미터의 조직 내 사정 깊이(ranging depth)와 스펙트럼 부호화 공초점 현미경(spectrally encoded confocal microscopy)에서 마이크로미터 수준의 횡(transverse) 해상도를 제공할 수 있다.
10 GHz 정도의 선폭은 공동내 동조 요소(음향 광필터(acousto-optic filter), 패브리-페로 필터 및 검류계 구동형 회절 격자 필터와 같은)를 사용하여 용이하게 달성될 수 있다.
그러나, 이미 실증된 스위프 주파수는 필터의 유한한 동조 속도에 의해 제한된 1 kHz 미만이다. 생의학 응용에서 (초당 30프레임을 초과하는) 비디오급(video-rate) 고해상도 광영상을 위해서는 15 kHz보다 큰 반복률을 갖는 고속 동조가 필요할 수 있다.
따라서, 전술한 결함을 극복할 필요가 있다.
본 발명의 예시적인 실시예에서, 시간이 지남에 따라 평균 주파수가 실질적으로 연속적으로 변하는 스펙트럼을 구비하는 전자기 복사를 방출하는 배열을 포함하는 장치가 제공된다. 이러한 전자기 복사는 밀리초 당 100 테라헤르츠보다 큰 동조 속도와 관련될 수 있다. 평균 주파수는 5 킬로헤르츠보다 큰 반복률로 또는 10 테라헤르츠보다 큰 범위에 걸쳐 반복적으로 변화될 수 있다. 스펙트럼은 가시광 파장, 근적외선 파장 또는 적외선 파장의 일부를 포함하는 동조 범위를 가질 수 있다. 예시적인 스펙트럼은 대략 850nm, 1300nm 또는 1700nm인 파장에서 중심 설정될 수 있다. 또한, 스펙트럼은 100 기가헤르츠보다 작은 순간 선폭을 가질 수 있다. 장치는 또한 5m보다 짧은 왕복 트립(round trip) 길이를 갖는 레이저 공동을 포함할 수도 있다. 장치는 또한 방출된 전자기 복사의 적어도 일부를 수신하여 그 일부를 더 먼 위치로 반사 또는 편향시키도록 구성될 수 있는 다각 스캐너 배열을 구비할 수도 있다. 또한, 전자기 복사의 성분들을 선택적으로 수신하는 빔 분리 배열이 제공될 수 있다.
본 발명의 또 다른 예시적인 실시예에 따라, 전자기 복사를 필터링하는 장치는 전자기 복사의 주파수에 기초하여 전자기 복사의 하나 이상의 성분을 물리적으로 분리하도록 구성된 적어도 하나의 스펙트럼 분리 배열을 포함할 수 있다. 장치는 또한 물리적으로 분리된 성분들을 수신하여 개별 성분들을 빔 선택 배열로 선택적으로 안내하도록 구성된 적어도 하나의 연속 회전식 광학 배열을 구비할 수도 있다.
본 발명의 하나의 예시적인 변형에서, 스펙트럼 분리 배열은 회절 격자, 프리즘, 그리즘(grism), 음향 광학 빔 편향기(acousto-optic beam deflector), 가상 위상 어레이 및/또는 어레이된 도파관 격자를 포함한다. 연속 회전식 광학 배열은 다각 미러, 회절 요소, 실질적으로 투명 영역 어레이를 갖는 실질적으로 불투명한 디스크 및/또는 실질적으로 반사 영역 어레이를 갖는 실질적으로 투명한 디스크일 수 있다. 스펙트럼 분리 배열은 또한 연속 회전식 광학 배열을 포함하는 기판 상에 장착된 홀로그래피 격자를 포함할 수도 있다.
본 발명의 또 다른 예시적인 변형에서, 빔 선택 배열은 광섬유, 광도파관, 핀홀 개구(pinhole aperture), 광섬유, 도파관 또는 핀홀과 렌즈의 조합, 및/또는 공간 필터일 수 있다. 빔 선택 배열은 복수의 빔 선택 요소를 포함할 수 있으며, 복수의 빔 선택 요소에 의해 투과된 전자기 복사가 결합될 수 있다. 신호는 연속 회전식 광학 배열로부터 여러 차례 반사된 후에 선택 배열에 의해 수신될 수 있다.
본 발명의 또 다른 예시적인 실시예에 따라, 전자기 복사를 필터링하는 장치는 전자기 복사의 주파수에 기초하여 전자기 복사의 하나 이상의 성분을 각분리하도록 구성된 적어도 하나 이상의 스펙트럼 분리 배열을 포함할 수 있다. 또한, 이러한 배열은, 선회점을 포함하며 또한 전자기 복사의 성분들을 수신하여 그 성분들을 빔 선택 배열로 선택적으로 안내하도록 구성된 적어도 하나의 각편향(angularly deflecting) 광학 배열을 포함할 수도 있다. 또한, 배열은, 전자기 복사의 성분들을 수신하고 그 성분들과 관련된 하나 이상의 분산 요소의 영상을 생성하도록 구성된 적어도 하나의 광영상 배열을 포함할 수 있다. 각편향 광학 배열의 선회점 위치는 적어도 하나의 분산 요소의 실제 또는 가상 영상에 근접하여 제공될 수 있다.
본 발명의 예시적인 변형에서, 각편향 광학 요소의 편향점은 적어도 하나의 분산 요소의 실제 영상과 실질적으로 중첩될 수 있다. 적어도 하나의 각편향 광학 배열로부터 적어도 하나의 신호를 수신하도록 구성된 적어도 하나의 반사경도 제공될 수 있다. 하나 이상의 분산 요소는 회절 격자, 프리즘, 그리즘, 음향 광학 빔 편향기, 가상 위상 어레이 및/또는 어레이된 도파관 격자일 수 있다. 각편향 광학 요소는 다각 미러 스캐너(polygon mirror scanner), 검류계 미러 스캐너(galvanometer mirror scanner) 또는 압전 미러 스캐너(piezo-electric mirror scanner)일 수 있다.
본 발명의 또 다른 예시적인 실시예에서, 전자기 복사를 필터링하는 장치가 제공된다. 이 장치는 전자기 복사의 주파수에 기초하여 전자기 복사의 성분들을 각분리하여 주파수 분리된 성분들을 생성하도록 구성된 적어도 하나의 분산 배열을 포함한다. 이 장치는 또한 각편향의 선회점을 갖는 적어도 하나의 각편향 광학 요소를 포함할 수도 있다. 선회점은 주파수 분리된 성분들이 모두 실질적으로 중첩되는 위치에 실질적으로 중첩될 수 있다.
본 발명의 또 다른 예시적인 실시예에서, 전자기 복사의 주파수에 기초하여 전자기 복사의 하나 이상의 성분을 물리적으로 분리하도록 구성된 적어도 하나의 스펙트럼 분리 배열이 제공될 수 있다. 또한, 하나 이상의 성분과 관련된 적어도 하나의 신호를 수신하도록 구성된 적어도 하나의 연속 회전식 광학 배열이 포함될 수 있다. 적어도 하나의 빔 선택 배열은 또한 상기 신호를 수신하도록 구성될 수도 있다. 방출기는 레이저 이득 매체, 반도체 광증폭기, 레이저 다이오드, 초발광(superluminescent) 다이오드, 도핑 광섬유, 도핑 레이저 결정, 도핑 레이저 유리 및/또는 레이저 염료일 수 있다.
본 발명의 또 다른 예시적인 실시예에서, 소스 배열은 전자기 복사를 제공할 수 있다. 소스는 전자기 복사의 적어도 하나의 방출기, 및 전자기 복사의 주파수에 기초하여 전자기 복사의 하나 이상의 성분을 각분리하도록 구성된 적어도 하나의 스펙트럼 분리 배열뿐만 아니라, 선회점을 포함하며 전자기 복사의 성분들을 수신하여 하나 이상의 성분과 관련된 적어도 하나의 신호를 생성하도록 구성된 적어도 하나의 각편향 광학 배열을 포함한다. 또한, 소스 배열은, 신호를 수신하며 적어도 하나의 선택 신호를 선택적으로 생성하도록 구성된 적어도 하나의 빔 선택 배열, 및 선택 신호를 수신하고 하나 이상의 성분과 관련된 하나 이상의 분산 요소의 영상을 생성하도록 구성된 적어도 하나의 광영상 배열을 포함할 수 있다. 본 발명의 변형에서, 전자기 복사를 제공하는 하나 이상의 레이저 이득 매체와, 전자기 복사의 주파수에 기초하여 전자기 복사의 하나 이상의 성분을 물리적으로 분리하도록 구성된 적어도 하나 이상의 스펙트럼 분리 배열이 제공될 수 있다. 이러한 변형에서, 각각의 레이저 이득 매체로부터의 전자기 복사의 선택된 성분들이 동기화되어 별개로 또는 조합하여 사용될 수 있다.
본 발명의 또 다른 예시적인 실시예에서, 확장 공동 반도체 레이저의 고속 동조가 제공될 수 있다. 레이저 공명기(laser resonator)는 단방향(unidirectional) 광섬유 링, 이득 매체로서의 반도체 광증폭기 및 다각 스캐너에 기초한 스캐닝 필터를 포함할 수 있다. 1.32μm에 중심 설정된 70nm 파장 스팬(span)에 대하여 최대 1,150 nm/ms (15.7kHz 반복 주파수)의 가변 동조 속도가 얻어질 수 있다. 이러한 동조 속도는 통상적으로 알려진 동조 속도보다 한 차수 이상의 크기만큼 더 빨라질 수 있으며, 반도체 광증폭기에서 자기 주파수(self-frequency) 편이에 의해 부분적으로 사용될 수 있다. 소스의 순간 선폭은 9 mW cw 출력에 대해 0.1nm보다 작을 수 있으며, 80dB의 낮은 자발적 방출 그라운드(spontaneous-emission background)를 얻을 수 있다.
본 발명의 예시적인 개념에 따라, 넓은 스펙트럼 범위에 걸쳐 15kHz보다 큰 반복률로 동조될 수 있는 광파장 필터가 제공될 수 있다. 또한, 레이저 이득 매체에 결합된 이러한 광학 필터를 포함하는 파장 동조 소스가 제공될 수 있다. 동조 소스는 광학 결맞음 단층촬영기 및 스펙트럼 부호화 공초점 현미경과 같은 비디오급 광학 영상 응용에 유용할 수 있다.
일반적으로, 본 발명의 예시적인 실시예에 따른 광필터는 회절 격자, 회전 다각 스캐너 및 망원경을 포함할 수 있다. 이러한 광학 필터는 통상적인 필터보다 한 차수 이상 빠른 크기를 갖는 동조 속도로 작동될 수 있다. 파장 동조 가능 광원은 예를 들어 레이저 이득 매체와 결합된 필터를 사용함으로써 구현될 수 있다. 필터와 이득 매체는 레이저 공동 내로 더 포함될 수 있다. 예를 들어, 레이저는 그 중심 파장이 높은 반복률로 넓은 파장 범위에 걸쳐 스위프(sweep)됨과 동시에 협대역 스펙트럼을 방출할 수 있다.
본 발명의 추가적인 목적, 특질 및 장점들은 본 발명의 예시적인 실시예를 도시하는 첨부도면과 관련된 상세한 설명으로부터 명백할 것이다.
도 1A는 본 발명에 따른 광파장 필터의 제1 예시적인 실시예에 대한 블록도이다.
도 1B는 본 발명에 따른 광파장 필터의 제2 예시적인 실시예에 대한 블록도이다.
도 1C는 본 발명에 따른 광파장 필터의 제3 예시적인 실시예에 대한 블록도이다.
도 1D는 본 발명에 따른 광파장 필터의 제4 예시적인 실시예에 대한 블록도이다.
도 1E는 본 발명에 따른 광파장 필터의 제5 예시적인 실시예에 대한 블록도이다.
도 1F는 본 발명에 따른 광파장 필터의 제6 예시적인 실시예에 대한 블록도이다.
도 2는 본 발명에 따른 광파장 필터의 예시적인 특징에 대한 그래프이다.
도 3은 본 발명에 따른 파장 동조 레이더 소스에 대한 예시적인 실시예이다.
도 4A는 본 발명에 따른 레이저 소스에 대한 예시적인 제1 출력 특성(레이저 스펙트럼 대 파장)의 그래프이다.
도 4B는 본 발명에 따른 레이저 소스에 대한 예시적인 제2 출력 특성(출력 대 시간)의 그래프이다.
도 5는 본 발명에 따라 편향 속도의 함수로서 제공된 예시적인 출력의 그래프이다.
도 6은 본 발명에 따른 자유 공간(free-space) 확장 공동(extended-cavity) 반도체 동조 가능 레이저 배열의 예시적인 실시예이다.
도 7은 본 발명에 따른 광파장 필터의 제7 예시적인 실시예에 대한 도면이다.
도 8은 본 발명에 따른 동조 가능 레이저 소스를 사용한 스펙트럼 부호화 공초점 현미경(spectrally-encoded confocal microscope)의 예시적인 실시예에 대한 개략도이다.
도 9는 본 발명에 따른 동조 가능 레이저 소스를 사용한 주파수 영역(frequency-domain) 광 결맞음 단층촬영기 배열의 예시적인 실시예에 대한 개략도이다.
도 10A는 본 발명에 따른 파장 필터의 제8 예시적인 실시예의 평면도이다.
도 10B는 도 10A에 도시된 파장 필터의 상부 투시도이다.
본 발명의 다른 특질과 장점들은 첨부된 특허청구범위를 참조하여 본 발명의 실시예에 대한 이하의 상세한 설명으로부터 명백해질 것이다.
도 1A는 본 발명에 따른 광파장 필터(1)의 제1 예시적인 실시예에 대한 블록도이다. 제1 예시적인 실시예에서, 광파장 필터(1)는 다양한 다른 응용에 사용될 수 있으며, 그 일반적인 예들이 후술된다. 이러한 예에서 필터(1)는 광원(2)을 통해서 하나 이상의 응용(3)에 연결될 수 있다. 예시적인 특정 응용에서, 필터(1)는 (예를 들어, 수동 광요소 또는 능동 광요소와 같은) 광원이 아닌 소자를 통해 (예를 들어, 응용(3) 중 하나 이상인) 응용과 함께 사용될 수 있거나 그 응용에 연결되어 사용될 수 있다는 것이 이해되어야 한다. 도 1A에 도시된 제1 예시적인 실시예에서, 광역스펙트럼 광원 및/또는 제어기(2, 이하, 광 제어기)는 파장 분산 요소(4)에 연결될 수 있다. 광 제어기(2)는 광 영상 처리 및 광 영상 시스템, 레이저 기계 가공 처리 및 시스템, 광리소그래피 및 광리소그래피 시스템, 레이저 토포그래피(topography) 시스템, 통신 처리 및 시스템 등을 포함하지만 이에 한정되지 않는 것을 구비한 또는 그것을 위한 하나 이상의 과제를 수행하도록 구성된 응용(3)중 하나 이상에 더 연결될 수 있다. 파장 분산 요소(4)는 렌즈 시스템(6)에 연결될 수 있으며, 렌즈 시스템(6)은 빔 편향 소자(8)에 더 연결될 수 있다.
광 제어기(2)는 광역 주파수(f) 스펙트럼을 갖는 광선 빔을 투과시키도록 구성된 다양한 시스템 및/또는 배열 중 하나 이상일 수 있다. 하나의 예시적인 실시예에서, 광선 빔은 시준(collimated) 광선 빔일 수 있다. 이 광선 빔은 가시광 스펙트럼 내의 (예를 들어, 적색, 청색, 녹색인) 복수의 파장 λ1 ... λn을 포함할 수 있다. 마찬가지로, 광 제어기(2)에 의해 제공된 광선 빔은 가시광 스펙트럼의 바깥쪽으로 정의될 수 있는 (예를 들어, 자외선, 근적외선 또는 원적외선인) 복수의 파장 λ1 ... λn을 포함할 수도 있다. 본 발명의 하나의 예시적인 실시예에서 광 제어기(2)는, 파장 동조 레이저 소스의 예시적인 실시예를 도시하는 도 3과 관련된 이하의 추가적인 상세한 설명에서 기술되는 단일 방향 광 투과 링(unilateral optical transmission ring)을 포함할 수 있다. 또한, 본 발명의 또 다른 예시적인 실시예에서 광 제어기(2)는 도 6과 관련된 이하의 추가적인 상세한 설명에서 기술되는 선형 공명 시스템을 포함할 수 있다.
광파장 필터(1)의 파장 분산 요소(4)는 광 제어기(2)로부터 광선 빔을 수신하여 광선 빔을 다수의 방향을 갖는 복수의 파장으로 된 광선으로 통상적으로 분리시키도록 상세하게 구성된 하나 이상의 요소를 포함할 수 있다. 파장 분산 요소(4)는 또한 광학축(38)에 대하여 동일한 각 방향 또는 변위 내의 다른 파장을 갖는 광선의 일부를 안내하는데 효과적이다. 본 발명의 하나의 예시적인 실시예에서, 파장 분산 요소(4)는 광 분산 요소를 포함할 수 있으며, 광 분산 요소는 반사 격자, 투과 격자, 프리즘, 회절 격자, 음향 광학 회절 셀 또는 이들 요소들의 하나 이상의 조합을 포함할 수 있지만 이에 제한되지 않는다.
광파장 필터(1)의 렌즈 시스템(6)은 파장 분산 요소로부터 광선의 분리된 파장을 수신하도록 구성된 하나 이상의 광 요소를 포함할 수 있다. 각각의 파장에서 광선은 광학축(38)에 대하여 일정 각에 있는 경로를 따라 전파된다. 각은 파장 분산 요소(4)에 의해 결정된다. 또한, 렌즈 시스템(6)은 광선의 파장들을 빔 편향 소자(8) 상에 위치된 소정 위치로 안내하거나 또는 조향하거나 그리고/또는 포커싱되도록 구성된다.
빔 편향 소자(8)는 광선의 하나 이상의 불연속인 파장을 수신하여 이를 광학축(38)을 따라 렌즈 시스템(6)을 통해 파장 분산 요소(4)로 그리고 다시 광 제어기(2)로 선택적으로 다시 안내하도록 제어될 수 있다. 그런 다음, 광 제어기(2)는 광선의 수신된 불연속 상태의 파장을 하나 이상의 임의의 응용으로 선택적으로 안내할 수 있다. 빔 편향 소자(8)는 많은 다른 방향으로 제공될 수 있다. 예를 들어, 빔 편향 소자(8)는 다각 미러, 회전축 상에 배치된 평면 미러, 검류계 상에 배치된 미러 또는 음향 광변조기를 포함하지만 이에 한정되지 않는 요소로부터 제공될 수 있다.
도 1B는 광파장 필터(1')의 제2 예시적인 실시예에 대한 개략도를 도시한다. 예시적인 광파장 필터(1')는 실질적으로 동일한 입력 및 출력 포트를 구비할 수 있는 반사형 필터로서 구성될 수 있다. 입력/출력 광섬유(10)와 시준 렌즈(12)는 (도 1A를 참조하여 전술한 광 제어기(2)와 실질적으로 유사할 수 있는) 광 제어기(2')로부터 광파장 필터(1')로 입력을 제공할 수 있다. 광파장 필터(1')는 회절 격자(16), 광학 망원경 요소(6', 이하, 망원경(6')으로 지칭되며, 도 1A의 렌즈 시스템(6)과 아마 유사할 수 있음) 및 다각 미러 스캐너(24)를 포함한다. 망원경(6')은 두 개의 렌즈를, 예를 들어 4-f 구조를 갖는 제1 및 제2 렌즈(20, 22)를 포함할 수 있다.
도 1B에 도시된 광파장 필터(1')의 제2 예시적인 실시예에서, 망원경(6')은 실질적으로 광학축(38)을 따라 각각 중심 설정된 제1 및 제2 렌즈(20, 22)를 포함한다. 제1 렌즈(20)는 제1 렌즈(20)의 초점 거리(F1)와 대략 같을 수 있는 (예를 들어 회절 격자(16)인) 파장 분산 요소(4')로부터의 제1 거리에 위치될 수 있다. 제2 렌즈(22)는 제1 렌즈(20)의 초점 거리(F1)와 제2 렌즈(22)의 초점 거리(F2)의 합과 대략 같을 수 있는 제1 렌즈로부터의 제2 거리에 위치될 수 있다. 이러한 배열을 사용하여, 제1 렌즈(20)는 파장 분산 요소(4')로부터 광선의 하나 이상의 시준된 이산 파장을 수신할 수 있고, 광선의 시준된 하나 이상의 이산 파장의 각각의 파장에 대한 푸리에 변환(Fourier Transform)을 효과적으로 수행하여 영상면(image plane: IP) 상으로 투영되는 대략 동일한 하나 이상의 수렴 빔을 제공할 수 있다.
영상면(IP)은 바람직하게는 제1 렌즈(20)와 제2 렌즈(22) 사이에 제1 렌즈(20)로부터 소정 거리에 위치된다. 본 발명의 하나의 예시적인 변형에 따라, 이러한 소정 거리는 제1 렌즈(20)의 초점 거리(F1)에 의해 한정될 수 있다. 이러한 하나 이상의 수렴 빔이 영상면(IP)을 통해 전파된 후에, 이들 하나 이상의 수렴 빔은 제2 렌즈(22)에 의해 수신된 동일하거나 상응하는 하나 이상의 발산 빔을 형성한다. 제2 렌즈(22)는 발산 빔을 수신하여 광학축(38)에 대하여 소정 각도 변위를 갖는 대략 동일한 수의 시준 빔을 제공하도록 구성된다. 그러므로, 제2 렌즈(22)는 빔 편향 소자(8')의 소정 부분들로 시준 빔을 안내하거나 조향할 수 있다.
본 발명의 제2 예시적인 실시예에 따른 망원경(6')은, 전술한 바와 같은 하나 이상의 특질을 제공할 뿐만 아니라 격자로부터의 발산 각분산(diverging angular dispersion)을 제2 렌즈(22) 이후의 수렴 각분산으로 전환하도록 구성된다. 이러한 결과는 필터의 고유 작동에 유리할 수 있다. 또한, 망원경(6')은 동조 범위와 선폭(linewidth)을 제어하고 다각 미러에서 빔 크기를 줄여 빔 클리핑(beam clipping)을 방지하는 조정 가능한 변수를 제공할 수 있다. 도 1B의 예시적인 실시예에 도시된 바와 같이, (예를 들어, 다각 미러 또는 배열(24)를 포함할 수 있는) 빔 편향 소자(6')는, 바람직하게는 광학축(38)에 대한 다각 배열(24)의 전방 미러면의 각도의 함수로서 오직 좁은 통과 대역(passband) 내에 있는 스펙트럼 성분만을 다시 반사시키도록 구성된다. 반사된 좁은 대역 광선은 회절되며 광섬유(10)에 의해 수신된다. 광학축에 대한 입사 빔(30)의 배향과 다각 배열(24)의 회전 방향(40)을 사용하여, 예를 들어 파장 증가(양성) 스캔 또는 파장 감소(음성) 스캔과 같은 파장 동조의 방향을 결정한다. 도 1B에 도시된 예시적인 배열은 양성 파장 스위프(sweep)를 생성할 수 있다. 다각 배열(24)이 12개의 면을 갖고 있는 것으로 도 1B에 도시되어 있지만, 12개의 면보다 작거나 많은 면을 갖는 다각 배열도 사용될 수 있다는 것이 이해되어야 한다. 실질적인 기계적 한계를 일반적으로 고려하지 않았지만, 통상적인 제조 기법에 기초하여, 임의의 응용에서 사용되는 다각 배열(24)의 특정된 개수의 면(facet)들은 특정 응용에 대한 소정 스캐닝률(scanning rate)과 스캐닝 범위에 따라 달라질 수 있다.
또한, 다각 배열(24)의 크기는 특정 응용의 선택(preference)에 기초하여 선택될 수 있으며, 바람직하게는 다각 배열(24)의 제조 가능성 및 중량을 포함하지만 이에 제한되지 않는 특정 요인을 고려하여 선택될 수 있다. 다른 초점 거리를 갖는 렌즈(20, 22)가 제공될 수 있다는 것도 이해되어야 한다. 예를 들어, 렌즈(20, 22)는 다각 배열(24)의 대략 중심점(24a)에 초점을 제공하도록 선택되어야 한다.
하나의 예시적인 실시예에서, 섬유 시준기(12)로부터 격자로 입사된 광역 광학 스펙트럼을 갖는 가우시안 빔(30, Gaussian beam)이 사용될 수 있다. 공지된 격자 방정식은 λ=p·(sinα+sinβ)로 표현되는데, λ는 광파장이고, p는 격자 피치이며, α와 β는 각각 격자의 수직축(42)에 대한 빔의 입사각과 회절각이다. 필터의 동조 범위의 중심 파장은 λ0=p·(sinα+sinβ0)로 정의될 수 있는데, β0는 망원경의 광학축(38)과 격자 수직축 사이의 각이다. 필터의 FWHM 대역폭은 (δλ)FWHM/λ0=A·(p/m)cosα/W로 정의되는데, A는 이중 통과(double pass)에 대해
Figure 112012073648915-pat00001
이고, m은 회절 차수이며, W는 1/e2-섬유 시준기에서 가우시안 빔의 폭이다.
필터의 동조 범위는 제1 렌즈(20)의 유한한 개구수(numerical aperture)에 의해 제한될 수 있다. 빔 클리핑이 없는 제1 렌즈(20)의 수용각(acceptance angle)은 Δβ=(D1-Wcosβ0/cosα)/F1로 정의될 수 있는데, D1과 F1은 각각 제1 렌즈(20)의 직경과 초점거리이다. 이러한 식은 Δλ=p cosβ0·Δβ를 통해 필터 동조 범위와 관련된다. 다각 미러의 다중 면 성질로부터 유래되는, 필터의 예시적인 설계 변수 중 하나는 후술되는 자유 스펙트럼 범위이다. 스펙트럼 성분은 제1 렌즈(20)와 제2 렌즈(22)를 통해 전파된 후에 예를 들어 β'=-(β-β0)·(F1/F2)인 광학축(38)에 대한 각(β')에서 빔 전파 축을 가질 수 있는데, F1와 F2는 각각 제1 렌즈(20)와 제2 렌즈(22)의 초점 거리이다. 다각 배열(24)은
Figure 112012073648915-pat00002
로 주어지는 면대면 극각(facet-to-facet polar angle)을 가질 수 있는데, L은 면 폭이고, R은 다각형의 반경이며, N은 면의 개수이다. 입사 스펙트럼의 β'의 범위가 면 각(facet angle)보다 크면, 즉 Δβ'=Δβ·(F1/F2)>θ이면, 다각 배열(24)은 한 번에 하나 이상의 스펙트럼 성분을 재반사시킬 수 있다. 동시에 반사되는 다중 스펙트럼 성분의 간격 또는 자유 스펙트럼 범위는 (Δλ)FSR=p cosβ0(F1/F2)·θ로 정의될 수 있다. 예시적인 공동내(intra-cavity) 스캐닝 필터 응용에서, (비균질 광역 이득 매체인 경우의) 다중 주파수 대역 또는 (균질 광역 이득 매체인 경우의) 제한된 동조 범위를 방지하기 위해서는, 필터의 자유 스펙트럼 범위가 이득 매체의 스펙트럼 범위를 초과해야한다.
수학식1에 기재된 바람직한 두 가지 조건식이 만족되면, 필터에 의한 레이저 동조의 듀티 사이클(duty cycle)은, 예를 들어 빔 클리핑에 의해 기인한 초과 손실 없이 100%일 수 있다.
Figure 112012073648915-pat00003
첫째 식은 제2 렌즈(22) 이후의 빔 폭이 면 폭보다 작아야 한다는 조건으로부터 유도될 수 있다. 둘째 식은 다각 배열(24)에서 서로 중첩되지 않아야 하는 동조 범위의 최저 파장(32)과 동조 범위의 최고 파장(34)에의 각각의 두 빔으로부터 유도될 수 있다. 수학식1에서 S는 다각 배열(24)의 전면 미러과 제2 미러(22) 사이의 거리를 나타낸다.
W=2.4mm, p=1/1200mm, α=1.2라디안, β0=0.71라디안, m=1, D1=D2=25mm, F1=100mm, F2=45mm, N=24, R=25mm, L=6.54, S=5mm, θ=0.26라디안, λ0=1320nm인 매개 변수를 갖는 광학 성분을 선택할 수 있다. 매개 변수로부터, 필터의 이론적인 FWHM 대역폭, 동조 범위 및 자유 스펙트럼 범위는 각각 (δλ)FWHM=0.09nm, Δλ=126nm 및 (Δλ)FSR=74nm로 계산될 수 있다. 수학식1에서 두 가지 조건식은 특정 허용범위를 만족시킬 수 있다.
도 1C는 본 발명에 따라 동일한 다각형 회전 속도에서 동조 속도를 2배로 하는 파장 동조 가능 필터 배열의 제3 예시적인 실시예에 대한 도면을 도시한다. 이러한 예시적인 실시예에서, 다각 배열(24)의 미러 표면은 렌즈(22)로부터 실질적으로 거리(F2)에 위치설정되고, 광선 빔은 (다각 배열(24)의 미러면으로부터 망원경으로 직접 다시 반사되기보다는) 0이 아닌 각도로 반사된다. 다각 배열(24)로부터의 반사광의 스위프각은 다각 배열(24)의 회전각의 2배이다. 다각 배열(24)에 대한 λ1과 λN 사이의 입사각 차이(90)가 예를 들어 각θ인 다각형의 면대면 각(92)과 대략 같을 때, 다각 배열(24)의 각θ인 회전에 대해 반사광의 스위프각(94)은 2θ이다. 다각 배열(24)로부터의 반사된 광선 빔을 바람직하게는 다각 배열(24)로 그리고 (예를 들어, 도1B의 망원경(6')과 유사한) 망원경으로 다시 안내하는 두 개의 반사경(100, 102)을 서로 각θ로 위치 설정함으로써, 하나의 면대면 각θ의 다각 회전에 대해 λ1으로부터 λN 까지 2번의 파장 스캔이 달성된다.
본 발명의 제4 예시적인 실시예를 도시하는 도 1D에서, 다각 배열(24)에 대한 λ1과 λN 사이의 입사각 차이(90)는 예를 들어 φ(=θ/K, K>1인 경우)인 다각 면대면 각(92)보다 작다. 이것은 격자 피치를 감소시키고 F2/F1비를 증가시킴으로써 달성될 수 있다. 이러한 예시적인 실시예에서, 필터 동조 속도는 다각 배열(24)의 회전 속도 또는 다각 배열(24)의 면의 개수를 증가시키지 않으면서 계수 2K 만큼 증가될 수 있다.
필터 동조 속도는 광선 빔이 다각 배열(24)에 의해 여러 차례 반사됨으로써 더 증가될 수 있다. 도 1E에 도시된 본 발명의 제5 예시적인 실시예는 계수 4K 만큼 동조 속도를 증가시키는 배열인데, K는 각(90)에 대한 각(92)의 비율(K=θ/φ)이다. 광선 빔은 다각 배열(24)에 의해 2 차례 (예를 들어 4 차례 왕복 트립) 반사되므로, 반사광의 스위프각(94)은 각 4θ가 되며, 동조 속도는 4K배 더 빨라진다. 이러한 반사는 또한 표면(100, 102, 104, 106 및 108)의 반사에 의해 도움될 수도 있다. 필터 배열의 이러한 예시적인 실시예가 사용되어 필터의 자유 스펙트럼 범위(filter spectral range: FSR)를 넓힐 수 있다. 예를 들어, 도 1E에 도시된 실시예에서 최종 반사경(102) 중 하나가 제거되면, 필터의 FSR은 2배 더 넓어진다. 이경우 동조 속도 증가는 없을 수 있다. 마찬가지로, 도 1E에서 오직 하나의 최종 반사경(100)만을 보유할 수 있다. 이 실시예에서 FSR은 4배 더 넓어질 수 있다.
도 1F는 두 개의 광 입력과 두 개의 광 출력을 수용하는 다각 동조 필터를 제공하는 본 발명의 제6 예시적인 실시예를 도시한다. 예를 들어, 이 필터의 2 이상의 입력 및 출력을 유지하기 위해, 입력/출력 섬유(10, 10'), 시준 렌즈(12, 12'), 회절 격자(16, 16') 및 망원경을 각각 포함하고 있는 2 이상의 광학 배열 세트가 동일한 다각 배열(24)을 공유할 수 있다. 다각 배열(24)의 스캐닝 미러가 구조적으로 회전축에 대한 등방성이므로, 다각 배열(24)에 광선 빔을 전달할 수 있는 특정 광학 배열은 임의의 방향으로부터 수용될 수 있다. 도 1F의 실시예에서 2개의 광학적 배열 세트가 동일한 다각 스캐너를 사용하므로, 각각의 스캐닝 광투과 스펙트럼이 동기화된다. 도 1F의 예시적인 실시예는 고유한 입력 및 출력 광채널을 각각 갖는 (2보다 큰) 복수의 광학 배열을 포함하도록 확장될 수 있음이 이해되어야 한다.
본 발명의 제6 실시예에 따른 전술한 다각 동조 필터의 하나의 예시적인 응용은 광대역 파장 스캐닝 광원일 수 있다. 본 발명의 제7 예시적인 실시예를 도시하는 도 1G에서, 제1 광대역 광원(60)은 파장 λ1 내지 λi을 가질 수 있는 광신호를 제공하며, 제2 광대역 광원(600)은 파장 λi-j 내지 λN을 가질 수 있는 또 다른 광신호를 제공한다. 파장 λ1 내지 λi 및 파장 λi-j 내지 λN을 각각 지지하는 두 개의 광학 배열이 동시에 대략 동일한 파장을 출력하도록 동기화될 때, 이러한 예시적인 배열은 λ1으로부터 λN까지 선형 스캔률을 갖는 광대역 파장 스캐닝 광원이 될 수 있다. 다각 스캐닝 필터의 FSR은 임의의 광학적 성능 열화 없이 200nm 이상으로 넓게 조정 가능하므로, 상이한 중심 파장을 갖는 2 이상의 광대역 광원이 이 필터와 결합되어 200nm 동조 대역폭에 걸쳐 선형 스캐닝 광원을 제공할 수 있다. 도 1G의 실시예는 (예를 들어 2보다 큰) 복수의 광학 배열과 (예를 들어 2보다 큰0 복수의 광대역 광원을 포함하도록 확장될 수 있다.
도 1G에 도시된 예시적인 실시예는 또한 각각의 광학 배열의 파장 동조 대역과 광대역 광원이 불연속 되도록 구성될 수도 있다. 이러한 구성에서, 동조 대역은 연속이거나 또는 불연속인 순차 방식으로 또는 동시에 스위프될 수 있다.
도 2는 본 발명의 예시적인 실시예에 따른 필터의 측정 특성에 대한 예시적인 그래프를 도시한다. 예를 들어 곡선(48)인 필터의 정규화 반사 스펙트럼은 반도체 광증폭기(semiconductor optical amplifier: SOA)와 광스펙트럼 분석기로부터의 광대역 증폭기 자발적 방출을 사용하여 측정될 수 있다. 다각 배열(24)이 15.7kHz의 최대 속도로 회전하는 동안, 광스펙트럼 분석기는 피크홀드(peak-hold) 모드에서의 정규화 처리(throughput) (반사) 스펙트럼을 얻거나 기록할 수 있다. 측정된 동조 범위는 126nm인 이론값보다 실질적으로 작은 90nm일 수 있다. 격자로부터의 빔의 비교적 큰 각발산(angular divergence)과 관련된, 망원경(6')의 주로 마당굽음수차(field curvature aberration)인 수차에 기인할 수 있는 편차를 가질 수 있다. 이러한 수차는 종래 공지된 최적 렌즈 설계를 사용하여 수정될 수 있다. 도 2에 도시된 곡선(46)은 다각 배열이 특정 위치에서 정적일 때의 처리 스펙트럼을 도시한다. 관측된 자유 스펙트럼 범위는 73.5nm로 이론적 계산과 일치한다. 곡선(46)의 FWHM 대역폭의 측정값은 0.12nm이다. 측정된 FWHM과 0.09nm인 이론적 한계 사이의 편차는 광학 요소의 결함과 수차를 고려하면 타당하다.
도 3은 본 발명에 따른 파장 동조 레이저 소스의 예시적인 실시예를 도시한다. 예를 들어, 다각형 기반 필터(polygon-based filter)는 패러데이 순환기(50, Faraday circulator)를 통해 확장 공동(extended-cavity) 반도체 레이저로 통합될 수 있다. 공동내(intra-cavity) 요소는 단일 모드 광섬유(10)에 의해 접속될 수 있다. 이득 매체는 (예를 들어, SOA, 필립스, CQF 882/e인) 반도체 광증폭기(52)일 수 있다. 레이저 출력(72)은 광섬유 융착 커플러(70, fiber-optic fused coupler)의 90% 포트를 통해 얻을 수 있다. 2개의 편광 제어기(64, 62)를 사용하여, 공동내 광선(intra-cavity light)의 편광 상태들을 격자(16)의 최대 효율축과 SOA(50)의 최대 이득축에 정렬할 수 있다. 전류 소스(54)는 SOA(50)에 주입 전류를 제공할 수 있다. 다각 배열(24)은 모터 드라이버(97)에 의해 구동되고 제어될 수 있다. 잠재적 응용에 유용한 동기 신호를 생성하기 위해, 대략 5%의 레이저 출력이 0.12 nm의 대역폭을 갖는 가변 파장 필터(80)를 통해 광검출기(82)로 안내될 수 있다. 이러한 예시적인 실시예에서, 필터의 중심 파장은 1290nm에 고정되었다. 검출기 신호는 레이저의 출력 파장이 고정 파장 필터의 좁은 통과 대역을 통해 스위프되는 경우에 단펄스(short pulse)를 생성할 수 있다. 동기 펄스의 타이밍은 필터의 중심 파장을 변화시킴으로써 제어될 수 있다.
도 4A는 본 발명에 따른 레이저 소스의 예시적인 제1 출력 특성(레이저 스펙트럼 대 파장)의 그래프를 도시하며, 도 4B는 본 발명에 따른 레이저 소스의 예시적인 제2 출력 특성(출력 대 시간)의 그래프를 도시한다. 도 4를 다시 참조하면, 곡선(110)은 피크홀드 모드에서, 예를 들어 다각 배열이 15.7kHz로 회전하는 경우에 광학 스펙트럼 분석기에 의해 측정된 레이저의 출력 스펙트럼을 나타낸다. 에지 대 에지의 스위프 범위는 필터의 자유 스펙트럼 범위와 동일하게 1282nm 내지 1355nm로 관측되었다. 측정된 스펙트럼이 정방형 프로파일이 아니라 가우시안형(Gaussian-like) 프로파일인 것은, 공동 내에서의 복굴절과 필터의 편광 민감도에 의해 발생되는 편광에 따른(polarization-dependent) 공동 손실에 주로 기인할 수 있다. 최대 스위프 범위와 출력을 얻도록 편광 제어기를 조정하는 것이 바람직할 수 있다. 도 4B에서, 곡선(114)은 시간 영역에서의 예시적인 레이저 출력이다. 상부 표시선(112)은 고정 파장 필터를 통해 얻을 수 있는 동기 신호이다. 면으로부터 면까지의 출력 변화의 진폭은 3.5% 미만이었다. 피크와 평균 출력은 각각 9mW와 6mW였다. 광학 스펙트럼 분석기가 시평균된(time-averaged) 스펙트럼을 스펙트럼 분석기의 스위프 속도보다 훨씬 빠른 레이저 동조 속도로 기록하므로, 도 4A의 곡선(110)의 y축 축척은 시간 영역 측정으로부터 조정(calibration)될 수 있다.
대역내 4 파 혼합 현상(intraband four-wave mixing phenomenon)의 결과로서, 광선이 SOA 이득 매체를 통과할 때, 공동내 레이저광의 광스펙트럼 내에 주파수 다운시프트(downshift)가 발생할 수 있다. 주파수 다운시프트의 존재하는 경우, 양성 파장 스위프 방향으로 파장 스캐닝 필터를 작동시킴으로써 더 큰 출력이 생성될 수 있다. 도 5는 동조 속도의 함수로서 측정된 레이저 출력의 정규화 피크 출력의 예시적인 도면이다. 본 발명에 따른 배열의 예시적인 실시예의 광학축(38)에 대한 격자의 배향과 시준기의 위치를 플리핑(flipping)함으로써, 음성(negative) 동조 속도를 얻을 수 있다. 필터의 물리적인 매개 변수를 두 개의 동조 방향에 동일하게 하는 것이 바람직할 수 있다. 자기 주파수 편이(self-frequency shift)와 양성 동조의 조합 작용에 의해, 보다 높은 출력을 얻을 수 있고, 곡선(120)에 표시된 바와 같이 더 높은 동조 속도로 레이저가 동작될 수 있다. 그러므로, 양성 파장 스캔이 바람직한 작동일 수 있다. 출력은 동조 속도의 증가에 따라 감소될 수 있다. 동조 속도에 대한 출력의 민감도를 줄이기 위해 짧은 공동 길이가 바람직할 수 있다. 이 경우에 자유 공간 레이저 공동이 바람직할 수 있다.
본 발명에 따른 자유 공간 확장 공동 반도체 동조 가능 레이저 배열의 예시적인 실시예가 도 6에 도시되어 있다. 기판 칩(160) 상에 제조된 반도체 도파관(162)은 시준 렌즈(180)를 통해 다각 스캐닝 필터에 연결될 수 있다. 그 전면(164)은 반사 방지 코팅될 수 있으며, 출력면(166)은 최적 반사율을 갖도록 클리브(cleave)되거나 바람직하게는 유전체로 코팅될 수 있다. 레이저 출력(190)은 출력 커플링 렌즈(182)를 통해 얻어질 수 있다. 동기 출력은, 다각 스캐너(24)로부터 재반사된 광선에 대한 0 차수 회절 경로 상에 위치설정된 렌즈(140), 핀홀(142) 및 광검출기(144)를 사용하여 얻어질 수 있다. 광검출기(144)는 특정 파장의 광학 빔의 초점이 핀홀(142)을 통해 스위프되는 경우에 단펄스를 생성할 수 있다. 다른 형태의 이득 매체는 희토류 이온 도핑 섬유, Ti:Al2O3 및 Cr3 +:포스터라이트(forsterite)를 포함하지만 이에 한정되지는 않는다. 제1 및 제2 렌즈(20, 22)는 바람직하게는 특히 낮은 마당굽음(field curvature) 수차 및 낮은 코마(coma)를 갖는 색지움렌즈(achromat)일 수 있다.
도 7은 도 7에 도시된 바와 같이 입력 시준 렌즈(12), 회절 격자(6), 초점 렌즈(200), 회전 디스크(210)을 포함하는 파장 동조 가능 필터의 또 다른 예시적인 실시예를 도시한다. 회절 격자(16)는 바람직하게는 초점 길이를 갖는 오목 곡률을 가지며 따라서 초점 렌즈(200) 사용에 대한 필요성을 제거할 수 있다. 회절 격자는 프리즘과 같은 다른 각분산 요소로 대체될 수 있다. 회전 디스크(210)의 표면 상에 바람직하게는 하나 이상의 반사경(212)이 증착될 수 있다. 바람직하게는, 반사경(212)은 주기적으로 그리고 방사상으로 패터닝된 복수의 좁은 줄무늬(stripe)를 포함할 수 있다. 반사경의 재료는 바람직하게는 금이다. 디스크(210)는 경량 플라스틱 또는 실리콘 기판으로 만들 수 있다. 디스크의 상면 상에 증착된 반사경 대신에, 디스크는 디스크의 배면에 부착되거나 디스크로부터 독립적으로 지지되는 단일 반사경에 의해 후속되는 일련의 관통 구멍을 구비할 수 있다. 광섬유(10)로부터 입사된 상이한 파장들의 광학 빔이 격자(16)에 의해 회절되고 렌즈(200)에 의해 포커싱(focusing)된 후에 디스크의 표면상에 선(line)으로 조사된다. 회전 디스크의 반사경에 도달한 빔은 재반사되어 광섬유(10)에 의해 수신될 수 있다. 예를 들어, 미러(202)를 사용하여 디스크 상으로 빔의 접근을 용이하게 할 수 있다.
렌즈(200)로부터 디스크(210)의 반사경까지의 거리는 렌즈(200)의 초점거리(F)와 대략 같을 수 있다. 필터의 동조 범위는 Δλ=p cosβ0(D/F)로 주어지는데, D는 줄무늬 사이의 거리를 나타낸다. 줄무늬의 폭(w)은 바람직하게는 디스크의 표면에서 빔 스폿 크기(beam spot size)(ws)인
Figure 112012073648915-pat00004
와 대략 같을 수 있는데, z는 πws 2/λ이다. 이러한 식은
Figure 112012073648915-pat00005
로 주어진 FWHM 필터 대역폭으로 유도될 수 있다. w ＞ ws인 경우에 필터 대역폭이 더 커질 수 있고, w ＜ ws인 경우에 필터의 효율(반사율)이 빔 클리핑(beam clipping)에 의해 더 작아질 수 있다. 렌즈(200)의 광학축에 대한 입사빔(30)의 배향 및 회전 방향(220)은 파장 동조의 감지를 결정할 수 있다. 도 7에 도시된 예시적인 실시예에 해당하는 양성 파장 스캔이 바람직할 수 있다.
본 발명의 예시적인 실시예 중 두 개의 예시적인 응용이 후술될 것이다. 도 8은 전술한 동조 가능 레이저 소스(300)를 사용하는 스펙트럼 부호화 공초점 현미경(spectrally encoded confocal microscope: SECM)의 예시적인 실시예에 대한 블록도를 도시한다. SECM의 기본 원리는, 상세한 설명이 전체로서 본 명세서에 참조로서 합체되는 미국특허 제6,341,036호에 상세히 설명되어 있다. 예시적인 탐침(310)은 두 실리콘 프리즘(314, 316) 사이에 제공된 투과 격자(312), 시준기(318) 및 현미경 대물 렌즈(320)를 포함한다. 탐침은 샘플(330)의 다른 위치 상으로 빔을 스캐닝하는 마이크로 작동기(322, micro actuator)를 구비한다. 작동기(322)는 레이저 소스의 동조 속도보다 실질적으로 느린 속도로 작동기 드라이버(324)에 의해 구동될 수 있다. 탐침 움직임은 바람직하게는 회전식 또는 병진식이며, 레이저 소스의 동기 출력에 동기화된다. 일례에서, 파장 스위프 주파수는 15.7kHz일 수 있으며, 탐침 스캔 주파수는 1초에 30프레임의 영상을 얻을 수 있는 30Hz일 수 있다. 대물 렌즈(320)는 마이크로미터 차수의 횡 해상도(transverse resolution)과 몇 개의 마이크로미터의 공초점 변수를 제공하도록 높은 개구수(nigh numerical aperature)를 갖는다. 광학 빔의 초점은 탐침의 스캐닝 움직임과 광원의 스위프 출력 파장에 의해 샘플(330) 상에서 제시간에 연속하여 스캐닝될 수 있다. 샘플로부터 복귀되는 광출력은, 빔이 소정 시간에 좁은 웨이스트(waist)로 포커싱 다운(focusing down)되는 작은 단면(section) 내에서의 샘플의 반사율에 비례한다. 샘플의 2차원 정면(en-face) 영상은 신호처리기(344)에 의해 구성된다. 검출기(340)는 바람직하게는 트랜스임피던스(transimpedance) 증폭기(342)에 의해 후속되는 애벌란시 광다이오드(avalanche photodiode: APD)이다. 반사 출력은 패러데이 순환기(350) 또는 광섬유 커플러를 통해 수신될 수 있다.
본 발명의 예시적인 실시예의 또 다른 예시적인 응용은, 상세한 설명이 전체로서 참조로서 본 명세서에 합체되는 미국특허 제5,956,355호에 상세하게 설명된 광학 결맞음 단층촬영기(optical coherence tomography: OCT)에 대한 것이다. 도 9에 도시된 하나의 예시적인 구성에서, 동조 가능 소스(300)의 출력은 광섬유 커플러(410)를 통해 샘플(330)로 안내될 수 있다. 탐침에서 대물렌즈(412)는 통상적으로 표면 근처에 또는 샘플(330) 내에 초점을 제공할 수 있다. 마이켈슨 간섭계의 두 아암 사이의 광학 경로 길이가 실질적으로 부합되는 위치에서 기준 아암(120) 내에 기준 미러(420)가 위치될 수 있다. 이와는 달리, 기준 경로는 투과성 비반사 구성으로 구성될 수 있다. 검출기(430)는 핀(PIN) 광다이오드일 수 있으며, 유한 주파수 대역폭을 갖는 트랜스임피던스 증폭기(432)가 그 다음에 위치된다. 검출기는 바람직하게는 다양한 편광 및 이중 밸런스 검출(polarization diverse and dual-balanced detection)을 통합할 수 있다. 검출기 신호는 샘플의 깊이 영상(depth image)을 구성할 수 있도록 고속 푸리에 변환을 통해 처리기(434)에서 처리될 수 있다. 탐침은 샘플의 3차원 영상이 얻어질 수 있도록 작동기(414)와 작동기 드라이버(416)에 의해 스캐닝될 수 있다.
도 10A 및 도 10B는 본 발명에 따른 파장 동조 가능 필터의 또 다른 예시적인 실시예의 평면도 및 사시도이다. 이러한 예시적인 실시예의 각편향 광학 요소(700, angularly deflecting optical element)는, 다각형의 면들이 중공 실린더의 내경 상에 위치되는 회전 다각 배열(24)일 수 있다. 회절 격자와 같은 분산 요소(702)는 다각 배열(24)의 중심에 위치 설정될 수 있다. 광속은 광섬유를 통해 격자에 전달되며 격자 상으로 시준될 수 있으므로, 광속의 각각의 주파수 성분은 상이한 각(Θ)으로 회절된다. 단지 하나의 좁은 주파수 범위만이 다각 배열(24)의 하나의 면에 실질적으로 직교할 수 있으며, 따라서 이러한 주파수 범위가 회절 격자로 재반사되고 광섬유(704/706)에 의해 수집될 수 있다. 실린더가 회전하는 동안, 조사된 다각 배열의 면들에 대한 면수직(surface normal) 방향을 새로운 좁은 주파수 범위와 정렬할 수 있다. 실린더를 회전시킴으로써, 그에 따라 주파수 동조가 달성될 수 있다. 실린더 회전각이 크게 될 때, 다각 배열(24)의 인접한 면이 격자로부터 회절된 광속과 정렬될 수 있으며, 필터는 또 다른 주파수 동조 주기를 반복할 것이다. 자유 스펙트럼 범위 및 공차는 다각형 직경, 면의 개수, 시준 빔 직경 및 회절 격자 홈 밀도(diffraction grating groove density)에 의해 제어될 수 있다.
전술한 설명은 단지 본 발명의 원리만을 설명한다. 전술한 실시예에 대한 다양한 변형과 수정은 본 명세서의 상세한 설명과 관련된 당업자에게 명백할 것이다. 예를 들어, 본 명세서에 기재된 본 발명은 미국특허출원번호 제60/514,769호에 개시된 예시적인 방법, 시스템 및 장치와 함께 사용 가능하다. 그러므로 당업자라면 본 명세서에 명시적으로 도시되거나 기술되지는 않았더라도 본 발명의 원리를 구체화하고 따라서 본 발명의 사상과 범위 내에 속하는 다양한 시스템, 배열 및 방법을 안출할 수 있을 것이라는 것을 이해할 것이다.

Claims (11)

  1. 스펙트럼을 갖는 전자기 복사를 방출하는 시스템을 포함하는 장치로서,
    상기 스펙트럼의 평균 주파수는 밀리초당 100 테라헤르츠보다 큰 절대율로 변화하고, 10 테라헤르츠보다 큰 범위에 걸쳐 변화하는 것을 특징으로 하는 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 평균 주파수는 5 킬로헤르츠보다 큰 반복률로 반복적으로 변화하는 것을 특징으로 하는 장치.
  3. 제2항에 있어서, 상기 스펙트럼은 1300 nm에서 중심 설정된 동조 범위를 갖는 것을 특징으로 하는 장치.
  4. 제2항에 있어서, 상기 스펙트럼은 850 nm에서 중심 설정된 동조 범위를 갖는 것을 특징으로 하는 장치.
  5. 제2항에 있어서, 상기 스펙트럼은 1700 nm에서 중심 설정된 동조 범위를 갖는 것을 특징으로 하는 장치.
  6. 제2항에 있어서, 상기 스펙트럼은 100 기가헤르츠보다 작은 순간 선폭을 갖는 것을 특징으로 하는 장치.
  7. 제1항에 있어서, 상기 방출된 전자기 복사와 관련된 적어도 하나의 신호를 수신하여, 상기 적어도 하나의 신호를 더 먼 위치로 반사 또는 편향하도록 구성된 다각 배열을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
  8. 제1항에 있어서, 광학 배열 형성하고 상기 전자기 복사의 공간 모드를 제어하도록 형성되는 레이저 공명 시스템을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
  9. 제8항에 있어서, 상기 광학 배열은 상기 레이저 공명 시스템의 적어도 일부 내에 일방향성으로 전파하는 전자기 복사를 발생하는 것을 특징으로 하는 장치.
  10. 제9항에 있어서, 상기 레이저 공명 시스템 내에 상기 전자기 복사의 전파 방향을 제어하도록 형성되는 패러데이 순환기를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
  11. 제8항에 있어서, 전자기파 복사의 주파수에 기초하여 전자기 복사의 적어도 일부 신호를 적어도 전송 또는 반사하며 상기 적어도 일부 신호는 반값 전폭 주파수 분포(full-width-at-half-maximum frequency distribution)가 100기가헤르츠보다 작은 것을 특징으로 하는 장치.
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