JP2015129954A - 光学素子 - Google Patents

Abstract

【課題】光分割素子、例えば、入射される光を互いに偏光状態が異なる２種類以上の光に分割する素子を提供する。【解決手段】面内の遅相軸方向の屈折率と進相軸方向の屈折率の差が０．０５〜０．２であり、厚さが０．５μｍ〜２．０μｍであり、多官能性重合性液晶化合物と単官能性重合性液晶化合物を含み、単官能性重合性液晶化合物は、多官能性重合性液晶化合物１００重量部に対して０重量部を超過し、且つ１００重量部以下の量で含まれ、また、位相遅延特性が異なる第１及び第２領域を含む液晶層１１、及び基材層１２の液晶層１１と反対面に積層される偏光子１３を含む。【選択図】図１

Description

本発明は、光学素子及び立体映像表示装置に関する。

光を、偏光状態が異なる２種類以上の光に分割する技術は、多様な分野において有用に使用されることができる。

上記光分割技術は、例えば、立体映像の製作に適用されることができる。立体映像は、両眼時差を利用して具現することができる。例えば、２つの２次元映像を人間の左眼及び右眼にそれぞれ入力すれば、入力された情報が脳に伝達及び融合され、人間は、３次元的な遠近感と実際感を感じるようになり、このような過程で、上記光分割技術が使用されることができる。

立体映像の生成技術は、３次元計測、３Ｄテレビ、カメラまたはコンピュータグラフィックなどにおいて有用に使用されることができる。

本発明の目的は、光学素子及び立体映像表示装置を提供することにある。

本発明は、光学素子に関する。例示的な光学素子は、順次に配置された液晶層、基材層及び偏光子を含むことができる。

図１は、例示的な光学素子１の断面図であって、液晶層１１、基材層１２及び偏光子１３が順に形成されている構造を示す。

１つの例示において、上記光学素子は、入射される光を互いに偏光状態が異なる２種類以上の光に分割する素子であることができる。このような素子は、例えば、立体映像を具現するために使用することができる。

上記液晶層は、面内の遅相軸方向の屈折率と面内の進相軸方向の屈折率との差が０．０５〜０．２、０．０７〜０．２、０．０９〜０．２または０．１〜０．２の範囲であることができる。上記で、面内の遅相軸方向の屈折率は、液晶層の平面で最も高い屈折率を示す方向の屈折率を意味し、進相軸方向の屈折率は、液晶層の平面上で最も低い屈折率を示す方向の屈折率の差を意味することができる。通常、光学異方性の液晶層において進相軸と遅相軸は、互いに垂直する方向に形成されている。上記それぞれの屈折率は、５５０ｎｍまたは５８９ｎｍの波長の光に対して測定した屈折率であることができる。

また、上記液晶層は、厚さが約０．５μｍ〜２．０μｍまたは約０．５μｍ〜１．５μｍであることができる。

上記屈折率の関系と厚さを有する液晶層は、適用される用途に適した位相遅延特性を具現することができる。１つの例示において、上記屈折率の関系と厚さを有する液晶層は、光分割用光学素子に適している。

上記液晶層は、多官能性重合性液晶化合物と単官能性重合性液晶化合物を含むことができ、上記化合物は、重合された形態で液晶層に含まれることができる。

本明細書において用語「多官能性重合性液晶化合物」は、メソゲン（ｍｅｓｏｇｅｎ）骨格などを含んで液晶性を示し、また、重合性官能基を２個以上含む化合物を意味することができる。１つの例示において、上記多官能性重合性液晶化合物は、重合性官能基を２個〜１０個、２個〜８個、２個〜６個、２個〜５個、２個〜４個、２個〜３個または２個含むことができる。

また、本明細書において、用語「単官能性重合性液晶化合物」は、メソゲン骨格などを含んで液晶性を示し、また、１個の重合性官能基を含む化合物を意味することができる。

また、本明細書において「液晶層に重合された形態で含まれている液晶化合物」は、上記液晶化合物が重合され、液晶層内で液晶高分子を形成している状態を意味することができる。

液晶層が多官能性及び単官能性重合性化合物を含む場合、液晶層にさらに優れた位相遅延特性を付与することができ、具現された位相遅延特性、例えば、液晶層の光軸及び位相遅延値などが苛酷条件でも安定的に維持されることができる。
１つの例示において、上記多官能性または単官能性重合性液晶化合物は、下記化学式１で表示される化合物であることができる。

上記化学式１において、Ａは、単一結合、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−であり、Ｒ_１〜Ｒ_１０は、それぞれ独立して水素、ハロゲン、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、シアノ基、ニトロ基、−Ｏ−Ｑ−Ｐまたは下記化学式２の置換基であり、且つＲ_１〜Ｒ_１０のうち少なくとも１つは、−Ｏ−Ｑ−Ｐまたは下記化学式２の置換基であるか、またはＲ_１〜Ｒ_５のうち隣接する２個の置換基またはＲ_６〜Ｒ_１０のうち隣接する２個の置換基は、互いに連結され、−Ｏ−Ｑ−Ｐで置換されたベンゼンを形成し、上記でＱは、アルキレン基またはアルキリデン基であり、Ｐは、アルケニル基、エポキシ基、シアノ基、カボキシル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基またはメタクリロイルオキシ基などの重合性官能基である。

上記化学式２において、Ｂは、単一結合、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−であり、Ｒ_１１〜Ｒ_１５は、それぞれ独立して水素、ハロゲン、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、シアノ基、ニトロ基または−Ｏ−Ｑ−Ｐであり、且つＲ_１１〜Ｒ_１５のうち少なくとも１つは、−Ｏ−Ｑ−Ｐであるか、またはＲ_１１〜Ｒ_１５のうち隣接する２個の置換基は、互いに連結され、−Ｏ−Ｑ−Ｐで置換されたベンゼンを形成し、上記でＱは、アルキレン基またはアルキリデン基であり、Ｐは、アルケニル基、エポキシ基、シアノ基、カボキシル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基またはメタクリロイルオキシ基などの重合性官能基である。

上記化学式１及び２において隣接する２個の置換基は、互いに連結され、−Ｏ−Ｑ−Ｐで置換されたベンゼンを形成するというのは、隣接する２個の置換基が互いに連結され、全体的に−Ｏ−Ｑ−Ｐで置換されたナフタレン骨格を形成することを意味することができる。

上記化学式２において、Ｂの左側の"−"は、Ｂが化学式１のベンゼンに直接連結されていることを意味することができる。

上記化学式１及び２において、用語"単一結合"は、ＡまたはＢで表示される部分に別途の原子が存在しない場合を意味する。例えば、化学式１において、Ａが単一結合の場合、Ａの両側のベンゼンが直接連結され、ビフェニル（ｂｉｐｈｅｎｙｌ）構造を形成することができる。

上記化学式１及び２において、ハロゲンとしては、塩素、ブロムまたはヨードなどが例示されることができる。

本明細書において用語アルキ基は、特に他に規定しない限り、炭素数１〜２０、炭素数１〜１６、炭素数１〜１２、炭素数１〜８または炭素数１〜４の直鎖または分岐鎖アルキル基、または炭素数３〜２０、炭素数３〜１６または炭素数４〜１２のシクロアルキル基を意味することができる。上記アルキル基は、任意に１つ以上の置換基により置換されることができる。

本明細書において用語アルコキシ基は、特に他に規定しない限り、炭素数１〜２０、炭素数１〜１６、炭素数１〜１２、炭素数１〜８または炭素数１〜４のアルコキシ基を意味することができる。上記アルコキシ基は、直鎖、分岐鎖または環状であることができる。また、上記アルコキシ基は任意に１つ以上の置換基により置換されることができる。

また、本明細書において用語アルキレン基またはアルキリデン基は、特に他に規定しない限り、炭素数１〜１２、炭素数４〜１０または炭素数６〜９のアルキレン基またはアルキリデン基を意味することができる。上記アルキレン基またはアルキリデン基は、直鎖、分岐鎖または環状であることができる。また、上記アルキレン基またはアルキリデン基は、任意に１つ以上の置換基により置換されることができる。

また、本明細書においてアルケニル基は、特に他に規定しない限り、炭素数２〜２０、炭素数２〜１６、炭素数２〜１２、炭素数２〜８または炭素数２〜４のアルケニル基を意味することができる。上記アルケニル基は、直鎖、分岐鎖または環状であることができる。また、上記アルケニル基は、任意に１つ以上の置換基により置換されることができる。

また、上記化学式１及び２において、Ｐは、好ましくは、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基またはメタクリロイルオキシ基であり、より好ましくは、アクリロイルオキシ基またはメタクリロイルオキシ基であり、さらに好ましくは、アクリロイルオキシ基であることができる。

本明細書において特定の官能基で置換されることができる置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、エポキシ基、オキソ基、オキセタニル基、チオール基、シアノ基、カボキシル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基またはアリール基などが例示されることができるが、これに限定されるものではない。

上記化学式１及び２において少なくとも１つ以上存在することができる−Ｏ−Ｑ−Ｐまたは化学式２の残基は、例えば、Ｒ_３、Ｒ_８またはＲ_１３の位置に存在することができる。互いに連結され、−Ｏ−Ｑ−Ｐで置換されたベンゼンを構成するものは、好ましくは、Ｒ_３及びＲ_４であるか、またはＲ_１２及びＲ_１３であることができる。また、上記化学式１の化合物または化学式２の残基において−Ｏ−Ｑ−Ｐまたは化学式２の残基以外の置換基、または互いに連結されてベンゼンを形成しているもの以外の置換基は、例えば、水素、ハロゲン、炭素数１〜４の直鎖または分岐鎖のアルキル基、炭素数１〜４の直鎖または分岐鎖アルコキシ基を含むアルコキシカルボニル基、炭素数４〜１２のシクロアルキル基、シアノ基、炭素数１〜４のアルコキシ基、シアノ基またはニトロ基であることができ、好ましくは、塩素、炭素数１〜４の直鎖または分岐鎖のアルキル基、炭素数４〜１２のシクロアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、炭素数１〜４の直鎖または分岐鎖アルコキシ基を含むアルコキシカルボニル基またはシアノ基であることができる。

液晶層は、単官能性重合性液晶化合物を多官能性重合性液晶化合物を１００重量部に対して０重量部超過１００重量部以下、１重量部〜９０重量部、１重量部〜８０重量部、１重量部〜７０重量部、１重量部〜６０重量部、１重量部〜５０重量部、１重量部〜３０重量部または１重量部〜２０重量部で含むことができる。

上記範囲内で多官能性及び単官能性重合性液晶化合物の混合効果を極大化することができ、また、上記液晶層が上記接着剤層と優れた接着性を示すようにすることができる。本明細書において特に他に規定しない限り、単位重量部は、重量の割合を意味することができる。

上記多官能性及び単官能性重合性液晶化合物は、水平配向された状態で液晶層に含まれてもよい。本明細書において用語「水平配向」は、重合された液晶化合物を含む液晶層の光軸が液晶層の平面に対して約０度〜約２５度、約０度〜約１５度、約０度〜約１０度、約０度〜約５度または約０度の傾斜角を有する場合を意味することができる。本明細書において用語光軸は、入射光が当該領域を透過する時の進相軸または遅相軸を意味することができる。

上記液晶層は、入射光、例えば、上記偏光子を経て入射される光を異なる偏光状態を有する２種以上の光に分割することができるように形成されてもよい。このために、例えば、上記液晶層は、異なる位相遅延特性を有する第１及び第２領域を含むことができる。本明細書において第１領域と第２領域の位相遅延特性が異なるというのは、第１及び第２領域がいずれも位相遅延特性を有する領域の状態で上記第１及び第２領域が同一または異なる方向に形成されている光軸を有し、また、位相遅延値が異なる領域である場合及び同一の位相遅延値を有しながら異なる方向に形成されている光軸を有する場合が含まれることができる。他の例示では、第１及び第２領域の位相遅延特性が異なるというのは、第１及び第２領域のうちいずれか１つの領域は、位相遅延特性を有する領域であり、他の領域は、位相遅延特性がない光学的に等方性の領域である場合をも含まれることができる。このような場合の例としては、上記液晶層が液晶層が形成されている領域と形成されていない領域をすべて含む形態を有することができる。第１または第２領域の位相遅延特性は、例えば、上記液晶化合物の配向状態、液晶層の上記屈折率関系または液晶層の厚さを調節して制御することができる。

１つの例示において、上記第１領域（Ａ）及び第２領域（Ｂ）は、図２に示されたように、互いに共通する方向に延長するストライプ形状を有しながら互いに隣接して交互に配置されているか、または図３に示されたように格子パターンで互いに隣接して交互に配置されていてもよい。

上記光学素子が立体映像を表示するのに使用される場合、上記第１及び第２領域のうちいずれか一方の領域は、左眼用映像信号偏光調節領域（以下、「ＬＣ領域」という）であり、他方の領域は、右眼用映像信号偏光調節領域（以下、「ＲＣ領域」という）であることができる。

１つの例示において、上記第１及び第２領域を含む液晶層によって分割される、異なる偏光状態を有する２種以上の光は、実質的に互いに垂直する方向を有する直線偏光された２種の光を含むか、または左円偏光された光及び右円偏光された光を含むことができる。

本明細書において角度を定義するに際して、垂直、水平、直交または平行などの用語を使用する場合、特に他に規定しない限り、上記それぞれは、実質的な垂直、水平、直交、または平行を意味するものであり、例えば、製造誤差（ｅｒｒｏｒ）またはバラツキ（ｖａｒｉａｔｉｏｎ）などを勘案した誤差を含むものである。したがって、例えば、上記それぞれの場合、約±１５度以内の誤差、好ましくは、約±１０度以内の誤差、より好ましくは、約±５度以内の誤差を含むことができる。

１つの例示において、上記第１及び第２領域のうちいずれか一方の領域は、入射光の偏光軸を回転させることなく、そのまま透過させる領域であり、他方の領域は、入射光の偏光軸を他の領域を透過した光の偏光軸に対して直交する方向に回転させて透過させることができる領域であることができる。このような場合には、上記液晶層において重合性液晶化合物を含む領域は、第１及び第２領域のうちいずれか１つの領域にのみ形成されていてもよい。上記で液晶層が形成されていない領域は、空きスペースであるか、またはガラスまたは光学的等方性の樹脂層または樹脂フィルムまたはシートが形成されていてもよい。

他の例示において、第１及び第２領域のうちいずれか一方の領域は、入射光を左円偏光された光に変換して透過させることができる領域であり、他方の領域は、入射光を右円偏光された光に変換して透過させることができる領域であることができる。この場合、上記第１及び第２領域は、互いに同一の位相遅延値を示しながら異なる方向に形成された光軸を有する領域であるか、一方の領域は、入射される光を当該波長の１／４波長だけ位相遅延させることができる領域であり、他方の領域は、入射される光を当該波長の３／４波長だけ位相遅延させることができる領域であることができる。

適切な例示において、上記第１及び第２領域は、同一の位相遅延値、例えば入射される光を当該波長の１／４波長だけ位相遅延させることができる値を有し、また、異なる方向に形成されている光軸を有する領域であることができる。上記で異なる方向に形成されている光軸の成す角度は、例えば垂直であることができる。

上記第１及び第２領域が異なる方向に形成されている光軸を有する領域である場合、第１及び第２領域の光軸が成す角度を二等分する線は、上記偏光子の吸収軸と垂直または水平を成すように形成されていることが好ましい。

図４は、図２または図３の例示の第１及び第２領域Ａ、Ｂが異なる方向に形成された光軸を有する領域である場合の光軸の配置を説明するための例示的な図である。図４を参照すれば、第１及び第２領域Ａ、Ｂの光軸が成す角度を二等分する線は、（Θ１＋Θ２）の角度を二等分する線を意味することができる。例えば、Θ１及びΘ２が同一の角度なら、上記二等分線は、第１及び第２領域Ａ、Ｂの境界線Ｌと水平を成す方向に形成されることができる。また、上記で第１及び第２領域の光軸が成す角度、すなわち（Θ１＋Θ２）は、例えば、９０度であることができる。

上記のような光学素子は、下記一般式１の条件を満足することができる。
［一般式１］
Ｘ＜８％

上記一般式１において、Ｘは、上記光学素子の液晶層の初期位相差値に対して上記光学素子を８０℃で１００時間または２５０時間放置した後の上記液晶層の位相差値の変化量の絶対値の百分率である。

上記Ｘは、例えば、「１００×（｜Ｒ_０-Ｒ_１｜）／Ｒ_０」で計算されることができる。上記で、Ｒ_０は、上記光学素子の液晶層の初期位相差値であり、Ｒ_１は、上記光学素子を８０℃で１００時間または２５０時間放置した後の上記液晶層の位相差値を意味する。

上記Ｘは、好ましくは、７％以下、６％以下または５％以下であることができる。上記位相差値の変化量は、下記実施例で提示された方法で測定することができる。

上記光学素子は、上記液晶層が上部に形成される基材層を含む。基材層は、単層または多層構造であることができる。

基材層としては、例えば、ガラス基材層またはプラスチック基材層を使用することができる。プラスチック基材層としては、ＴＡＣ（ｔｒｉａｃｅｔｙｌ ｃｅｌｌｕｌｏｓｅ）またはＤＡＣ（ｄｉａｃｅｔｙｌ ｃｅｌｌｕｌｏｓｅ）などのようなセルロース樹脂；ノルボルネン誘導体などのＣＯＰ（ｃｙｃｌｏ ｏｌｅｆｉｎ ｐｏｌｙｍｅｒ）；ＰＭＭＡ（ｐｏｌｙ（ｍｅｔｈｙｌ ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ）などのアクリル樹脂；ＰＣ（ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅ）；ＰＥ（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ）またはＰＰ（ｐｏｌｙｐｒｏｐｙｌｅｎｅ）などのポリオレフィン；ＰＶＡ（ｐｏｌｙｖｉｎｙｌ ａｌｃｏｈｏｌ）；ＰＥＳ（ｐｏｌｙ ｅｔｈｅｒ ｓｕｌｆｏｎｅ）；ＰＥＥＫ（ｐｏｌｙｅｔｈｅｒｅｔｈｅｒｋｅｔｏｎ）；ＰＥＩ（ｐｏｌｙｅｔｈｅｒｉｍｉｄｅ）；ＰＥＮ（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅｍａｐｈｔｈａｔｌａｔｅ）；ＰＥＴ（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅｔｅｒｅｐｈｔａｌａｔｅ）などのポリエステル；ＰＩ（ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ）；ＰＳＦ（ｐｏｌｙｓｕｌｆｏｎｅ）；またはフッ素樹脂などを含むシートまたはフィルムが例示されることができる。

上記基材層、例えば、プラスチック基材層は、上記液晶層に比べて低い屈折率を有することができる。例示的な基材層の屈折率は、約１．３３〜約１．５３の範囲である。基材層が液晶層に比べて低い屈折率を有する場合、例えば、輝度向上、反射防止及びコントラスト特性向上などに有利である。

上記プラスチック基材層は、光学的に等方性あるいは異方性であることができる。上記で基材層が光学的に異方性である場合、上記基材層の光軸は、上記した第１及び第２領域の光軸が成す角度を二等分する線と垂直または水平になるように配置されることが好ましい。

１つの例示において、上記基材層は、紫外線遮断剤または紫外線吸収剤を含むことができる。紫外線遮断剤または吸収剤を基材層に含む場合、紫外線による液晶層の劣化などを防止することができる。紫外線遮断剤または吸収剤としては、サリチル酸エステル（ｓａｌｉｃｙｌｉｃ ａｃｉｄ ｅｓｔｅｒ）化合物、ベンゾフェノン（ｂｅｎｚｏｐｈｅｎｏｎｅ）化合物、オキシベンゾフェノン（ｏｘｙｂｅｎｚｏｐｈｅｎｏｎｅ）化合物、ベンゾトリアゾル（ｂｅｎｚｏｔｒｉａｚｏｌ）化合物、シアノアクリレート（ｃｙａｎｏａｃｒｙｌａｔｅ）化合物またはベンゾエート（ｂｅｎｚｏａｔｅ）化合物などのような有機物または酸化亜鉛（ｚｉｎｃｏｘｉｄｅ）またはニッケル錯塩（ｎｉｃｋｅｌ ｃｏｍｐｌｅｘ ｓａｌｔ）などのような無機物が例示されることができる。基材層内の紫外線遮断剤または吸収剤の含量は、特に限定されるものではなく、目的効果を考慮して適宜選択することができる。例えば、プラスチック基材層の製造過程で上記紫外線遮断剤または吸収剤を、基材層の主材料に対する重量の割合で約０．１重量％〜２５重量％程度に含ませることができる。

基材層の厚さは、特に限定されるものではなく、目的する用途によって適宜調節されることができる。基材層は、単層または多層構造であることができる。

例示的な光学素子は、上記基材層と液晶層との間に存在する配向層をさらに含むことができる。配向層は、光学素子の形成過程で液晶化合物を配向させる役目をする層であることができる。配向層としては、この分野において公知されている通常の配向層、例えば、光配向層またはラビング配向層などが使用されることができる。上記配向層は、任意的な構成であり、場合によって、基材層を直接ラビングするか、または延伸する方式で配向層なしに配向性を付与することもできる。

光学素子において基材層の下部に形成される偏光子は、様々な方向に振動しながら入射光から一方向に振動する光を抽出することができる機能性素子である。偏光子としては、例えば、ＰＶＡ（ｐｏｌｙｖｉｎｙｌａｌｃｏｈｏｌ）偏光子のような通常の偏光子を使用することができる。

１つの例示において、偏光子は、二色性色素またはヨードが吸着及び配向されているポリビニルアルコールフィルムまたはシートであることができる。上記ポリビニルアルコールは、例えば、ポリビニルアセテートをゲル化して得ることができる。ポリビニルアセテートとしては、ビニルアセテートの単独重合体；及びビニルアセテート及び他の単量体の共重合体などが例示されることができる。上記でビニルアセテートと共重合される他の単量体としては、不飽和カルボン酸化合物、オレフィン化合物、ビニルエーテル化合物、不飽和スルホン酸化合物及びアンモニウム基を有するアクリルアミド化合物などの１種または２種以上が例示されることができる。ポリビニルアセテートのゲル化度は、一般的に約８５モル％〜約１００モル％または９８モル％〜１００モル％であることができる。偏光子に使用されるポリビニルアルコールの重合度は、一般的に約１，０００〜約１０，０００または約１，５００〜約５，０００であることができる。

１つの例示において、上記偏光子は、水系接着剤によって上記基材層に付着してもよい。図５は、偏光子１３が水系接着剤５１によって基材層１２に付着している例示的な光学素子５を示す。上記で水系接着剤としては、適切な接着性を具現することができるものなら特に限定されずに使用されることができる。１つの例示において、上記水系接着剤としては、偏光板の製造時に偏光子と偏光子の保護フィルム、例えばポリビニルアルコール系偏光子とＴＡＣ（Ｔｒｉａｃｅｔｙｌ ｃｅｌｌｕｌｏｓｅ）フィルムの付着に通常的に使用されるポリビニルアルコール系水系接着剤が使用されることができる。

上記光学素子は、上記液晶層の上部に形成されている表面処理層をさらに含むことができる。図６は、液晶層１１の上部に表面処理層６１が形成されている例示的な光学素子６を示す。

表面処理層としては、高硬度層、ＡＧ（Ａｎｔｉ−ｇｌａｒｅ）層またはＳＧ（Ｓｅｍｉ−ｇｌａｒｅ）層のような防眩層またはＡＲ（Ａｎｔｉ ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ）層またはＬＲ（Ｌｏｗ ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ）層のような低反射層などが例示されることができる。

上記高硬度層は、５００ｇの荷重下での鉛筆硬度が１Ｈ以上または２Ｈ以上の層であることができる。上記鉛筆硬度は、例えば、ＫＳ Ｇ２６０３で規定された鉛筆芯を使用してＡＳＴＭ Ｄ ３３６３規格によって測定することができる。

上記高硬度層は、例えば、高硬度の樹脂層であることができる。上記樹脂層は、例えば、常温硬化型、湿気硬化型、熱硬化型または活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を硬化された状態で含むことができ、１つの例示において、熱硬化型または活性エネルギー線硬化型樹脂組成物、または活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を硬化された状態で含むことができる。高硬度層の説明において「硬化された状態」というのは、上記各樹脂組成物に含まれる成分が架橋反応または重合反応などを経て樹脂組成物がハード（ｈａｒｄ）状態に転換された場合を意味することができる。また、上記で常温硬化型、湿気硬化型、熱硬化型または活性エネルギー線硬化型樹脂組成物は、上記硬化状態が常温下で誘導されるか、あるいは適切な湿気の存在下に、熱の印加または活性エネルギー線の照射によって誘導されることができる組成物を意味することができる。

この分野では、硬化された状態で前述の範囲の鉛筆硬度を満足することができる多様な樹脂組成物が知られていて、平均的技術者は、適切な樹脂組成物を容易に選択することができる。

１つの例示において、上記樹脂組成物は、主材としてアクリル化合物、エポキシ化合物、ウレタン系化合物、フェノール化合物またはポリエステル化合物などを含むことができる。上記で「化合物」は、単量体性、オリゴマー性または重合体性化合物であることができる。

１つの例示において、上記樹脂組成物として、透明性などの光学的特性に優れていて、黄変などに対する抵抗性に優れたアクリル樹脂組成物、好ましくは活性エネルギー線硬化型アクリル樹脂組成物を使用することができる。

活性エネルギー線硬化型アクリル組成物は、例えば、活性エネルギー線重合性の重合体成分と反応性希釈用単量体を含むことができる。

上記で重合体成分としては、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、エーテルアクリレートまたはエステルアクリレートなどのように当該分野でいわゆる活性エネルギー線重合性オリゴマーとして知られた成分、または（メタ）アクリル酸エステル単量体などのような単量体を含む混合物の重合物が例示されることができる。上記で（メタ）アクリル酸エステル単量体としては、アルキル（メタ）アクリレート、芳香族基を有する（メタ）アクリレート、ヘテロサイクリック（メタ）アクリレートまたはアルコキシ（メタ）アクリレートなどが例示されることができる。この分野では、活性エネルギー線硬化型組成物を製造するための多様な重合体成分が知られていて、上記のような化合物が必要によって選択されることができる。

活性エネルギー線硬化型アクリル組成物に含まれることができる、反応性希釈用単量体としては、活性エネルギー線硬化型官能基、例えば、アクリロイル基またはメタクリロイル基などを１つまたは２つ以上有する単量体が例示されることができ、例えば、上記（メタ）アクリル酸エステル単量体や多官能性アクリレートなどが使用されることができる。

活性エネルギー線硬化型アクリル組成物を製造するための上記成分の選択や選択された成分の配合の割合などは、特に限定されるものではなく、目的する樹脂層の硬度及びその他物性を考慮して調節されることができる。

上記ＡＧ（Ａｎｔｉ−ｇｌａｒｅ）層またはＳＧ（Ｓｅｍｉ−ｇｌａｒｅ）層としては、例えば、凹凸面が形成されている樹脂層または粒子を含む樹脂層であって、上記粒子が上記樹脂層とは異なる屈折率を有する粒子である樹脂層を使用することができる。

上記樹脂層としては、例えば、上記高硬度層の形成に使用する樹脂層を使用することができる。防眩層を形成する場合には、樹脂層が必ず高硬度を示すことができるように樹脂組成物の成分を調節する必要はないが、上記高硬度層を形成する樹脂層に上記粒子を配合する場合、高硬度層と防眩層の機能を同時に有する表面処理層を形成することができる側面で有利である。

上記で樹脂層に凹凸面を形成する方式は、特に限定されない。例えば、上記樹脂組成物のコーティング層を目的する凹凸構造を有する金型と接触させた状態で上記樹脂組成物を硬化させるか、あるいは樹脂組成物に適切な粒径の粒子を配合し、コーティング及び硬化させて、凹凸構造を具現することができる。

また、上記防眩層は、樹脂層とは屈折率が異なる粒子を使用して具現することもできる。

１つの例示において、上記粒子は、例えば、樹脂層との屈折率の差が０．０３以下または０．０２〜０．２であることができる。屈折率の差が小さすぎれば、ヘイズを誘発しにくいし、反対に、大きすぎれば、樹脂層内での散乱が多く発生し、ヘイズを増加させるが、光透過度またはコントラスト特性などの低下が誘導されることができるので、これを考慮して適切な粒子を選択することができる。

樹脂層に含まれる粒子の形状は、特に限定されるものではなく、例えば、球形、卵円形、多面体形、無定形またはその他形状を有することができる。上記粒子は、平均直径が５０ｎｍ〜５，０００ｎｍであることができる。１つの例示において、上記粒子として、表面に凹凸が形成されている粒子を使用することができる。このような粒子は、例えば、平均表面粗さ（Ｒｚ）が１０ｎｍ〜５０ｎｍまたは２０ｎｍ〜４０ｎｍ、及び／または表面に形成された凹凸の最大高さが約１００ｎｍ〜５００ｎｍまたは２００ｎｍ〜４００ｎｍであり、凹凸間の幅が４００ｎｍ〜１，２００ｎｍまたは６００ｎｍ〜１，０００ｎｍであることができる。このような粒子は、樹脂層との相溶性やその内部での分散性に優れている。

上記粒子としては、多様な無機または有機粒子が例示されることができる。無機粒子としては、シリカ、非結晶質チタニア、非結晶質ジルコニア、インジウムオキシド、アルミナ、非結晶質亜鉛オキシド、非結晶質セリウムオキシド、バリウムオキシド、カルシウムカーボネート、非結晶質バリウムチタネートまたはバリウムサルフェートなどが例示されることができ、有機粒子としては、アクリル樹脂、スチレン樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、エポキシ樹脂またはシリコーン樹脂などの有機系素材の架橋物または非架橋物を含む粒子が例示されることができるが、これに限定されるものではない。

樹脂層に形成される上記凹凸構造または上記粒子の含量は、特に限定されない。上記凹凸構造の形状または上記粒子の含量は、例えば、ＡＧ層の場合、上記樹脂層のヘイズ（ｈａｚｅ）が、約５％〜１５％、７％〜１３％または約１０％程度になるように調節され、ＳＧ層の場合、ヘイズが約１％〜３％程度になるように調節されることができる。上記ヘイズは、例えば、SEPUNG社のＨＲ−１００またはＨＭ−１５０などのようなヘイズメーター（ｈａｚｅｍｅｔｅｒ）を使用して製造社のマニュアルによって測定することができる。

ＡＲ（ａｎｔｉｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ）層やＬＲ（ｌｏｗｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ）層のような低反射層は、低屈折物質をコーティングして形成することができる。低反射層を形成することができる低屈折物質は、多様に知られていて、これは、いずれも上記光学素子に適切に選択されて使用されることができる。低反射層は、低屈折物質のコーティングを用いて反射率が約１％以下になるように形成することができる。

また、上記表面処理層の形成には、韓国公開特許第２００７−０１０１００１号、第２０１１−００９５４６４号、第２０１１−００９５００４号、第２０１１−００９５８２０号、第２０００−００１９１１６号、第２０００−０００９６４７号、第２０００−００１８９８３号、第２００３−００６８３３５号、第２００２−００６６５０５号、第２００２−０００８２６７号、第２００１−０１１１３６２号、第２００４−００８３９１６号、第２００４−００８５４８４号、第２００８−０００５７２２号、第２００８−００６３１０７号、第２００８−０１０１８０１号または第２００９−００４９５５７号などで公知された素材も使用されることができる。

上記表面処理層は、単独で形成されるか、あるいは２個以上が組合されて形成されることもできる。組合の例としては、基材層の表面にまず高硬度層を形成し、その表面にさらに低反射層を形成する場合が例示されることができる。

上記光学素子は、上記偏光子の下部に配置されている保護層をさらに含むことができる。図７は、偏光子１３の下部に付着している保護層７１をさらに含む光学素子７を例示的に示す図である。上記保護層は、例えば、ＴＡＣ（Ｔｒｉａｃｅｔｙｌ ｃｅｌｌｕｌｏｓｅ）フィルムなどのようなセルロース樹脂フィルム；ＰＥＴ（ｐｏｌｙ（ｅｔｈｙｌｅｎｅ ｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ））フィルムなどのようなポリエステルフィルム；ポリカーボネートフィルム；ポリエーテルスルホンフィルム；アクリルフィルムまたはポリエチレン、ポリプロピレンまたは環状オレフィン樹脂フィルムなどのようなポリオレフィン系フィルムなどであるか、または硬化されたハード層を形成している樹脂層などであることができるが、これに限定されるものではない。上記光学素子は、上記偏光子の下部に配置されている位相遅延層をさらに含むことができる。

上記位相遅延層は、１／４波長位相遅延層または１／２波長位相遅延層であることができる。本明細書において用語１／２波長または１／４波長位相遅延層は、入射される光を当該波長の１／２または１／４波長だけ位相遅延させることができる位相遅延素子を意味することができる。このような構造の光学素子は、例えば、ＯＬＥＤ（Ｏｒｇａｎｉｃ Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｏｄｅ）に適用され、光分割機能及び反射防止機能を具現する素子として有用に使用されることができる。上記１／４波長位相遅延層としては、例えば、延伸工程などによって複屈折性を付与した高分子フィルムや重合性液晶化合物を重合させて形成した液晶層が使用されることができる。

また、上記光学素子は、上記偏光子の一面に形成されている粘着剤層をさらに含むことができる。上記粘着剤層は、例えば、上記光学素子を光学機器、例えば、液晶表示装置の液晶パネルや立体映像表示装置の映像表示素子に付着する粘着剤層であることができる。図８は、偏光子１３の下部に粘着剤層８１が形成された光学素子８を例示的に示す図である。

上記粘着剤層は、２５℃で貯蔵弾性率が０．０２ＭＰａ以上、０．０３ＭＰａ以上、０．０４ＭＰａ以上、０．０５ＭＰａ以上、０．０６ＭＰａ以上、０．０７ＭＰａ以上、０．０８ＭＰａ、０．０８ＭＰａ超過または０．０９ＭＰａ以上であることができる。上記粘着剤の貯蔵弾性率の上限は、特に限定されるものではない。例えば、上記貯蔵弾性率は、０．２５ＭＰａ以下、０．２ＭＰａ以下、０．１６ＭＰａ以下、０．１ＭＰａ以下または０．０８ＭＰａ以下であることができる。

粘着剤層が上記貯蔵弾性率を示す場合、光学素子が優れた耐久性を示し、したがって、例えば、上記位相遅延層の位相遅延特性が長期間、そして苛酷な条件下でも安定的に維持され、安定的な光分割特性を示すことができ、光学素子が適用された光学機器で光漏れなどのような副作用も防止されることができる。また、光学素子の硬度特性が向上し、外部の圧力やスクラッチに対して優れた抵抗性を示し、再作業性も適切に維持されることができる。

上記粘着剤層は、厚さが２５μｍ以下、２０μｍ以下または１８μｍ以下であることができる。粘着剤層が上記厚さを有する場合、上記耐久性、硬度特性及び再作業性などがさらに向上することができる。粘着剤層は、厚さが薄いほど優れた物性を示すものであって、その厚さの下限は、特に限定されないが、工程性などを考慮して、例えば、約１μｍ以上または約５μｍ以上の範囲で調節することができる。

粘着剤層は、アクリル粘着剤、シリコーン粘着剤、エポキシ粘着剤またはゴム系粘着剤などを含むことができる。

粘着剤層がアクリル粘着剤を含む場合、上記粘着剤は、例えば、熱硬化性成分、活性エネルギー線硬化性成分または熱硬化性成分と活性エネルギー線硬化性成分をすべて含む粘着剤組成物を硬化させて形成することができる。

上記で用語「硬化」は、粘着物性が発現され得るようにする粘着剤組成物の化学的または物理的状態の変化を意味することができる。また、上記で熱硬化性成分及び活性エネルギー線硬化性成分は、上記のような硬化がそれぞれ適切な熱の印加または活性エネルギー線の照射によって誘導される成分を意味することができる。

熱硬化性成分を含む粘着剤組成物で形成された粘着剤層は、多官能性架橋剤によって架橋された状態のアクリル重合体を含むことができる。

多官能性架橋剤によって架橋されるアクリル重合体としては、例えば、重量平均分子量（Ｗｅｉｇｈｔ Ａｖｅｒａｇｅ Ｍｏｌｅｃｕｌａｒ Ｗｅｉｇｈｔ）が５０万以上のアクリル重合体を使用することができる。本明細書において重量平均分子量は、ＧＰＣ（Ｇｅｌ Ｐｅｒｍｅａｔｉｏｎ Ｃｈｒｏｍａｔｏｇｒａｐｈ）で測定された標準ポリスチレンに対する換算値である。また、本明細書においては、特に他に規定しない限り、用語「分子量」は、「重量平均分子量」を意味する。重合体の分子量を５０万以上にして、苛酷条件下で優れた耐久性を有する粘着剤層を形成することができる。上記分子量の上限は、特に限定されるものではなく、例えば、耐久性や組成物のコーティング性を考慮して、２５０万以下の範囲で調節することができる。

１つの例示において、上記アクリル重合体は、（メタ）アクリル酸エステル単量体及び架橋性単量体を重合単位で含む重合体であることができる。

（メタ）アクリル酸エステル系単量体としては、例えばアルキル（メタ）アクリレートを使用することができ、粘着剤の凝集力、ガラス転移温度または粘着性を考慮して、炭素数が１〜２０のアルキル基を有するアルキル（メタ）アクリレートを使用することができる。このような単量体としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ｓｅｃ−ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルブチル（メタ）アクリレート、ｎ−オクチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、イソノニル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート及びテトラデシル（メタ）アクリレートなどが例示されることができ、上記のうち１種または２種以上が使用されることができる。

また、上記重合体は、架橋性単量体を重合単位でさらに含むことができる。上記重合体は、例えば、（メタ）アクリル酸エステル単量体８０重量部〜９９．９重量部及び架橋性単量体０．１重量部〜２０重量部を重合単位で含むことができる。上記で「架橋性単量体」は、アクリル重合体を形成する他の単量体と共重合されることができ、共重合後に重合体に架橋性官能基を提供することができる単量体を意味する。上記架橋性官能基は、後述する多官能性架橋剤と反応して架橋構造を形成することができる。

架橋性官能基としては、例えば、ヒドロキシ基、カボキシル基、エポキシ基、イソシアネート基またはアミノ基のような窒素含有官能基などが例示されることができる。粘着樹脂の製造時に上記のような架橋性官能基を付与することができる共重合性単量体は、多様に公知されている。架橋性単量体としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、６−ヒドロキシヘキシル（メタ）アクリレート、８−ヒドロキシオクチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチレングリコール（メタ）アクリレートまたは２−ヒドロキシプロピレングリコール（メタ）アクリレートなどのようなヒドロキシ基含有単量体；（メタ）アクリル酸、２−（メタ）アクリロイルオキシ酢酸、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピオン酸、４−（メタ）アクリロイルオキシブチル酸、アクリル酸二量体、イタコン酸、マレイン酸及びマレイン酸無水物などのカボキシル基含有単量体または（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ビニルピロリドンまたはＮ−ビニルカプロラクタムなどの窒素含有単量体などが例示されることができ、上記のうち１種または２種以上の混合を使用することができるが、これに限定されるものではない。

上記アクリル重合体には、必要に応じて他の多様な単量体が重合単位で含まれてもよい。他の単量体としては、例えば、（メタ）アクリロニトリル、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチル（メタ）アクリルアミドまたはＮ−ブトキクシメチル（メタ）アクリルアミドのような窒素含有単量体；スチレンまたはメチルスチレンのようなスチレン系単量体；グリシジル（メタ）アクリレート；またはビニルアセテートのようなカルボン酸ビニルエステルなどが例示されることができる。このような追加的な単量体は、全体重量の割合が他の単量体に対して２０重量部以下の範囲で調節されることができる。

アクリル重合体は、前述の各成分を必要によって選択及び配合した単量体の混合物を溶液重合、光重合、塊状（ｂｕｌｋ）重合、懸濁（ｓｕｓｐｅｎｓｉｏｎ）重合または乳化（ｅｍｕｌｓｉｏｎ）重合のような重合方式に適用して製造することができる。

粘着剤層内で上記のようなアクリル重合体を架橋させている多官能性架橋剤としては、イソシアネート架橋剤、エポキシ架橋剤、アジリジン架橋剤及び金属キレート架橋剤のような一般的な熱硬化性架橋剤が例示されることができる。上記でイソシアネイト架橋剤としては、トリレンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソボロンジイソシアネート、テトラメチルキシレンジイソシアネートまたはナフタレンジイソシアネートなどの多官能性イソシアネート化合物であるか、または上記多官能性イソシアネート化合物をトリメチロールプロパンなどのようなポリオール化合物と反応させた化合物などが例示されることができる。エポキシ架橋剤としては、エチレングリコールジグリシジルエーテル、トリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、Ｎ、Ｎ、Ｎ'、Ｎ'−テトラグリシジルエチレンジアミン及びグリセリンジグリシジルエーテルよりなる群から選択された１つ以上が例示されることができ、アジリジン架橋剤としては、Ｎ、Ｎ'−トルエン−２、４−ビス（１−アジリジンカルボキサミド）、Ｎ、Ｎ'−ジフェニルメタン−４、４'−ビス（１−アジリジンカルボキサミド）、トリエチレンメラミン、ビスイソフタロイル−１−（２−メチルアジリジン）及びトリ−１−アジリジニルホスフィンオキシドよりなる群から選択された１つ以上が例示されることができ、金属キレート架橋剤としては、アルミニウム、鉄、亜鉛、錫、チタン、アンチモン、マグネシウムまたはバナジウムのような多価金属がアセチルアセトンまたはアセト酢酸エチルなどの化合物に配位している化合物なとが例示されることができるが、これに限定されるものではない。

熱硬化性成分を含む粘着剤組成物またはその組成物に形成された粘着剤層内に、上記多官能性架橋剤は、例えば、上記アクリル重合体１００重量部に対して０．０１重量部〜１０重量部または０．０１重量部〜５重量部で含まれてもよい。架橋剤の割合を０．０１重量部以上に調節し、粘着剤の凝集力を効果的に維持し、また１０重量部以下に調節すれば、粘着界面で層間剥離や浮き上り現象が発生する現象を防止し、耐久性を優秀に維持することができる。しかし、上記の割合は、目的する弾性率などの物性や、粘着剤層などに他の架橋構造の包含有無などによって変更されることができる。

活性エネルギー線硬化性成分を含む粘着剤組成物で形成された粘着剤層は、重合された活性エネルギー線重合性化合物の架橋構造を含むことができる。上記粘着剤層は、例えば、活性エネルギー線の照射によって重合反応に参加することができる官能基、例えば、アルケニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基またはメタクリロイルオキシ基などを１つ以上含む化合物を配合して粘着剤組成物を製造した後、その組成物に活性エネルギー線を照射し、上記成分を架橋及び重合させることによって形成することができる。上記で活性エネルギー線の照射によって重合反応に参加することができる官能基を有する化合物の例としては、上記アクリル重合体の側鎖にアクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基またはメタクリロイルオキシ基などの官能基を導入した重合体；ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレートまたはポリエーテルアクリレートなどのように当業界においていわゆる活性エネルギー線硬化型オリゴマーとして知られている化合物または後述する多官能性アクリレートなどが例示されることができる。

熱硬化性成分及び活性エネルギー線硬化性成分を含む粘着剤組成物で形成された粘着剤層は、上記多官能性架橋剤で架橋されたアクリル重合体を含む架橋構造及び上記重合された活性エネルギー線重合性化合物の架橋構造を同時に含むことができる。

このような粘着剤層は、いわゆる相互浸透高分子ネットワーク（Ｉｎｔｅｒｐｅｎｅｔｒａｔｉｎｇ Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｎｅｔｗｏｒｋ；以下、「ＩＰＮ」）を含む粘着剤である。用語「ＩＰＮ」は、粘着剤層内に少なくとも２個以上の架橋構造が存在する状態を意味することができ、１つの例示において、上記架橋構造は、互いに絡んでいる状態（ｅｎｔａｎｇｌｅｍｅｎｔ）、または連結（ｌｉｎｋｉｎｇ）または浸透（ｐｅｎｅｔｒａｔｉｎｇ）している状態で存在することができる。粘着剤層がＩＰＮを含む場合、苛酷条件で耐久性に優れていて、また作業性や、光漏れまたはクロストークの抑制能に優れた光学素子が具現されることができる。

ＩＰＮを含む粘着剤層には、上記多官能性架橋剤によって架橋されたアクリル重合体によって具現される架橋構造の多官能性架橋剤及びアクリル重合体としては、例えば上記熱硬化性成分を含む粘着剤組成物の項目で記述した成分が使用されることができる。

また、重合された活性エネルギー線重合性化合物の架橋構造の上記活性エネルギー線重合性化合物としては、やはり上記記述した化合物が使用されることができる。

１つの例示において、上記活性エネルギー線重合性化合物は、多官能性アクリレートであることができる。多官能性アクリレートとしては、２個以上の（メタ）アクリロイル基を有する化合物なら、限定なしに使用することができる。例えば、１、４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１、６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールアジペート（ｎｅｏｐｅｎｔｙｌｇｌｙｃｏｌ ａｄｉｐａｔｅ）ジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバル酸（ｈｙｄｒｏｘｙｌ ｐｕｉｖａｌｉｃ ａｃｉｄ）ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（ｄｉｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｎｙｌ）ジ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジシクロペンテニルジ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性ジ（メタ）アクリレート、ジ（メタ）アクリロキシエチルイソシアヌレート、アリル（ａｌｌｙｌ）化シクロヘキシルジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノール（メタ）アクリレート、ジメチロールジシクロペンタンジ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性ヘキサヒドロフタル酸ジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノール（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール変性トリメチルプロパンジ（メタ）アクリレート、アダマンタン（ａｄａｍａｎｔａｎｅ）ジ（メタ）アクリレートまたは９、９−ビス［４−（２−アクリロイルオキシエトキシ）フェニル）フルオレン（ｆｌｕｏｒｉｎｅ）などのような２官能型アクリレート；トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、プロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、３官能型ウレタン（メタ）アクリレートまたはトリス（メタ）アクリロキシエチルイソシアヌレートなどの３官能型アクリレート；ジグリセリンテトラ（メタ）アクリレートまたはペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレートなどの４官能型アクリレート；プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートなどの５官能型アクリレート；及びジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートまたはウレタン（メタ）アクリレート（例えば、イソシアネート単量体及びトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレートの反応物など）の６官能型アクリレートなどを使用することができる。

多官能性アクリレートとしては、分子内に環状構造を含むものを使用することができる。多官能性アクリレートに含まれる環状構造は、炭素環式構造または複素環式構造；または単環式または多環式構造のいずれを使用してもよい。環状構造を含む多官能性アクリレートとしては、トリス（メタ）アクリロキシエチルイソシアヌレートなどのイソシアヌレート構造を有する単量体及びイソシアネート変性ウレタン（メタ）アクリレート（例えば、イソシアネート単量体及びトリメチルロールプロパントリ（メタ）アクリレートの反応物など）などの６官能型アクリレートなどが例示されることができる。

ＩＰＮを含む粘着剤層内で上記架橋構造を形成している活性エネルギー線重合性化合物は、例えば、上記アクリル重合体１００重量部に対して、５重量部〜４０重量部で含まれることができるが、これは、必要に応じて変更されることができる。

上記粘着剤層には、前述の成分にさらにこの分野において公知されている多様な添加剤が含まれてもよい。

例えば、活性エネルギー線硬化性成分を含む組成物の場合、上記成分の重合反応などを促進するための光開始剤などをさらに含むことができる。また、上記粘着剤層は、シランカップリング剤、粘着性付与樹脂、エポキシ樹脂、硬化剤、紫外線安定剤、酸化防止剤、調色剤、補強剤、充填剤、消泡剤、界面活性剤及び可塑剤よりなる群から選択された１つ以上の添加剤をもさらに含むことができる。

上記粘着剤層は、例えば、上記記述した各成分を配合して製造された粘着剤組成物をバーコーターまたはコンマコーターなどの手段で塗布し、硬化させる方式を使用することができる。また、粘着剤組成物を硬化させる方法は、特に限定されるものではなく、例えば、アクリル重合体及び多官能性架橋剤の架橋反応が進行されることができるように適正温度で組成物を維持する方式と活性エネルギー線硬化性化合物の重合が可能となるように活性エネルギー線を照射する工程により硬化させることができる。適正温度での維持及び活性エネルギー線の照射が同時に要求される場合、上記工程は、順次または同時に進行されることができる。上記で活性エネルギー線の照射は、例えば、高圧水銀ランプ、無電極ランプまたはキセノンランプ（ｘｅｎｏｎｌａｍｐ）などを使用して行うことができ、照射される活性エネルギー線の波長や光量などの条件は、上記活性エネルギー線硬化型化合物の重合が適切に行われることができる範囲で選択されることができる。

１つの例示において、上記粘着剤層は、２５℃での貯蔵弾性率が０．０２ＭＰａ以上、０．０５ＭＰａ以上または０．０８ＭＰａ超過であるか、０．０８ＭＰａを超過、０．２５ＭＰａ以下の範囲、０．０９ＭＰａ〜０．２ＭＰａまたは０．０９ＭＰａ〜０．１６ＭＰａである粘着剤層であることができる。このような粘着剤層は、例えば、上記ＩＰＮを含む粘着剤層であることができる。

他の例示において、上記粘着剤層は、２５℃での貯蔵弾性率が０．０２ＭＰａ〜０．０８ＭＰａまたは０．０４ＭＰａ〜０．０８ＭＰａである粘着剤層であることができる。このような粘着剤は、上記熱硬化性成分の架橋構造を含む粘着剤層であることができる。

また、本発明は、光学素子の製造方法に関するものである。例示的な光学素子の製造方法は、基材層の上部に液晶層を形成し、基材層の下部には、偏光子を付着するものを含むことができる。

上記で、液晶層は、例えば、基材層上に配向膜を形成し、上記配向膜に上記重合性液晶化合物を含む液晶組成物の塗布層を形成し、上記液晶組成物を配向させた状態で重合させて、液晶層を形成する方式で製造することができる。

配向膜は、例えば、基材層にポリイミドなどの高分子膜を形成し、ラビング処理するか、または光配向性化合物をコーティングし、直線偏光の照射などを通じて配向処理する方式で形成することができる。この分野では、目的する配向パターン、例えば、上記第１及び第２領域のパターンを考慮して、配向膜を形成する多様な方式が公知されている。

液晶組成物の塗布層は、組成物を公知の方式で基材層の配向膜上にコーティングして形成することができる。上記塗布層の下部に存在する配向膜の配向パターンによって配向させた後、重合させて液晶層を形成することができる。

基材層に偏光子を付着する方法も特に限定されない。例えば、上記水系接着剤組成物を基材層や偏光子の一面にコーティングし、上記コーティング層を介して液晶層と偏光子をラミネートした後、接着剤組成物を硬化させるか、または水系接着剤組成物を使用した液滴（ｄｒｏｐｐｉｎｇ）方式によって液晶層のプライマー層が存在する面と偏光子をラミネートし、接着剤組成物を硬化させる方式などを使用することができる。

また、上記製造方法は、液晶層の上部に表面処理層を形成することをさらに含むことができる。上記で表面処理層を形成する方法は、特に限定されない。

例えば、表面処理層で上記樹脂層を形成する場合には、前述の各種の樹脂組成物、例えば、活性エネルギー線硬化型アクリル系樹脂組成物などを含むコーティング液を液晶層にコーティングし、硬化させる方式で樹脂層を形成することができる。

上記で、コーティング液は、例えば、スピンコーティングまたはバーコーティングのような通常的なコーティング方式や、インクジェット方式による選択的コーティング方式などを用いてコーティングすることができる。コーティングされたコーティング液を硬化させる方式も特に限定されず、使用された組成物の形態によって適切な熱または湿気を加えるか、あるいは活性エネルギー線を照射する方式を使用することができる。

１つの例示において、上記硬化を、前述したように、コーティング液を適切な金型と接触させた状態で進行し、樹脂層に目的する凹凸を付与することもできる。

上記製造方法は、上記過程にさらに上記１／４波長位相遅延層や粘着剤層などの追加的な層を形成する過程をさらに含むことができ、上記過程を行う具体的な方式は、特に限定されない。

また、本発明は、立体映像表示装置に関するものである。例示的な立体映像表示装置は、上記記述した光学素子を含むことができる。

１つの例示において、上記装置は、左眼用映像信号（以下、Ｌ信号）及び右眼用映像信号（以下、Ｒ信号）を生成することができる表示素子をさらに含み、上記光学素子は、上記液晶層の第１及び第２領域のうちいずれか一方の領域は、上記Ｌ信号が透過することができ、他方の領域は、上記Ｒ信号が透過することができるように配置されてもよい。上記で光学素子は、Ｒ及びＬ信号は、表示素子から出射され、上記光学素子の偏光子を先に透過した後、さらに上記液晶層の各領域に入射されるように配置されてもよい。

立体映像表示装置は、上記光学素子を光分割素子として含む限り、この分野で公知された多様な方式がすべて適用されて製造されることができる。

図９は、１つの例示的な上記装置として、観察者が偏光メガネを着て立体映像を観察することができる装置を例示的に表示する。

図９に示されたように、上記装置９は、例えば、光源９１、偏光板９２、上記表示素子９３及び上記光学素子９４を順次含むことができる。

上記で、光源９１としては、例えば、ＬＣＤ（Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ Ｄｉｓｐｌａｙ）などで一般的に使用される直下型またはエッジ型バックライトを使用することができる。

１つの例示において、上記表示素子９３は、行及び／または列方向に配列されている複数の単位画素を含む透過型液晶表示パネルであることができる。上記画素は、１つまたは２個以上で組み合わせてＲ信号を生成する右眼用映像信号生成領域（以下、ＲＧ領域）及びＬ信号を生成する左眼用映像信号生成領域（以下、ＬＧ領域）を形成することができる。

上記ＲＧ及びＬＧ領域は、図１０のように、それぞれ共通方向に延長するストライプ状を有しながら互いに隣接して交互に配置されているか、図１１のように、格子パターンを成しながら互いに隣接して交互に配置されてもよい。上記光学素子９４の液晶層９４２で上記第１及び第２領域は、それぞれＬＣまたはＲＣ領域であって、上記ＲＧ及びＬＧ領域の配置形態を考慮してＲＧ領域から伝達されるＲ信号は、偏光子９４１を経てＲＣ領域に入射され、Ｌ信号は、偏光子９４１を経てＬＣ領域に入射されることができるように配置されてもよい。

表示素子９３は、例えば光源９１側から順に配置された第１透明基板、画素電極、第１配向膜、液晶層、第２配向膜、共通電極、カラーフィルタ及び第２透明基板などを含む液晶パネルであることができる。上記パネルの光入射側、すなわち光源９１側には、偏光板９２が付着していて、その反対側には、上記光学素子９４が付着していてもよい。偏光板９２に含まれる偏光子と上記光学素子９４に含まれる偏光子９４１は、例えば両方の吸収軸が互いに所定の角度、例えば９０度を成すように配置されてもよい。これにより、光源９１から射出される光が表示素子９３を経て透過するか、あるいは遮断されるようにすることができる。

駆動状態で表示装置９の光源９１から無偏光された光が偏光板９２側に出射されることができる。偏光板９２に入射された光のうち、上記偏光板９２の偏光子の光透過軸と平行な方向に偏光軸を有する光は、偏光板９２を透過し、表示素子９３に入射されることができる。表示素子９３に入射され、ＲＧ領域を透過した光は、Ｒ信号になり、ＬＧ領域を透過した光は、Ｌ信号になり、光学素子９４の偏光子９４１に入射される。

偏光子９４１を経て液晶層９４２に入射された光のうちＬＣ領域を透過した光とＲＣ領域を透過した光は、互いに異なる偏光状態を有する状態でそれぞれ排出される。このように異なる偏光状態を有するＲ信号及びＬ信号は、偏光メガネを着ている観察者の右眼及び左眼にそれぞれ入射されることができ、これにより、観察者は、立体映像を観察することができる。

本発明の例示的な光学素子は、光分割素子、例えば、入射される光を互いに偏光状態が異なる２種類以上の光に分割する素子であることができる。上記光学素子は、例えば、立体映像を具現するのに使用されることができる。

例示的な光学素子を示す模式図である。 液晶層の第１及び第２領域の例示的な配置を示す模式図である。 液晶層の第１及び第２領域の例示的な配置を示す模式図である。 液晶層の第１及び第２領域の例示的な光軸の配置を示す模式図である。 例示的な光学素子を示す模式図である。 例示的な光学素子を示す模式図である。 例示的な光学素子を示す模式図である。 例示的な光学素子を示す模式図である。 例示的な立体映像表示装置を示す模式図である。 ＲＧ及びＬＧ領域の例示的な配置を示す模式図である。 ＲＧ及びＬＧ領域の例示的な配置を示す模式図である。

以下、実施例及び比較例を通じて上記光学素子をさらに詳しく説明するが、上記光学素子の範囲が下記提示された実施例によって限定されるものではない。

本実施例及び比較例で各物性は、下記のように評価した。
１．接着力の評価
実施例１と２及び比較例２〜４で製造されたもので、表面処理層、液晶層、配向膜、基材層、接着剤層及び偏光子が順に形成された光学素子に対して上記偏光子を９０度の剥離角度及び３００ｍ／ｍｉｎの剥離速度に剥離しながら、上記基材層に対する上記偏光子の剥離力を評価し、接着力を評価した（比較例１の場合、液晶層に対する偏光子の剥離力を評価した）。剥離実験は、製造された光学素子を幅が２０ｍｍであり、長さが１００ｍｍとなるように切断して行った。

２．液晶層の耐久性評価
液晶層の耐久性は、実施例及び比較例により製造された光学素子に対して耐久テスト後に発生する位相差値の変化率を測定して評価した。具体的には、光学素子を横及び縦の長さが１０ｃｍとなるように切断した後、粘着剤層を介してガラス基板に付着し、耐熱条件である８０℃で１００時間または２５０時間放置した後、上記耐熱条件に放置される前の液晶層の位相差値に対して放置後の位相差値の減少量を百分率に換算し、下記表２に記載した。上記で、位相差値は、Ａｘｏｍａｔｒｉｘ社のＡｘｏｓｃａｎを利用して製造社のマニュアルによって５５０ｎｍの波長で測定した。

耐久性評価時の基準は、下記の通りである。
＜評価基準＞
Ｏ：耐熱条件で１００時間及び２５０時間放置後の位相差値の変化量がすべて８％未満の場合 Ｘ：耐熱条件で１００時間及び２５０時間放置後の位相差値の変化量がいずれか１つの場合でも８％以上の場合

３．クロストーク評価
立体映像の観察時にクロストーク率は、暗状態（Ｄａｒｋ ｓｔａｔｅ）と明状態（Ｂｒｉｇｈｔ ｓｔａｔ）での輝度の割合として定義されることができる。実施例及び比較例では、上記光学素子が偏光メガネ方式の立体映像表示装置に適用された場合を想定して、クロストーク率は、下記方式で測定する。光学素子を使用して図９に示されたような立体映像表示装置を構成する。その後、立体映像表示装置の通常の観測地点に立体映像観察用偏光メガネを位置させる。上記で通常の観測地点は、観察者が立体映像を観察する場合、立体映像表示装置の中央から上記立体映像表示装置の水平方向の長さの３／２倍に該当する距離だけ離れた地点であり、このような位置で偏光メガネは、観察者が表示装置の中央を観察することを仮定して、位置させる。上記で、立体映像表示装置の水平方向の長さは、観察者が立体映像を観察する状態を仮定するとき、上記観察者を基準にした水平方向の長さ、例えば、映像表示装置の横の長さであることができる。上記のような配置で、立体映像表示装置がＬ信号を出力するようにした状態で偏光メガネの左眼用及び右眼用レンズの背面に輝度計（装備名：ＳＲ−ＵＬ２ Ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｅｒ）を配置し、それぞれの場合の輝度を測定する。上記で左眼用レンズの背面で測定される輝度は、明状態の輝度であり、右眼用レンズの背面で測定される輝度は、暗状態の輝度である。各輝度を測定した後、明状態の輝度に対する暗状態の輝度の割合（［暗状態の輝度］／［明状態の輝度］）を百分率で求め、これをクロストーク率（Ｙ）として規定することができる。また、クロストーク率は、上記と同一の方式で測定するが、立体映像表示装置がＲ信号を出力している状態で明及び暗状態での輝度を求めて測定することができる。この場合、左眼用レンズの背面で測定される輝度は、暗状態の輝度であり、右眼用レンズの背面で測定される輝度は、明状態の輝度であり、同一にその割合を百分率で求めて、クロストーク率として規定することができる。

４．位相差及び屈折率の評価
光学素子または液晶層の位相差及び屈折率の評価は、Ａｘｏｍａｔｒｉｘ社のＡｘｏｓｃａｎを利用して製造社のマニュアルによって測定した。

５．厚さ及び光学素子の横または縦長さの評価
光学素子の横または縦長さの測定は、３次元測定器であるインテックＩＭＳ社のＰｒｅｍｉｕｍ ６００Ｃ及びＩＶｉｅｗ Ｐｒｏプログラムを使用して測定した。また、厚さの測定は、薄膜表面で反射光と下部の界面で反射される光間の干渉現象または光の位相差を利用して薄膜の特性を評価することができる装備であるｓｐｅｃｔｒａｌ ｒｅｆｌｅｃｔｏｍｅｔｅｒを利用して測定した

製造例１．液晶層（Ａ）の製造
ＴＡＣ基材（屈折率：１．４９、厚さ：８０，０００ｎｍ）の一面に光配向膜形成用組成物を乾燥後の厚さが約１，０００Ａとなるようにコーティングし、８０℃のオーブンで２分間乾燥させた。上記で光配向膜形成用組成物としては、下記化学式１４のシンナメート基を有するポリノルボルネン（分子量（Ｍｗ）＝１５０，０００）及びアクリル単量体の混合物を光開始剤（Ｉｇａｃｕｒｅ ９０７）と混合し、さらにその混合物をトルエン溶媒にポリノルボルネンの固形分の濃度が２ｗｔ％となるように溶解させて製造した組成物を使用した（ポリノルボルネン：アクリル単量体：光開始剤＝２：１：０．２５（重量比））。

次いで、上記乾燥した光配向膜形成用組成物を韓国特許出願第２０１０−０００９７２３号に開示された方法によって配向処理し、異なる方向に配向された第１及び第２配向領域を含む光配向膜を形成した。具体的には、上記乾燥した組成物の上部に幅が約４５０μｍであるストライプ形状の光透過部及び光遮断部が上下及び左右に交互に形成されているパターンマスクを位置させ、また上記パターンマスクの上部には、それぞれ異なる偏光を透過させる２つの領域が形成された偏光板を位置させた。その後、上記光配向膜が形成されているＴＡＣ基材３０を約３ｍ／ｍｉｎの速度に移動させながら、上記偏光板及びパターンマスクを介して光配向膜形成用組成物に紫外線（３００ｍＷ／ｃｍ^２）を約３０秒間照射し、配向処理を行った。次いで、配向処理された配向層上に液晶層を形成した。具体的には、液晶組成物として下記化学式Ａで表示される多官能性重合性液晶化合物７０重量部及び下記化学式Ｂで表示される単官能性重合性液晶化合物３０重量部を含み、適正量の光開始剤を含む液晶組成物を約１μｍの乾燥厚さとなるように塗布し、下部の配向層に配向によって配向させた後、紫外線（３００ｍＷ／ｃｍ^２）を約１０秒間照射し、液晶を架橋及び重合させて、下部光配向膜の配向によって互いに直交する光軸を有する第１及び第２領域が形成されている液晶層を形成した。上記液晶層において遅相軸方向の屈折率と進相軸方向の屈折率の差は、約０．１２５であった。

製造例２〜５．液晶層（Ｂ）ないし液晶層（Ｅ）の製造
液晶組成物に含まれる多官能性重合性液晶化合物と単官能性重合性液晶化合物の重量の割合を下記表１のように調節したことを除いて、製造例２と同一の方式で液晶層を製造した。

実施例１．
光学素子を次のような方式で製造した。まず、製造例２で製造された構造、すなわちＴＡＣ基材、配向膜及び液晶層が順に形成された構造で上記ＴＡＣ基材を一面にＴＡＣ保護フィルムが形成されているポリビニルアルコール系偏光子を含む偏光板の上記偏光子と水系ポリビニルアルコール系接着剤組成物を使用して付着した。接着剤組成物としては、ＰＶＡ偏光子とＴＡＣ保護フィルムの付着に通常的に使用される接着剤組成物を使用した。液滴方式で上記ＴＡＣ基材の面及び偏光子をラミネートするが、上記接着剤組成物が硬化後の厚さが１μｍとなるようにし、適正温度で維持して接着剤層を形成し、ＴＡＣ基材の面と偏光子を付着した。その後、上記偏光子の保護フィルムであるＴＡＣ保護フィルムの一面に通常的なアクリル系粘着剤層を形成し、光学素子を製造した。

実施例２．
製造例３で製造された構造、すなわちＴＡＣ基材、配向膜及び液晶層（Ｂ）が順に形成された構造を使用したことを除いて、実施例１と同一の方式で光学素子を製造した。

比較例１．
製造例２で製造された構造、すなわちＴＡＣ基材、配向膜及び液晶層が順に形成された構造で上記液晶層を一面にＴＡＣ保護フィルムが形成されているポリビニルアルコール系偏光子の上記偏光子に付着することを除いて、実施例１と同一の方式で光学素子を製造した。

比較例２．
製造例４で製造された構造、すなわちＴＡＣ基材、配向膜及び液晶層（Ｃ）が順に形成された構造を使用したことを除いて、実施例１と同一の方式で光学素子を製造した。

比較例３．
製造例５で製造された構造、すなわちＴＡＣ基材、配向膜及び液晶層（Ｄ）が順に形成された構造を使用したことを除いて、実施例１と同一の方式で光学素子を製造した。

比較例４．
製造例６で製造された構造、すなわちＴＡＣ基材、配向膜及び液晶層（Ｅ）が順に形成された構造を使用したことを除いて、実施例１と同一の方式で光学素子を製造した。

上記実施例及び比較例の光学素子に対して測定した物性評価結果を下記表２に記載した。

試験例１．液晶層の屈折率関系及び厚さによる光分割特性の評価
液晶層の屈折率関系及び厚さによる光分割特性の評価のために、次のようなサンプルをそれぞれ製造した。具体的には、製造例１の場合と同一の方式で位相遅延層を形成するが、液晶層を形成した後、遅相軸方向と進相軸方向で屈折率の差が０．０３となるように液晶混合物の組成を調節し、厚さが約０．３μｍ、１μｍ及び２．５μｍの液晶層をそれぞれ形成し、位相遅延層を製造した。また、製造例１と同一の液晶化合物を使用して同一の方式で位相遅延層を製造するが、厚さが約０．３μｍ及び２．５μｍの液晶層をそれぞれ形成し、位相遅延層を製造した。また、製造例１と同一の方式で位相遅延層を形成するが、液晶層を形成した後、遅相軸方向と進相軸方向で屈折率の差が０．２２となるように、液晶混合物の組成を調節し、厚さが約０．３μｍ、１μｍ及び２．５μｍの液晶層をそれぞれ形成し、位相遅延層を製造した。その後、上記製造された位相遅延層を使用して実施例１と同一の方式で光学素子を製造し、その光学素子及び実施例１の光学素子を使用して立体映像を観察する場合のクロストーク率を評価し、下記表３に記載した。

１、５、６、７、８４ 光学素子
１１、９４２ 液晶層
１２ 基材層
１３、９４１ 偏光子
５１ 接着剤層
６１ 表面処理層
７１ 保護層
８１ 粘着剤層
Ａ 液晶層の第１領域
Ｂ 液晶層の第２領域
Ｌ 液晶層の第１及び第２領域の境界線
Θ１、Θ２ 光軸の角度
９ 立体映像表示装置
９１ 光源
９２ 偏光板
９３ 表示素子
ＲＣ 右眼用映像信号偏光調節領域
ＬＣ 左眼用映像信号偏光調節領域
ＬＧ 左眼用映像信号生成領域
ＲＧ 右眼用映像信号生成領域

Claims (17)

1. 基材層；上記基材層の上部に形成されていて、面内の遅相軸方向の屈折率と進相軸方向の屈折率の差が０．０５〜０．２であり、厚さが０．５μｍ〜２．０μｍであり、多官能性重合性液晶化合物と単官能性重合性液晶化合物を含み、上記単官能性重合性液晶化合物は、上記多官能性重合性液晶化合物１００重量部に対して０重量部を超過し、且つ１００重量部以下の量で含まれ、また、位相遅延特性が異なる第１及び第２領域を含む液晶層；及び上記基材層の下部に付着している偏光子を含む光学素子。
2. 下記一般式１の条件を満足する、請求項１に記載の光学素子：
   ［一般式１］
   Ｘ＜８％
   上記一般式１で、Ｘは、上記光学素子の液晶層の初期位相差値に対して上記光学素子を８０℃で１００時間放置した後の上記液晶層の位相差値の変化量の百分率である。
3. 液晶化合物は、下記化学式１で表示される、請求項１に記載の光学素子：
   

   

   上記化学式１で、Ａは、単一結合、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−であり、Ｒ_１〜Ｒ_１０は、それぞれ独立して水素、ハロゲン、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、シアノ基、ニトロ基、−Ｏ−Ｑ−Ｐまたは下記化学式２の置換基であり（但し、Ｒ_１〜Ｒ_１０のうち少なくとも１つは、−Ｏ−Ｑ−Ｐまたは下記化学式２の置換基であるか、またはＲ_１〜Ｒ_５のうち隣接する２個の置換基またはＲ₆〜Ｒ_１０のうち隣接する２個の置換基は、互いに連結され、−Ｏ−Ｑ−Ｐで置換されたベンゼンを形成する。）、上記で、Ｑは、アルキレン基またはアルキリデン基であり、Ｐは、アルケニル基、エポキシ基、シアノ基、カボキシル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基またはメタクリロイルオキシ基である：
   

   

   上記化学式２において、Ｂは、単一結合、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−であり、Ｒ_１１〜Ｒ_１５は、それぞれ独立して水素、ハロゲン、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、シアノ基、ニトロ基または−Ｏ−Ｑ−Ｐであり（但し、R_１１〜Ｒ_１５のうち少なくとも１つは、−Ｏ−Ｑ−Ｐであるか、またはＲ_１１〜Ｒ_１５のうち隣接する２個の置換基は、互いに連結され、−Ｏ−Ｑ−Ｐで置換されたベンゼンを形成する。）、上記で、Ｑは、アルキレン基またはアルキリデン基であり、Ｐは、アルケニル基、エポキシ基、シアノ基、カボキシル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基またはメタクリロイルオキシ基である。
4. 重合性液晶化合物は、水平配向された状態で重合されて液晶層に含まれている、 請求項１に記載の光学素子。
5. 第１領域及び第２領域は、お互いに異なる方向に形成された光軸を有する、 請求項１に記載の光学素子。
6. 第１領域の光軸と第２領域の光軸が成す角度を二等分する線は、偏光子の吸収軸と垂直または水平を成す、請求項５に記載の光学素子。
7. 偏光子は、水系接着剤によって基材層に付着している、請求項１に記載の光学素子。
8. 液晶層の上部に形成された表面処理層をさらに含む、請求項１に記載の光学素子。
9. 表面処理層は、高硬度層、防眩層または低反射層である、請求項８に記載の光学素子。
10. 高硬度層は、５００ｇの荷重下での鉛筆硬度が１Ｈ以上の樹脂層である、請求項９に記載の光学素子。
11. 樹脂層は、樹脂層とは異なる屈折率を有する粒子をさらに含む、請求項１０に記載の光学素子。
12. 粒子は、樹脂層との屈折率の差が０．０３以下である、請求項１１に記載の光学素子。
13. 偏光子の下部に配置されている位相遅延層をさらに含む、 請求項１に記載の光学素子。
14. 偏光子の一面に形成されていて、２５℃での貯蔵弾性率が０．０２ＭＰａ〜０．０８ＭＰａであり、多官能性架橋剤で架橋されたアクリル重合体の架橋構造を含む粘着剤層をさらに含む、請求項１に記載の光学素子。
15. 偏光子の一面に形成されていて、２５℃での貯蔵弾性率が０．０８ＭＰａを超過し、多官能性架橋剤で架橋されたアクリル重合体を含む架橋構造及び重合された活性エネルギー線重合性化合物を含む架橋構造を有する粘着剤層をさらに含む、請求項１に記載の光学素子。
16. 請求項１に記載の光学素子を含む立体映像表示装置。
17. 左眼用映像信号及び右眼用映像信号を生成することができる表示素子をさらに含み、光学素子は、液晶層の第１及び第２領域のうちいずれか一方の領域は、上記左眼用映像が透過することができ、他方の領域は、上記右眼用映像が透過することができるように配置されている、請求項１６に記載の立体映像表示装置。

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