KR100300220B1 - 스테이지 기구 및 그 동작방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명의 목적은 광선의 통과를 차단하는 스테이지에 구동용 가이드를 설치하지 않으면서, 스테이지의 비틀림 운동의 발생을 방지하는 스테이지 기구를 제공하는 것으로, 정밀운동 가능한 스테이지 기구에 있어서, 주요면을 형성하고 있는 기부와, 기부의 주요면에 배치된 운동가능한 스테이지와, 제1, 제2, 제3 및 제4창틀부재로 상기 스테이지를 측방으로부터 감싸고, 서로 마주하는 제1 및 제2창틀부재가 상기 스테이지와 미끄러져 움직일 수 있게 접촉하고 있는 창틀과 서로 마주하는 상기 제3 및 제4창틀부재를 각각 미끄러져 움직일 수 있도록 지지하는 제1 및 제2 가이드를 갖는 구성으로 이루어졌다.

Description

스테이지 기구 및 그 동작 방법
본 발명은 정밀 운동 스테이지에 관한 것으로, 구체적으로는, 포토리소그래피에 사용되며, 특히, 레티클을 지지하기 위한 사용에 적합한 스테이지에 관한 것이 다.
포토리소그래피는, 특히 반도체 제조에 사용되는 주지의 분야이다. 포리소그래피 장치에 있어서, 스테이지(X-Y 운동장치)는, 레티클(즉, 마스크)을 지지하며, 또 하나의 스테이지는, 반도체 웨이퍼, 즉, 처리되는 가공편을 지지한다. 때로는, 단일 스테이지가 웨이퍼 또는 마스크에 설치될 때도 있다.
이와 같은 스테이지는 X축과 Y축 방향으로의 정밀 운동에 불가결하며, 어느미소한 운동이 수직방향(Z축)의 조절을 위해 실행된다. 레티클이 주사노광장치내에서 주사되는 레티클 스테이지가, 일반적으로 사용되고 있고, 거기에는 원활하고 정밀한 주사운동이 실행되며, 주사방향에 직각인 미소한 변위운동과 X-Y 면위와 작은 편요량(회전)을 제어함으로써, 레티클 웨이퍼에 대한 정확한 정렬을 확실하게 한다.
종래부터 이같은 X-Y스테이지는 가격을 저감하기위해 비교적 단순하고, 시장에서 입수할 수 있는 구성요소로 제작 가능하고, 원하는 정밀도를 유지하는 것이 바람직했다. 또한, 많은 종래기술 스테이지에서는, 스테이지 자체 밑에 직접 배치된 가이드 구조체를 갖는다. 그러나, 광선이 레티클과 스테이지 자체를 지나, 레티클 밑쪽에 설치된 투영 렌즈로 지향하는 것이 불가결하므로 레티클 스테이지에는 바람직하지 않다. 따라서, 스테이지 자체가 광선 때문에 매우 큰 중심통로를 형성하고 있어야 하므로, 스테이지 자체 아래에 직접 가이드를 구비하고 있지 않은 스테이지가 필요하다.
또한, 많은 종래기술의 스테이지는 스테이지가 중심을 지나 구동하지 않으며, 이것은 바람직하지 않은것으로, 비틀림 운동을 스테이지에서 발생시켜, 스테이지 운동의 주파수 응답성을 저하시킨다. 본 발명은, 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 개량한 스테이지를 제공하는 것을 목적으로 한다. 본 발명은 특히, 레티클 스테이지에 적합하다.
제1도는 창틀에 의해 가이드된 스테이지의 평면도.
제2도는 가이드, 스테이지 및 관련 구조체의 측면도.
제3(a)도 및 제3(b)도는 제2도의 구조체 부분의 확대도.
제4도는 가이드에 의한 스테이지를 필요로 하는 포토리소그래피 장치의 평면도.
제5도는 제4도의 포토리소그래피 장치의 측면도.
제6(a)도 및 제6(b)도는 창틀 부재를 연결하는 연결부.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
10 : 스테이지 14 : 간섭 미러
24 : 레티클 26 : 레티클 진공홈
28 : 척 플레이트(chuck plate) 32 : 기부 구조체
36 : 공기 베어링 40 : 창틀 부재
44 : 연결 부재 46 : 가이드
50 : 공기 베어링 52 : 공기 베어링
60 : 모터 코일 64 : 가이드
68 : 모터 코일 70 : 자기 트랙
80 : 외측 구조체 90 : 조명기
92 : 투영 렌즈
상기 목적을 달성하기 위해 제1항의 발명(제1발명)은, 정밀 운동 가능한 스테이지 기구에 있어서, 주요면을 형성하고 있는 기부와, 기부의 주요면에 배치된 운동가능한 스테이지와, 제1, 제2, 제3및 제4창틀 부재로 상기 스테이지를 측방에서 둘러싸고 서로 마주하는 제1및 제2창틀부재가, 상기 스테이지와 미끄러져 움직일 수 있도록 접촉하고 있는 창틀과, 서로 마주하는 상기 제3 및 제4창틀부재를 각각 미끄러져 움직일 수 있게 지지하는 제1 및 제2가이드를 갖는 구성으로 이루어 졌다.
제2항의 발명은, 제1발명에서의 창틀은 제1및 제2창틀부재가 각각 연결 부재로부터 제3 및 제4창틀 부재와 연결되어 있는 구성으로 이루어 졌다.
제3항의 발명은, 제1발명에서의 연결 부재는 복수의 메탈스트립을 갖으며, 해당 복수 메탈 스트립이 X형상으로 설치된 구성으로 이루어졌다.
제4항의 발명은, 제 1발명의 스테이지 기구에 있어서, 복수의 유체 베어링을 구비하여, 상기 유체 베어링은 상기 스테이지의 아래쪽에 상기 기부와 대면하도록 설치되어 있는 구성으로 이루어졌다.
제5항의 발명은, 제1 및 제4발명의 스테이지 기구에 있어서, 또 제3 및 제4창틀 부재 각각에 설치되어, 제 1및 제 2가이드 각각에 대면하는 적어도 2개 이상의 유체 베어링을 갖는 구성으로 이루어졌다.
제6항의 발명은, 제1발명의 스테이지 기구에 있어서, 제3및 제4 창틀 부재 각각에 제1구동 수단을 설치하고, 상기 제1구동 수단은, 제1과 제 2 가이드에 대해 창틀을 구동하는 구성으로 이루어졌다.
제7항의 발명은, 제6발명의 스테이지 기구에 있어서, 기부에 설치되어, 제1구동 수단 각각과 함께 작용하는 제2구동수단을 갖는 구성으로 이루어 졌다.
제8항의 발명은, 제1발명의 스테이지 기구에 있어서, 제1과 제2창틀 부재 각각에 상기 스테이지와 대면하는 측에 제3구동 수단을 갖는 구성으로 이루어 졌다.
제9항의 발명은, 제1발명의 스테이지 기구에 있어서, 제1 및 제2 가이드와 제3 및 제4 창틀 부재를 지지하는 지지 기부를 가지며, 상기 지지 기부는 기부로부터 독립해 지지되어 있는 구성으로 이루어졌다.
제10항의 발명은, 정밀 운동을 할수 있는 스테이지를 2개의 직각인 방향으로 동작시키는 동작방법에 있어서, 스테이지를 기부에 배치하고, 스테이지와 미끄러져 움직일 수 있게 접촉하고 있는 틀로 스테이지를 측방으로부터 둘러싸서, 기부에 대해 2개의 직각인 방향중의 제1방향으로 스테이지를 구동하고, 틀에 대해 2개의 직각인 방향중의 제2방향으로 스테이지를 구동하는 단계를 포함하고 있는 것을 특징으로 하는 동작 방법으로 이루어졌다.
제11항의 발명은, 변형가능한 힌지(hinge) 가 부착된 틀구조체에 있어서, 4각형상으로 배치된 4개의 강성틀 부재로하여, 각 틀부재가,그 단부 각각에 가깝게, 인접틀부재의 같은 예각 구조체에 인접해 놓여있는 예각 구조체를 형성하고 있는 상기 4개의 강성틀 부재와, 2개의 인접한 예각구조체 각각을 접속하고 있는 복수 연결 부재이며, X형상으로 설치되어 있는 연결 부재를 포함하고 있는 구성으로 이루어졌다.
제12항의 발명은, 연결부는 0.05인치 보다 얇은 스테인레스 스틸로 제작되어 있는 구성으로 이루어졌다.
즉, 본 발명의 정밀 운동 스테이지 기구는, 평탄한 기반위의 X-Y면위를 운동하는 스테이지 자체를 갖는다. 스테이지는, 창모양으로 형성되는 4개의 프레임(이하, 창틀 부재라고 한다)에 의해 측방이 둘러싸여 있다. 상기 창틀 부재는, 모퉁이 또는 모퉁이 부근에 조립되어 있는 4각형의 구조체(이하, 창틀이라고 한다)를 형성하고 있다. 즉, 창틀은, 4개의 창틀 부재가 연결됨으로써 형성되고 있다. 연결을 실행하는 연결 부재는, 4각형이 약간 변형하는 운동을 하는 특수한 타입의 힌지(경첩)인 연결부이다. 즉, 이 연결 부재에 의해 정방형 혹은 장방형이 평행사변형으로 변형될 수 있게 된다. 하나의 형식으로는, 이들 연결부는 "X"형상으로 부착된 얇은 스테인레스 스틸 스트립으로, 2개가 인접해 접속된 창틀 부재 사이를 바라는 만큼의 힌지운동을 행한다.(상세한 것은 제6도를 이용해 후술한다)
창틀은, 기판상에 고정된 자기 트랙과 함께 작용하는 창틀부재의 2개의 서로마주하는 부재에 부착된 모터 코일에 의해 구동되며, 2개의 간격을 두고 떨어진 평행으로 고정된 가이드에 맞부딪혀, 예컨대, X축 방향으로 기반상을 이동한다.
창틀은, 실제로 스테이지 운동을 추종하며, 스테이지 운동에 필요한 자기 트럭을 Y방향으로 보낸다(여기서, X 와 Y 축을 인용하고 있으나, 이것은 단순히 본도면에 관한 방위에 대해 설명하기 위함으로, 한정되는 것으로 구속되지 않는다는 것은 이해될 것이다).
창틀의 운동 방향으로 수직인 방향(Y축 방향)의 스테이지 운동은, 창틀외의 부재를 따라 움직이는 스테이지에 의해 실행되어진다. 스테이지에 부착되고, 창틀의 2개의 접속된 부재에 부착된 자기 트랙과 함께 작용하는 모터 코일에 의해 창틀과 상대적으로 구동된다.
마찰을 최소로 하기 위해, 스테이지는, 스테이지 아래측에 부착된 공기 베어링, 또는 다른 유체 베어링에 의해 기반에 지지되어 있다. 마찬가지로, 유체 베어링은, 창틀 부재를 그것의 고정된 가이드에 지지한다. 또한, 유체 베어링은, 창틀 부재를 고정된 가이드에 대해 로드하고, 스테이지를 창틀에 대해 로드하고 있다. 약간의 편요 운동 (Z축 회전의 X-Y평면에서의 회전)을 가능하게 하기 위해, 이들 로드 베어링은, 스프링으로 부착되어 있다. 스테이지 자체는, 중앙통로를 형성하고 있다. 레티클은, 스테이지위에 부착된 척에 놓여져 있다. 일반적으로 레티클 위쪽에 배치된 조명원으로 부터의 광원은, 레티클을 지나는 중앙통로로 진출해 배치된 투영렌즈로 진행된다.
본 발명의 스테이지는, 적절한 수정에 의해 레티클을 지지하는데 제약되지 않고, 웨이퍼 스테이지로서도 사용할 수 있으며, 실제로 포토리소그래피 용도에 한정되지 않고 일반적으로 정밀한 스테이지에 적합하다.
본 발명에 관한 다른 특징은, 스테이지와 창틀을 구동하는 구동 모터와의 반력이 포토리소그래피 장치의 지지틀로 보내지지 않으나, 이것과는 관계없이, 독립된 지지 구조체에 의해 지표면으로 직접 전달하는 것이다. 따라서, 스테이지 운동에 의해 발생된 반력은, 투영렌즈 또는 포토리소그래피기 이외의 요소에 바람직하지 않은 운동을 일으키지 않는다.
이와같이 투영 렌즈 또는 관련 구조체로부터 스테이지의 반력을 절연함으로써 이들 반력이, 투영렌즈 또는 관련 구조체를 진동하는 것이 방지된다. 이들 구조체는, X-Y평면 스테이지와 웨이퍼 스테이지와의 정확한 위치를 결정하기 위한 간섭계 장치를 갖추고 있다. 레티클 스테이지 기구 지지체는 포토리소그래피기의 이외의 요소로부터 간격을 두고 떨어져, 독립해 지지되어 있으며, 지표면으로 신장되어 있다.
본 장점은, 스테이지와 창틀가이드를 움직이는 4개의 모터 코일의 동작에서 발생된 반력이, 스테이지의 중심을 지나 전달되고, 이에 의해 힘의 모멘트(즉, 토오크)가 저감되는 것이다. 4개의 구동 모터 코일로의 전력을 제어하는 콘트롤러는, 스테이지와 창틀과의 상대위치를 고려해 넣고, 차동구동법에 따라 구동력의 균형을 잡는다.
제1도는, 본 발명에 관한 스테이지 기구의 평면도를 도시한다. 또한, 동시계속 동일소유 및 발명의 1994년 4월 1일 출원된 출원번호가 80/221,375 이고 명칭이 “절연된 반작용 스테이지를 구비한 가이드 없는 스테이지”인 미국 특허 출원을 참조하기 바람·본 출원특허는, 참고로 본 명세서에 기재되어, 스테이지 기구의 요소를 지지하는 관련방법을 나타내고 있고, 리소그래피 장치의 투영렌즈와 다른 부분으로 부터의 반력을 절연하고 있다.
스테이지(10)(평면도)는, 강성재(예를들면, 스틸, 알루미늄, 또는 세라믹)로 제작된 4각형의 구조체이다. 스테이지(10)에 배치된 두개의 간섭계 미러(14A, 14B) 는 각 레이저 빔(16A, l6B) 과 통상과 같이 상호작용한다. 일반적으로, 레이저 빔(16A)은 2조의 레이저빔이고, 레이저 빔(16B)은 1조의 레이저 빔이고, 이들 레이저 빔은, 세개의 거리 측정치에 관한 것이다. 스테이지(10) 하측에는, 들뜬 부분(22)이 형성되어 있다(점선으로 나타내져 있으나, 도면상에서는 보이지 않는다). 즉, 스테이지(10)가 투영 렌즈(92) 상부를 덮도록 형성되어 있다.(제1도 참조).
레티클(24)은, 스테이지(10)에 배치되어, 척 플레이트(28)윗면에 형성된 종래의 레티클 진공홈(26)에 의해 유지되고 있다. 스테이지(10)는, 레티클(24)의 아래에 중앙개구(30)(통로)도 형성하고 있다. 중앙개구(30)에 의해, 레티클(24)을 투과한 광선(또 다른 광선)은, 이후에 상세히 설명되고 있는 것처럼, 레티클 아랫쪽의 투영렌즈(29) 에 입사할 수 있다.(레티클(24)자체는, 스테이지 기구의 일부가 아닌것은 이해될 것이다) 그밖에, 본 발명의 스테이지 기구가 레티클 스테이지 이외의 것, 즉, 웨이퍼 지지에 사용되면, 개구(30) 는 불필요하다.
스테이지(10)는, 예를 들면, 강성체, 스틸, 또는 알루미늄 등 매끄럽고 평탄한 윗표면을 갖는 보통의4각형의 기부구조체(32)위에 지지되어 있다. 기부 구조체(32)의 좌우 테두리(제1도)는, 점선으로 나타나 있고, 상기 도면 이외의 구조체(후에 설명되어 있는것 같이)에 의해 위에 놓여져 있다. 동작 상태에서 스테이지(10)는, 상기 기부 구조체와 물리적으로 직접 접촉하고 있지 않다. 그 대신 스테이지(10)는, 본 실시예에서는, 기체 베어링 등의 종래의 베어링에 의해 지지되고 있다. 일 실시예에서는, 시장에서 입수할 수 있는 타입의 3개의 공기베어링(36A, 36B, 36C)이 사용되고 있다. 다른 공기 베어링/진공 구조체에서는, 진공 부분은 공기 베어링부분과 물리적으로 분리되어 인접해 있다. 진공과 압축 공기는 보통의 관다발과 내부세관의 배관계와의 세관을 통해 보내진다(간결하게 하기위해 도면에는 도시되어 있지 않음). 이에 따라, 스테이지(10)는 동작상태에 있어서, 기부 구조체(32)가 평탄한 윗면의 상방으로 약 1∼3마아크로미터로, 공기베어링(36A, 36B 및 36C) 위를 부동하고 있다. 다른 타입의 베어링도(예를들면, 공기 베어링/자기의 조합 타입) 그 대신에 사용할 수 있는 것은 이해될 것이다.
스테이지(10)는 4개의 창틀부재로 이루어진 4각형의 구조체인 창틀에 의해 측방이 둘러싸여 있다. 제1도에 도시된 4개의 창틀 부재는, 도면에 있어서, 상부 창틀 부재(40A), 저부 창틀 부재(40B), 좌측 창틀 부재(40C)및 우측 창틀 부재(40D) 이다. 이들 4 개의 창틀 부재(40A∼40D)는 알루미늄 또는 합성재 등의 높은 고유강성도(강성/밀도비)를 갖는 재료로 제작되어 있다. 상기 4개의 창틀 부재(40A∼40D)는, 힌지 구조체(연결 부재)에 의해 함께 부착되어 있다. 즉, 연결 부재를 통해 일체로 연결하고 있다. 이에 따라 X-Y평면에서의 상호와, 도면에 도시된 편요 운동이라고도 일컬어지는 Z축회전과의 4개의 창틀 부재의 비고정운동이 행해진다. 상기 힌지는 후에 상세히 설명되어 있다. 각 힌지(44A, 44B, 44C, 44D)는, 예를들면, 창틀의 약간의 구부러짐을 가능하게 하는 1개 이상의 금속제 연결부이다.
창틀은, 고정된 가이드(46A, 46B)의 수평면에 지지되고, 또한 고정된 가이드(64A, 64B)의 수직면에 지지된 X축(제1도에 있어서 좌우)으로 운동한다. (각조의 고정된 가이드(46A, 64A 및 46B, 64B)는, 예를들면, 단일 L형상의 고정된 가이드이며, 또는 다른 형상의 고정된 가이드도 사용할수 있음은 이해될 것이다.) 2개의 공기 베어링(50A, 50B) 이 창틀 부재(40A)에 부착되어 있고, 이 공기 베어링에 의해, 창틀 부재(40A)는, 그 지지하고 있는 고정 가이드 부재(46A)위에 지지되어 운동한다. 마찬가지로, 공기 베어링(52A, 52B)은, 창틀부재(40B)에 부착되어 있고, 이것에 의해 창틀부재(40B)는 그것이 지지되어 있는 고정가이드 부재(46B) 위에 지지되어 운동한다. 공기베어링(50A, 50B, 52A, 52B)은 공기 베어링(36A)등과 유사하다.
창틀은, 종래의 리니어모터에 의해, 고정된 가이드 (46A, 46B 및 64A, 645)의 X축을 따라 구동된다. 리니어모터는 창틀부재(40A)에 부착된 모터 코일(60A)를 갖는다. 모터 코일(60A)은, 고정된 가이드(64A)에 (또는, 이것을 따라)배치되어 있는 자기 트랙(62A)을 움직인다. 마찬가지로, 창틀 부재(40B)에 부착된 모터 코일(60B)은, 고정된 가이드(64B)에 배치된 자기 트랙(62B)을 움직인다. 모터 코일과 트랙 조합체는 텍사스주 웨브스타노의 트리로지사의 부품 No. LM-310 이다. 트랙 (62A, 62B)은, 각각, 일체로 고정된 다수의 영구자석이다. 모터 코일에 접속된 전선은, 나타나 있지 않으나, 보통전선이다. 다른 타입의 리니어모터도 대신 사용할수 있다. 각 모터의 모터 코일과 자기 트랙의 위치를 바꿀수 있으므로, 예를들면, 자기 트랙은, 성능이 저하하는 핸디캡이 있으나, 자기 트랙을 스테이지(10)에 배치하고, 대응하는 모터 코일을 창틀 부재에 배치할 수도 있다.
마찬가지로, 스테이지(10)는 스테이지(10)의 좌우테두리에 각각 부착된 모터 코일(68A, 68B)에 의해, 제1도의 Y 축을 따라 운동한다. 모터코일(68A)은, 창틀 부재(40C)에 부착된 자기 트랙(70A)을 움직인다. 모터 코일(68B)은, 창틀 부재(40D)에 부착된 자기 트랙(70B)을 움직인다.
공기 베어링(72A, 72B 및 72C)이, 제1도에서 도시되어 있다. 공기 베어링(72A)이 창틀 부재(40A)에 배치되어 있고, 창틀 부재(40A)와 창틀 부재가 고정된 가이드(64A)사이의 마찰을 최소로 하고있다. 일단에 있는 단일 공기 베어링(72A)과, 타단에 있는 2개가 서로 마주하는 공기 베어링(72B, 72C)을 사용함으로써, 일정량의 편요 운동(Z축 회전의 X-Y면 회전)과 Z축을 따른 움직임이 가능해진다. 이 경우, 일반적으로, 공기 베어링(72A)은, 창틀 부재(40A)와 고정된 가이드(64A) 사이의 부정렬된 양을 제한하기 위하여, 짐벌(gimbal : 십자현가 장치)에 의해 장착되어 있거나, 또는 연결부에 배치된 짐벌로 유동가능하게 장착되어 있다.
공기 베어링(72A)을 베어링(72B, 72C)과 서로 마주해 사용함으로써 창틀 가이드를 고정된 가이드(64A, 64B)와 적절한 관계로 유지하는 로드 효과를 줄수 있다. 마찬가지로, 공기 베어링(76A)은, 스테이지(10) 측면에 모두 부착된, 서로 마주하는 공기베어링(76B, 76C)에 무게를 가해, 서로 마주하는 창틀부재(4OB, 40D)에 대한 스테이지(10)위치를 적절히 유지한다. 거듭말하면, 이 경우, 76A 등의 1개의 공기베어링은, 한정된 양의 부정렬을 주도록, 짐벌에 의해 장착되어 있거나, 또는 연결부 짐벌(스프링)에 의해 십자로 현가되어 장착되어 있다. 공기 베어링(72B, 72C, 76A, 76B, 76C)은, 종래타입의 공기 베어링이다.
제1도의 외측구조체(80)는, 스테이지 기구가 고정된 가이드(46A, 46B, 64A, 64B) 및 창틀 부재(40A, 40B, 40C, 40D)에 대한 기부 지지 구조체이다. 이와같이 하여, 놓여져 있는 지지체는 분할되어 있기 때문에, 기부 지지 구조체로의 반력은 스테이지 기부 구조체(32) 로 전달되지 않는다. 기부 지지 구조체(80)는 그 자체의 지지기둥 또는 다른 보통의 지지 요소(이 도면에는 도시되지 않음)에 의해 기초 즉, 지표 또는 건물바닥에 지지되어 있다. 적절한 지지구조체의 실시에는, 인용한 미국특허출원 No. 08/221,375의 제1도, 1B, 1C에 명시되어 있다. 스테이지 기구의 이 부분의 독립 지지구조체는, 레티클 스테이지 기구의 구동모터의 반력을, 포토리소그래피 장치의 다른 요소를 지지하는 프레임으로부터 분리하여, 특히, 투영렌즈(92) 를 갖는 광학요소와 웨이퍼 스테이지로부터 분리해 전달한다는 상기 장점을 구비하고 있고, 이에의해, 레티클 스테이지 운동에 의한 투영렌즈로의 진동력을 최소로 하고 있다. 이것은, 상세히 후에 설명한다.
스페이지 기구의 상기 구동력은, 스테이지 기구의 중심에 가능한한 가깝게 지나 가해진다. 이해하듯이, 스테이지 기구의 중심은, 스테이지(10)에 의해 이동한다. 따라서, 스테이지(10)와 창틀 가이드는 결합하여 유중심을 형성하고 있다. 모터코일(60A, 60B)은, 창틀가이드의 위치를 고려해 각 모터코일(60A, 60B)에 의해 가해진 힘을 제어하여 유효한 힘이 중심으로 가해지고 있도록 유지한다. 또 하나의 종래 타입인 모터코일(68A, 68B)의 차동 구동 제어기는 스테이지(10) 위치를 고려하여 넣고, 각 모터코일(68A, 68B) 에 의해 가해진 힘을 제어하여, 유효한 힘이 중심으로 가해지고 있도록 유지한다. 스테이지(10) 는 큰 범위의 운동을 행하므로, 모터코일(60A, 60B)의 차동구동은, 넓은 차동요동을 포함하고 있음은 이해될 것이다. 이것과 대조적으로 창틀 가이드는 조금도 변화하지 않으므로, 모터코일 (68A, 68B)의 차동구동은 훨씬 작은 차동요동을 포함하고 있어, 균형 효과를 준다. 유리하게는 창틀가이드를 사용함으로써, 레티클 스테이지 기구의 운동에 의해 발생한 반력은 단일 평면으로 유지되고, 따라서 이들의 힘을 포토리소그래피 장치 이외의 부분으로부터 분리하는 것을 용이하게 하고 있다.
제2도는, 제1도의 선2-2를 취한 단면도이다. 제1도에도 있는 제2도에 도시된 구조체는 동일 참조번호를 갖고 있고, 여기서는 설명되어 있지 않다. 조명기(90)가 제2도에 도시되어 있고, 이것은 보통의 요소이며, 여기서는 상세히 도시되어 있지 않고, 간결하게 하기위해 제1도에서는 생략되어 있다. 투영렌즈 상부(원통)(92)도, 제2도에서는 상세히는 도시되어 있지 않다. 투영렌즈(92)하부와 포토리소그래피 장치 이외의 요소는, 제2도에 도시되어 있지 않으나, 이후에 도시설명되어 있다.
투영 렌즈(92)의 지지 구조체(94)는, 제2도에도 도시되어 있어 알수 있듯이, 구조체(94)는, 약간의 공극(96)에 의해 모든 부분에서, 레티클 스테이지 기구의 기부 지지구조체(80)로부터 분리되어 있다. 상기 공극(96)은, 레티클 스테이지 기구의 운동 의해 발생된 진동을 투영 렌즈(92)와 그 지지체(94)로부터 절연한다. 제2도에 도시되어 있듯이 스테이지(10)는, 실시예에서는 평탄한 구조체는 아니지만, 렌즈(92)상부를 수용하며 하측이 들뜬 부분(22)을 형성하고 있다. 자기 트랙(70A)이 창틀가이드(40B) 꼭대기에 부착되며, 마찬가지로, 자기 트랙 (70B)이 서로 마주하는 창틀부재(40D)의 꼭대기에 부착되어 있다.
제3(a)도, 제3(b)도는 동일 참조번호인 제2도 부분의 확대도이다. 제3(a)도는 제2도의 좌측이며, 제3(b)도는 제2도의 우측이다. 공기베어링(76A)의 스프링 부착도구(78)가 제3b도에 도시되어 있다. 공기베어링(78A)은 스테이지(10)의 측면에 스프링에 의해 장착되어 있고, 이에 의해 일정량의 편요(Z축회전의 X-Y 평면에서의 회전)와 Z축을 따른 한정된 운동이 가능하다. 짐벌 장착은, 스프링(78) 대신에 또는 이에 추가해 사용할 수 있다. 스프링 또는 짐벌장착에 의해, 스테이지(10)와 창틀부재 (40C, 40D) (제3(a)도에는 도시되어 있지 않음) 사이의 한정된 양의 부정렬이 가능하다.
제4도는 제1도와 제2도의 스테이지 기구를 갖는 포토리소그래피 장치의 평면도이나, 이것은 제1도에 도시된 요소 외에 레티클스테이지 기구를 제외한 틀(94)을 갖는 포토리소그래피 장치를 지지하는 지지 기부구조체(100)를 갖는다. (제1도에 도시된 구조체는, 간결을 위해 모두 제4도에 표시되어 있지 않다) 기부 구조체(100) 는 브래킷 구조체(106A, 106B, 106C, 106D)에 의해 각각 구조체(94)에 접속된 4개의 수직지지 기둥(102A, 102B, 102C, 102D)을 지지하고 있다. 기부 구조체(100)의 크기는 꽤 커, 일 실시예에서는 위에서 아래까지 약 3미터이다. 102A, 102B, 102C, 102D 각각은 레벨링을 위해 내부에 보통의 서보기구(도시되지 않음)를 갖는다. 각 레이저 간섭계(빔 스플리터 등) (l12A, l12B, l12C)의 지지체(108, 110)도 제4도에 도시되어 있다. 제4도는 제4도의 단면선5-5를 취하는 제5도의 단면도를 참고로하면, 이해될 것이다.
제4도 및 제5도에 있어서, 지지구조체(94)의 크기가 모두 보통의 기초(도시되지 않음)를 거쳐 지상과 접촉하고 있는 기부 구조체 위에 놓인 지지기둥(102A, 102C)과 함께 보여진다. 레티플스테이지 기부 지지구조체(80)는 제4도에만 도시되어 있고(간결을 위해), 마찬가지로 접속된 브래킷 구조체(l16A,l16B, l16C, l16D)를 갖는 일조의 4 개의 기둥(l14A, l14B, l14C, l14D)으로 구성되어 있고, 이에 의해 기둥은 기부 지지구조체(80)의 높이로부터 기부구조체(100)로 신장되어 있다.
제5도 하부에는, 웨이퍼(120) 와 접속된 지지구조체(122, 124)가 도시 되어 있다. 웨이퍼스테이지(120)의 요소는 보통, 기부, 스테이지 자체, 기부에 배치된 고정 스테이지 가이드, 고정스테이지 가이드에 배치된 자기트랙 및 자기트랙에 장착해 스테이지 자체에 접속된 모터 코일로 이루어져 있다(도면에 도시되지 않음), 지지체(126)에 부착된 레이저(124) 로부터의 레이저빔은, 간섭계에 의해 렌즈(92)와 스테이지자체를 위치시킨다.
제6(a)도는 평면도(제1도에 대응한다)로, 창틀가이드로 힌지된 연결부 구조체의 하나, 예를 들면, 44C 상세를 도시하고 있다. 힌지(44A, 44B, 44C, 44D)의 각각은 동일하다. 이들 연결부 힌지는 원활함을 필요로하지않고, 히스테리시스를 보이지 않고(연결부가 그 기계적 허용도보다 완곡하지 않는한) 기계적 “경사부”를 갖지 않으며, 더욱이 제조에 비용이 들지 않는다는 기계적 타입의 힌지 이상의 이점을 갖는다.
각 개개의 연결부는 예를들면, 1/4경도 302 스테인레스 스틸, 두께 약 20m (0.02인치)이며, 최대 굴곡 0.5 도에 견딜 수 있다. 각 연결부 폭은 엄밀하지 않고, 일반적 폭은 0.5인치이다. 2개, 3개 또는 4개의 연결부가 제1도의 각 힌지(44A, 44B, 44C, 44D)에 사용된다. 각 힌지에 사용되는 연결부의 수는 본질적으로 사용가능한 공극의 정도, 즉, 창틀부재의 높이에 의해 결정된다. 제6(a)도(또는 제6(b)도의 90도 회전 도면에)에 도시된 4개의 각각의 연결부(130A, 130B, 130C, 130D)는, 보통의 스크류(134)로 클램프(136A, 136B, 136C, 136D)에 의해 인접한 창틀부재 (제6(a)도, 제6(b)도의 창틀부재 40B, 40D)에 고정된다. 상기 스크류는 각각의 연결부 (130A, 130B, 130C, 130D)의 구멍과 클램프를 통해 창틀부재(40B, 40D)의 대응하는 나사부착 구멍에 고정된다.
제6(a)도, 제6(b)도의 창틀부재(40B, 40D)는 창틀부재 (40B, 40D)의 단부에있는 예각(삼각형)구조체에 관해, 제1도와는 조금 다르며, 그곳에 금속제 연결부 (130A, 130B, 130C, 130D)가 장착되어 있는 것에 주목할 필요가 있다. 제1도의 실시예에 있어서는 이 예각구조체는 생략되어 있으나, 그들 존재에 의해 연결부의 스크류 부착은 용이하게 되어있다.
다른 실시예에 있어서는 틀가이드는 힌지 고정되어 있지 않으나 강성구조체이다. 이 강성을 유지하며 결합을 방지하기위해 베어링(72C또는72B) 중의 1개는 분리되어 있고, 그 나머지 베어링은 중심으로 이동해 스프링 없이 짐벌로 장착되어 있다. 그 이외의 베어링(스테이지(10)에 부착된 베어링을 제외하고)도 짐벌로 장착되어 있다.
본 발명은 실증되어 있으나, 한정되는 것은 아니며, 또다른 변형은 본 발명에 비추어보아, 본 기술의 통상의 당사자에게는 분명하며, 첨부한 청구범위를 이탈하는 것은 아니다.
상기와 같이 본 발명의 스테이지 기구 및 동작 방법에 의하면 스테이지 위에서, 광선(레티클을 투영하는 노광광)을 차단하지 않는 가이드를 마련하여 스테이지를 구동할 수 있으며, 큰 개구부를 스테이지에 마련할 필요없이 스테이지를 구동할 수 있다.
또한, 본 발명에 의해 스테이지의 비틀림 운동의 발생을 방지할 수 있으며, 스테이지 운동의 주파수 응답성을 향상할 수 있다.

Claims (12)

  1. 정밀운동가능한 스테이지기구에 있어서, 주요면을 형성하고 있는 기부, 기부의 주요면에 배치된 운동가능한 스테이지, 제1, 제2, 제3 및 제4 창틀부재로 상기 스테이지를 측방에서부터 감싸며, 서로 마주하는 제1 및 제2 창틀부재가 상기 스테이지와 미끄러져 움직일 수 있게 접촉하고 있는 창틀, 및 서로 마주하는 상기 제3 및 제4 창틀부재를 각각 미끄러져 움직일 수 있게 지지하는 제1 및 제2 가이드를 갖는 것을 특징으로 하는 스테이지 기구.
  2. 제1항에 있어서, 상기 창틀은, 상기 제1 및 제2 창틀부재가 각각 연결부재로부터 상기 제3 및 제4의 창틀부재와 연결되어 있는 것을 특징으로 하는 스테이지 기구.
  3. 제2항에 있어서, 상기 연결부재는 복수의 메탈 스트립을 가지며, 상기 복수의 메탈스트립 이 X형상으로 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 스테이지 기구.
  4. 제1항에 있어서, 복수의 유체베어링을 가지며, 상기 유체베어링은 상기 스테이지 하측에 상기 기부와 대면하도록 설치되어 있는 것을 특징으로 하고 있는 스테이지 기구.
  5. 제1항 내지 제4항중 어느 한 항에 있어서, 상기 제3 및 제4의 창틀부재의 각각에 설치되며, 상기 제1과 제2가이드의 각각에 대면하는 적어도 2개 이상의 유체 베어링을 갖는 것을 특징으로 하는 스테이지 기구.
  6. 제1항에 있어서, 상기 제3 및 제4의 창틀부재 각각에 제1구동수단을 설치하고, 상기 제1구동수단은, 상기 제1과 제2가이드에 대해 상기 창틀을 구동하는 것을 특징으로 하는 스테이지 기구.
  7. 제6항에 있어서, 상기 기부에 설치되고, 상기 제1구동수단의 각각과 함께 작용하는 제2구동수단을 갖는 것을 특징으로 하는 스테이지 기구.
  8. 제1항에 있어서, 상기 제1과 제2창틀부재 각각에 상기 스테이지와 대면하는 측에 제3구동수단을 갖는 것을 특징으로 하는 스테이지 기구.
  9. 제1항에 있어서, 상기 제1 및 제2 가이드와 상기 제3 및 제4창틀부재를 지지하는 지지 기부를 구비하며, 상기 지지 기부는 상기 기부로부터 독립해 지지되어 있는 것을 특징으로 하는 스테이지 기구.
  10. 정밀운동을 할 수 있는 스테이지를 2개의 직각인 방향으로 동작시키는 동작방법에 있어서, 스테이지를 기부에 배치하는 단계, 스테이지와 미끄러져 움직일 수 있게 접촉하고 있는 틀로 스테이지를 측방에서 감싸는 단계, 상기 기부에 대해 2개의 직각인 방향중 제1방향으로 스테이지를 구동하는 단계, 상기 틀에 대해 2개의 직각인 방향중 제2방향으로 스테이지를 구동하는 단계를 포함하고 있는것을 특징으로 하는 동작 방법.
  11. 변형가능한 힌지가 부착된 틀 구조체에 있어서, 4각형으로 배치된 4개의 강성틀부재로 되어, 각 틀부재가 그 단부의 각각에 가깝게 인접 틀부재와 같은 예각 구조체에 인접해 놓여있는 예각구조체를 형성하고 있는 상기 4개의 강성틀부재와, 2개의 인접한 예각 구조체 각각을 접속하고 있는 복수 연결부재로서, X형상으로 설치되어 있는 연결부재를 포함하고 있는 것을 특징으로 하는 틀구조체.
  12. 제11항에 있어서, 상기 연결부재는 0.05인치보다 얇은 스테인레스 스틸로 제작되어 있는 것을 특징으로 하는 틀구조체.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7365513B1 (en) 1994-04-01 2008-04-29 Nikon Corporation Positioning device having dynamically isolated frame, and lithographic device provided with such a positioning device
US5528118A (en) * 1994-04-01 1996-06-18 Nikon Precision, Inc. Guideless stage with isolated reaction stage
US5874820A (en) * 1995-04-04 1999-02-23 Nikon Corporation Window frame-guided stage mechanism
US6989647B1 (en) 1994-04-01 2006-01-24 Nikon Corporation Positioning device having dynamically isolated frame, and lithographic device provided with such a positioning device
JP3363662B2 (ja) * 1994-05-19 2003-01-08 キヤノン株式会社 走査ステージ装置およびこれを用いた露光装置
US6721034B1 (en) 1994-06-16 2004-04-13 Nikon Corporation Stage unit, drive table, and scanning exposure apparatus using the same
US5850280A (en) * 1994-06-16 1998-12-15 Nikon Corporation Stage unit, drive table, and scanning exposure and apparatus using same
US6008500A (en) * 1995-04-04 1999-12-28 Nikon Corporation Exposure apparatus having dynamically isolated reaction frame
US6392741B1 (en) * 1995-09-05 2002-05-21 Nikon Corporation Projection exposure apparatus having active vibration isolator and method of controlling vibration by the active vibration isolator
US6522386B1 (en) 1997-07-24 2003-02-18 Nikon Corporation Exposure apparatus having projection optical system with aberration correction element
AU1051999A (en) 1997-11-12 1999-05-31 Nikon Corporation Projection exposure apparatus
AU1260099A (en) 1997-11-25 1999-06-15 Nikon Corporation Projection exposure system
JP3526202B2 (ja) * 1998-02-03 2004-05-10 キヤノン株式会社 ステージ装置、およびこれを用いた露光装置、ならびにデバイス製造方法
JP4296587B2 (ja) 1998-02-09 2009-07-15 株式会社ニコン 基板支持装置、基板搬送装置及びその方法、基板保持方法、並びに露光装置及びその製造方法
US6260282B1 (en) * 1998-03-27 2001-07-17 Nikon Corporation Stage control with reduced synchronization error and settling time
JPH11287880A (ja) * 1998-04-01 1999-10-19 Canon Inc ステージ装置、およびこれを用いた露光装置ならびにデバイス製造方法
JP3554186B2 (ja) * 1998-04-08 2004-08-18 キヤノン株式会社 露光装置、デバイス製造方法および反力受け方法
WO1999053600A1 (fr) 1998-04-10 1999-10-21 Nikon Corporation Moteur lineaire comportant une unite de bobine polygonale
KR20010043861A (ko) * 1998-06-17 2001-05-25 오노 시게오 노광방법 및 장치
TWI242113B (en) * 1998-07-17 2005-10-21 Asml Netherlands Bv Positioning device and lithographic projection apparatus comprising such a device
US6693713B1 (en) 1998-07-22 2004-02-17 Nikon Corporation Mark detection method, exposure method, device manufacturing method, mark detection apparatus, exposure apparatus, and device
US6252234B1 (en) * 1998-08-14 2001-06-26 Nikon Corporation Reaction force isolation system for a planar motor
JP2001068396A (ja) * 1999-08-26 2001-03-16 Canon Inc ステージ制御装置
JP3616543B2 (ja) * 1999-09-10 2005-02-02 日本電気株式会社 Xyステージ
US6549277B1 (en) 1999-09-28 2003-04-15 Nikon Corporation Illuminance meter, illuminance measuring method and exposure apparatus
US6324933B1 (en) 1999-10-06 2001-12-04 Agere Systems Guardian Corp. Planar movable stage mechanism
DE60032568T2 (de) 1999-12-01 2007-10-04 Asml Netherlands B.V. Positionierungsapparat und damit versehener lithographischer Apparat
EP1107067B1 (en) * 1999-12-01 2006-12-27 ASML Netherlands B.V. Positioning apparatus and lithographic apparatus comprising the same
US6791661B2 (en) 1999-12-09 2004-09-14 Nikon Corporation Gas replacement method and apparatus, and exposure method and apparatus
EP1248288A1 (en) 1999-12-16 2002-10-09 Nikon Corporation Exposure method and exposure apparatus
TW546551B (en) * 1999-12-21 2003-08-11 Asml Netherlands Bv Balanced positioning system for use in lithographic apparatus
US6836093B1 (en) * 1999-12-21 2004-12-28 Nikon Corporation Exposure method and apparatus
US6271606B1 (en) * 1999-12-23 2001-08-07 Nikon Corporation Driving motors attached to a stage that are magnetically coupled through a chamber
US6555829B1 (en) 2000-01-10 2003-04-29 Applied Materials, Inc. High precision flexure stage
JP2001209188A (ja) 2000-01-27 2001-08-03 Nikon Corp 走査型露光装置および走査露光方法並びにマスク
TW495836B (en) 2000-02-02 2002-07-21 Nikon Corp Scanning exposure method and device
US6307619B1 (en) 2000-03-23 2001-10-23 Silicon Valley Group, Inc. Scanning framing blade apparatus
JP2001297960A (ja) 2000-04-11 2001-10-26 Nikon Corp ステージ装置および露光装置
US6405659B1 (en) 2000-05-01 2002-06-18 Nikon Corporation Monolithic stage
DE60129377T2 (de) * 2000-06-02 2008-03-20 Asml Netherlands B.V. Lithographischer Projektionsapparat mit einer Stützanordnung
US6496060B2 (en) 2000-06-15 2002-12-17 Nikon Corporation Hybridized, high performance PWM amplifier
JP4474020B2 (ja) * 2000-06-23 2010-06-02 キヤノン株式会社 移動装置及び露光装置
EP2306242A3 (en) * 2000-10-12 2011-11-02 Board of Regents, The University of Texas System Method of forming a pattern on a substrate
US6958808B2 (en) * 2000-11-16 2005-10-25 Nikon Corporation System and method for resetting a reaction mass assembly of a stage assembly
US6885430B2 (en) * 2000-11-16 2005-04-26 Nikon Corporation System and method for resetting a reaction mass assembly of a stage assembly
US6496248B2 (en) * 2000-12-15 2002-12-17 Nikon Corporation Stage device and exposure apparatus and method
US6906334B2 (en) 2000-12-19 2005-06-14 Nikon Corporation Curved I-core
US20020080339A1 (en) * 2000-12-25 2002-06-27 Nikon Corporation Stage apparatus, vibration control method and exposure apparatus
JP2002252166A (ja) * 2001-02-27 2002-09-06 Canon Inc ステージ装置、露光装置およびデバイス製造方法ならびに移動案内方法
US6490105B2 (en) * 2001-03-27 2002-12-03 Nikon Precision Inc. Stage mirror retention system
US6678038B2 (en) 2001-08-03 2004-01-13 Nikon Corporation Apparatus and methods for detecting tool-induced shift in microlithography apparatus
US6648509B2 (en) 2001-08-15 2003-11-18 Nikon Corporation Friction-drive stage
US6842226B2 (en) * 2001-09-21 2005-01-11 Nikon Corporation Flexure supported wafer table
US6600547B2 (en) 2001-09-24 2003-07-29 Nikon Corporation Sliding seal
US20030098965A1 (en) * 2001-11-29 2003-05-29 Mike Binnard System and method for supporting a device holder with separate components
US6888620B2 (en) * 2001-11-29 2005-05-03 Nikon Corporation System and method for holding a device with minimal deformation
US7813634B2 (en) 2005-02-28 2010-10-12 Tessera MEMS Technologies, Inc. Autofocus camera
US6879127B2 (en) 2002-02-12 2005-04-12 Nikon Corporation 3-ring magnetic anti-gravity support
US6784978B2 (en) * 2002-03-12 2004-08-31 Asml Holding N.V. Method, system, and apparatus for management of reaction loads in a lithography system
US6809323B2 (en) * 2002-04-03 2004-10-26 Nikon Corporation Isolated frame caster
JP4211272B2 (ja) * 2002-04-12 2009-01-21 株式会社ニコン 露光装置及び露光方法
US6724000B2 (en) 2002-05-16 2004-04-20 Nikon Corporation Reaction frame apparatus and method
US6844635B2 (en) * 2002-05-24 2005-01-18 Dover Instrument Corporation Reaction force transfer system
JP3962669B2 (ja) * 2002-10-08 2007-08-22 キヤノン株式会社 移動装置及び露光装置並びにデバイスの製造方法
US20040080730A1 (en) * 2002-10-29 2004-04-29 Michael Binnard System and method for clamping a device holder with reduced deformation
US9482966B2 (en) 2002-11-12 2016-11-01 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
SG2010050110A (en) 2002-11-12 2014-06-27 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7372541B2 (en) * 2002-11-12 2008-05-13 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
SG121819A1 (en) 2002-11-12 2006-05-26 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus and device manufacturing method
US10503084B2 (en) 2002-11-12 2019-12-10 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
SG171468A1 (en) * 2002-12-10 2011-06-29 Nikon Corp Exposure apparatus and method for producing device
SG158745A1 (en) * 2002-12-10 2010-02-26 Nikon Corp Exposure apparatus and method for producing device
DE10261775A1 (de) 2002-12-20 2004-07-01 Carl Zeiss Smt Ag Vorrichtung zur optischen Vermessung eines Abbildungssystems
US20040119436A1 (en) * 2002-12-23 2004-06-24 Michael Binnard Method and apparatus for reducing countermass stroke with initial velocity
US6870600B2 (en) * 2003-01-13 2005-03-22 Nikon Corporation Vibration-attenuation devices and methods using pressurized bellows exhibiting substantially zero lateral stiffness
US20040160132A1 (en) * 2003-02-14 2004-08-19 Carter Frederick Michael System and method to reduce the effect of reactive forces on a stage using a balance mass
TWI338323B (en) * 2003-02-17 2011-03-01 Nikon Corp Stage device, exposure device and manufacguring method of devices
EP2945016B1 (en) 2003-02-26 2017-09-06 Nikon Corporation Exposure apparatus, exposure method, and method for producing device
WO2004086470A1 (ja) * 2003-03-25 2004-10-07 Nikon Corporation 露光装置及びデバイス製造方法
EP1612850B1 (en) * 2003-04-07 2009-03-25 Nikon Corporation Exposure apparatus and method for manufacturing a device
EP1612849B1 (en) 2003-04-09 2012-05-30 Nikon Corporation Exposure method and apparatus, and device manufacturing method
CN1771463A (zh) 2003-04-10 2006-05-10 株式会社尼康 用于沉浸光刻装置收集液体的溢出通道
KR20180089562A (ko) 2003-04-10 2018-08-08 가부시키가이샤 니콘 액침 리소그래피 장치용 진공 배출을 포함하는 환경 시스템
KR101238142B1 (ko) 2003-04-10 2013-02-28 가부시키가이샤 니콘 액침 리소그래피 장치용 운반 영역을 포함하는 환경 시스템
CN101002140B (zh) * 2003-04-11 2010-12-08 株式会社尼康 保持平板印刷投射透镜下面的浸没流体的设备和方法
EP2172809B1 (en) * 2003-04-11 2018-11-07 Nikon Corporation Cleanup method for optics in an immersion lithography apparatus, and corresponding immersion lithography apparatus
TWI295414B (en) 2003-05-13 2008-04-01 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus and device manufacturing method
EP1624481A4 (en) * 2003-05-15 2008-01-30 Nikon Corp EXPOSURE DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING COMPONENTS
TWI424470B (zh) 2003-05-23 2014-01-21 尼康股份有限公司 A method of manufacturing an exposure apparatus and an element
TWI421911B (zh) 2003-05-23 2014-01-01 尼康股份有限公司 An exposure method, an exposure apparatus, and an element manufacturing method
KR20060009957A (ko) * 2003-05-27 2006-02-01 가부시키가이샤 니콘 노광 장치 및 디바이스의 제조 방법
KR101728664B1 (ko) 2003-05-28 2017-05-02 가부시키가이샤 니콘 노광 방법, 노광 장치, 및 디바이스 제조 방법
TWI340406B (en) 2003-06-04 2011-04-11 Nikon Corp Stage apparatus, fixing method , expose apparatus, exposing method and method for manufacturing device
US7213963B2 (en) 2003-06-09 2007-05-08 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
EP2937893B1 (en) * 2003-06-13 2016-09-28 Nikon Corporation Exposure method, substrate stage, exposure apparatus, and device manufacturing method
KR101148811B1 (ko) 2003-06-19 2012-05-24 가부시키가이샤 니콘 노광 장치 및 디바이스 제조방법
WO2005010611A2 (en) 2003-07-08 2005-02-03 Nikon Corporation Wafer table for immersion lithography
WO2005006415A1 (ja) 2003-07-09 2005-01-20 Nikon Corporation 露光装置及びデバイス製造方法
KR20060026883A (ko) * 2003-07-09 2006-03-24 가부시키가이샤 니콘 결합장치, 노광장치 및 디바이스 제조방법
KR101296501B1 (ko) 2003-07-09 2013-08-13 가부시키가이샤 니콘 노광 장치 및 디바이스 제조 방법
WO2005006417A1 (ja) * 2003-07-09 2005-01-20 Nikon Corporation 露光装置及びデバイス製造方法
KR101343720B1 (ko) 2003-07-28 2013-12-20 가부시키가이샤 니콘 노광 장치 및 디바이스 제조 방법, 그리고 노광 장치의제어 방법
EP1503244A1 (en) 2003-07-28 2005-02-02 ASML Netherlands B.V. Lithographic projection apparatus and device manufacturing method
US7009359B2 (en) * 2003-08-08 2006-03-07 Asml Holding N.V. Foam core chuck for the scanning stage of a lithography system
KR101381563B1 (ko) 2003-08-21 2014-04-04 가부시키가이샤 니콘 노광 장치, 노광 방법 및 디바이스 제조 방법
KR101609964B1 (ko) 2003-08-29 2016-04-14 가부시키가이샤 니콘 액체회수장치, 노광장치, 노광방법 및 디바이스 제조방법
CN101303536B (zh) 2003-08-29 2011-02-09 株式会社尼康 曝光装置和器件加工方法
US20050057102A1 (en) * 2003-09-11 2005-03-17 Nikon Corporation Holding member, coolant, cooling method and cooling device, linear motor device, stage device, and exposure apparatus
WO2005029559A1 (ja) * 2003-09-19 2005-03-31 Nikon Corporation 露光装置及びデバイス製造方法
KR101441840B1 (ko) * 2003-09-29 2014-11-04 가부시키가이샤 니콘 노광장치, 노광방법 및 디바이스 제조방법
JP2005136364A (ja) * 2003-10-08 2005-05-26 Zao Nikon Co Ltd 基板搬送装置、露光装置、並びにデバイス製造方法
KR101203028B1 (ko) 2003-10-08 2012-11-21 가부시키가이샤 자오 니콘 기판 반송 장치 및 기판 반송 방법, 노광 장치 및 노광 방법, 디바이스 제조 방법
TW200514138A (en) 2003-10-09 2005-04-16 Nippon Kogaku Kk Exposure equipment and exposure method, manufacture method of component
EP1677341B1 (en) 2003-10-22 2010-12-01 Nikon Corporation Exposure apparatus, exposure method, and method for manufacturing device
KR101121260B1 (ko) * 2003-10-28 2012-03-23 가부시키가이샤 니콘 노광 장치, 노광 방법, 및 디바이스의 제조 방법
TWI573175B (zh) 2003-10-28 2017-03-01 尼康股份有限公司 照明光學裝置、曝光裝置、曝光方法以及元件製造 方法
TWI361450B (en) 2003-10-31 2012-04-01 Nikon Corp Platen, stage device, exposure device and exposure method
JP2005159322A (ja) * 2003-10-31 2005-06-16 Nikon Corp 定盤、ステージ装置及び露光装置並びに露光方法
EP1679737A4 (en) 2003-10-31 2008-01-30 Nikon Corp EXPOSURE APPARATUS AND DEVICE PRODUCTION METHOD
WO2005048326A1 (ja) * 2003-11-13 2005-05-26 Nikon Corporation 可変スリット装置、照明装置、露光装置、露光方法及びデバイスの製造方法
EP1688988A1 (en) * 2003-11-17 2006-08-09 Nikon Corporation Stage drive method, stage apparatus, and exposure apparatus
TW201809801A (zh) 2003-11-20 2018-03-16 日商尼康股份有限公司 光學照明裝置、曝光裝置、曝光方法、以及元件製造方法
TWI530762B (zh) 2003-12-03 2016-04-21 尼康股份有限公司 Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method
US20050128449A1 (en) * 2003-12-12 2005-06-16 Nikon Corporation, A Japanese Corporation Utilities transfer system in a lithography system
KR101547037B1 (ko) * 2003-12-15 2015-08-24 가부시키가이샤 니콘 스테이지 장치, 노광 장치, 및 노광 방법
KR20180117228A (ko) 2004-01-05 2018-10-26 가부시키가이샤 니콘 노광 장치, 노광 방법 및 디바이스 제조 방법
US20070164234A1 (en) 2004-01-15 2007-07-19 Nikon Corporation Exposure apparatus and device manufacturing method
DE602005019689D1 (de) * 2004-01-20 2010-04-15 Zeiss Carl Smt Ag Belichtungsvorrichtung und messeinrichtung für eine projektionslinse
US20050162802A1 (en) * 2004-01-22 2005-07-28 Nikon Research Corporation Of America Offset gap control for electromagnetic devices
US7697110B2 (en) * 2004-01-26 2010-04-13 Nikon Corporation Exposure apparatus and device manufacturing method
US7221433B2 (en) * 2004-01-28 2007-05-22 Nikon Corporation Stage assembly including a reaction assembly having a connector assembly
US7589822B2 (en) 2004-02-02 2009-09-15 Nikon Corporation Stage drive method and stage unit, exposure apparatus, and device manufacturing method
KR101377815B1 (ko) 2004-02-03 2014-03-26 가부시키가이샤 니콘 노광 장치 및 디바이스 제조 방법
KR101945638B1 (ko) 2004-02-04 2019-02-07 가부시키가이샤 니콘 노광 장치, 노광 방법 및 디바이스 제조 방법
WO2005076325A1 (ja) * 2004-02-04 2005-08-18 Nikon Corporation 露光装置及び方法、位置制御方法並びにデバイス製造方法
TWI366219B (en) 2004-02-06 2012-06-11 Nikon Corp Polarization changing device, optical illumination apparatus, light-exposure apparatus and light-exposure method
US7557900B2 (en) 2004-02-10 2009-07-07 Nikon Corporation Exposure apparatus, device manufacturing method, maintenance method, and exposure method
US20070030467A1 (en) * 2004-02-19 2007-02-08 Nikon Corporation Exposure apparatus, exposure method, and device fabricating method
KR100541740B1 (ko) * 2004-02-19 2006-01-11 삼성전자주식회사 이송장치
WO2005081291A1 (ja) * 2004-02-19 2005-09-01 Nikon Corporation 露光装置及びデバイスの製造方法
US8023100B2 (en) * 2004-02-20 2011-09-20 Nikon Corporation Exposure apparatus, supply method and recovery method, exposure method, and device producing method
US8027813B2 (en) * 2004-02-20 2011-09-27 Nikon Precision, Inc. Method and system for reconstructing aberrated image profiles through simulation
TW201816844A (zh) * 2004-03-25 2018-05-01 日商尼康股份有限公司 曝光裝置、曝光方法、及元件製造方法
US7034917B2 (en) * 2004-04-01 2006-04-25 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus, device manufacturing method and device manufactured thereby
WO2005098911A1 (ja) * 2004-04-09 2005-10-20 Nikon Corporation 移動体の駆動方法、ステージ装置及び露光装置
KR101162938B1 (ko) 2004-04-19 2012-07-05 가부시키가이샤 니콘 노광 장치 및 디바이스 제조 방법
US7486381B2 (en) * 2004-05-21 2009-02-03 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
CN1954408B (zh) * 2004-06-04 2012-07-04 尼康股份有限公司 曝光装置、曝光方法及元件制造方法
KR101257960B1 (ko) 2004-06-04 2013-04-24 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하 광학적 결상 시스템의 결상 품질을 측정하기 위한 시스템
KR101119814B1 (ko) 2004-06-07 2012-03-06 가부시키가이샤 니콘 스테이지 장치, 노광 장치 및 노광 방법
KR101421915B1 (ko) 2004-06-09 2014-07-22 가부시키가이샤 니콘 노광 장치 및 디바이스 제조 방법
CN102290364B (zh) 2004-06-09 2016-01-13 尼康股份有限公司 基板保持装置、具备其之曝光装置、元件制造方法
US8373843B2 (en) * 2004-06-10 2013-02-12 Nikon Corporation Exposure apparatus, exposure method, and method for producing device
US8717533B2 (en) * 2004-06-10 2014-05-06 Nikon Corporation Exposure apparatus, exposure method, and method for producing device
US8508713B2 (en) * 2004-06-10 2013-08-13 Nikon Corporation Exposure apparatus, exposure method, and method for producing device
CN102736446B (zh) * 2004-06-10 2014-09-17 尼康股份有限公司 曝光装置及元件制造方法
CN101685269B (zh) * 2004-06-10 2011-09-14 尼康股份有限公司 曝光装置及元件制造方法
US8698998B2 (en) * 2004-06-21 2014-04-15 Nikon Corporation Exposure apparatus, method for cleaning member thereof, maintenance method for exposure apparatus, maintenance device, and method for producing device
KR101378688B1 (ko) 2004-06-21 2014-03-27 가부시키가이샤 니콘 노광 장치 및 디바이스 제조 방법
EP1783822A4 (en) 2004-06-21 2009-07-15 Nikon Corp EXPOSURE DEVICE, EXPOSURE DEVICE ELEMENT CLEANING METHOD, EXPOSURE DEVICE MAINTENANCE METHOD, MAINTENANCE DEVICE, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
US7292310B2 (en) * 2004-07-02 2007-11-06 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and a device manufacturing method
US7463330B2 (en) 2004-07-07 2008-12-09 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2006006565A1 (ja) 2004-07-12 2006-01-19 Nikon Corporation 露光装置及びデバイス製造方法
JPWO2006006730A1 (ja) * 2004-07-15 2008-05-01 株式会社ニコン 平面モータ装置、ステージ装置、露光装置及びデバイスの製造方法
EP1783823A4 (en) * 2004-07-21 2009-07-22 Nikon Corp EXPOSURE METHOD AND METHOD FOR PRODUCING COMPONENTS
US7030959B2 (en) * 2004-07-23 2006-04-18 Nikon Corporation Extreme ultraviolet reticle protection using gas flow thermophoresis
EP3048485B1 (en) * 2004-08-03 2017-09-27 Nikon Corporation Exposure apparatus, exposure method, and method for producing device
TW200615716A (en) * 2004-08-05 2006-05-16 Nikon Corp Stage device and exposure device
JP2008511138A (ja) 2004-08-18 2008-04-10 ニュー ウエイ マシーン コンポーネント インコーポレイティッド 空気軸受と段差ポンプ溝を備えた移動真空チャンバステージ
US8305553B2 (en) * 2004-08-18 2012-11-06 Nikon Corporation Exposure apparatus and device manufacturing method
US20070252970A1 (en) * 2004-09-01 2007-11-01 Nikon Corporation Substrate Holder, Stage Apparatus, and Exposure Apparatus
JP2006083883A (ja) * 2004-09-14 2006-03-30 Fujikura Rubber Ltd 除振台装置
US20080318152A1 (en) * 2004-09-17 2008-12-25 Takeyuki Mizutani Substrate for Exposure, Exposure Method and Device Manufacturing Method
WO2006030902A1 (ja) 2004-09-17 2006-03-23 Nikon Corporation 露光装置、露光方法及びデバイス製造方法
WO2006030908A1 (ja) 2004-09-17 2006-03-23 Nikon Corporation 基板保持装置、露光装置、及びデバイス製造方法
JP4071227B2 (ja) * 2004-09-28 2008-04-02 株式会社新川 ボンディング装置
EP1806828A4 (en) 2004-10-01 2016-11-09 Nikon Corp LINEAR MOTOR, FLOOR APPARATUS AND EXPOSURE APPARATUS
JP4613910B2 (ja) * 2004-10-08 2011-01-19 株式会社ニコン 露光装置及びデバイス製造方法
US20090021709A1 (en) * 2004-10-13 2009-01-22 Nikon Corporation Exposure apparatus, exposure method, and method for producing device
WO2006046562A1 (ja) 2004-10-26 2006-05-04 Nikon Corporation 基板処理方法、露光装置及びデバイス製造方法
JP4565270B2 (ja) 2004-11-11 2010-10-20 株式会社ニコン 露光方法、デバイス製造方法
WO2006054719A1 (ja) * 2004-11-19 2006-05-26 Nikon Corporation メンテナンス方法、露光方法、露光装置及びデバイス製造方法
WO2006059634A1 (ja) 2004-12-01 2006-06-08 Nikon Corporation ステージ装置及び露光装置
JP4720747B2 (ja) * 2004-12-02 2011-07-13 株式会社ニコン 露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法
WO2006059636A1 (ja) * 2004-12-02 2006-06-08 Nikon Corporation 露光装置及びデバイス製造方法
WO2006062074A1 (ja) * 2004-12-06 2006-06-15 Nikon Corporation 基板処理方法、露光方法、露光装置及びデバイス製造方法
US7397533B2 (en) * 2004-12-07 2008-07-08 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
JP4752473B2 (ja) * 2004-12-09 2011-08-17 株式会社ニコン 露光装置、露光方法及びデバイス製造方法
US9224632B2 (en) 2004-12-15 2015-12-29 Nikon Corporation Substrate holding apparatus, exposure apparatus, and device fabricating method
KR100934739B1 (ko) * 2004-12-23 2009-12-29 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. 지지 구조체 및 리소그래피 장치
KR20070090876A (ko) * 2004-12-24 2007-09-06 가부시키가이샤 니콘 자기 안내 장치, 스테이지 장치, 노광 장치, 및 디바이스의제조 방법
US7450217B2 (en) * 2005-01-12 2008-11-11 Asml Netherlands B.V. Exposure apparatus, coatings for exposure apparatus, lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby
EP1850464A4 (en) * 2005-01-21 2017-03-15 Nikon Corporation Linear motor, stage apparatus, and exposure apparatus
US7864293B2 (en) 2005-01-25 2011-01-04 Nikon Corporation Exposure apparatus, exposure method, and producing method of microdevice
US20070258068A1 (en) * 2005-02-17 2007-11-08 Hiroto Horikawa Exposure Apparatus, Exposure Method, and Device Fabricating Method
US20060192858A1 (en) * 2005-02-28 2006-08-31 Calvet Robert J Oil damping for camera optical assembly
US7283210B2 (en) * 2005-03-22 2007-10-16 Nikon Corporation Image shift optic for optical system
US8089608B2 (en) * 2005-04-18 2012-01-03 Nikon Corporation Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method
JP5239337B2 (ja) * 2005-04-28 2013-07-17 株式会社ニコン 露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法
US20090046268A1 (en) 2005-05-12 2009-02-19 Yasuhiro Omura Projection optical system, exposure apparatus, and exposure method
US8693006B2 (en) * 2005-06-28 2014-04-08 Nikon Corporation Reflector, optical element, interferometer system, stage device, exposure apparatus, and device fabricating method
JP2007012375A (ja) * 2005-06-29 2007-01-18 Toyota Motor Corp 燃料電池、燃料電池用電極触媒層の製造方法、及び燃料電池の運転方法
EP1909310A4 (en) 2005-07-11 2010-10-06 Nikon Corp EXPOSURE DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING COMPONENTS
CN101138070B (zh) * 2005-08-05 2011-03-23 株式会社尼康 载台装置及曝光装置
US7580112B2 (en) * 2005-08-25 2009-08-25 Nikon Corporation Containment system for immersion fluid in an immersion lithography apparatus
DE102005045680A1 (de) * 2005-09-24 2007-04-05 Edmund Uschkurat Vorrichtung zum Ausrichten eines Gegenstandes
US8125610B2 (en) * 2005-12-02 2012-02-28 ASML Metherlands B.V. Method for preventing or reducing contamination of an immersion type projection apparatus and an immersion type lithographic apparatus
DE102005061215B4 (de) * 2005-12-21 2019-06-06 Lucas Automotive Gmbh Motorsteuerungsschaltung mit Fehlerüberwachung
US7649611B2 (en) 2005-12-30 2010-01-19 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
IL180639A0 (en) * 2006-03-13 2007-06-03 Tool Internat Ag F Clamping apparatus for positioning and fixing work pieces
DE102006021797A1 (de) * 2006-05-09 2007-11-15 Carl Zeiss Smt Ag Optische Abbildungseinrichtung mit thermischer Dämpfung
JP4130837B2 (ja) 2006-06-16 2008-08-06 住友重機械工業株式会社 ステージ用反力処理装置
US20080073563A1 (en) 2006-07-01 2008-03-27 Nikon Corporation Exposure apparatus that includes a phase change circulation system for movers
WO2008007660A1 (fr) * 2006-07-14 2008-01-17 Nikon Corporation Appareil à platine et appareil d'exposition
KR101259643B1 (ko) 2006-07-28 2013-04-30 엘지전자 주식회사 노광기의 스테이지 진직도 보상장치
US7973910B2 (en) 2006-11-17 2011-07-05 Nikon Corporation Stage apparatus and exposure apparatus
WO2008090975A1 (ja) * 2007-01-26 2008-07-31 Nikon Corporation 支持構造体及び露光装置
US20080225248A1 (en) * 2007-03-15 2008-09-18 Nikon Corporation Apparatus, systems and methods for removing liquid from workpiece during workpiece processing
US8237911B2 (en) * 2007-03-15 2012-08-07 Nikon Corporation Apparatus and methods for keeping immersion fluid adjacent to an optical assembly during wafer exchange in an immersion lithography machine
US7830046B2 (en) * 2007-03-16 2010-11-09 Nikon Corporation Damper for a stage assembly
US20080231823A1 (en) * 2007-03-23 2008-09-25 Nikon Corporation Apparatus and methods for reducing the escape of immersion liquid from immersion lithography apparatus
JP5267029B2 (ja) 2007-10-12 2013-08-21 株式会社ニコン 照明光学装置、露光装置及びデバイスの製造方法
CN101418434B (zh) * 2007-10-23 2011-06-22 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 溅镀载台
US8379187B2 (en) 2007-10-24 2013-02-19 Nikon Corporation Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
US9116346B2 (en) 2007-11-06 2015-08-25 Nikon Corporation Illumination apparatus, illumination method, exposure apparatus, and device manufacturing method
CN101520606B (zh) * 2008-01-02 2011-07-20 西安交通大学 非接触长行程多自由度纳米精密工作台
WO2009144218A1 (en) * 2008-05-29 2009-12-03 Asml Netherlands B.V. Inspection method and apparatus, lithographic apparatus, lithographic processing cell and device manufacturing method
US8796644B2 (en) 2008-08-18 2014-08-05 Mapper Lithography Ip B.V. Charged particle beam lithography system and target positioning device
NL2003363A (en) * 2008-09-10 2010-03-15 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus, method of manufacturing an article for a lithographic apparatus and device manufacturing method.
US20100222898A1 (en) * 2009-01-27 2010-09-02 Nikon Corporation Stage-control systems and methods including inverse closed loop with adaptive controller
US8451431B2 (en) * 2009-01-27 2013-05-28 Nikon Corporation Control systems and methods applying iterative feedback tuning for feed-forward and synchronization control of microlithography stages and the like
TWI398570B (zh) * 2009-08-11 2013-06-11 Ruentex Eng & Constr Co Ltd 微震控制建築系統
US8767174B2 (en) * 2010-02-18 2014-07-01 Nikon Corporation Temperature-controlled holding devices for planar articles
EP2381310B1 (en) 2010-04-22 2015-05-06 ASML Netherlands BV Fluid handling structure and lithographic apparatus
US20130255414A1 (en) 2010-09-09 2013-10-03 Nikon Corporation Parallel Linkage and Actuator Motor Coil Designs for Tube Carrier
CN102231051A (zh) * 2011-05-20 2011-11-02 合肥芯硕半导体有限公司 一种光刻机气动自动对焦装置及对焦方法
US8572518B2 (en) 2011-06-23 2013-10-29 Nikon Precision Inc. Predicting pattern critical dimensions in a lithographic exposure process
US9030057B2 (en) 2011-06-24 2015-05-12 Nikon Corporation Method and apparatus to allow a plurality of stages to operate in close proximity
TWI458902B (zh) * 2012-05-02 2014-11-01 Academia Sinica 線性致動模組
US9977343B2 (en) 2013-09-10 2018-05-22 Nikon Corporation Correction of errors caused by ambient non-uniformities in a fringe-projection autofocus system in absence of a reference mirror
CN104880911B (zh) * 2014-02-28 2018-01-30 上海微电子装备(集团)股份有限公司 一种光刻机工件台及其垂向位置初始化方法
JP6251825B2 (ja) * 2014-06-16 2017-12-20 エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. リソグラフィ装置、及び基板を搬送する方法
NL2013783B1 (en) * 2014-11-12 2016-10-07 Phenom-World Holding B V Sample stage.
CN107290933B (zh) * 2016-03-30 2018-11-09 上海微电子装备(集团)股份有限公司 一种光刻机投影物镜的调平装置及调平方法
US10295911B2 (en) 2016-05-19 2019-05-21 Nikon Corporation Extreme ultraviolet lithography system that utilizes pattern stitching
US10712671B2 (en) 2016-05-19 2020-07-14 Nikon Corporation Dense line extreme ultraviolet lithography system with distortion matching
US11067900B2 (en) 2016-05-19 2021-07-20 Nikon Corporation Dense line extreme ultraviolet lithography system with distortion matching
US10890849B2 (en) 2016-05-19 2021-01-12 Nikon Corporation EUV lithography system for dense line patterning
CN108279551B (zh) * 2017-01-05 2020-10-27 复旦大学 光刻机运动平台及其微运动平台和控制方法
JP6602465B2 (ja) * 2017-02-24 2019-11-06 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド 基板キャリア及びマスクキャリアの位置決め装置、基板キャリア及びマスクキャリアの搬送システム、並びにそのための方法
US11934105B2 (en) 2017-04-19 2024-03-19 Nikon Corporation Optical objective for operation in EUV spectral region
US11054745B2 (en) 2017-04-26 2021-07-06 Nikon Corporation Illumination system with flat 1D-patterned mask for use in EUV-exposure tool
US11300884B2 (en) 2017-05-11 2022-04-12 Nikon Corporation Illumination system with curved 1d-patterned mask for use in EUV-exposure tool
US11360400B2 (en) 2017-05-19 2022-06-14 Massachusetts Institute Of Technology Transport system having a magnetically levitated transportation stage
US11393706B2 (en) 2018-04-20 2022-07-19 Massachusetts Institute Of Technology Magnetically-levitated transporter
EP3670067B1 (de) 2018-12-20 2022-07-27 Etel S.A. Positioniereinrichtung in portalbauweise
US11280381B2 (en) * 2019-05-24 2022-03-22 Onto Innovation Inc. Active damper for semiconductor metrology and inspection systems

Family Cites Families (122)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US27436A (en) * 1860-03-13 Kaitge
US27289A (en) * 1860-02-28 Island
AU411601B2 (en) * 1966-05-31 1971-03-12 Alden Sawyer Magnetic positioning device
US3457482A (en) * 1967-10-30 1969-07-22 Bruce A Sawyer Magnetic positioning device
US3789285A (en) * 1972-03-27 1974-01-29 Handotai Kenkyu Shinkokai Position control system using magnetic force
US3889164A (en) * 1973-01-24 1975-06-10 Handotai Kenkyu Shinkokai Position control system using magnetic forces for correcting the inclination of a controlled member including a torsional mounting
JPS553679B2 (ko) * 1973-08-27 1980-01-26
US4019109A (en) * 1974-05-13 1977-04-19 Hughes Aircraft Company Alignment system and method with micromovement stage
NL164370C (nl) 1974-07-01 Litton Industries Inc Cardanuskoppeling voor het ophangen van een gyroscoop, alsmede een werkwijze voor het vervaardigen van een dergelijke koppeling.
JPS51123565A (en) * 1975-04-21 1976-10-28 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Three-dimention-position differential adjustment of processing article
JPS5313272A (en) * 1976-07-23 1978-02-06 Hitachi Ltd Precision planar moving plate
JPS5485678A (en) * 1977-12-20 1979-07-07 Canon Inc High accuracy alignment method for air bearing guide system xy stage
US4687980A (en) * 1980-10-20 1987-08-18 Eaton Corporation X-Y addressable workpiece positioner and mask aligner using same
US4443743A (en) * 1978-10-05 1984-04-17 Mcdonnell Douglas Corporation Two axis actuator
US4383757A (en) * 1979-04-02 1983-05-17 Optimetrix Corporation Optical focusing system
JPS55134414A (en) * 1979-04-06 1980-10-20 Hitachi Ltd Precise moving unit
US4392642A (en) * 1980-12-22 1983-07-12 Anorad Corporation Workpiece positioning table with air bearing pads
JPS5868118A (ja) * 1981-10-20 1983-04-22 Telmec Co Ltd 高精度位置決めステ−ジ用防振装置
US4492356A (en) * 1982-02-26 1985-01-08 Hitachi, Ltd. Precision parallel translation system
US4425508A (en) * 1982-05-07 1984-01-10 Gca Corporation Electron beam lithographic apparatus
US4504144A (en) * 1982-07-06 1985-03-12 The Perkin-Elmer Corporation Simple electromechanical tilt and focus device
JPS5961132A (ja) * 1982-09-30 1984-04-07 Fujitsu Ltd 電子ビ−ム露光装置
US4575942A (en) * 1982-10-18 1986-03-18 Hitachi, Ltd. Ultra-precision two-dimensional moving apparatus
JPS5990929A (ja) * 1982-11-17 1984-05-25 Canon Inc 投影露光装置のピント合わせ方法
US4514858A (en) * 1983-03-15 1985-04-30 Micronix Partners Lithography system
US4516253A (en) * 1983-03-15 1985-05-07 Micronix Partners Lithography system
US4507597A (en) * 1983-06-10 1985-03-26 The Perkin-Elmer Corporation Electro-magnetic alignment assemblies
US4485339A (en) * 1983-06-10 1984-11-27 The Perkin-Elmer Corporation Electro-magnetic alignment device
US4506205A (en) * 1983-06-10 1985-03-19 The Perkin-Elmer Corporation Electro-magnetic alignment apparatus
US4506204A (en) * 1983-06-10 1985-03-19 The Perkin-Elmer Corporation Electro-magnetic apparatus
DE3343886A1 (de) * 1983-12-05 1985-06-13 Philips Patentverwaltung Gmbh, 2000 Hamburg Drehanoden-roentgenroehre mit einem gleitlager
JPS60140722A (ja) * 1983-12-27 1985-07-25 Canon Inc 精密移動装置
JPS60150950A (ja) * 1984-01-20 1985-08-08 Hitachi Ltd 案内装置
FR2566987B1 (fr) * 1984-06-29 1986-10-10 Thomson Cgr Dispositif radiologique a asservissement en position de foyer
JPS6130345A (ja) * 1984-07-20 1986-02-12 Omron Tateisi Electronics Co 静圧空気浮上ステ−ジ
JPS6130346A (ja) * 1984-07-23 1986-02-12 Omron Tateisi Electronics Co 静圧空気浮上ステ−ジ
US4653408A (en) * 1984-09-05 1987-03-31 Citizen Watch Co., Ltd. Table mechanism for controlling table attitude
JPS61109637A (ja) * 1984-10-31 1986-05-28 Hitachi Ltd テ−ブル装置
NL8500930A (nl) * 1985-03-29 1986-10-16 Philips Nv Verplaatsingsinrichting met voorgespannen contactloze lagers.
US4818169A (en) * 1985-05-17 1989-04-04 Schram Richard R Automated wafer inspection system
JPS6243128A (ja) * 1985-08-20 1987-02-25 Nippon Kogaku Kk <Nikon> 投影光学装置
US4654571A (en) * 1985-09-16 1987-03-31 Hinds Walter E Single plane orthogonally movable drive system
US4641071A (en) * 1985-09-25 1987-02-03 Canon Kabushiki Kaisha System for controlling drive of a wafer stage
US4742286A (en) * 1985-10-29 1988-05-03 Micro-Stage, Inc. Gas bearing X-Y-θ stage assembly
JPS62108185A (ja) * 1985-11-06 1987-05-19 大日本スクリ−ン製造株式会社 移動テ−ブル装置
US4808892A (en) 1985-12-13 1989-02-28 Kulick And Soffa Ind. Inc. Bi-directional drive motor system
JPS62158341A (ja) * 1985-12-30 1987-07-14 Hoya Corp 移動ステ−ジ
US4744675A (en) * 1986-01-21 1988-05-17 Canon Kabushiki Kaisha Moving mechanism
JPS62200726A (ja) * 1986-02-28 1987-09-04 Canon Inc 露光装置
NL8601095A (nl) * 1986-04-29 1987-11-16 Philips Nv Positioneerinrichting.
JPH0658410B2 (ja) * 1986-05-23 1994-08-03 株式会社ニコン ステ−ジ装置
JPS6320014A (ja) * 1986-07-15 1988-01-27 Mitsubishi Electric Corp 液体循環濾過装置
US4723086A (en) * 1986-10-07 1988-02-02 Micronix Corporation Coarse and fine motion positioning mechanism
US4993696A (en) * 1986-12-01 1991-02-19 Canon Kabushiki Kaisha Movable stage mechanism
JPH0727042B2 (ja) * 1986-12-02 1995-03-29 キヤノン株式会社 ステ−ジ装置
US4891526A (en) 1986-12-29 1990-01-02 Hughes Aircraft Company X-Y-θ-Z positioning stage
US4803712A (en) 1987-01-20 1989-02-07 Hitachi, Ltd. X-ray exposure system
JPS62181430A (ja) * 1987-01-23 1987-08-08 Hitachi Ltd 露光装置の校正方法
NL8701139A (nl) * 1987-05-13 1988-12-01 Philips Nv Geleideinrichting.
JP2601834B2 (ja) 1987-08-26 1997-04-16 株式会社東芝 テーブル装置
US4812725A (en) * 1987-10-16 1989-03-14 Anwar Chitayat Positioning device with dual linear motor
US4870668A (en) * 1987-12-30 1989-09-26 Hampshire Instruments, Inc. Gap sensing/adjustment apparatus and method for a lithography machine
US5040431A (en) * 1988-01-22 1991-08-20 Canon Kabushiki Kaisha Movement guiding mechanism
US4916340A (en) * 1988-01-22 1990-04-10 Canon Kabushiki Kaisha Movement guiding mechanism
EP0327949B1 (en) * 1988-02-08 1993-12-15 Kabushiki Kaisha Toshiba Alignment stage device
US4952858A (en) * 1988-05-18 1990-08-28 Galburt Daniel N Microlithographic apparatus
JP2960423B2 (ja) 1988-11-16 1999-10-06 株式会社日立製作所 試料移動装置及び半導体製造装置
JP2787082B2 (ja) * 1988-11-24 1998-08-13 株式会社ニコン 投影式露光装置および投影式露光方法ならびに素子製造方法
US5022619A (en) * 1988-12-09 1991-06-11 Tokyo Aircraft Instrument Co., Ltd. Positioning device of table for semiconductor wafers
US5208497A (en) 1989-04-17 1993-05-04 Sharp Kabushiki Kaisha Linear driving apparatus
JP2807893B2 (ja) * 1989-04-18 1998-10-08 日立電子エンジニアリング株式会社 マスク保持機構
NL8902471A (nl) * 1989-10-05 1991-05-01 Philips Nv Tweetraps positioneerinrichting.
NL8902472A (nl) * 1989-10-05 1991-05-01 Philips Nv Positioneerinrichting.
US5184055A (en) 1989-10-06 1993-02-02 Canon Kabushiki Kaisha Device for positioning control
US5453315A (en) 1989-11-27 1995-09-26 Censtor Corp. Unitary micro-flexure structure and method of making same
US5059090A (en) * 1990-01-16 1991-10-22 International Business Machines Corp. Two-dimensional positioning apparatus
US5228358A (en) * 1990-02-21 1993-07-20 Canon Kabushiki Kaisha Motion guiding device
JPH0719693Y2 (ja) 1990-04-27 1995-05-10 エヌティエヌ株式会社 移動テーブル
US5140242A (en) 1990-04-30 1992-08-18 International Business Machines Corporation Servo guided stage system
US5280677A (en) * 1990-05-17 1994-01-25 Canon Kabushiki Kaisha Positioning mechanism
NL9001910A (nl) * 1990-08-30 1992-03-16 Philips Nv Elektromagnetische ondersteuning met stroomonafhankelijke eigenschappen.
GB2249189B (en) 1990-10-05 1994-07-27 Canon Kk Exposure apparatus
NL9100202A (nl) * 1991-02-05 1992-09-01 Asm Lithography Bv Lithografische inrichting met een hangende objecttafel.
JP3182158B2 (ja) 1991-02-25 2001-07-03 キヤノン株式会社 露光装置用のステージ支持装置
NL9100407A (nl) 1991-03-07 1992-10-01 Philips Nv Optisch lithografische inrichting met een krachtgecompenseerd machinegestel.
US5241183A (en) * 1991-03-22 1993-08-31 Nippon Telegraph And Telephone Corporation Vertical xy stage
JPH0774079A (ja) * 1993-09-02 1995-03-17 Nikon Corp 露光方法及び露光装置
US5385217A (en) 1991-05-20 1995-01-31 Ebara Corporation Vibration eliminating apparatus for elminating vibration of an installation floor
US5684856A (en) * 1991-09-18 1997-11-04 Canon Kabushiki Kaisha Stage device and pattern transfer system using the same
JP2714502B2 (ja) * 1991-09-18 1998-02-16 キヤノン株式会社 移動ステージ装置
JPH05122472A (ja) * 1991-10-23 1993-05-18 Fuji Xerox Co Ltd 画像処理装置
JP2757626B2 (ja) * 1991-10-28 1998-05-25 松下電器産業株式会社 レチクルケース
DE69322983T2 (de) 1992-02-21 1999-07-15 Canon Kk System zum Steuern von Trägerplatten
US5282393A (en) 1992-05-08 1994-02-01 New Focus, Inc. Precision component positioner
US5338121A (en) 1992-07-24 1994-08-16 Fujitsu Limited Shuttle apparatus for printer
JP2816513B2 (ja) 1992-08-26 1998-10-27 鹿島建設株式会社 電磁式浮き床構造
US5477304A (en) 1992-10-22 1995-12-19 Nikon Corporation Projection exposure apparatus
JP3336441B2 (ja) 1992-11-25 2002-10-21 株式会社ニコン 露光方法及び装置、並びに前記方法を用いるデバイス製造方法
KR100300618B1 (ko) * 1992-12-25 2001-11-22 오노 시게오 노광방법,노광장치,및그장치를사용하는디바이스제조방법
JP3265670B2 (ja) * 1993-01-21 2002-03-11 株式会社ニコン ステージ装置、ステージ駆動方法、及び露光装置
JP3277581B2 (ja) * 1993-02-01 2002-04-22 株式会社ニコン ステージ装置および露光装置
US5285142A (en) * 1993-02-09 1994-02-08 Svg Lithography Systems, Inc. Wafer stage with reference surface
JP2974535B2 (ja) 1993-03-11 1999-11-10 キヤノン株式会社 位置決め装置
KR0139039B1 (ko) * 1993-06-30 1998-06-01 미타라이 하지메 노광장치와 이것을 이용한 디바이스 제조방법
JPH07169672A (ja) * 1993-12-14 1995-07-04 Sumitomo Heavy Ind Ltd X線マスク位置決め装置
TW357404B (en) 1993-12-24 1999-05-01 Tokyo Electron Ltd Apparatus and method for processing of plasma
JP3226704B2 (ja) 1994-03-15 2001-11-05 キヤノン株式会社 露光装置
US5874820A (en) 1995-04-04 1999-02-23 Nikon Corporation Window frame-guided stage mechanism
US5528118A (en) 1994-04-01 1996-06-18 Nikon Precision, Inc. Guideless stage with isolated reaction stage
KR950034472A (ko) * 1994-04-06 1995-12-28 가나이 쓰토무 패턴형성방법 및 그것에 사용되는 투영노광장치
JPH07297118A (ja) * 1994-04-27 1995-11-10 Canon Inc 基板および基板保持方法ならびにその装置
JPH0817151A (ja) 1994-04-27 1996-01-19 Sharp Corp 情報記録再生装置のモータ制御装置
US5530516A (en) 1994-10-04 1996-06-25 Tamarack Scientific Co., Inc. Large-area projection exposure system
US5623853A (en) 1994-10-19 1997-04-29 Nikon Precision Inc. Precision motion stage with single guide beam and follower stage
US5552888A (en) 1994-12-02 1996-09-03 Nikon Precision, Inc. Apparatus for measuring position of an X-Y stage
US6008500A (en) * 1995-04-04 1999-12-28 Nikon Corporation Exposure apparatus having dynamically isolated reaction frame
US5508518A (en) 1995-05-03 1996-04-16 International Business Machines Corporation Lithography tool with vibration isolation
DE69629087T2 (de) * 1995-05-30 2004-04-22 Asml Netherlands B.V. Positionierungsgerät mit einem referenzrahmen für ein messsystem
US5760564A (en) 1995-06-27 1998-06-02 Nikon Precision Inc. Dual guide beam stage mechanism with yaw control
EP0762255B1 (en) 1995-09-04 1999-03-17 Canon Kabushiki Kaisha Drive control apparatus
US5812420A (en) 1995-09-05 1998-09-22 Nikon Corporation Vibration-preventive apparatus and exposure apparatus
JP3221823B2 (ja) * 1995-11-24 2001-10-22 キヤノン株式会社 投影露光装置およびこれを用いた露光方法ならびに半導体製造方法

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