KR101259643B1 - 노광기의 스테이지 진직도 보상장치 - Google Patents

노광기의 스테이지 진직도 보상장치 Download PDF

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Abstract

본 발명은 노광기의 스테이지 진직도 보상장치에 관한 것이다. 스테이지(10)는 이송방향을 따라 형성되는 가이드면(14a)을 구비하한다. 그리고 스테이지척(22)은, 상기 스테이지의 상부에서 일방향으로 직선운동이 가능하게 지지되고 있다. 그리고 에어베어링(40)은 상기 스테이지척의 하부에 설치되어, 상기 가이드면을 따르는 스테이지척의 직선운동을 가이드한다. 그리고 스테이지척의 하부에는 브라켓(22a)이 설치되고, 상기 브라켓에는 일방향이 개구된 블럭형상의 플렉셔(52)가 설치되어 있다. 상기 플렉셔의 내부에는, 인가되는 전류에 기초하여 가이드면을 향하여 변위되는 피에조일렉트릭 액츄에이터가 설치되어 있다. 상기 액츄에이터의 위치 변화는 상기 플렉셔의 측벽을 통하여 에어베어링(40)을 가이드면(14a)에 밀착시킬 수 있게 되어, 가이드면 및 에어베어링에 의하여 가이드되는 스테이지척의 진직도를 높이게 된다.
노광기, 마스크리스 노광, 피에조일렉트릭 액츄에이터, 진직도

Description

노광기의 스테이지 진직도 보상장치{Device for compensating straightness of stage for exposurer}
도 1은 본 발명에 의한 노광장치의 예시 사시도.
도 2는 본 발명에 의한 노광장치의 요부 사시도.
도 3는 본 발명에 의한 진직도 보상블럭의 예시 사시도.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *
10 ..... 스테이지 14 ..... 스테이지 가이드
14a ..... 가이드면 20 ..... 스테이지척 어셈블리
22 ..... 제1스테이지척 30 ..... 리니어모터
40 ..... 가이드용 에어베어링 50 ..... 보상블럭
52 ..... 플렉셔 54 ..... 피에조일렉트릭 액츄에이터
56 ..... 흡수부재
본 발명은 노광장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 압전소자와 힌지를 이용하여 진직도를 보상할 수 있도록 구성되는 노광장치의 진직도(straightness) 보 상 장치에 관한 것이다.
노광장치에서 스테이지는, 노광시키고자 하는 대상물을 일정 거리 이송시키는 부분이다. 이러한 노광장치에서 스테이지의 정밀도는 큰 영향을 미치지 못하고 있었다. 이는 노광과정에서 형성되는 패턴의 정밀도가 낮았기 때문이라고 할 수 있다. 그러나 마스크리스(maskless) 노광기와 같은 정밀한 노광장치에 있어서는, 스테이지의 정밀도가 형성되는 패턴의 품질에 직접적인 영향을 미치게 된다. 더욱이 마스크리스 노광장치에 있어서 진직도는, 노광공정에 의하여 형성되는 패턴의 품질에 직접적인 영향을 미치게 된다.
여기서 진직도(straightness)는, 수평면에 대하여 이송방향에 대하여 직각방향으로의 정확성을 의미한다. 예를 들어, 2차원상을 이동하는 스테이지의 경우, x축을 따른 이송방향에 대한 진직도의 오차는, 실질적으로 y방향으로의 위치 에러를 유발하고, y축을 따르는 이송방향에 대한 진직도의 오차는 x축방향으로의 위치에러를 유발하게 되는 것이다.
지금까지의 노광장치에 있어서, 진직도의 보상을 위해서는 엘엠가이드를 해제하여 분해한 후에, 다시 조립하는 방법 밖에 채용되고 있지 않았다. 물론 이차원 직교좌표계 스테이지의 경우, 다른 축을 보정하는 방법으로 간접적으로 진직도를 보정하는 방법은 널리 사용되고 있었다. 그러나 이와 종래의 방법으로는 근본적인 진직도의 보상이 이루어질 수 없고, 더욱이 마스크리스 노광장치는 스테이지의 이동을 위한 축이 단축이기 때문에 적용하는 것이 불가능하다.
본 발명은 상기와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 진직도를 보상할 수 있는 노광기용 진직도 보상장치를 제공하는 것을 주된 목적으로 한다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 의한 노광기의 진직도 보상장치는, 이송방향을 따라 형성되는 가이드면을 구비하는 스테이지; 상기 스테이지의 상부에서 일방향으로 직선운동이 가능하게 지지되는 스테이지척; 상기 스테이지척의 하부에 설치되고, 상기 가이드면을 따르는 스테이지척의 직선운동을 가이드하는 에어베어링; 그리고 상기 가이드면에 대한 에어베어링의 밀착정도를 조절하는 조절수단을 포함하여 구성되는 것을 기술적 특징으로 한다.
실시예에 의하면, 상기 보상장치는, 스테이지척의 하부에 설치되는 브라켓과 상기 에어실린더 사이에 개재되고, 인가되는 전류에 기초하여 가이드면을 향하여 변위되는 피에조일렉트릭 액츄에이터를 포함하고 있다.
다른 실시예에 의하면, 상기 보상장치는, 스테이지척의 하부에 설치되는 브라켓과 상기 에어실린더 사이에 개재되고, 일방향이 개구된 블럭형상의 플렉셔와, 상기 플렉셔의 내부에 설치되어 인가되는 전류에 기초하여 가이드면을 향하여 변위되는 피에조일렉트릭 액츄에이터를 포함하여 구성되고 있다.
그리고 또 다른 실시예에 의하면, 상기 보상장치는, 상기 피에조일렉트릭 액츄에이터와 상기 플렉셔의 측면 사이에 개재되어 상기 피에조일렉트릭 액츄에이터의 변위방향 이외의 힘을 흡수하는 흡수부재를 더 포함하여 구성된다.
여기서 상기 흡수부재는, 상기 피에조일렉트릭 액츄에이터의 일측면에 접촉 하고 상대적으로 넓은 제1접촉면과, 상기 플렉셔의 측면 내측에 접촉하고 상대적으로 넓은 제2접촉면, 그리고 상기 제1접촉면과 제2접촉면을 연결하는 바형상의 연결부를 포함하는 실시예를 개시하고 있다.
그리고 상기 플렉셔는 상하방향으로 개구된 블럭형상으로 형성하여 수직방향의 하중에 대하여 견고하게 지지되도록 하는 것이 바람직하다.
다음에는 도면에 도시한 실시예에 기초하면서 본 발명에 대하여 더욱 상세하게 살펴보기로 한다.
도 1은 본 발명에 의한 보상장치가 적용된 노광장치의 부분 사시도이고, 도 2는 본 발명의 보상장치의 요부 확대 사시도이며, 도 3은 본 발명의 보상블럭의 예시 사시도이다. 도시된 바와 같이, 노광장치는, 예를 들면 대리석으로 만들어지는 스테이지(10)를 포함하고 있다. 상기 스테이지(10)는 후술하는 스테이지 척어셈블리(20)의 y방향 이동을 전체적으로 지지함과 동시에 노광공정을 위한 수평조건 등을 제공하게 된다. 상기 스테이지(10)는, 외부에서의 진동을 흡수하기 위한 복수개의 공압아이솔레이트(12)에 의하여 지지되고 있다. 그리고 상기 각각의 공압아이솔레이트(12)는 복수개의 풋(12a)에 의하여 바닥면에 지지된다.
상기 스테이지(10)의 중간 부분에는 이송방향(y축)으로 길게 형성된 스테이지가이드(14)가 구비되어 있다. 상기 스테이지가이드(14)는 스테이지(10)와 일체로 형성될 수 있다. 상기 스테이지가이드(14)는 이송방향(y방향)으로 스테이지(10)의 거의 전체 길이를 따라 형성되어 있고, 바닥면에서 수직으로 형성되는 가이드면(14a)를 구비하고 있다.
그리고 상기 스테이지(10)의 상부에는 스테이지 척어셈블리(20)가 설치되어 있다. 상기 스테이지 척어셈블리(20)는, 상기 스테이지(10) 상에서 y방향으로 이송 가능한 제1스테이지척(22)과, 상기 제1스테이지척(22) 상에서 x방향으로 이송 가능한 제2스테이지척(24)를 포함하고 있다.
상기 제1스테이지척(22)은 상기 스테이지(10)의 상부에서 y방향으로 직선 왕복운동을 할 수 있도록 지지되고 있다. 상기 스테이지(10)의 구동력은 리니어모터(30)에서 얻어지고, 상기 스테이지(10)에서 다수개의 에어베어링에 의하여 지지된다. 즉, 상기 제1스테이지척(22)은 다수개의 지지용 에어베어링(32)에 의하여 상기 제1스테이지척(22)의 상부에 지지되고, 가이드용 에어베어링(40)에 의하여 y축방향으로의 직선 운동이 가이드된다. 여기서 상기 가이드용 에어베어링(40)은, 상기 가이드면(14a)에 밀착되어 있어서 상기 제1스테이지척(22)의 직선운동의 진직도(straightness)를 제공하게 된다.
그리고 상기 제1스테이지척(22)의 상부에는 제2스테이지척(24)이 x축방향으로 이동할 수 있도록 지지되어 있다. 이러한 x축방향의 이동도 리니어모터에 의하여 이루어진다. 그리고 상기 제2스테이지척(24)의 상부에는 회전용척(26)이 회동 가능하게 설치되어 있다. 상기 회전용척(26)의 회전은 서보모터(도시 생략)에 의하여 이루어지고 있다. 상기 회전용척(26)의 상부에는 그래스척(28)이 설치되어 있다. 그리고 상기 제1스테이지척(22), 제2스테이지척(24), 회전용척(26), 그리고 그래스척(28)의 구성은 실질적으로 종래의 구성과 동일하다. 상기 그래스척(28)의 상부에는 소정의 패턴을 형성하고자 하는 패널이 올려진다.
상기 제1스테이지척(22), 제2스테이지척(24), 회전용척(26), 그리고 상기 그래스척(28)의 구성은 종래와 동일하고, 본 발명과 직접적인 관련이 없어서 그 부분에 대한 자세한 설명은 생략하기로 한다.
다음에는 도 2를 참조하면서, 상기 가이드용 에어베어링(40)의 연결구조에 대하여 살펴보기로 한다. 도시한 바와 같이, 상기 가이드용 에어베어링(40)은, 제1스테이지척(22)의 하부에 설치되는 것이고, 상기 가이드면(14a)에 밀착되면서 상기 제1스테이지척(22)의 직선운동을 가이드하게 된다.
상기 가이드용 에어베어링(40)(이하 단순히 에어베어링이라고도 칭함)은, 상기 제1스테이지척(22)의 하부에 설치되는 브라켓(22a)를 통하여 설치된다. 즉, 상기 브라켓(22a)의 하단부 측면에는 상기 에어베어링(40)이 설치되는데, 상기 브라켓(22a)과 에어베어링(40) 사이에는 보상블럭(50)이 개재되어 있다. 상기 브라켓(22a)과 보상블럭(50), 그리고 에어베어링(40)은 볼팅으로 서로 연결된다.
상기 보상블럭(50)은, 상기 에어베어링(40)이 상기 가이드면(14a)에 밀착될 수 있도록 설치되는 것이다. 본 발명에서는 상기 보상블럭(50)을 통하여 에어베어링(40)을 상기 가이드면(14a)에 밀착시키는 것에 의하여 진직도를 보장할 수 있도록 구성되고 있다.
상기 보상블럭(50)은, 도 3에 도시된 바와 같이, 일방향으로 개구된 플렉셔(52)와, 상기 플렉셔(52)의 내부에 내장된 피에조일렉트릭 액츄에이터(54), 그리고 상기 피에조일렉트릭 액츄에이터(54)와 플렉셔(52)의 일측면 사이에 설치되는 힌지(56)를 포함하고 있다.
상기 플렉셔(52)는 블럭형태로 형성되어 있으며, 일측방향으로 개구되는 것이 바람직하다. 그리고 상기 플렉셔(52)는 실질적으로 일방향으로 소정의 탄성변형이 가능하게 되는데, 본 발명에서는 도 1의 x방향으로 탄성변형이 가능하도록 하기 위하여, 일방향으로 개구되도록 성형되고 있음을 알 수 있다. 즉 상기 플렉셔(52)의 탄성변형 방향은, 실질적으로 상기 에어베어링(40)이 가이드면(14a)을 향하는 방향이 된다. 그리고 상기 플렉셔(52)가 받는 하중을 고려하면, 상기 플렉셔(52)는 상하방향으로 개구된 블럭형상으로 성형되는 것이 바람직하다. 이렇게 함으로써, 실질적으로 상기 보상블럭(50)은 상하방향(수직방향)으로는 충분한 강성을 가지지만, 좌우방향(x축 방향)으로는 피에조일렉트릭 액츄에이터(54)에 의하여 변형되어 미세한 조절이 가능하게 된다. 그리고 상기 플렉셔(52)는 액츄에이터(54)의 변위방향으로 변형될 수 있음과 동시에 수직방향의 하중을 지지할 수 있는 강도도 충분히 가지는 재질로 형성하는 것이 바람직하고, 예를 들면 알미늄 또는 스틸 등으로 형성할 수 있다.
상기 플렉셔(52)의 내부에는 피에조일렉트릭 액츄에이터(54)가 설치되어 있다. 상기 피에조일렉트릭 액츄에이터(54)는, 공지된 바와 같이 인가되는 전류에 반응하고 상기 가이드면(14a)을 향하는 길이가 변화될 수 있는 요소이다. 그리고 본 실시예에 있어서는 상기 피에조일렉트릭 액츄에이터(54)의 변위방향(x방향) 이외의 방향으로의 반력을 흡수할 수 있도록 상기 피에조일렉트릭 액츄에이터(54)와 플렉셔(52)의 측면(에어베어링과 접하는 면) 사이에는 흡수부재(56)이 설치되어 있다. 본 실시예에서의 흡수부재(56)는 상기 변위방향 이외의 방향으로 작용하는 외 력, 예를 들면 상기 피에조일렉트릭 액츄에이터(54)에 가해지는 전단응력 등을 흡수할 수 있도록 설치되는 것이다. 그리고 이러한 흡수부재(56)를 개재하는 것은, 상기 피에조일렉트릭 액츄에이터(54)가 변위방향 이외의 방향에 대한 지지력이 낮기 때문에, 상기 피에조일렉트릭 액츄에이터(54)를 보호하기 위한 것이기도 하다.
상기 흡수부재(56)는, 상기 피에조일렉트릭 액츄에이터(54)와 접하는 상대적으로 넓은 면적의 제1접촉면(56a)과, 상기 플렉셔(52)의 측면과 접하고 상기 제1접촉면(56a)와 유사하게 상대적으로 넓은 면적을 가지는 제2접촉면(56c), 그리고 상기 제1접촉면과 제2접촉면을 연결하는 바형상의 연결부(56b)로 구성된다. 여기서 상기 보상블럭(50)에서 피에조일렉트릭 액츄에어터의 변위 방향 이외의 반력(예를 들면 상기 피에조일렉트릭 액츄에이터에 대한 전단응력 등)이 발생하게 되면, 상기 제1접촉면(56a)와 제2접촉면(56c)가 이러한 응력을 받게 되고, 이에 따라서 상기 연결부(56b)가 반응하여 변형하기 때문에 이러한 전단응력이 상기 피에조일렉트릭 액츄에이터(54)에 가해지지는 않는다. 따라서 본 발명의 보상블럭(50)은 상기 피에조일렉트릭 액츄에이터(54)가 전류의 세기에 따라서 변위방향으로 변위되면, 상기 플렉셔(52)의 측면은 상기 에어베어링(40)을 상기 가이드면(14a) 방향으로 밀거나 당길 수 있게 되어, 상기 에어베어링(40)과 가이드면(14a) 사이의 미세한 간격을 정확하게 조절하는 것이 가능하게 되어 상기 제1스테이지척(22)이 상기 가이드면(14a)를 따라 정확하게 y축방향으로 이동할 수 있게 한다. 그리고 이러한 것은 실질적으로 상기 제1스테이지척(22)의 진직도를 더욱 높일 수 있게 되는 것을 의미하고, 이는 실질적으로 노광공정에서의 패턴형성을 더욱 정확하게 할 수 있는 결과 로 이어질 것이다.
그리고 상기 제1스테이지척(22)이 y축방향으로 이동하는 것을 정확하게 가이드하여 진직도를 높이기 위하여, 상기 가이드용 에어실린더(40)는 한 쌍과 같이 복수개 설치될 수 있다. 상술한 보상블럭(50)의 피에조일렉트릭 액츄에이터(54)에 의하여, 상기 가이드용 에어실린더(40)가 상기 가이드면(14a)에 대하여 원하는 정도로 밀착될 수 있다는 것은 실질적으로 상기 제1스테이지척(22)이 가이드면(14a)을 따라서 정확하게 이송될 수 있는 진직도가 높아진다는 것을 의미한다.
이상에서 살펴본 바와 같이, 본 발명은 가이드면을 따라 이동하는 에어실린더가 가이드면에 정확하게 밀착될 수 있도록 조절할 수 있도록 구성하는 것을 기본적인 기술적 사상으로 하고 있음을 알 수 있다.
이와 같은 본 발명의 기본적인 기술적 범주 내에서, 당업계의 통상의 기술자에게 있어서는 여러 가지 다른 변형이 가능할 것이고, 본 발명의 보호범위는 첨부된 특허청구의 범위에 기초하여 해석되어야 할 것임은 자명하다.
이상에서 살펴본 바와 같이, 본 발명에 의하면 피에조일렉트릭 액츄에이터를 구비하고 있는 보상블럭에 의하여, 에어베어링이 상기 가이드면에 정확하게 밀착될 수 있음을 알 수 있다. 상기 에어베어링이 가이드면에 정확하게 밀착될 수 있다는 것은, 실질적으로 상기 제1스테이지척(22)을 포함하는 척어셈블리(20)가 가이드면을 따라서 정확하게 직선운동을 할 수 있다는 것을 의미한다. 즉, 본 발명을 적용하는 것에 의하여, 척어셈블리(20)의 상부에 올려지는 패턴 형성 대상물(패널)이 정확한 직선운동을 할 수 있게 되어, 궁극적으로 패턴의 형성을 더욱 정확하게 수행할 수 있는 장점이 있음을 알 수 있다.

Claims (7)

  1. 이송방향을 따라 형성되는 가이드면을 구비하는 스테이지;
    상기 스테이지의 상부에서 일방향으로 직선운동이 가능하게 지지되는 스테이지척;
    상기 스테이지척의 하부에 설치되고, 상기 가이드면을 따르는 스테이지척의 직선운동을 가이드하는 에어베어링; 그리고
    상기 가이드면에 대한 에어베어링의 밀착정도를 조절하는 보상수단을 포함하여 구성되고;
    상기 보상수단은, 스테이지척의 하부에 설치되는 브라켓과 상기 에어베어링 사이에 개재되고, 일방향이 개구된 블럭형상의 플렉셔와, 상기 플렉셔의 내부에 설치되어 인가되는 전류에 기초하여 가이드면을 향하여 변위되는 피에조일렉트릭 액츄에이터를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 노광기의 진직도 보상장치.
  2. 삭제
  3. 삭제
  4. 제 1 항에 있어서, 상기 보상장치는, 상기 피에조일렉트릭 액츄에이터와 상기 플렉셔의 측면 사이에 개재되어 상기 피에조일렉트릭 액츄에이터의 변위방향 이외의 힘을 흡수하는 흡수부재를 더 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 노광기의 진직도 보상장치.
  5. 제 4 항에 있어서, 상기 흡수부재는, 상기 피에조일렉트릭 액츄에이터의 일측면에 접촉하는 제1접촉면과, 상기 플렉셔의 측면 내측에 접촉하는 제2접촉면, 그리고 상기 제1접촉면과 제2접촉면을 연결하는 바형상의 연결부를 포함하여 구성되고, 제1접촉면 및 제2접촉면은 연결부에 비하여 넓은 접촉면을 가지는 것을 특징으로 하는 노광기의 진직도 보상장치.
  6. 제 1 항, 제 4 항 또는 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 플렉셔는 상하방향으로 개구된 블럭형상임을 특징으로 하는 노광기의 진직도 보상장치.
  7. 제 1 항, 제 4 항 또는 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 가이드면은 수직면으로 성형되는 것을 특징으로 하는 노광기의 진직도 보상장치.
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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6150787A (en) 1995-04-04 2000-11-21 Nikon Corporation Exposure apparatus having dynamically isolated reaction frame
JP2001023896A (ja) 1999-07-13 2001-01-26 Nikon Corp ステージ装置及び露光装置
JP2002319538A (ja) 2001-02-02 2002-10-31 Nikon Corp エアーベアリング装置
KR100534140B1 (ko) * 2004-06-23 2005-12-08 삼성전자주식회사 스테이지장치

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6150787A (en) 1995-04-04 2000-11-21 Nikon Corporation Exposure apparatus having dynamically isolated reaction frame
JP2001023896A (ja) 1999-07-13 2001-01-26 Nikon Corp ステージ装置及び露光装置
JP2002319538A (ja) 2001-02-02 2002-10-31 Nikon Corp エアーベアリング装置
KR100534140B1 (ko) * 2004-06-23 2005-12-08 삼성전자주식회사 스테이지장치

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