JPWO2008010497A1 - 位相差フィルム、輝度向上フィルム、偏光板、位相差フィルムの製造方法、および、液晶表示装置 - Google Patents

Abstract

本発明は、偏光板保護フィルムとして用いることにより、耐久性に優れ、かつ、視野角補償機能を備える偏光板を得ることが可能な位相差フィルムを提供することを主目的とする。本発明は、面内方向における遅相軸方向の屈折率ｎｘと、面内方向における進相軸方向の屈折率ｎｙとの間に、ｎｘ＞ｎｙの関係が成立する光学異方性フィルムと、上記光学異方性フィルム上に形成され、液晶材料を含有し、さらに面内方向において互いに直交する任意のｘ、ｙ方向の屈折率ｎｘ、ｎｙと、厚み方向の屈折率ｎｚとの間にｎｘ≦ｎｙ＜ｎｚの関係が成立する位相差層と、を有する位相差フィルムであって、上記光学異方性フィルムが、セルロース誘導体からなる透明基板が用いられているものであることを特徴とする位相差フィルムを提供することにより、上記課題を解決するものである。

Description

本発明は、偏光板保護フィルムとして好適に用いられる位相差フィルム、輝度向上フィルム、偏光板、および、位相差フィルムの製造方法等に関するものである。

液晶表示装置は、その省電力、軽量、薄型等といった特徴を有することから、従来のＣＲＴディスプレイに替わり、近年急速に普及している。一般的な液晶表示装置としては、図１５に示すように、入射側の偏光板１０２Ａと、出射側の偏光板１０２Ｂと、液晶セル１０１とを有するものを挙げることができる。偏光板１０２Ａおよび１０２Ｂは、所定の振動方向の振動面を有する直線偏光のみを選択的に透過させるように構成されたものであり、それぞれの振動方向が相互に直角の関係になるようにクロスニコル状態で対向して配置されている。また、液晶セル１０１は画素に対応する多数のセルを含むものであり、偏光板１０２Ａと１０２Ｂとの間に配置されている。

このような液晶表示装置は、上記液晶セルに用いられる液晶材料の配列形態により種々の駆動方式を用いたものが知られている。今日、普及している液晶表示装置の主たるものは、ＴＮ、ＳＴＮ、ＭＶＡ、ＩＰＳ、および、ＯＣＢ等に分類される。なかでも今日においては、上記ＭＶＡ、および、ＩＰＳの駆動方式を有するものが広く普及するに至っている。

一方、液晶表示装置は、その特有の問題点として液晶セルや偏光板の屈折率異方性に起因する視野角依存性の問題点がある。この視野角依存性の問題は、液晶表示装置を正面から見た場合と、斜め方向から見た場合とで視認される画像の色味やコントラストが変化してしまう問題である。このような視野角特性の問題は、近年の液晶表示装置の大画面化に伴って、さらにその問題の重大性が増している。

このような視野角依存性の問題を改善するため、現在までに様々な技術が開発されている。その代表的な方法として位相差フィルムを用いる方法がある。このような位相差フィルムを用いる方法は、図１６に示すように所定の光学特性を有する位相差フィルム１０３を、液晶セル１０１と偏光板１０２Ａおよび１０２Ｂとの間に配置することにより、視野角依存性の問題を改善する方法である。この方法は位相差フィルム１０３を液晶表示装置に組み込むことのみで上記視野角依存性の問題点を改善できることから、簡便に視野角特性に優れた液晶表示装置を得ることが可能な方法として広く用いられるに至っている。
ここで、上記位相差フィルムとしては、例えば、透明基板上に、規則的に配列した液晶材料を含有する位相差層が形成された構成を有するものや、延伸フィルムからなるものが一般的に知られている。

また近年では、図１６に例示したように、位相差フィルムと偏光板とを別個に配置する方式ではなく、位相差フィルムを上記偏光板を構成する偏光板保護フィルムとして兼用する方式が主流になってきている。すなわち、図１７に例示するように、一般的な液晶表示装置は、液晶セル１０１の両側に偏光板１０２Ａ、１０２Ｂが配置された構成を有するものであり、上記偏光板１０２Ａ、１０２Ｂは、通常、２枚の偏光板保護フィルム１１２ａ、１１２ｂによって偏光子１１１が挟持された構成を有するものである（図１７（ａ））（ここで、説明の便宜上、液晶セル１０１側に配置されている偏光板保護フィルム１１２ａを「内側の偏光板保護フィルム」と称し、他方の偏光板保護フィルム１１２ｂを「外側の偏光板保護フィルム」と称する。）。そして、位相差フィルム１０３を用いて液晶表示装置の視野角特性を改善する場合、図１７（ｂ）に例示するように、上記２枚の偏光板保護フィルム１１２ａ、１１２ｂのうち、内側の偏光板保護フィルム１１２ａとして位相差フィルム１０３が用いられた偏光板１０２Ａ’、１０２Ｂ’を用いることが近年の主流となっている。

ここで、上記偏光板に用いられる偏光板保護フィルムとしては、セルローストリアセテートに代表されるセルロース誘導体からなるものと、ノルボルネン系樹脂に代表されるシクロオレフィン系樹脂からなるものとが知られている。上記セルロース誘導体は、透水性に優れるため、偏光板の製造工程において偏光子に含有された水分を、フィルムを通じて揮散させることができるという利点を有する。また、ＰＶＡを主原料とする偏光膜との密着性も良好であり、作業性や歩留まりが良好であるという利点も有する。
しかしながら、その一方で、高温高湿雰囲気下において吸湿による寸度変化や、光学特性の変動が比較的大きいという欠点を有する。さらに、セルロース誘導体からなる偏光板保護フィルムは、ガスバリア性に乏しいという面もある。このため、両側にセルロース誘導体からなる偏光板保護フィルムを使用すると、偏光板の光学特性の耐久性が低下してしまうという問題点がある。
一方、上記シクロオレフィン系樹脂は、疎水性の樹脂であるため、高温高湿雰囲気下において吸湿による寸度変化や、光学特性の変動が比較的小さいという利点を有する。しかしながら、その一方で、偏光板の製造工程において偏光子に含有された水分を、フィルムを通じて揮散させることができないという欠点を有する。このため、両側にシクロオレフィン系樹脂からなる偏光板保護フィルムを使用すると、経時で偏光特性が低下してしまうという問題点がある。
このようなことから、上記偏光板としては、内側の偏光板保護フィルムとしてセルロース誘導体からなる偏光板保護フィルムを用い、外側の偏光板保護フィルムとしてシクロオレフィン系樹脂からなる偏光板保護フィルムを用いることが望ましいとされている。これにより両者の利点を併有させ、両者の欠点を相殺させることができるため、耐久性に優れた偏光板を得ることができるという利点を有するからである。したがって、上記位相差フィルムを用いる際には、このような態様で用いることが望ましいとされている（例えば、特許文献４）。

ところで、上記位相差フィルムが備える位相差性は、視野角特性を改善する対象となる液晶表示装置の駆動方式等に依存するものであるが、なかでも、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）方式の液晶表示装置には、正のＣプレートとしての性質を有する位相差フィルムが用いられている。そして、特許文献１〜３には、このようなＩＰＳ方式の液晶表示装置に用いられる位相差フィルムとして、シクロオレフィン系樹脂からなる透明基板上に正のＣプレートとしての性質を有する位相差層が形成された構成を有するものが開示されている。
上記特許文献１〜３に開示されたような構成を有する位相差フィルムは、吸湿性が低いシクロオレフィン系樹脂からなる透明基板が用いられていることから、高温高湿雰囲気下においても吸湿膨張することが少なく、また、光学特性の耐久性も良好であるという利点を有するものである。

しかしながら、このようなシクロオレフィン系樹脂からなる透明基板が用いられた位相差フィルムは、これを上記内側の偏光板保護フィルムとして用いると、外側の偏光板保護フィルムとしてセルロース誘導体からなる偏光板保護フィルムを用いなければならなくなり、上述した偏光板の望ましい使用態様を実現することが不可能であるという問題点があった。

このようなことから、上記シクロオレフィン系樹脂からなる透明基板が用いられた位相差フィルムでは、偏光板保護フィルムとして兼用した場合に、耐久性に優れる偏光板を得ることができないという問題点があった。

特開２００２−１７４７２５号公報 特開２００３−１２１８５３号公報 特開２００５−７００９８号公報 特許第３１３２１２２号公報

本発明はこのような問題点に鑑みてなされたものであり、偏光板保護フィルムとして用いることにより、耐久性に優れ、かつ、視野角補償機能を備える偏光板を得ることが可能な位相差フィルムを提供することを主目的とするものである。

上記課題を解決するために本発明は、面内方向における遅相軸方向の屈折率ｎｘと、面内方向における進相軸方向の屈折率ｎｙとの間に、ｎｘ＞ｎｙの関係が成立する光学異方性フィルムと、上記光学異方性フィルム上に形成され、液晶材料を含有し、さらに面内方向において互いに直交する任意のｘ、ｙ方向の屈折率ｎｘ、ｎｙと、厚み方向の屈折率ｎｚとの間にｎｘ≦ｎｙ＜ｎｚの関係が成立する位相差層と、を有する位相差フィルムであって、上記光学異方性フィルムが、セルロース誘導体からなる透明基板が用いられているものであることを特徴とする位相差フィルムを提供する。

本発明によれば、上記光学異方性フィルムとしてセルロース誘導体からなる透明基板を有するものが用いられていることにより、本発明の位相差フィルムを内側の偏光板保護フィルムとして用いた場合に、外側の偏光板保護フィルムとしてシクロオレフィン系樹脂からなる偏光板保護フィルムを用いることができるため、耐久性に優れた偏光板を得ることができる。
また、本発明によれば上記位相差層がｎｘ≦ｎｙ＜ｎｚの関係が成立するものであり、かつ、上記光学異方性フィルムがｎｘ＞ｎｙの関係が成立するものであることから、本発明の位相差フィルムを偏光板保護フィルムとして用いることにより、ＩＰＳ方式の液晶表示装置の視野角補償機能を備える偏光板を得ることができる。
このようなことから、本発明によれば偏光板保護フィルムとして用いることにより、耐久性に優れ、かつ、視野角補償機能を備える偏光板を得ることが可能な位相差フィルムを得ることができる。

本発明においては、上記光学異方性フィルムが、上記透明基板と、上記透明基板上に形成され、ウレタン系樹脂を含有する光学異方性層とを有するものであることが好ましい。上記光学異方性フィルムがこのような構成を有するものであることにより、上記光学異方性フィルムのレターデーションの波長依存性を逆分散型にすることが容易になるからである。

また本発明においては、上記光学異方性フィルムが、上記透明基板と、上記透明基板上に形成され、上記透明基板を構成するセルロース誘導体およびレターデーションの波長依存性が正分散型を示す光学異方性材料を含有する光学異方性層とを有するものであってもよい。上記光学異方性フィルムがこのような構成を有するものであっても、上記光学異方性フィルムのレターデーションの波長依存性を逆分散型にすることができるからである。また、このような構成を有することにより、上記光学異方性フィルムのレターデーションの波長依存性を所望の態様に調整することが容易になるからである。

さらに、本発明においては上記セルロース誘導体が、トリアセチルセルロースであることが好ましい。トリアセチルセルロースはレターデーションの波長依存性が逆分散型であることから、このようなトリアセチルセルロースを用いることにより、上記光学異方性フィルムのレターデーションの波長依存性を逆分散型とすることが容易になるからである。
また、トリアセチルセルロースは光学的等方性や、偏光子との接着性に優れるからである。

さらにまた、本発明においては、上記光学異方性材料に、分子内に単一の重合性官能基を有する単官能重合性液晶化合物が含まれることが好ましい。これにより上記光学異方性フィルムを光学異方性の発現性に優れたものにできるからである。

また本発明は、上記本発明に係る位相差フィルムと、上記位相差フィルムが備える上記位相差層上に形成され、コレステリック配列した液晶材料を含有するコレステリック液晶層とを有することを特徴とする、輝度向上フィルムを提供する。

本発明によれば、上記本発明に係る位相差フィルムが用いられていることにより、偏光板保護フィルムとして用いることにより、輝度向上機能に優れた輝度向上フィルムを得ることができる。

また本発明は、上記本発明に係る位相差フィルムと、上記位相差フィルムが備える上記光学異方性フィルム上であって、上記位相差層が形成された側とは反対側の面上に形成された偏光子と、上記偏光子上に形成された偏光板保護フィルムと、を有することを特徴とする偏光板を提供する。

本発明によれば、片方の偏光板保護フィルムとして上記本発明に係る位相差フィルムが用いられていることにより、耐久性に優れ、かつ、ＩＰＳ方式の液晶表示装置に対する視野角補償機能を備える偏光板を得ることができる。

また本発明は、上記本発明に係る輝度向上フィルムと、上記輝度向上フィルムが備える上記光学異方性フィルム上であって、上記位相差層が形成された側とは反対側の面上に形成された偏光子と、上記偏光子上に形成された偏光板保護フィルムと、を有することを特徴とする、偏光板を提供する。

本発明によれば、片方の偏光板保護フィルムとして上記本発明に係る輝度向上フィルムが用いられていることにより、耐久性に優れ、かつ、輝度向上機能を備える偏光板を得ることができる。

上記偏光板保護フィルムが、シクロオレフィン系樹脂またはアクリル系樹脂からなることが好ましい。これにより上記本発明の偏光板を、光学特性の耐久性に優れたものにできるからである。

また本発明は、セルロース誘導体からなる透明基板を用い、上記透明基板上にレターデーションの波長依存性が正分散型を示す光学異方性材料が溶媒に溶解された光学異方性層形成用塗工液を塗工することにより、上記透明基板上に光学異方性層が形成された光学異方性フィルムを形成する光学異方性フィルム形成工程と、上記光学異方性フィルム形成工程によって形成された光学異方性フィルムを延伸する延伸工程と、上記延伸工程によって延伸された光学異方性フィルムの光学異方性層上に、液晶材料を含有し、面内方向において互いに直交する任意のｘ、ｙ方向の屈折率ｎｘ、ｎｙと、厚み方向の屈折率ｎｚとの間にｎｘ≦ｎｙ＜ｎｚの関係が成立する位相差層を形成する位相差層形成工程と、を有することを特徴とする位相差フィルムの製造方法を提供する。

さらに本発明は、セルロース誘導体からなる透明基板を用い、上記透明基板上にレターデーションの波長依存性が正分散型を示す光学異方性材料が溶媒に溶解された光学異方性層形成用塗工液を塗工することにより、上記透明基板上に光学異方性層が形成された光学異方性フィルムを形成する、光学異方性フィルム形成工程と、上記光学異方性フィルム形成工程によって形成された光学異方性フィルムの光学異方性層上に、液晶材料を含有し、面内方向において互いに直交する任意のｘ、ｙ方向の屈折率ｎｘ、ｎｙと、厚み方向の屈折率ｎｚとの間にｎｘ≦ｎｙ＜ｎｚの関係が成立する位相差層を形成することにより、上記光学異方性層上に位相差層が形成された光学積層体を形成する、位相差層形成工程と、上記位相差層形成工程によって形成された光学積層体を延伸する延伸工程と、を有することを特徴とする位相差フィルムの製造方法を提供する。

本発明によれば、上記透明基板としてセルロース誘導体からなるものが用いられることにより、例えば、本発明により製造される位相差フィルムを内側の偏光板保護フィルムとして用いた場合に、外側の偏光板保護フィルムとしてシクロオレフィン系樹脂からなる偏光板保護フィルムを用いることができるため、耐久性に優れた偏光板を得ることができる。このようなことから、本発明によれば耐久性に優れた偏光板を作製可能な位相差フィルムを製造することができる。

また本発明は、セルロース誘導体からなる透明基板を用い、上記透明基板上にレターデーションの波長依存性が正分散型を示す光学異方性材料が溶媒に溶解された光学異方性層形成用塗工液を塗工することにより、上記透明基板上に光学異方性層が形成された光学異方性フィルムを形成する、光学異方性フィルム形成工程と、上記光学異方性フィルム形成工程によって形成された光学異方性フィルムを延伸する延伸工程と、上記延伸工程によって延伸された光学異方性フィルムの上記光学異方性層が形成された面とは反対側の面上に、液晶材料を含有し、面内方向において互いに直交する任意のｘ、ｙ方向の屈折率ｎｘ、ｎｙと、厚み方向の屈折率ｎｚとの間にｎｘ≦ｎｙ＜ｎｚの関係が成立する位相差層を形成する位相差層形成工程と、を有することを特徴とする位相差フィルムの製造方法を提供する。

さらに本発明は、セルロース誘導体からなる透明基板を用い、上記透明基板上にレターデーションの波長依存性が正分散型を示す光学異方性材料が溶媒に溶解された光学異方性層形成用塗工液を塗工することにより、上記透明基板上に光学異方性層が形成された光学異方性フィルムを形成する、光学異方性フィルム形成工程と、上記光学異方性フィルム形成工程によって形成された光学異方性フィルムの上記光学異方性層が形成された面とは反対側の面上に、液晶材料を含有し、面内方向において互いに直交する任意のｘ、ｙ方向の屈折率ｎｘ、ｎｙと、厚み方向の屈折率ｎｚとの間にｎｘ≦ｎｙ＜ｎｚの関係が成立する位相差層を形成することにより、上記光学異方性層上に位相差層が形成された光学積層体を形成する、位相差層形成工程と、上記位相差層形成工程によって形成された光学積層体を延伸する延伸工程と、を有することを特徴とする位相差フィルムの製造方法を提供する。

本発明によれば、上記透明基板としてセルロース誘導体からなるものが用いられることにより、例えば、本発明により製造される位相差フィルムを内側の偏光板保護フィルムとして用いた場合に、外側の偏光板保護フィルムとしてシクロオレフィン系樹脂からなる偏光板保護フィルムを用いることができるため、耐久性に優れた偏光板を得ることができる。
また、本発明によれば、上記位相差層形成工程が、上記光学異方性フィルムの上記光学異方性層が形成された面とは反対側の面上に位相差層を形成するものであることにより、位相差性の発現性に優れた位相差層を形成することが容易になる。
このようなことから、本発明によれば耐久性に優れた偏光板を作製可能な位相差フィルムを製造することができる。

本発明においては、上記溶媒に沸点が１００℃以上のケトン系溶媒が含まれることが好ましい。これにより、上記光学異方性フィルム形成工程においてヘイズが小さい光学異方性フィルムを形成することが可能になるため、本発明によって透明性に優れた位相差フィルムを製造することができるからである。

本発明においては、上記ケトン系溶媒が、シクロペンタノンまたはシクロヘキサノンであることが好ましい。上記ケトン系溶媒として、シクロペンタノンまたはシクロヘキサノンが用いられていることにより、上記光学異方性フィルム形成工程において、よりヘイズが小さい光学異方性フィルムを形成することができる結果、本発明によりさらに透明性に優れた位相差フィルムを製造することが可能になるからである。

また、本発明においては、上記セルロース誘導体がトリアセチルセルロースであることが好ましい。トリアセチルセルロースは光学的等方性に優れるため、このようなトリアセチルセルロースを用いることにより、光学特性が良好な位相差フィルムを製造することができるからである。

本発明は、上記本発明の位相差フィルムが用いられたことを特徴とする液晶表示装置を提供する。本発明によれば上記本発明の位相差フィルムが用いられていることにより、耐久性および視野角特性に優れた液晶表示装置を得ることができる。

また本発明は、上記本発明の輝度向上フィルムが用いられたことを特徴とする液晶表示装置を提供する。本発明によれば、上記本発明の輝度向上フィルムが用いられていることにより、輝度特性に優れた液晶表示装置を得ることができる。

さらに本発明は、上記本発明の偏光板が用いられたことを特徴とする液晶表示装置を提供する。本発明によれば、上記本発明の偏光板が用いられていることにより、耐久性および視野角特性に優れた液晶表示装置を得ることができる。

さらにまた、本発明は、上記本発明の位相差フィルムの製造方法によって製造された位相差フィルムが用いられたことを特徴とする、液晶表示装置を提供する。本発明によれば、上記本発明の位相差フィルムの製造方法によって製造された位相差フィルムが用いられていることにより、耐久性および視野角特性に優れた液晶表示装置を得ることができる。

本発明の位相差フィルムは、偏光板保護フィルムとして用いることにより、耐久性に優れ、かつ、視野角補償機能を備える偏光板を得ることが可能であるという効果を奏する。

本発明の位相差フィルムの一例を示す概略図である。 本発明の位相差フィルムの他の例を示す概略図である。 本発明の位相差フィルムの他の例を示す概略図である。 本発明の輝度向上フィルムの一例を示す概略図である。 本発明の偏光板の一例を示す概略図である。 本発明の偏光板の他の例を示す概略図である。 本発明の第１態様の位相差フィルムの製造方法の一例を示す概略図である。 本発明の第２態様の位相差フィルムの製造方法の一例を示す概略図である。 本発明の第３態様の位相差フィルムの製造方法の一例を示す概略図である。 本発明の第４態様の位相差フィルムの製造方法の一例を示す概略図である。 本発明の第１態様の液晶表示装置の一例を示す概略図である。 本発明の第２態様の液晶表示装置の一例を示す概略図である。 本発明の第３態様の液晶表示装置の一例を示す概略図である。 本発明の第４態様の液晶表示装置の一例を示す概略図である。 一般的な液晶表示装置の一部を模式的に例示する概略図である。 位相差フィルムが用いられた液晶表示装置の一部を模式的に例示する概略図である。 位相差フィルムの使用態様の一例を示す概略図である。

符号の説明

１，１Ａ，１Ａ’ … 光学異方性フィルム
１ａ，５１ａ … 透明基板
１ｂ，１ｂ’，５１ｂ … 光学異方性層
２，５２ … 位相差層
１０，１０’，１０’’，５０ … 位相差フィルム
１１ … 液晶セル
２０ … 輝度向上フィルム
２１ … コレステリック液晶層
３０，４０ … 偏光板
３１，４１ … 偏光子
３２，４２ … 偏光板保護フィルム
５０’ … 光学積層体
６０、７０、８０、９０ … 液晶表示装置
１０１ … 液晶セル
１０２Ａ，１０２Ｂ，１０２Ａ’，１０２Ｂ’ … 偏光板
１０３ … 位相差フィルム
１１１ … 偏光子
１１２，１１２ａ，１１２ｂ … 偏光板保護フィルム

発明を実施するための形態

以下、本発明の位相差フィルム、輝度向上フィルム、偏光板、位相差フィルムの製造方法、および、液晶表示装置について順に説明する。

Ａ．位相差フィルム
まず、本発明の位相差フィルムについて説明する。本発明の位相差フィルムは、面内方向における遅相軸方向の屈折率ｎｘと、面内方向における進相軸方向の屈折率ｎｙとの間に、ｎｘ＞ｎｙの関係が成立する光学異方性フィルムと、上記光学異方性フィルム上に形成され、液晶材料を含有し、さらに面内方向において互いに直交する任意のｘ、ｙ方向の屈折率ｎｘ、ｎｙと、厚み方向の屈折率ｎｚとの間にｎｘ≦ｎｙ＜ｎｚの関係が成立する位相差層と、を有するものであって、上記光学異方性フィルムが、セルロース誘導体からなる透明基板が用いられているものであることを特徴とするものである。

このような本発明の位相差フィルムについて図を参照しながら説明する。図１は本発明の位相差フィルムの一例を示す概略図である。図１に例示するように本発明の位相差フィルム１０は、光学異方性フィルム１と、上記光学異方性フィルム１上に形成され、液晶材料を含有する位相差層２とを有するものである。ここで、上記光学異方性フィルム１は、面内方向における進相軸方向の屈折率ｎｙとの間に、ｎｘ＞ｎｙの関係が成立するものである。また、上記位相差層２は、面内方向において互いに直交する任意のｘ、ｙ方向の屈折率ｎｘ、ｎｙと、厚み方向の屈折率ｎｚとの間にｎｘ≦ｎｙ＜ｎｚの関係が成立するものである。
このような例において、本発明の位相差フィルム１０は、上記光学異方性フィルム１がセルロース誘導体からなる透明基板が用いられているものであることを特徴とするものである。

本発明によれば、上記光学異方性フィルムとしてセルロース誘導体からなる透明基板を有するものが用いられていることにより、本発明の位相差フィルムを内側の偏光板保護フィルムとして用いた場合に、外側の偏光板保護フィルムとしてシクロオレフィン系樹脂からなる偏光板保護フィルムを用いることができるため、耐久性に優れた偏光板を得ることができる。
また、本発明によれば上記位相差層がｎｘ≦ｎｙ＜ｎｚの関係が成立するものであり、かつ、上記光学異方性フィルムがｎｘ＞ｎｙの関係が成立するものであることから、本発明の位相差フィルムを偏光板保護フィルムとして用いることにより、ＩＰＳ方式の液晶表示装置の視野角補償機能を備える偏光板を得ることができる。
このようなことから、本発明によれば偏光板保護フィルムとして用いることにより、耐久性に優れ、かつ、視野角補償機能を備える偏光板を得ることが可能な位相差フィルムを得ることができる。

本発明の位相差フィルムは、少なくとも上記光学異方性フィルムと、位相差層とを有するものである。
以下、本発明の位相差フィルムに用いられる各構成について詳細に説明する。

１．光学異方性フィルム
まず、本発明に用いられる光学異方性フィルムについて説明する。本発明に用いられる光学異方性フィルムは、面内方向における遅相軸方向の屈折率ｎｘと、面内方向における進相軸方向の屈折率ｎｙとの間に、ｎｘ＞ｎｙの関係が成立するものであり、かつ、セルロース誘導体からなる透明基板が用いられていることを特徴とするものである。

本発明に用いられる光学異方性フィルムの面内方向における遅相軸方向の屈折率ｎｘと、面内方向における進相軸方向の屈折率ｎｙと、厚み方向における屈折率ｎｚとの関係は、ｎｘ＞ｎｙの関係が成立するものであれば特に限定されるものではない。本発明における光学異方性フィルムにおいて上記ｎｘ＞ｎｙの関係が成立する態様としては、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚ、ｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙ、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚ、および、ｎｚ＞ｎｘ＞ｎｙの関係が成立する態様を挙げることができる。本発明に用いられる光学異方性フィルムとしては、これらのいずれの関係が成立するものであっても好適に用いることができる。
なお、本発明に用いられる光学異方性フィルムとしては、上記ｎｘ、ｎｙ、および、ｎｚの関係のうちｎｘ＞ｎｙの関係（即ち、Ｒｅ＞０）を専ら利用する場合がある。ｎｚ値の大小（即ち、Ｒｔｈの絶対値及び符号（Ｒｔｈ＞０かＲｔｈ＜０か））については、所望の視野角補償特性及び他の光学特性とを勘案して適宜調整する。位相差フィルム全体としては、Ｒｔｈ＜０（所謂＋Ｃプレート特性）が要求され、且つ位相差層はＲｔｈ＜０である為、若し、光学異方性フィルムもＲｔｈ＜０の場合は、その分、位相差層自体のＲｔｈの絶対値を位相差フィルムでの所望値より少なめに設定する。一方、若し、光学異方性フィルムがＲｔｈ＞０の場合は、その分、位相差層自体のＲｔｈの絶対値を位相差フィルムでの所望値より大きめに設定する。

本発明に用いられる光学異方性フィルムが、上記ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚ関係が成立する態様のものである場合、上記光学異方性フィルムの波長５５０ｎｍにおけるレターデーション（Ｒｅ）（これを「Ｒｅ_５５０」と表記する。）は、０ｎｍ＜Ｒｅ_５５０＜３００ｎｍの範囲内であることが好ましい。
また、波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）は０ｎｍ〜３００ｎｍの範囲内であることが好ましい。
上記レターデーション（Ｒｅ）および上記厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）が上記範囲内であることにより、本発明の位相差フィルムを液晶表示装置の視野角補償フィルムとして好適なものにできるからである。

一方、本発明に用いられる光学異方性フィルムが、上記ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚまたは上記ｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙの関係が成立するものである場合、上記光学異方性フィルムの波長５５０ｎｍにおけるレターデーション（Ｒｅ）は、０ｎｍ＜Ｒｅ_５５０＜３００ｎｍの範囲内であることが好ましい。
また、波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）は−３００ｎｍ〜３００ｎｍの範囲内であることが好ましい。上記レターデーション（Ｒｅ）および上記厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）が上記範囲内であることにより、本発明の位相差フィルムを液晶表示装置の視野角補償フィルムとして好適なものにできるからである。

ここで、上記レターデーション（以下、単に「Ｒｅ」と称する場合がある。）とは、上記ｎｘ、ｎｙ、および、フィルムの厚みｄを用いて、Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄで表されるものである。
また、上記厚み方向のレターデーション（以下、単に「Ｒｔｈ」と称する場合がある。）とは、上記ｎｘ、ｎｙ、ｎｚおよびｄを用いて、Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄで表される値である。
上記ＲｅおよびＲｔｈは、例えば、王子計測機器株式会社製 ＫＯＢＲＡ−ＷＲを用い、平行ニコル回転法によって測定することができる。

本発明に用いられる光学異方性フィルムのＲｅの波長依存性は、逆分散型、正分散型、または、フラット分散型のいずれであってもよい。

なお、本発明においては、上記Ｒｅの波長依存性を「波長分散」と称する場合がある。
また、一般的に、Ｒｅが長波長側よりも短波長側のほうが小さい波長分散（即ち、Ｒｅが波長の増加関数である）の類型を「逆分散型」と称するが、本発明において「逆分散型」とは、波長４５０ｎｍにおけるＲｅ（Ｒｅ_４５０）と、波長５５０ｎｍにおけるＲｅ（Ｒｅ_５５０）との比（Ｒｅ_４５０／Ｒｅ_５５０）（以下、単に「Ｒｅ比」と称する場合がある。）が１より小さいことを意味するものとする。
また、一般的にＲｅが長波長側よりも短波長側のほうが大きい波長分散（即ち、Ｒｅが波長の減少関数である）の類型を「正分散型」と称するが、本発明における「正分散型」とは、上記Ｒｅ比が１より大きいことを意味するものとする。
さらに、一般的にＲｅが波長依存性を有さない波長分散の類型を「フラット型」と称するが、本発明における「フラット型」とは、上記Ｒｅ比が１であること意味するものとする。

本発明に用いられる光学異方性フィルムとしては、通常、上記波長依存性が逆分散型または正分散型のものが用いられる。したがって、以下、上記波長依存性が逆分散型であるものを「第１実施態様」、上記波長依存性が正分散型であるものを「第２実施態様」とし、各実施態様の光学異方性フィルムについて順に説明する。

１−１．第１実施態様
まず、本発明に用いられる第１実施態様の光学異方性フィルムについて説明する。本実施態様の光学異方性フィルムは、Ｒｅの波長依存性が逆分散型であるものである。
本実施態様の光学異方性フィルムは、例えば、後述する位相差層としてＲｅの波長依存性が逆分散型のものを用いる場合に、好適に用いることができるものである。

本実施態様の光学異方性フィルムとしては、上記Ｒｅ比が１よりも小さいものであれば特に限定されるものではなく、本発明の位相差フィルムの用途等に応じて適宜を調整すればよい。なかでも本実施態様においては上記Ｒｅ比が０．６〜０．９９の範囲内であることが好ましく、特に０．７〜０．９５の範囲内であることが好ましい。上記Ｒｅ比がこのような範囲内であることにより、本発明の位相差フィルムをより広範な波長領域において液晶表示装置の視野角等性を改善できるものにできるからである。

本実施態様の光学異方性フィルムは、セルロース誘導体からなる透明基板が用いられているものであるが、上記透明基板を構成するセルロース誘導体としては、所望の透水性を備え、本発明の位相差フィルムを偏光板保護フィルムとして用いた場合に、偏光板製造工程において、偏光子に含有される水分を透過し、経時での偏光特性の低下を所望の程度に抑制できるものであれば特に限定されるものではない。なかでも本実施態様においては、上記セルロース誘導体として、セルロースエステル類を用いることが好ましく、さらに、セルロースエステル類の中では、セルロースアシレート類を用いることが好ましい。セルロースアシレート類は工業的に広く用いられていることから、入手容易性の点において有利だからである。

上記セルロースアシレート類としては、炭素数２〜４の低級脂肪酸エステルが好ましい。低級脂肪酸エステルとしては、例えばセルロースアセテートのように、単一の低級脂肪酸エステルのみを含むものでもよく、また、例えばセルロースアセテートブチレートやセルロースアセテートプロピオネートのような複数の脂肪酸エステルを含むものであってもよい。

また本実施態様においては、上記低級脂肪酸エステルの中でもセルロースアセテートを特に好適に用いることができる。セルロースアセテートとしては、平均酢化度が５７．５〜６２．５％（置換度：２．６〜３．０）のトリアセチルセルロースを用いることが最も好ましい。トリアセチルセルロースは、比較的嵩高い側鎖を有する分子構造を有することから、このようなトリアセチルセルロースからなる透明基板を用いることにより、透明基板と上記光学異方性層との密着性をより向上することできるからである。
ここで、酢化度とは、セルロース単位質量当りの結合酢酸量を意味する。酢化度は、ＡＳＴＭ：Ｄ−８１７−９１（セルロースアセテート等の試験方法）におけるアセチル化度の測定および計算により求めることができる。なお、トリアセチルセルロースフィルムを構成するトリアセチルセルロースの酢化度は、フィルム中に含まれる可塑剤等の不純物を除去した後、上記の方法により求めることができる。

本実施態様の光学異方性フィルムに上記透明基板が用いられている態様としては、本実施態様の光学異方性フィルムに所望の光学異方性およびＲｅの波長依存性等を付与することができる態様であれば特に限定されるものではない。このような態様としては、本実施態様の光学異方性フィルムが上記透明基板のみから構成される態様と、上記透明基板上に、光学異方性層が積層された態様とを挙げることができる。本実施態様の光学異方性フィルムは、これらのいずれの態様であってもよいが、なかでも後者の態様であることが好ましい。これにより透明基板自体の強度等の諸特性、製造条件に影響を与えることなく、高い自由度で本実施態様の光学異方性フィルムに所望の機能を付与することが容易になるからである。

上記透明基板上に光学異方性層が積層された態様を有する本実施態様の光学異方性フィルムとしては、本発明の位相差フィルムに所望の機能を付与できるものであれば特に限定されるものではない。このような態様としては、上記透明基板と、上記透明基板上に形成され、ウレタン系樹脂を含有する光学異方性層とを有する態様（第１態様の光学異方性フィルム）、および、上記透明基板と、上記透明基板上に形成され、上記透明基板を構成するセルロース誘導体およびレターデーションの波長依存性が正分散型を示す光学異方性材料とを含有する光学異方性層とを有する態様（第２態様の光学異方性フィルム）とを、挙げることができる。
なお、これらの態様においては、透明基板上に光学異方性層を形成した後、そのままで、或いは、必要に応じて更に延伸処理を施すことにより、ｎｘ＞ｎｙなる光学異方性を付与することができる。
以下、上記各態様の光学異方性フィルムについて順に説明する。

（１）第１態様の光学異方性フィルム
まず、上記第１態様の光学異方性フィルムについて説明する。本態様の光学異方性フィルムは、上記透明基板と、上記透明基板上に形成され、ウレタン系樹脂を含有する光学異方性層とを有する態様である。
ここで、上記ウレタン系樹脂は、Ｒｅの波長依存性が逆分散型であるウレタン結合部（−Ｏ−ＣＯ−Ｎ＜）を有するため、このようなウレタン系樹脂を用いることにより、本態様の光学異方性フィルムを容易にＲｅの波長依存性が逆分散であるものにできるという利点を有する。
以下、本態様の光学異方性フィルムについて詳細に説明する。

ａ．光学異方性層
本態様に用いられるウレタン系樹脂としては、光学異方性層に所望の位相差性を付与することが可能な程度の屈折率異方性を備えるものであれば特に限定されるものではない。
なかでも本態様に用いられるウレタン系樹脂は、上記Ｒｅ比が０．６以上、１．０未満の範囲内であるものが好ましく、特に０．７〜０．９５の範囲内であるものが好ましく、さらには０．８〜０．９の範囲内であるものが好ましい。
ここで、上記ウレタン系樹脂のＲｅ比は、ガラス基板などの光学的等方性基材上に評価対象のウレタン系樹脂からなる膜を成膜した後、当該膜を光学等方性基材から剥離し、さらに延伸処理を施したサンプルについて、波長４５０ｎｍにおけるレターデーション（Ｒｅ_４５０）と、波長５５０ｎｍにおけるレターデーション（Ｒｅ_５５０）とを測定することにより算出することができる。上記レターデーションは、例えば、王子計測機器株式会社製 ＫＯＢＲＡ−ＷＲを用い、平行ニコル回転法により測定することができる。
なお、上記「屈折率異方性」とは、入射される光に対する屈折率が、光の入射方向によって異なることを意味するものである。

また、本態様に用いられるウレタン系樹脂は、３０℃における複素引張弾性率が８００ＭＰａ以下であるものが好ましく、なかでも１ＭＰａ〜８００ＭＰａの範囲内であるものが好ましく、特に１０ＭＰａ〜６００ＭＰａの範囲内であるものが好ましい。上記複素引張弾性率がこのような範囲内であることにより、例えば、本態様の光学異方性フィルムを製造する工程において、光学異方性層を延伸することが容易になる等の利点を有するからである。
ここで、上記複素引張弾性率（Ｅ＊）は、貯蔵引張弾性率（Ｅ’’）と、損失引張弾性率（Ｅ’）とにより、以下の式で表されるものである。
Ｅ＊＝√（（Ｅ’）^２＋（Ｅ’’）^２）
また、上記複素引張弾性率（Ｅ＊）は、株式会社ユービーエム製「Ｒｈｅｏｇｅｌ−Ｅ４０００」により以下の測定条件で、貯蔵引張弾性率（Ｅ’’）と、損失引張弾性率（Ｅ’）を測定し、上記式に準じて求めることができる。
チャック間距離 ： １５ｍｍ
サンプル幅 ： ５ｍｍ
歪み ： １００μｍ
昇温速度 ： ３℃／ｍｉｎ
周波数 ： １０Ｈｚ

このような本態様に用いられるウレタン系樹脂としては、分子内にウレタン結合部（−Ｏ−ＣＯ−Ｎ＜）を有するものであれば特に限定されるものではなく、本発明の位相差フィルムの用途や、製造方法等に応じて任意のウレタン系樹脂を用いることができる。このような本態様に用いられるウレタン系樹脂としては、例えば、ポリウレタンやウレタンアクリレート等を挙げることができる。なかでも本態様においては、上記ウレタン系樹脂としてウレタンアクリレートを用いることが好ましい。ウレタンアクリレートは、例えば、ウレタン結合部間に屈折率異方性を備える原子団を結合させて変性することにより、位相差性の発現特性を任意に制御することが可能である等の利点を有するからである。

上記ウレタンアクリレートとしては、ウレタン結合部とアクリロイル基とを有するウレタンアクリレートモノマーが重合してなるものであれば特に限定されるものではない。
ここで、上記ウレタンアクリレートモノマーに含まれるアクリロイル基の数は、１つであってもよく、または、複数であってもよい。
また、上記ウレタンアクリレートモノマーに含まれるウレタン結合部の数は、１つであってもよく、または、複数であってもよい。

本態様に用いられるウレタンアクリレートは、ウレタン結合部とアクリロイル基との間に、屈折率異方性を備える原子団を有するウレタンアクリレートモノマーが重合してなるものが好ましい。このようなウレタンアクリレートモノマーが重合してなるウレタンアクリレートは、延伸することにより上記屈折率異方性を備える原子団を一方向に配列させることができるため、位相差性の発現性に優れるからである。

また、上記屈折率異方性を備える原子団を有するウレタンアクリレートモノマーとしては、上記ウレタン結合部と上記アクリロイル基との間に存在する原子団を構成する元素の原子量の総和が１００〜１０００の範囲内であることが好ましく、なかでも２００〜６００の範囲内であることが好ましく、特に４００〜６００の範囲内であることが好ましい。上記原子量の総和が上記範囲よりも少ないと、位相差性の発現に寄与する原子団が少なくなる結果、本態様における光学異方性層に所望の位相差性を付与することが困難となる可能性があるからである。また、上記範囲より多いと上記ウレタンアクリレートモノマーが重合してなるウレタンアクリレート中に存在するウレタン結合部が少なくなる結果、本態様の光学異方性フィルムの上記Ｒｅ比を所望の程度に制御することが困難となるおそれがあるからである。

上記屈折率異方性を備える原子団の種類としては、本発明の位相差フィルムの用途や本製造方法等に応じて、本発明の位相差フィルムに所望の位相差性を付与できるものであれば特に限定されるものではない。このような屈折率異方性を備える原子団としては、例えば、エステル結合を含むエステル系原子団、エーテル結合を含むエーテル系原子団等を挙げることができる。本態様においてはこれらのいずれの原子団であっても好適に用いることができるが、なかでもエステル系原子団を用いることが好ましい。上記エステル系原子団を用いることにより、上記ウレタンアクリレートをさらに位相差性の発現性に優れたものにできるからである。また、上記エステル系原子団を有するウレタンアクリレートモノマーは比較的容易に合成することができるため、本発明の位相差フィルムを製造適性に優れたものにできるからである。

上記エステル系原子団としては、ラクトンの構成単位を含有するラクトン系原子団、ポリカーボネートの構成単位を含有するポリカーボネート系原子団、および、アジペートの構成単位を含有するアジペート系原子団を挙げることができる。本態様においてはこれらのいずれの原子団であっても好適に用いることができるが、なかでもラクトン系原子団を用いることが好ましい。ラクトン系原子団は屈折異方性が高く、位相差性の発現性に優れているからである。

また、本態様においては、上記ラクトン系原子団のなかでもカプロラクトンの構成単位を含むカプロラクトン変性原子団を用いることが好ましい。カプロラクトン変性原子団は屈折率異方性がより大きいため、樹脂材料の位相差発現性をさらに向上することができるからである。

また、上記カプロラクトン変性原子団は、単一のカプロラクトンの構成単位を含むものであってもよく、または、複数のカプロラクトンの構成単位を含むものであってもよい。
ここで、上記カプロラクトン変性原子団が複数のカプロラクトンの構成単位を含むものである場合、当該カプロラクトン変性原子団に含有されるカプロラクトンの構成単位の数は、２〜５の範囲内であることが好ましい。

なお、本発明に用いられる上記ウレタンアクリレートは、単一のウレタンアクリレートモノマーが重合してなるものであってもよく、または、複数種類のウレタンアクリレートモノマーが重合してなるものであってもよい。

本態様における光学異方性層には、上記ウレタン系樹脂以外に他の化合物が含まれていてもよい。このような他の化合物としては、光学異方性層に付与される位相差性やＲｅの波長依存性を損なわないものであれば特に限定されるものではなく、本発明の位相差フィルムの用途等に応じて任意の化合物を用いることができる。

このような他の化合物としては、例えば、光学異方性層の位相差性の発現性に寄与する屈折率異方性を有する化合物を挙げることができる。このような化合物を用いることにより、例えば、上記ウレタン系樹脂のみでは光学異方性層に所望の位相差性の付与することが困難である場合に、位相差性を増加させることができるからである。このような屈折率異方性を有する化合物としては、例えば、液晶化合物や、屈折率異方性を備える無機化合物等を挙げることができる。

また、本態様における光学異方性層に含有されるウレタン系樹脂として、上記ウレタンアクリレートを用いる場合は、上記他の化合物として光重合開始剤を用いることが好ましい。本態様に用いられる光重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４，４−ビス（ジメチルアミン）ベンゾフェノン、４，４−ビス（ジエチルアミン）ベンゾフェノン、α−アミノ・アセトフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４−メチルジフェニルケトン、ジベンジルケトン、フルオレノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルジクロロアセトフェノン、チオキサントン、２−メチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、ベンジルジメチルケタール、ベンジルメトキシエチルアセタール、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、アントラキノン、２−ｔｅｒｔ−ブチルアントラキノン、２−アミルアントラキノン、β−クロルアントラキノン、アントロン、ベンズアントロン、ジベンズスベロン、メチレンアントロン、４−アジドベンジルアセトフェノン、２，６−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）シクロヘキサン、２，６−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）−４−メチルシクロヘキサノン、２−フェニル−１，２−ブタジオン−２−（ｏ−メトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１，３−ジフェニル−プロパントリオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−３−エトキシ−プロパントリオン−２−（ｏ−ベンゾイル）オキシム、ミヒラーケトン、２−メチル−１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン、ナフタレンスルホニルクロライド、キノリンスルホニルクロライド、ｎ−フェニルチオアクリドン、４，４−アゾビスイソブチロニトリル、ジフェニルジスルフィド、ベンズチアゾールジスルフィド、トリフェニルホスフィン、カンファーキノン、アデカ社製Ｎ１７１７、四臭化炭素、トリブロモフェニルスルホン、過酸化ベンゾイン、エオシン、メチレンブルー等の光還元性色素とアスコルビン酸やトリエタノールアミンのような還元剤との組み合わせ等を例示できる。本態様では、これらの光重合開始剤を１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。

上記光重合開始剤を用いる場合には、光重合開始助剤を併用することが好ましい。このような光重合開始助剤としては、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン等の３級アミン類や、２−ジメチルアミノエチル安息香酸、４−ジメチルアミド安息香酸エチル等の安息香酸誘導体を例示することができるが、これらに限られるものではない。

本態様に用いられる光学異方性層の厚みとしては、上記ウレタン系樹脂の種類に応じて、本発明の位相差フィルムに所望の位相差性を付与することができる範囲内であれば特に限定されるものではない。なかでも本態様における上記光学異方性層の厚みは、通常、０．５μｍ〜２０μｍの範囲内であることが好ましい。

ｂ．透明基板
次に、本態様に用いられる透明基板について説明する。本態様に用いられる透明基板は上述したセルロース誘導体からなるものである。

本態様に用いられる透明基板の透明度は、本発明の位相差フィルムに求める透明性等に応じて任意に決定すればよいが、通常、可視光領域における透過率が８０％以上であることが好ましく、９０％以上であることがより好ましい。
ここで、上記透明基板の透過率は、ＪＩＳ Ｋ７３６１−１（プラスチックー透明材料の全光透過率の試験方法）により測定することができる。

また、本態様に用いられる透明基板の厚みは、本発明の位相差フィルムの用途等に応じて、必要な自己支持性が得られる範囲内であれば特に限定されるものではない。なかでも本態様においては１０μｍ〜１８８μｍの範囲内であることが好ましく、特に２０μｍ〜１２５μｍの範囲内であることが好ましく、さらには３０μｍ〜８０μｍの範囲内であることが好ましい。
透明基板の厚みが上記の範囲よりも薄いと、本発明の位相差フィルムに必要な自己支持性を付与できない場合があるからである。また、厚みが上記の範囲よりも厚いと、例えば、本発明の位相差フィルムを裁断加工する際に、加工屑が増加したり、裁断刃の磨耗が早くなってしまう場合があるからである。

また、本態様に用いられる透明基板のＲｅは、本発明の位相差フィルムに所望の位相差性を付与できる範囲内であれば特に限定されるものではなく、本発明の位相差フィルムの用途や、本態様に用いられる光学異方性フィルムの具体的態様に応じて、任意に調整することができる。なかでも本態様に用いられる透明基板は、５５０ｎｍにおけるＲｅが０ｎｍ〜５０ｎｍの範囲内であることが好ましい。
また、本態様に用いられる透明基板は、波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが、０ｎｍ〜１００ｎｍの範囲内であることが好ましい。

ここで、本態様に用いられる透明基板のＲｅの波長依存性は、逆分散型、正分散型、または、フラット分散型のいずれであってもよいが、なかでも本態様においては逆分散型であることが好ましい。
上記透明基板のＲｅの波長依存性が逆分散型であることにより、本発明の位相差フィルムを、より広範な波長領域において液晶表示装置の視野角補償機能を発現できるものにすることができるからである。

本態様に用いられる透明基板は、貯蔵引張弾性率×断面積で表される値が上記光学異方性層のそれよりも大きく、かつ、寸法収縮率が上記光学異方性層の寸法収縮率よりも小さいことが好ましい。このような特徴を有する透明基板を用いることにより光学異方性層に経時で寸法変化が生じることをより効果的に防止できるため、光学特性の経時安定性に優れた位相差フィルムを得ることができるからである。

本態様に用いられる透明基板の貯蔵引張弾性率×断面積で表される値は、上記光学異方性層に含有されるウレタン系樹脂等の種類や、本発明の位相差フィルムの用途等に応じて適宜好適な範囲に調整することができる。なかでも本態様に用いられる透明基板の貯蔵引張弾性率×断面積で表される値は、光学異方性層の貯蔵引張弾性率×断面積で表される値の１０倍以上であることが好ましく、特に２０倍以上であることが好ましく、さらには３５倍以上であることが好ましい。透明基板の貯蔵引張弾性率×断面積で表される値が上記範囲内であることにより、本態様の光学異方性フィルムの寸法安定性を、より透明基板の力学特性に支配的なものにすることができることから、例えば、透明基板の力学特性を制御することで光学異方性フィルム全体の力学特性を制御することが可能になるため、本態様の光学異方性フィルムの光学特性の経時安定性を設計することが容易になる等の利点を有するからである。

本態様に用いられる透明基板の貯蔵引張弾性率×断面積で表される値の具体的な範囲としては、１００００Ｎ〜５００００００Ｎの範囲内、より好ましくは１００００Ｎ〜１００００００Ｎの範囲内、さらに好ましくは５００００Ｎ〜５０００００Ｎの範囲内程度とされる。
ここで、上記貯蔵引張弾性率×断面積で表される値は、例えば、株式会社ユービーエム社製「Ｒｈｅｏｇｅｌ−Ｅ４０００」を用い、以下の条件により貯蔵引張弾性率を測定し、その測定値に透明基板の断面積を乗ずることにより求めることができる。
・チャック間距離 ： １５ｍｍ
・サンプル幅 ： ５ｍｍ
・歪み ： １００μｍ
・昇温速度 ： ３℃／ｍｉｎ
・周波数 ： １０Ｈｚ

また、本態様の光学異方性フィルムにおいて光学異方性層が透明基板に浸透するなどして、上記の方法で透明基板単独の貯蔵引張弾性率を測定することが困難な場合においては、一般的に知られている圧縮方向の動的な弾性率とせん断方向の動的な弾性率の関係、すなわち（せん断方向の弾性率＝圧縮方向の弾性率／３）という関係を利用できる。つまり、透明基板単独の貯蔵引張弾性率を測定することが困難である場合は、上記貯蔵引張弾性率に替えて上記圧縮弾性率を用いることが可能である。

上記貯蔵引張弾性率に替えて上記圧縮弾性率を用いる場合、透明基板の圧縮弾性率×断面積で表される値としては、上述した光学異方性層の圧縮弾性率×断面積で表される値よりも大きい範囲内であれば特に限定されるものではない。なかでも本態様における透明基板の圧縮弾性率×断面積の値は、透明基板の幅が１ｍ、光学異方性層の塗工幅が１ｍである場合に、３００００Ｎ〜１５００００００Ｎの範囲内であることが好ましく、特に３００００Ｎ〜３００００００Ｎの範囲内であることが好ましく、さらには１５００００Ｎ〜１５０００００Ｎの範囲内であることが好ましい。
ここで、上記圧縮弾性率は、株式会社エリオニクス ＥＮＴ−１１００ａ用い、以下の条件で測定した値を用いるものとする。
・測定深度 ： ５００ｎｍ
・測定 ： ５００ｐｏｉｎｔで区切り、１ｐｏｉｎｔあたりのステップインターバルを１０ｍｓｅｃとする。

なお、上記「断面積」は、透明基板の平面方向に対して垂直方向の断面の断面積（透明基板の厚み×透明基板の幅）を意味するものとする。

また、本態様に用いられる透明基板の寸法収縮率は、上記光学異方性層の寸法収縮率よりも小さい範囲であれば特に限定されるものではない。なかでも本態様に用いられる透明基板の寸法収縮率は０．０１％〜１％範囲内であることが好ましく、特に０．０１％〜０．１％の範囲内であることが好ましく、さらには０．０１％〜０．０２％の範囲内であることが好ましい。
ここで、上記寸法収縮率で表される値は、例えば、透明基板を元の長さの１．４倍の長さまで延伸した長さをＬａ、延伸後１日経過後の長さをＬｂを測定することにより、以下の式に基いて求めることができる。
寸法収縮率＝(Ｌａ−Ｌｂ)／Ｌａ

さらに、本態様に用いられる透明基板は高温高湿雰囲気下における寸法安定性に優れたものであることが好ましい。上記透明基板として高温高湿雰囲気下における寸法安定性に優れたものを用いることにより、位相差フィルム全体としての高温高湿雰囲気下における寸法安定性を向上することができる結果、高温高湿雰囲気下においても光学特性の安定性が良好な位相差フィルムを得ることができるからである。なかでも本態様に用いられる透明基板は、温度９０℃、相対湿度９０％ＲＨの環境下において１ｈｒ経過させた際の寸法変化率が２５％以下であることが好ましく、特に０．１％〜１０％の範囲内であることが好ましく、さらには０．１％〜５％の範囲内であることが好ましい。

なお、本態様に用いられる透明基板の構成は、単一の層からなる構成に限られるものではなく、複数の層が積層された構成を有してもよい。
また、複数の層が積層された構成を有する場合は、同一組成の層が積層されてもよく、また、異なった組成を有する複数の層が積層されてもよい。

ｃ．その他
本態様の光学異方性フィルムは、上記光学異方性層が上記透明基板上に密着するように形成された構成を有するものとなる。このときの上記光学異方性層と上記透明基板との密着の程度としては、上記透明基板の力学特性により上記光学異方性層の力学特性を制御することが可能な範囲内であれば特に限定されるものではない。なかでも本発明においては上記密着の程度が、クロスカット法での評価結果が２０／１００〜１００／１００の範囲内であることが好ましい。
なお、上記「クロスカット法」とは、日本工業規格ＪＩＳＫ５６００‐５‐６「塗料一般試験方法‐第５部：塗膜の機械的性質‐第６節：付着性（クロスカット法）に準ずる評価法であり、塗工面側に１ｍｍ角の切れ目を碁盤目状にいれ、接着テープ（ニチバン社製、セロテープ（登録商標））を貼り付け、その後テープを引き剥がし、１ｍｍ角１００個中残った個数を数えることにより付着性を評価するものである。
また、上記クロスカット法による評価結果は、１００箇所の碁盤目状評価部位のうち残った数を表すものであり、例えば、上記「２０／１００」は、１００箇所の評価部位のうち剥れずに残った箇所が２０箇所であること意味するものであり、また、上記「１００／１００」は、１００箇所の評価部位のうち、１００箇所すべてが剥れずに残ることを意味するものである。

また、本態様の光学異方性フィルムにおいて、上記透明基板と、上記光学異方性層とが積層された態様としては、上記透明基板と上記光学異方性層とが独立した層として積層された態様であってもよく、または、上記透明基板と光学異方性層との間に明確な界面がなく、両者の間において上記ウレタン系樹脂の含有量が連続的に変化するように積層された態様であってもよい。

このような上記透明基板と上記光学異方性層とが積層された態様について図を参照しながら説明する。図２は本態様の光学異方性フィルムにおいて、上記透明基板と上記光学異方性層とが積層された態様の一例を示す概略図である。図２に例示するように、本態様の光学異方性フィルム１Ａ、１Ａ’は、上記透明基板１ａと上記光学異方性層１ｂとが独立した層として積層された態様であってもよく（図２（ａ））、または、上記透明基板１ａと光学異方性層１ｂ’との間に明確な界面がなく、両者の間において上記ウレタン系樹脂の含有量が連続的に変化するように積層された態様であってもよい（図２（ｂ））。

（２）第２態様の光学異方性フィルム
次に、上記第２態様の光学異方性フィルムについて説明する。本態様の光学異方性フィルムは、セルロース誘導体からなる透明基板と、上記透明基板上に形成され、上記透明基板を構成するセルロース誘導体およびＲｅの波長依存性が正分散型を示す光学異方性材料を含有する光学異方性層とを有するものである。
本態様の光学異方性フィルムは、例えば、上記透明基板としてＲｅの波長依存性が逆分散型であるものを用い、上記透明基板のＲｅ比の絶対値を上記光学異方性層のＲｅ比の絶対値よりも大きいものとすることにより、上記光学異方性フィルムを容易にレターデーションの波長依存性が逆分散であるものにできるという利点を有する。
以下、本態様の光学異方性フィルムについて詳細に説明する。

ａ．光学異方性層
まず、本態様に用いられる光学異方性材料について説明する。本態様に用いられる光学異方性材料としては、レターデーションの波長依存性が正分散型であるものであれば特に限定されるものではなく、本発明の位相差フィルムの用途等に応じて、本発明の位相差フィルムに所望の位相差性を付与できるものを適宜選択して用いることができる。なかでも本態様に用いられる光学異方性材料は、上記Ｒｅ比が１〜２の範囲内であるものが好ましい。特に、上記透明基板の逆分散特性を生かすためには、Ｒｅ比がなるべく１に近いものを用いることが好ましい。

ここで、光学異方性材料の上記Ｒｅ比は、ポリイミドなどの配向膜を形成し、配向処理を施したガラス基板などの等方性基材上に、上記光学異方性材料からなる層を成膜し、波長４５０ｎｍにおけるＲｅ（Ｒｅ_４５０）と、波長５５０ｎｍにおけるＲｅ（Ｒｅ_５５０）とを測定することにより算出することができる。

本態様に用いられる上記光学異方性材料としては、上記Ｒｅ比が上記範囲内であるもののであれば特に限定されるものではない。このような光学異方性材料としては、例えば、棒状化合物、高分子液晶材料、および、ポリイミド系材料を挙げることができる。
ここで、上記高分子液晶材料としては、例えば、特開２００２−２６５４７５号公報、特開２００４−２８５１７４、および、特開平８−２７８４９１に記載の化合物等を挙げることができる。
また、上記ポリイミド系材料としては、例えば、特開２００４−７８２０３号公報、特開２００５−９１６２５号公報、および、特開２００４−３３１９５１号公報に記載の化合物等を挙げることができる。

本態様に用いられる光学異方性材料としては、上記棒状化合物、上記高分子液晶材料、および、上記ポリイミド系材料のいずれであっても好適に用いることができるが、なかでも棒状化合物を用いることが好ましい。棒状化合物は規則的に配列させることにより優れた位相差性を発現できるため、このような棒状化合物を用いることにより、本態様の光学異方性フィルムに所望の位相差性を付与することが容易になるからである。
ここで、本態様における「棒状化合物」とは、分子構造の主骨格が棒状となっているものを指す。

本態様に用いられる上記棒状化合物としては、分子量が比較的小さい化合物を用いることが好ましい。より具体的には、分子量が２００〜１２００の範囲内である化合物が好ましく、特に４００〜１０００の範囲内である化合物が好適に用いられる。その理由は次の通りである。すなわち、本態様に用いられる光学異方性層は、上記光学異方性材料と、後述する透明基板を構成するセルロース誘導体とを含有するものであるが、上記棒状化合物として分子量が比較的小さい化合物を用いることにより、上記光学異方性層において上記棒状化合物が上記セルロース誘導体と混合しやすくなるからである。
なお、上記棒状化合物として重合性官能基を有する材料を用いる場合、上記棒状化合物の分子量は、重合前のモノマーの分子量を示すものとする。

また、本態様に用いられる棒状化合物は、液晶性を示す液晶性材料であることが好ましい。液晶性材料は規則的に配列する特性を備えるため、このような液晶性材料を用いることにより、本態様の光学異方性フィルムに所望の位相差性を付与することが容易になるからである。

上記液晶性材料としては、ネマチック相、コレステリック相、および、スメクチック相等のいずれの液晶相を示す材料であっても好適に用いることができる。なかでも本態様においては、ネマチック相を示す液晶性材料を用いることが好ましい。ネマチック相を示す液晶性材料は、他の液晶相を示す液晶性材料と比較して規則的に配列させることが容易であるからである。

また、上記ネマチック相を示す液晶性材料としてはメソゲン両端にスペーサを有する材料を用いることが好ましい。メソゲン両端にスペーサを有する液晶性材料は柔軟性に優れるため、このような液晶性材料を用いることにより、本態様の光学異方性フィルムを透明性に優れたものにできるからである。

さらに、本態様に用いられる棒状化合物は、分子内に重合性官能基を有するものが好適に用いられ、なかでも３次元架橋可能な重合性官能基を有するものがより好適に用いられる。上記棒状化合物が重合性官能基を有することにより、上記棒状化合物を重合して固定することが可能になるため、配列安定性に優れ、位相差性の経時変化が生じにくい光学異方性層を得ることができるからである。
また、本態様においては上記重合性官能基を有する棒状化合物と、上記重合性官能基を有さない棒状化合物とを混合して用いてもよい。
なお、上記「３次元架橋」とは、液晶性分子を互いに３次元に重合して、網目（ネットワーク）構造の状態にすることを意味する。

上記重合性官能基としては、例えば、紫外線、電子線等の電離放射線、或いは熱の作用によって重合する重合性官能基を挙げることができる。これら重合性官能基の代表例としては、ラジカル重合性官能基、或いはカチオン重合性官能基等が挙げられる。さらにラジカル重合性官能基の代表例としては、少なくとも一つの付加重合可能なエチレン性不飽和二重結合を持つ官能基が挙げられ、具体例としては、置換基を有するもしくは有さないビニル基、アクリレート基（アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基を包含する総称）等が挙げられる。また、上記カチオン重合性官能基の具体例としては、エポキシ基等が挙げられる。その他、重合性官能基としては、例えば、イソシアネート基、不飽和３重結合等が挙げられる。これらの中でもプロセス上の点から、エチレン性不飽和二重結合を持つ官能基が好適に用いられる。

さらにまた、本態様における棒状化合物は液晶性を示す液晶性材料であって、末端に上記重合性官能基を有するものが特に好ましい。このような液晶材料を用いることにより、例えば、互いに３次元に重合して、網目（ネットワーク）構造の状態にすることができるため、配列安定性を備え、かつ、光学特性の発現性に優れた光学異方性層を形成することができるからである。
なお、本態様においては片末端に重合性官能基を有する液晶性材料を用いた場合であっても、他の分子と架橋して配列安定化することができる。

また、本態様に用いられる棒状化合物は、分子内に単一の上記重合性官能基を有する単官能重合性液晶材料を用いることが好ましい。上記単官能重合性液晶材料は配列特性に優れるため、このような単官能重合性液晶材料を用いることにより、本態様の光学異方性フィルムを光学異方性の発現性に優れたものにできるからである。

本態様に用いられる棒状化合物の具体例としては、下記式（１）〜（６）で表される化合物を例示することができる。

ここで、化学式（１）、（２）、（５）および（６）で示される液晶性材料は、Ｄ.Ｊ.Ｂｒｏｅｒら、Ｍａｋｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．１９０,３２０１−３２１５（１９８９）、またはＤ.Ｊ.Ｂｒｏｅｒら、Ｍａｋｒｏｍｏｌ.Ｃｈｅｍ.１９０,２２５０（１９８９）に開示された方法に従い、あるいはそれに類似して調製することができる。また、化学式（３）および（４）で示される液晶性材料の調製は、ＤＥ１９５,０４,２２４に開示されている。

また、末端にアクリレート基を有するネマチック液晶性材料の具体例としては、下記化
学式（７）〜（１７）に示すものも挙げられる。

なお、本態様に用いられる棒状化合物は、１種類のみであってもよく、または、２種以上であってもよい。例えば、上記棒状化合物として、両末端に重合性官能基を１つ以上有する液晶性材料と、片末端に重合性官能基を１つ以上有する液晶性材料とを混合して用いると、両者の配合比の調整により重合密度（架橋密度）及び光学特性を任意に調整できる点から好ましい。

次に、本態様おける光学異方性層に含有されるセルロース誘導体について説明する。本態様に用いられる樹脂材料は、後述する透明基板を構成するセルロース誘導体である。本態様においては、光学異方性層にこのようなセルロース誘導体が含有されることにより、透明基板と光学異方性層との密着性に優れた光学異方性フィルムを得ることができる。

本態様の光学異方性層中に含有されるセルロース誘導体の含有量としては、本態様の光学異方性フィルムにおいて、透明基板と光学異方性層との密着性を所望の範囲にすることができる範囲内であれば特に限定されるものではない。なかでも本態様においては、上記セルロース誘導体の含有量が、1質量％〜５０質量％の範囲内であることが好ましく、特に５質量％〜３０質量％の範囲内であることが好ましい。

なお、上記セルロース誘導体については、上述した透明基板に用いられるものと同様であるため、ここでの説明は省略する。

本態様に用いられる光学異方性層には、上記光学異方性材料および上記樹脂材料以外に他の化合物が含有されていてよい。このような他の化合物としては、例えば、ポリジメチルシロキサン、メチルフェニルシロキサン、有機変性シロキサン等のシリコン形レベリング剤；ポリアルキルアクリレート、ポリアルキルビニルエーテル等の直鎖状重合物；フッ素系界面活性剤、炭化水素系界面活性剤等の界面活性剤；テトラフルオロエチレン等のフッ素系レベリング剤；光重合開始剤等を挙げることができる。
なかでも本態様においては、上記光学異方性材料として、光照射により重合する重合性官能基を有する棒状化合物を用いる場合に、上記他の化合物として光重合開始剤を含むことが好ましい。

本態様に用いられる光重合開始剤としては、上記「（１）第１態様の光学異方性フィルム」の項において説明したものと同様であるため、ここでの説明は省略する。

上記光重合開始剤の含有量としては、上記棒状化合物を所望の時間で重合できる範囲内であれば特に限定されないが、通常、上記棒状化合物１００重量部に対して、１重量部〜１０重量部の範囲内が好ましく、特に３重量部〜６重量部の範囲内が好ましい。

上記光重合開始剤を用いる場合には、光重合開始助剤を併用することができる。このような光重合開始助剤としては、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン等の３級アミン類や、２−ジメチルアミノエチル安息香酸、４−ジメチルアミド安息香酸エチル等の安息香酸誘導体を例示することができるが、これらに限られるものではない。

さらに本態様における上記光学異方性層には、本発明の目的を損なわない範囲内で、下記に示すような化合物を添加することができる。添加できる化合物としては、例えば、多価アルコールと１塩基酸または多塩基酸を縮合して得られるポリエステルプレポリマーに、（メタ）アクリル酸を反応させて得られるポリエステル（メタ）アクリレート；ポリオール基と２個のイソシアネート基を持つ化合物を互いに反応させた後、その反応生成物に（メタ）アクリル酸を反応させて得られるポリウレタン（メタ）アクリレート；ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、ポリカルボン酸ポリグリシジルエステル、ポリオールポリグリシジルエーテル、脂肪族または脂環式エポキシ樹脂、アミノ基エポキシ樹脂、トリフェノールメタン型エポキシ樹脂、ジヒドロキシベンゼン型エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂と、（メタ）アクリル酸を反応させて得られるエポキシ（メタ）アクリレート等の光重合性化合物；アクリル基やメタクリル基を有する光重合性の液晶性化合物等が挙げられる。このような化合物を含有することにより本態様に用いられる上記光学異方性層の機械強度が向上し、安定性が改善される場合がある。

本態様に用いられる光学異方性層の厚みとしては、上記光学異方性材料や、後述する透明基板の種類に応じて、本態様の光学異方性フィルムのＲｅの波長依存性を逆分散型にできる範囲であれば特に限定されるものではない。なかでも本態様における上記光学異方性層の厚みは、通常、０．５μｍ〜２０μｍの範囲内であることが好ましい。

ｂ．透明基板
次に、本態様に用いられる透明基板について説明する。本態様に用いられる透明基板は、上述したセルロース誘導体からなり、Ｒｅの波長依存性が逆分散型であるものである。

本態様に用いられる透明基板は、Ｒｅの波長依存性が逆分散であるものであれば特に限定されるものではない。なかでも本態様に用いられる透明基板は、Ｒｅ比が０．３〜１の範囲内であるものが好ましく、特に０．５〜０．９の範囲内であるものが好ましい。Ｒｅ比が上記範囲内であるものを用いることにより、本発明の位相差フィルムを、Ｒｅの波長依存性が逆分散型であるものにすることが容易になるからである。
なお、本態様に用いられる透明基板のＲｅが小さく、上記Ｒｅ比を正確に測定することが困難である場合においては、上記Ｒｅ比に替えて、波長４５０ｎｍにおけるＲｔｈ（Ｒｔｈ_４５０）と、波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈ（Ｒｔｈ_５５０）との比（Ｒｔｈ_４５０／Ｒｔｈ_５５０）（以下、単に「Ｒｔｈ比」と称する場合がある。）を上記逆分散の指標とすることができる。すなわち、本態様に用いられる透明基板は、上記Ｒｔｈ比が０．３〜１の範囲内であるものが好ましく、特に０．５〜０．９の範囲内であるものであってもよい。

本態様に用いられる透明基板の構成は、単一の層からなる構成に限られるものではなく、複数の層が積層された構成を有してもよい。
また、複数の層が積層された構成を有する場合は、同一組成の層が積層されてもよく、また、異なった組成を有する複数の層が積層されてもよい。

本態様に用いられる透明基板の透明度は、本発明の位相差フィルムに求める透明性等に応じて任意に決定すればよいが、通常、可視光領域における透過率が８０％以上であることが好ましく、９０％以上であることがより好ましい。
ここで、上記透明基板の透過率は、ＪＩＳ Ｋ７３６１−１（プラスチックー透明材料の全光透過率の試験方法）により測定することができる。

また、本態様に用いられる透明基板の厚みは、本発明の位相差フィルムの用途等に応じて、必要な自己支持性が得られる範囲内であれば特に限定されるものではない。なかでも本態様においては１０μｍ〜１８８μｍの範囲内であることが好ましく、特に２０μｍ〜１２５μｍの範囲内であることが好ましく、さらには３０μｍ〜８０μｍの範囲内であることが好ましい。
透明基板の厚みが上記の範囲よりも薄いと、本発明の位相差フィルムに必要な自己支持性を付与できない場合があるからである。また、厚みが上記の範囲よりも厚いと、例えば、本発明の位相差フィルムを裁断加工する際に、加工屑が増加したり、裁断刃の磨耗が早くなってしまう場合があるからである。

また、本態様に用いられる透明基板のＲｅは、本発明の位相差フィルムに所望の位相差性を付与できる範囲内であれば特に限定されるものではなく、本発明の位相差フィルムの用途や、本態様に用いられる光学異方性フィルムの具体的態様に応じて、任意に調整することができる。なかでも本態様に用いられる透明基板は、５５０ｎｍにおけるＲｅが０ｎｍ〜５０ｎｍの範囲内であることが好ましい。
また、本態様に用いられる透明基板は、波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが、０ｎｍ〜１００ｎｍの範囲内であることが好ましい。

ここで、本態様に用いられる透明基板のＲｅの波長依存性は、逆分散型、正分散型、または、フラット分散型のいずれであってもよいが、なかでも本態様においては逆分散型であることが好ましい。
上記透明基板のＲｅの波長依存性が逆分散型であることにより、本発明の位相差フィルムを、より広範な波長領域において液晶表示装置の視野角補償機能を発現できるものにすることができるからである。

１−２．第２実施態様
まず、本発明に用いられる第２実施態様の光学異方性フィルムについて説明する。本実施態様の光学異方性フィルムは、Ｒｅの波長依存性が正分散であるものである。

本実施態様の光学異方性フィルムとしては、上記Ｒｅ比が１よりも大きいものであれば特に限定されるものではなく、本発明の位相差フィルムの用途等に応じて適宜を調整すればよい。なかでも本実施態様においては上記Ｒｅ比が１．０１〜１．３の範囲内であることが好ましく、特に１．０１〜１．２の範囲内であることが好ましい。
上記Ｒｅ比がこのような範囲内であることにより、本発明の位相差フィルムをより広範な波長領域において液晶表示装置の視野角等性を改善できるものにできるからである。

本実施態様の光学異方性フィルムは、セルロース誘導体からなる透明基板が用いられているものであるが、上記透明基板を構成するセルロース誘導体としては、所望の透水性を備え、本発明の位相差フィルムを偏光板保護フィルムとして用いた場合に、偏光板製造工程において、偏光子に含有される水分を透過し、経時での偏光特性の低下を所望の程度に抑制できるものであれば特に限定されるものではない。
ここで、本実施態様に用いられる透明基板については、上記「１−１．第１実施態様」の項において説明したものと同様であるため、ここでの説明は省略する。

本実施態様の光学異方性フィルムに上記透明基板が用いられている態様としては、本実施態様の光学異方性フィルムに所望の光学異方性およびＲｅの波長依存性等を付与することができる態様であれば特に限定されるものではない。このような態様としては、本実施態様の光学異方性フィルムが上記透明基板のみから構成される態様と、上記透明基板上に、光学異方性層が積層された態様とを挙げることができる。本実施態様の光学異方性フィルムは、これらのいずれの態様であってもよいが、なかでも後者の態様であることが好ましい。これより、本発明の位相差フィルムの用途等に応じて、本実施態様の光学異方性フィルムに所望の機能を付与することが容易になるからである。

上記透明基板上に光学異方性層が積層された態様の光学異方性フィルムとしては、本発明の位相差フィルムに所望の機能を付与できるものであれば特に限定されるものではない。なかでも本実施態様の光学異方性フィルムとしては、上記透明基板と、上記透明基板上に形成され、上記透明基板を構成するセルロース誘導体およびレターデーションの波長依存性が正分散型を示す光学異方性材料とを含有する光学異方性層とを有する態様のものが好ましい。このような態様を有するものであれば、上記光学異方性層の厚み等を変化させることにより、本実施態様の光学異方性フィルムの光学特性や、Ｒｅの波長依存性を所望の範囲に調整することが容易になるからである。
なお、このような態様においては、透明基板上に光学異方性層を形成した後、そのままで、或いは、必要に応じて更に延伸処理を施すことにより、ｎｘ＞ｎｙなる光学異方性を付与することができる。
以下、このような態様の光学異方性フィルムについて順に説明する。

ａ．光学異方性層
本態様における光学異方性層に用いられる光学異方性材料としては、レターデーションの波長依存性が正分散型であるものであれば特に限定されるものではなく、本発明の位相差フィルムの用途等に応じて、本発明の位相差フィルムに所望の位相差性を付与できるものを適宜選択して用いることができる。
ここで、本態様に用いられる光学異方性材料については、上記「１−１．第１実施態様」の項において説明したものと同様のものを用いることができるため、ここでの説明は省略する。

次に、本態様おける光学異方性層に含有されるセルロース誘導体について説明する。本態様に用いられる樹脂材料は、後述する透明基板を構成するセルロース誘導体である。本態様においては、光学異方性層にこのようなセルロース誘導体が含有されることにより、透明基板と光学異方性層との密着性に優れた光学異方性フィルムを得ることができる。

本態様の光学異方性層中に含有されるセルロース誘導体の含有量としては、本態様の光学異方性フィルムにおいて、透明基板と光学異方性層との密着性を所望の範囲にすることができる範囲内であれば特に限定されるものではない。なかでも本態様においては、上記セルロース誘導体の含有量が、1質量％〜５０質量％の範囲内であることが好ましく、特に５質量％〜３０質量％の範囲内であることが好ましい。

なお、上記セルロース誘導体については、上述した透明基板に用いられるものと同様であるため、ここでの説明は省略する。

本態様に用いられる光学異方性層には、上記光学異方性材料および上記樹脂材料以外に他の化合物が含有されていてもよい。このような他の化合物としては、上記「１−１．第１実施態様」の項において説明したものと同様のものを用いることができるため、ここでの説明は省略する。

本態様に用いられる光学異方性層の厚みとしては、上記光学異方性材料や、後述する透明基板の種類に応じて、本態様の光学異方性フィルムのＲｅの波長依存性を正分散型にできる範囲であれば特に限定されるものではない。なかでも本態様における上記光学異方性層の厚みは、０．５μｍ〜２０μｍの範囲内であることが好ましい。

ｂ．透明基板
本態様に用いられる透明基板は、上述したセルロース誘導体からなり、Ｒｅの波長依存性が逆分散型であるものである。
ここで、本態様に用いられる透明基板としては、上記「１−１．第１実施態様」の項において説明したものと同様のものを用いることができるため、ここでの説明は省略する。

２．位相差層
次に、本発明に用いられる位相差層について説明する。本発明に用いられる位相差層は、液晶材料を含有し、面内方向において互いに直交する任意のｘ、ｙ方向の屈折率ｎｘ、ｎｙと、厚み方向の屈折率ｎｚとの間に、ｎｘ≦ｎｙ＜ｎｚの関係が成立するものである。
本発明においては、上記ｎｘ、ｎｙ、および、ｎｚにこのような関係が成立する位相差層が用いられていることにより、本発明の位相差フィルムに正のＣプレートとしての性質を付与することができるため、本発明の位相差フィルムをＩＰＳ方式の位相差フィルムの視野角補償フィルムとして好適に用いられるものにできるのである。
なお、本発明に用いられる位相差層が上記ｎｘ≦ｎｙ＜ｎｚの関係を有することは、位相差層において上記液晶材料がホメオトロピック配向を形成していることと同意である。

以下、本発明に用いられる位相差層について説明する。

（１）液晶材料
まず、本発明に用いられる液晶材料について説明する。本発明に用いられる液晶材料としては、位相差層の上記ｎｘ、ｎｙ、および、ｎｚに上記関係が成立する位相差性を付与できるものであれば特に限定されるものではない。このような液晶材料としては、通常、ホメオトロピック配向させることが可能なホメオトロピック液晶材料が用いられる。

上記ホメオトロピック液晶材料としては、ホメオトロピック配向を形成することにより、本発明の位相差フィルムに所望の位相差性を付与できるものであれば特に限定されるものではない。なかでも本発明に用いられるホメオトロピック液晶材料は、重合性官能基を有するものであることが好ましい。このようなホメオトロピック液晶材料を用いることにより、重合性官能基を介して互いに重合させることができるため、本発明における位相差層の機械強度を向上することができるからである。また、位相差層中におけるホメオトロピック液晶材料の配向安定性も向上させることができるからである。

上記重合性官能基としては、紫外線、電子線等の電離放射線、或いは熱の作用によって重合する各種重合性官能基が用いられる。これら重合性官能基の代表例としては、ラジカル重合性官能基、或いはカチオン重合性官能基等が挙げられる。さらにラジカル重合性官能基の代表例としては、少なくとも一つの付加重合可能なエチレン性不飽和二重結合を持つ官能基が挙げられ、具体例としては、置換基を有するもしくは有さないビニル基、アクリレート基（アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基を包含する総称）等が挙げられる。又、カチオン重合性官能基の具体例としては、エポキシ基等が挙げられる。その他、重合性官能基としては、例えば、イソシアネート基、不飽和３重結合等が挙げられる。本発明においては、これらの重合性官能基のなかでもプロセス上の点から、エチレン性不飽和二重結合を持つ官能基が好適に用いられる。

なお、本発明に用いられるホメオトロピック液晶材料は、上記重合性官能基を複数有するものであってもよく、または、１つのみを有するものであってもよい。

このようなホメオトロピック液晶材料としては、垂直配向膜を使用することなく、ホメオトロピック配向を形成できるホメオトロピック配向性を有するもの（第１のホメオトロピック液晶材料）と、単独ではホメオトロピック配向を形成することができないが、垂直配向膜を使用することによりホメオトロピック配向を形成できるもの（第２のホメオトロピック液晶材料）と、を挙げることができる。本発明においては、上記第１のホメオトロピック液晶材料はもちろんのこと、上記第２のホメオトロピック液晶材料であっても好適に用いることができる。

なお、本発明において上記第２のホメオトロピック液晶材料を用いる場合は、位相差層において上記ホメオトロピック液晶材料をホメオトロピック配向させるために、通常、上述した光学異方性フィルムと位相差層との間に液晶材料をホメオトロピック配向させる配向規制力を有する配向層を用いたり、または、光学異方性層中に上記液晶材料をホメオトロピック配向させる機能を有する配向制御化合物を用いる方法が用いられ、例えば、特開平１０−３１９４０８号公報、２００２−１７４７２４号、および、特開２００３−１９５０３５号等に開示されている。また、ガラス基板等の他の基板上に上記第２のホメオトロピック液晶材料がホメオトロピック配向した位相差層を別途形成した後、これを剥離して上記光学異方性フィルム上に積層する転写法も用いることができる。このような転写法において、上記ガラス基板上に位相差層を形成する方法については、例えば、特開２００３−１７７２４２号公報等に開示されている。

上記第１のホメオトロピック液晶材料としては、垂直配向膜を使用することなくホメオトロピック配向を形成することができ、本発明における位相差層に所望の位相差性を付与できるものであれば特に限定されるものではない。このような上記第１のホメオトロピック液晶材料としては、例えば、正の屈折率異方性を有する液晶性フラグメント側鎖を含有するモノマーユニットと、非液晶性フラグメント側鎖を含有するモノマーユニットとを含有する側鎖型液晶ポリマーや、上記液晶性フラグメント側鎖を含有するモノマーユニットと脂環族環状構造を有する液晶性フラグメント側鎖を含有するモノマーユニットとを含有する側鎖型液晶ポリマー等の液晶ポリマーを挙げることができる。このような液晶ポリマーとしては、例えば、特開２００３−１２１８５３号公報、特開２００２−１７４７２５号公報、特開２００２−３３３６４２号公報、および、特開２００５−７００９８号公報に記載されているような化合物を挙げることができる。また、液晶ポリマーではない液晶化合物をホメオトロピック配向させる方法としては、垂直配向作用を有する界面活性剤等の添加剤を使用することができ、例としては特開２００２−１４８６２６号公報を挙げることができる。さらに、重合性液晶化合物を使用した例としては、特表２０００−５１４２０２号公報を挙げることができる。

一方、上記第２のホメオトロピック液晶材料としては、垂直配向膜等を使用することによりホメオトロピック配向を形成することができ、本発明における位相差層に所望の位相差性を付与できるものであれば特に限定されるものではない。なかでも、本発明においては、ネマチック相を示すネマチック液晶材料が好適に用いられる。

本発明に用いられる上記第２のホメオトロピック液晶材料の具体例としては、例えば、特開平７−２５８６３８号公報や特表平１０−５０８８８２号公報、特開２００３−２８７６２３号公報に記載されているような化合物を挙げることができる。なかでも本発明においては、上記第２のホメオトロピック液晶材料として、上記式（１）〜（１７）で表される化合物を好適に用いることができる。

また、本発明に用いられる上記第２のホメオトロピック液晶材料としては、例えば、特開平１０−３１９４０８号公報に記載されているような化合物を挙げることができる。なかでも本発明においては、以下の化学式で表される化合物を好適に用いることができる。

上記式において、ｘは１〜１２であり、Ｚは１，４−フェニレン基または１，４−シクロヘキシレン基であり、Ｒ^１はハロゲンまたはシアノであるか、あるいは炭素原子１〜１２個を有するアルキル基またはアルコキシ基であり、そしてＬは、Ｈ、ハロゲンまたはＣＮであるか、あるいは炭素原子１〜７個を有するアルキル基、アルコキシ基またはアシル基である。

なお、上記液晶材料として重合性官能基を有する化合物を用いた場合、本発明における位相差層に含有される液晶材料は、上記重合性官能基を介して重合された重合物となる。

（２）位相差層
本発明における位相差層に含有される液晶材料は１種類でもよく、または、２種類以上であってもよい。また、２種類以上の液晶材料を用いる場合、上記第１のホメオトロピック液晶材料と、上記第２のホメオトロピック液晶材料とを混合して用いてもよい。

また、本発明における位相差層には、上記液晶材料以外の他の化合物が含まれていてもよい。このような他の化合物としては、位相差層における上記液晶材料の配列状態や、位相差層の光学特性発現性を損なわないものであれば特に限定されるものではなく、本発明に用いられる位相差フィルムの用途等に応じて適宜選択して用いることができる。なかでも、本発明に好適に用いられる上記他の化合物としては、上記液晶材料のホメオトロピック配向形成を補助する配向制御化合物を挙げることができる。このような配向制御化合物を用いることにより、上記第２態様のホメオトロピック液晶材料を用いることが可能になるという利点がある。また、上記第１態様のホメオトロピック液晶材料を用いる場合であっても、このような配向制御化合物を用いることによりホメオトロピック配向の規則性を向上できるという利点がある。

上記配向制御化合物としては、本発明における位相差層に所望のホメオトロピック配向規制力を付与できるものであれば特に限定されるものではない。なかでも本発明に用いられる配向制御化合物としては、界面活性剤を好適に用いることができる。界面活性剤は位相差層において、空気界面に偏在し、分子の特定の方向を位相差層側に向けて配列することができるため、位相差層に上記ホメオトロピック配向規制力を容易に付与することができるからである。

本発明に用いられる上記界面活性剤としては、例えば、スルホネート界面活性剤を挙げることができ、特に、フッ素化スルホネート界面活性剤が好適に用いられる。

上記フッ化スルホネート界面活性剤の具体例としては、例えば、商品名 ＦＣ−４４３０、ＦＣ−４４３２（いずれも３Ｍ Ｃｏｍｐａｎｙ製）を挙げることができる。

また、本発明に用いられる上記他の化合物としては、例えば、重合開始剤、重合禁止剤、可塑剤、界面活性剤、および、シランカップリング剤等を挙げることができる。

さらに、本発明における位相差層には、本発明の目的を損なわない範囲内で、下記に示すような化合物を添加することができる。添加できる化合物としては、例えば、多価アルコールと１塩基酸または多塩基酸を縮合して得られるポリエステルプレポリマーに、（メタ）アクリル酸を反応させて得られるポリエステル（メタ）アクリレート；ポリオール基と２個のイソシアネート基を持つ化合物を互いに反応させた後、その反応生成物に（メタ）アクリル酸を反応させて得られるポリウレタン（メタ）アクリレート；ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、ポリカルボン酸ポリグリシジルエステル、ポリオールポリグリシジルエーテル、脂肪族または脂環式エポキシ樹脂、アミノ基エポキシ樹脂、トリフェノールメタン型エポキシ樹脂、ジヒドロキシベンゼン型エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂と、（メタ）アクリル酸を反応させて得られるエポキシ（メタ）アクリレート等の光重合性化合物；アクリル基やメタクリル基を有する光重合性の液晶性化合物等が挙げられる。

本発明における位相差層の厚みは、上記液晶材料の種類等に応じて、位相差層に所望の光学特性を付与できる範囲内であれば特に限定されないが、０．５μｍ〜１０μｍの範囲内であることが好ましく、なかでも０．５μｍ〜５μｍの範囲内であることが好ましく、特に１μｍ〜３μｍの範囲内であることが好ましい。

本発明における位相差層は位相差性を示すものであるが、このような位相差性は、本発明の位相差フィルムの用途等に応じて任意に調整することができる。なかでも本発明に用いられる位相差層は、厚み方向のレターデーションが、−１０００ｎｍ〜０ｎｍの範囲内であることが好ましい。

また、本発明に用いられる位相差層は、上述した光学異方性フィルム上に形成されるものであるが、本発明において上記光学異方性フィルム上に位相差層が形成される態様は特に限定されるものではなく、本発明の目的に応じて適宜選択すればよい。したがって、例えば、上記光学異方性フィルムとして、上記透明基板上に光学異方性層が積層された態様のものを用いる場合、本発明に用いられる位相差層が上記光学異方性フィルム上に形成される態様としては、上記光学異方性層上に形成される態様であってもよく、あるいは、上記光学異方性層が形成された面とは反対側の面上に形成される態様であってもよい。

このような位相差層の形成態様について図を参照しながら具体的に説明する。図３は、本発明において位相差層が上記光学異方性フィルム上に形成される態様の一例を示す概略図である。図３に例示するように、本発明の位相差フィルム１０’，１０’’が、透明基板１ａ上に光学異方性層１ｂが形成された光学異方性フィルム１が用いられ、上記光学異方性フィルム１上に位相差層２が形成された構成を有するものである場合、上記位相差層２が上記光学異方性フィルム１上に形成される態様としては、上記光学異方性層１ｂ上に形成される態様であってもよく（図３（ａ））、あるいは、上記光学異方性層１ｂが形成された面とは反対側の面上に形成される態様であってもよい（図３（ｂ））。

本発明においては、上記のいずれの態様であっても好適に用いることができる。
ここで、上記位相差層が上記光学異方性層側の面上に形成される態様は、光学異方性層と位相差層が同じ側になるため連続的な塗工がしやすく、製造しやすいこと、および、光学異方性層の表面散乱を打ち消すことができ、かつ、透明基材の反対側の面を露出させることができるため、当該露出面側は偏光子と積層することも、あるいは、反射防止層等の各種機能層を積層することも可能となり、利用法や設計仕様の自由度が広がるという利点がある。
一方、上記位相差層が上記光学異方性層が形成された面とは反対側の面上に形成される態様は、上記位相差層と上記光学機能層の相互作用が無いため、上記のような位相差の設計値からの偏移やバラツキを生じ難く、上記位相差層への所望の光学特性付与が容易になるという利点がある。
したがって、本発明の位相差フィルムの具体的用途や要求性能あるいは設計方針等に応じて、上記の２態様からより適合的な態様を適宜選択して用いればよい。

３．位相差フィルム
本発明の位相差フィルムは、少なくとも上記光学異方性フィルムと、上記位相差層とを有するものであるが、必要に応じて他の任意の構成が用いられていてもよい。本発明に用いられる任意の構成としては、本発明の位相差フィルムの用途等に応じて、所望の機能を有するものを適宜選択して用いることができる。このような任意の構成としては、例えば、上記位相差層上に形成される透明なオーバーコート層を挙げることができる。このようなオーバーコート層が用いられることにより、本発明の位相差フィルムを用いて液晶表示装置を作成する際に、粘着層を位相差層側に積層した場合であっても、位相差フィルムの耐久性を向上させることができるからである。

本発明の位相差フィルムが示す位相差性は、本発明の位相差フィルムの用途等に応じて適宜決定することができるが、なかでも本発明の位相差フィルムは、Ｎｚファクターが
１．０以下であることが好ましく、特に−１．５≦Ｎｚ≦１．０の範囲内であることが好ましい。
ここで、上記Ｎｚファクターは屈折率楕円体の形状を規定するパラメーターであり、面内方向において互いに直交する任意のｘ、ｙ方向の屈折率ｎｘ、ｎｙと、厚み方向の屈折率ｎｚとにより、以下の式で表されるものである。
Ｎｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）
なお、上記Ｎｚファクターは、例えば、王子計測機器株式会社製 ＫＯＢＲＡ−ＷＲを用い、平行ニコル回転法によって上記ｎｘ、ｎｙ、および、ｎｚを測定した後、上記式にしたがって算出することにより求めることができる。

また、本発明の位相差フィルムのＲｅおよびＲｔｈについても、本発明の位相差フィルムの用途等に応じて適宜決定することができるが、なかでも本発明の位相差フィルムは波長５５０ｎｍにおけるＲｅが０ｎｍ〜３００ｎｍの範囲内であることが好ましい。
また、本発明の位相差フィルムは波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−６００≦Ｒｔｈ＜１５０の範囲内であることが好ましい。

なお、本発明の位相差フィルムのＲｅの波長依存性は、波長が短くなるほどＲｅが小さくなる逆分散型であってもよく、波長が短くなるほどＲｅが大きくなる正分散型であってもよく、または、Ｒｅに波長依存性を有さないフラット型であってもよい。なかでも、本発明の位相差フィルムは、上記波長分散が逆分散型であることが好ましい。これにより、本発明の位相差フィルムを、より広範な波長領域において液晶表示装置の視野角補償機能を発現できるものにすることができるからである。

本発明の位相差フィルムのＲｅの波長依存性が上記逆分散型である場合、Ｒｅ比としては、０．６以上、１．０未満の範囲内であることが好ましく、特に０．８〜０．９の範囲内が好ましい。

本発明の位相差フィルムの形態は特に限定されるものではなく、例えば、本発明の位相差フィルムを用いる液晶表示装置の画面サイズに合致したシート状であってもよく、または、長尺状であってもよい。

４．位相差フィルムの製造方法
次に、本発明の位相差フィルムの製造方法について説明する。本発明の位相差フィルムの製造方法としては、上記構成を有する位相差フィルムを製造できる方法であれば特に限定されるものではない。このような方法としては、例えば、次の３つの方法を例示することができる。
第１の方法は、セルロース誘導体からなる透明基板を用い、上記ウレタン系樹脂または波長依存性が正分散型を示す光学異方性材料を含有する光学異方性層形成用塗工液を上記透明基板上に塗工することにより光学異方性フィルムを作製する光学異方性フィルム作製工程と、上記光学異方性フィルム作製工程によって作製された光学異方性フィルムを延伸する延伸工程と、上記延伸工程によって延伸された光学異方性フィルムの光学異方性層上に、上記液晶材料を含有する位相差層形成用塗工液を塗工することにより、上記光学異方性層上に位相差層を形成する位相差層形成工程とを有する方法である。なお、上記位相差層形成工程は、上記光学異方性フィルムの上記光学異方性層が形成された面とは反対側の面上に位相差層を形成するものであってもよい。
第２の方法は、セルロース誘導体からなる透明基板を用い、上記ウレタン系樹脂または波長依存性が正分散型を示す光学異方性材料を含有する光学異方性層形成用塗工液を上記透明基板上に塗工することにより光学異方性フィルムを作製する光学異方性フィルム作製工程と、上記光学異方性フィルム作製工程によって作製された光学異方性フィルムの光学異方性層上に、上記液晶材料を含有する位相差層形成用塗工液を塗工することにより、上記光学異方性層上に位相差層を形成する位相差層形成工程と、上記光学異方性フィルムおよび上記位相差層の積層体を延伸する延伸工程とを有する方法である。
なお、上記位相差層形成工程は、上記光学異方性フィルムの上記光学異方性層が形成された面とは反対側の面上に位相差層を形成するものであってもよい。
第３の方法は、セルロース誘導体からなる透明基板を用い、上記ウレタン系樹脂または波長依存性が正分散型を示す光学異方性材料を含有する光学異方性層形成用塗工液を上記透明基板上に塗工することにより光学異方性フィルムを作製する光学異方性フィルム作製工程と、上記光学異方性フィルム作製工程によって作製された光学異方性フィルムを延伸する延伸工程と、垂直配向膜を備える基板上に、上記液晶材料を含有する位相差層を形成した後、上記位相差層のみを上記光学異方性フィルムの光学異方性層上に粘着剤を介して接着させる位相差層形成工程とを有する方法である。なお、上記位相差層形成工程は、上記光学異方性フィルムの上記光学異方性層が形成された面とは反対側の面上に位相差層を形成するものであってもよい。

本発明の位相差フィルムは、上記のいずれの方法であっても製造することができるが、なかでも、上記第１の方法によれば、より簡便に上記第１態様の光学異方性フィルムが用いられた位相差フィルムを得ることができる。

ここで、上記第１の方法および第２の方法において、上記光学異方性材料として重合性官能基を有する棒状化合物を用いる場合、光学異方性材料が重合処理されることにより安定した光学異方性層を形成することが可能になるが、上記光学異方性材料に重合処理を施すタイミングとしては、上記延伸工程の前であってもよく、あるいは、後であってもよい。

なお、延伸工程に用いる装置、および、加工方法等にとしては、通常の合成樹脂フィルムの延伸加工に用いられるものと基本的には同様の装置を用い、光学異方性フィルムの構成材料、所望のレターデーション値を勘案して、適宜条件にて延伸すればよい。
延伸は、一軸延伸処理、二軸延伸処理のいずれを行ってもよい。また、二軸延伸処理は、アンバランス二軸延伸処理を実施してもよい。アンバランス二軸延伸では、ポリマーフィルムをある方向に一定倍率延伸し、それと垂直な方向にそれ以上の倍率に延伸する。二方向の延伸処理は、同時に実施してもよい。
また、延伸処理は、特に限定されない。例えばロール延伸法、長間隙沿延伸法、テンター延伸法、チューブラー延伸法等の任意の延伸方法により適宜行うことができる。延伸処理に当たり、高分子フィルムは、例えばガラス転移点温度、以上溶融温度（乃至は融点温度）以下などに加熱されることが好ましい。
さらに、上記延伸工程をＲｏｌｌ ｔｏ Ｒｏｌｌプロセスで実施する場合、上記延伸処理の態様としては、フィルムの搬送方向に対して平行方向に延伸する態様（縦延伸）であってもよく、または、フィルムの搬送方向に対して略垂直方向に延伸する態様（横延伸）であってもよい。
延伸処理の延伸倍率は、得たいレターデーション値により適宜決定され、特に限定されない。フィルムの面内方向の各点におけるレターデーション値を均一にする点からは、１．０３〜２倍の範囲にあることが好ましい。
その他、上記各方法における各工程の具体的な実施方法については、一般的に液晶表示装置用の位相差フィルムを作製する際に用いられる方法を用いることができるため、ここでの詳しい説明は省略する。

Ｂ．輝度向上フィルム
次に、本発明の輝度向上フィルムについて説明する。本発明の輝度向上フィルムは、上記本発明に係る位相差フィルムと、上記位相差フィルムが備える上記位相差層上に形成され、コレステリック配列した液晶材料を含有するコレステリック液晶層とを有することを特徴とするものである。

このような本発明の輝度向上フィルムについて図を参照しながら説明する。図４は本発明の輝度向上フィルムの一例を示す概略図である。図４に例示するように本発明の輝度向上フィルム２０は、位相差フィルム１０と、上記位相差フィルム１０が備える位相差層２上に形成され、コレステリック配列した液晶材料を含有するコレステリック液晶層２１を有するものである。
このような例において、本発明の輝度向上フィルム２０は、上記位相差フィルム１０として、本発明に係る位相差フィルムが用いられていることを特徴とするものである。

本発明によれば、上記本発明に係る位相差フィルムが用いられていることにより、偏光板保護フィルムとして用いることにより、輝度向上機能に優れた輝度向上フィルムを得ることができる。

本発明の輝度向上フィルムは、少なくとも上記位相差フィルムおよび上記コレステリック液晶層を有するものである。
以下、本発明の輝度向上フィルムに用いられる各構成について詳細に説明する。
なお、本発明に用いられる位相差フィルムについては、上記「Ａ．位相差フィルム」の項において説明したものと同様であるため、ここでの説明は省略する。

１．コレステリック液晶層
まず、本発明に用いられるコレステリック液晶層について説明する。本発明に用いられるコレステリック液晶層は、上述した位相差フィルムが有する位相差層上に形成され、コレステリック配列した液晶材料を有するものである。
以下、本発明に用いられるコレステリック液晶層について詳細に説明する。

本発明に用いられるコレステリック液晶層は、左回り又は右回りのいずれか一方の円偏光を反射して他の光は透過する特性を有するものであれば特に限定されるものではない。なかでも本発明に用いられるコレステリック液晶層は、可視光の少なくとも一部の帯域において円偏光二色性を示すもの、または、可視光の２００ｎｍ以上の帯域において円偏光二色性を示すものが好ましい。

このようなコレステリック液晶層は、例えば、液晶ポリマーの配向物、液晶モノマーの配向物の重合層からなるものを挙げることができる。また、本発明に用いられるコレステリック液晶層はこれらの複合層からなるものであってもよい。本発明に用いられるコレステリック液晶層の具体例としては、例えば、特開２００４−１９８４７８号公報に記載されているものを挙げることができる。

また、本発明に用いられるコレステリック液晶層の厚みとしては、上記コレステリック液晶層に所望の選択反射機能を付与できる範囲であれば特に限定されるものではない。なかでも本発明においては、１μｍ〜３０μｍの範囲内であることが好ましく、特に２μｍ〜１５μｍの範囲内であることが好ましい。

なお、本発明に用いられるコレステリック液晶層には上記液晶ポリマー以外のポリマーや安定剤、可塑剤などの無機化合物、有機化合物、金属やその化合物などの１種以上の添加剤を必要に応じて配合することができる。

また、本発明に用いられるコレステリック液晶層は、反射波長が相違するものの組み合わせにして２層又は３層以上重畳した配置構造とすることにより、可視光領域等の広い波長範囲で円偏光を反射するものとしてもよい。

３．輝度向上フィルムの製造方法
本発明の輝度向上フィルムの製造方法としては、上記構成を有する輝度向上フィルムを製造できる方法であれば特に限定されるものではない。このような方法としては、例えば、上記本発明の位相差フィルムを用い、上記位相差フィルムが備える位相差層上に、ネマチック液晶材料およびカイラル剤を含有するコレステリック液晶層形成用塗工液を塗工することにより、上記位相差層上にコレステリック液晶層を形成する方法を挙げることができる。
なお、上記コレステリック液晶層形成用塗工液を用いて上記コレステリック液晶層を形成する方法としては、通常、上記コレステリック液晶層形成用塗工液を上記位相差層上に塗工し、次いでこれを乾燥した後に、上記液晶材料をコレステリック配列させる方法が用いられる。また、上記液晶材料として重合性官能基を有する材料が用いられている場合は、上記コレステリック配列を形成した後に、紫外線照射等によって重合処理がなされることになる。このような方法の詳細については、一般的にコレステリック液晶層を形成するために用いられている公知の方法と同様であるため、ここでの詳しい説明は省略する。

Ｃ．偏光板
次に、本発明の偏光板について説明する。本発明の偏光板は、その構成により２つの態様に分類することができる。
以下、各態様に分けて本発明の偏光板について順に説明する。

Ｃ−１：第１態様の偏光板
まず、本発明の第１態様の偏光板について説明する。本態様の偏光板は、上記本発明に係る位相差フィルムが偏光板保護フィルムとして用いられたものである。
すなわち、本態様の偏光板は、上記本発明に係る位相差フィルムと、上記位相差フィルムが備える上記光学異方性フィルム上であって、上記位相差層が形成された側とは反対側の面上に形成された偏光子と、上記偏光子上に形成された偏光板保護フィルムと、を有することを特徴とするものである。

このような本態様の偏光板について図を参照しながら説明する。図５は本態様の偏光板の一例を示す概略図である。図５に例示するように本態様の偏光板３０は、位相差フィルム１０と、上記位相差フィルム１０が備える光学異方性フィルム１上に形成された、偏光子３１と、上記偏光子３１上に形成された偏光板保護フィルム３２とを有するものである。
このような例において、本態様の偏光板３０は、上記位相差フィルム１０として本発明の位相差フィルム１０が用いられていることを特徴とするものである。

本態様によれば、片方の偏光板保護フィルムとして上記本発明に係る位相差フィルムが用いられていることにより、耐久性に優れ、かつ、ＩＰＳ方式の液晶表示装置に対する視野角補償機能を備える偏光板を得ることができる。

本態様の偏光板は、少なくとも上記位相差フィルム、偏光子、および、偏光板保護フィルムを有するものである。
以下、本態様の偏光板に用いられる各構成について説明する。
なお、本態様に用いられる上記位相差フィルムについては、上記「Ａ．位相差フィルム」の項において説明したものと同様であるため、ここでの説明は省略する。

１．偏光板保護フィルム
まず、本態様に用いられる偏光板保護フィルムについて説明する。本態様に用いられる偏光板保護フィルムは、本態様の偏光板において偏光子が空気中の水分等に曝されることを防止する機能と、偏光子の寸法変化を防止する機能とを有するものである。

本態様に用いられる偏光板保護フィルムは、本態様の偏光板において上記偏光子を保護することができ、かつ、所望の透明性を有するものであれば特に限定されるものではない。なかでも本態様に用いられる偏光板保護フィルムは、可視光領域における透過率が８０％以上であるものが好ましく、９０％以上であるものがより好ましい。
ここで、上記偏光板保護フィルムの透過率は、ＪＩＳ Ｋ７３６１−１（プラスチックー透明材料の全光透過率の試験方法）により測定することができる。

本態様に用いられる偏光板保護フィルムを構成する材料としては、例えば、セルロース誘導体、シクロオレフィン系樹脂、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルアルコール、ポリイミド、ポリアリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、アモルファスポリオレフィン、変性アクリル系ポリマー、ポリスチレン、エポキシ樹脂、ポリカーボネート、ポリエステル類等を挙げることができる。
なかでも本態様においては、上記樹脂材料としてセルロース誘導体またはシクロオレフィン系樹脂を用いることが好ましい。

上記セルロース誘導体としては、例えば、上記「Ａ．位相差フィルム」の項において光学異方性フィルムに用いられる透明基板を構成するセルロース誘導体として説明したものと同様のものを用いることができる。

一方、上記シクロオレフィン系樹脂としては、環状オレフィン（シクロオレフィン）からなるモノマーのユニットを有する樹脂であれば特に限定されるものではない。このような上記環状オレフィンからなるモノマーとしては、例えば、ノルボルネンや多環ノルボルネン系モノマー等を挙げることができる。
また、本態様に用いられるシクロオレフィン系樹脂としては、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）またはシクロオレフィンコポリマー（ＣＯＣ）のいずれであっても好適に用いることができる

本態様に用いられるシクロオレフィン系樹脂は上記環状オレフィンからなるモノマーの単独重合体であってもよく、または、共重合体であってもよい。

また、本態様に用いられるシクロオレフィン系樹脂は、２３℃における飽和吸水率が１質量％以下であるものが好ましく、なかでも０．１質量％〜０．７質量％の範囲内であるものが好ましい。このようなシクロオレフィン系樹脂を用いることにより、本態様の偏光板を吸水による光学特性の変化や寸法の変化がより生じにくいものとすることができるからである。
ここで、上記飽和吸水率は、上記吸水率は、ＡＳＴＭＤ５７０に準拠し２３℃の水中で１週間浸漬して増加重量を測定することにより求められる。

さらに、本態様に用いられるシクロオレフィン系樹脂は、ガラス転移点が１００℃〜２００℃の範囲内であるものが好ましく、特に１００℃〜１８０℃の範囲内であるものが好ましく、なかでも１００℃〜１５０℃の範囲内であるものが好ましい。ガラス転移点が上記範囲内であることにより、本態様の偏光板を耐熱性および加工適性により優れたものにできるからである。

本態様に用いられるシクロオレフィン系樹脂からなる偏光板保護フィルムの具体例としては、例えば、Ｔｉｃｏｎａ社製 Ｔｏｐａｓ、ジェイエスアール社製 アートン、日本ゼオン社製 ＺＥＯＮＯＲ、日本ゼオン社製 ＺＥＯＮＥＸ、三井化学社製 アペル等を挙げることができる。

本態様に用いられる偏光板保護フィルムとしては、上記セルロース誘導体からなるもの、および、上記シクロオレフィン系樹脂からなるもののいずれであっても好適に用いることができるが、なかでも本態様においてはシクロオレフィン系樹脂からなるものを用いることが好ましい。その理由は次の通りである。すなわち、本態様の偏光板は、一方の偏光板保護フィルムとして上記本発明に係る位相差フィルムが用いられたものであるが、上記本発明に係る位相差フィルムは、セルロース誘導体からなる透明基板が用いられた光学異方性フィルムが用いられているものである。したがって、上記偏光板保護フィルムとして、上記セルロース誘導体からなるものを用いると、本態様の偏光板における両面の偏光板保護フィルムがセルロース誘導体からなるものになり、その結果として、光学特性の耐久性等が損なわれてしまう恐れがある。
この点、上記シクロオレフィン系樹脂やアクリル系樹脂からなる偏光板保護フィルムを用いることにより、本態様の偏光板を、片面にシクロオレフィン系樹脂やアクリル系樹脂からなる偏光板保護フィルムが用いられ、他の面にセルロース誘導体が用いられた本発明の位相フィルムが用いられることになるため、上述したような懸念が少ないからである。

本発明における偏光板保護フィルムの構成は、単一の層からなる構成に限られるものではなく、複数の層が積層された構成を有してもよい。
また、複数の層が積層された構成を有する場合は、同一組成の層が積層されてもよく、また、異なった組成を有する複数の層が積層されてもよい。

２．偏光子
次に、本態様に用いられる偏光子について説明する。本態様に用いられる偏光子は、本態様の偏光板に偏光特性を付与する機能を有するものである。

本態様に用いられる偏光子は、本態様の偏光板に所望の偏光特性を付与できるものであれば特に限定されるものではなく、一般的に液晶表示装置の偏光板に用いられるものを特に制限なく用いることができる。本態様においては、このような偏光子として、通常、ポリビニルアルコールフィルムが延伸されてなり、ヨウ素を含有する偏光子が用いられる。

３．偏光板の製造方法
本態様の偏光板の製造方法としては、上記構成を有する偏光板を製造できる方法であれば特に限定されるものではない。このような方法としては、通常、上記偏光子に接着剤を介して、上記偏光板保護フィルムと、上記位相差フィルムとを貼り合わせる方法が用いられる。
また、上記位相差フィルムと、上記偏光子とは、通常、上記位相差フィルムの遅相軸の方向と、上記偏光子の吸収軸の方向とが互いに直行するように貼り合わされる。
なお、上記偏光板保護フィルム、上記位相差フィルム、および、上記偏光子を貼り合わせる方法については、一般的に液晶表示装置に用いられる偏光板を製造する際に用いられる方法を用いることができる。このような方法としては、例えば、特許第３１３２１２２号公報に記載された方法等を用いることができる。

また、本態様のような偏光板を工業的に作製する場合、通常、長尺に形成された偏光子、偏光板保護フィルム、および、位相差フィルムを用い、長尺の状態でこれらを貼り合わせることにより、ロール状に巻き取られた形態の偏光板を製造する方法が用いられる。このような方法により本発明の偏光板を製造する場合、上記偏光子として、吸収軸の方向が長手方向に対して平行であるものを用い、上記位相差フィルムとしては遅相軸の方向が長手方向に対して垂直であるものを用いることにより、Ｒｏｌｌ ｔｏ Ｒｏｌｌプロセスで効率よく本発明の偏光板を製造することができる。

Ｃ−２：第２態様の偏光板
次に、本発明の第２態様の偏光板について説明する。本態様の偏光板は、偏光板保護フィルムとして上記本発明に係る輝度向上フィルムが用いられたものである。
すなわち、本態様の偏光板は、上記本発明に係る輝度向上フィルムと、上記輝度向上フィルムが備える上記光学異方性フィルム上であって、上記位相差層が形成された側とは反対側の面上に形成された偏光子と、上記偏光子上に形成された偏光板保護フィルムと、を有することを特徴とするものである。

このような本態様の偏光板について図を参照しながら説明する。図６は本態様の偏光板の一例を示す概略図である。図６に例示するように本態様の偏光板４０は、輝度向上フィルム２０と、上記輝度向上フィルム２０が備える光学異方性フィルム１上に形成された、偏光子４１と、上記偏光子４１上に形成された偏光板保護フィルム４２とを有するものである。
このような例において、本態様の偏光板４０は、上記輝度向上フィルム２０として本発明の輝度向上フィルムが用いられていることを特徴とするものである。

本態様によれば、片方の偏光板保護フィルムとして上記本発明に係る輝度向上フィルムが用いられていることにより、耐久性に優れ、かつ、輝度向上機能を備える偏光板を得ることができる。

本態様の偏光板は、少なくとも上記輝度向上フィルム、偏光子、および、偏光板保護フィルムを有するものである。
なお、本態様に用いられる上記輝度向上フィルムについては、上記「Ｂ．輝度向上フィルム」の項において説明したものと同様であるため、ここでの説明は省略する。また、本態様に用いられる偏光子および偏光板保護フィルムについては、上記「Ｃ−１：第１態様の偏光板」の項において説明したものと同様であるため、ここでの説明は省略する。

本態様の偏光板の製造方法としては、上記構成を有する偏光板を製造できる方法であれば特に限定されるものではない。このような方法としては、通常、上記偏光子に接着剤を介して、上記偏光板保護フィルムと、上記輝度向上フィルムとを貼り合わせる方法が用いられる。
また、上記輝度向上フィルムと、上記偏光子とは、通常、上記輝度向上フィルムの遅相軸の方向と、上記偏光子の吸収軸の方向とが４５°となるように貼り合わされる。
なお、上記偏光板保護フィルム、上記輝度向上フィルム、および、上記偏光子を貼り合わせる方法については、一般的に液晶表示装置に用いられる偏光板を製造する際に用いられる方法と同様であるため、ここでの詳しい説明は省略する。

Ｄ．位相差フィルムの製造方法
次に、本発明の位相差フィルムの製造方法について説明する。ここで、本発明の位相差フィルムの製造方法は、その態様により４態様に大別することができる。したがって、以下、各態様に分けて本発明の位相差フィルムの製造方法について順に説明する。

Ｄ−１．第１態様の位相差フィルムの製造方法
まず、本発明の第１態様の位相差フィルムの製造方法について説明する。本態様の位相差フィルムの製造方法は、セルロース誘導体からなる透明基板を用い、上記透明基板上にレターデーションの波長依存性が正分散型を示す光学異方性材料が溶媒に溶解された光学異方性層形成用塗工液を塗工することにより、上記透明基板上に光学異方性層が形成された光学異方性フィルムを形成する光学異方性フィルム形成工程と、上記光学異方性フィルム形成工程によって形成された光学異方性フィルムを延伸する延伸工程と、上記延伸工程によって延伸された光学異方性フィルムの光学異方性層上に、液晶材料を含有し、面内方向において互いに直交する任意のｘ、ｙ方向の屈折率ｎｘ、ｎｙと、厚み方向の屈折率ｎｚとの間にｎｘ≦ｎｙ＜ｎｚの関係が成立する位相差層を形成する位相差層形成工程と、を有することを特徴とするものである。

このような本態様の位相差フィルムの製造方法について図を参照しながら説明する。図７は、本態様の位相差フィルムの製造方法の一例を示す概略図である。図７に例示するように、本態様の位相差フィルムの製造方法は、セルロース誘導体からなる透明基板５１ａを用い（図７（ａ））、上記透明基板５１ａ上にレターデーションの波長依存性が正分散型を示す光学異方性材料が溶媒に溶解された光学異方性層形成用塗工液を塗工することにより、上記透明基板５１ａ上に光学異方性層５１ｂが形成された光学異方性フィルム５１を形成する光学異方性フィルム形成工程と（図７（ｂ））、上記光学異方性フィルム形成工程によって形成された上記光学異方性フィルム５１を延伸する延伸工程（図７（ｃ））と、上記延伸工程によって延伸された光学異方性フィルム５１の光学異方性層５１ｂ上に、液晶材料を含有し、面内方向において互いに直交する任意のｘ、ｙ方向の屈折率ｎｘ、ｎｙと、厚み方向の屈折率ｎｚとの間にｎｘ≦ｎｙ＜ｎｚの関係が成立する位相差層５２を形成する位相差層形成工程と（図７（ｄ））、を有し、光学異方性フィルム５１上に、位相差層５２が形成された位相差フィルム５０を製造するものである（図７（ｅ））。

本態様によれば、上記透明基板としてセルロース誘導体からなるものが用いられることにより、例えば、本態様により製造される位相差フィルムを内側の偏光板保護フィルムとして用いた場合に、外側の偏光板保護フィルムとしてシクロオレフィン系樹脂からなる偏光板保護フィルムを用いることができるため、耐久性に優れた偏光板を得ることができる。このようなことから、本態様によれば耐久性に優れた偏光板を作製可能な位相差フィルムを製造することができる。

本態様の位相差フィルムの製造方法は、少なくとも、上記光学異方性フィルム形成工程と、上記延伸工程と、上記位相差層形成工程とを有するものであり、必要に応じて他の工程を有してもよいものである。
以下、本態様の位相差フィルムの製造方法に用いられる各工程について順に説明する。

１．光学異方性フィルム形成工程
まず、本態様に用いられる光学異方性フィルム形成工程について説明する。本工程は、セルロース誘導体からなる透明基板を用い、上記透明基板上にレターデーションの波長依存性が正分散型を示す光学異方性材料が溶媒に溶解された光学異方性層形成用塗工液を塗工することにより、上記透明基板上に光学異方性層が形成された光学異方性フィルムを形成する工程であり、上記光学異方性層形成用塗工液の溶媒として、沸点が１００℃以上のケトン系溶媒を含むものが用いられることを特徴とするものである。本工程は、上記光学異方性層形成用塗工液の溶媒として、上記ケトン系溶媒を含むものが用いられていることにより、ヘイズが小さい光学異方性フィルムを形成することができるものである。
以下、このような光学異方性フィルム形成工程について詳細に説明する。

（１）光学異方性層形成用塗工液
最初に、本工程に用いられる光学異方性層形成用塗工液について説明する。本工程に用いられる光学異方性層形成用塗工液は、レターデーションの波長依存性が正分散型を示す光学異方性材料が、沸点が１００℃以上のケトン系溶媒を含む溶媒に溶解されたものである。

ａ．溶媒
上記光学異方性層形成用塗工液に用いられる溶媒としては、上記光学異方性材料を所望の濃度で溶解可能なものであれば特に限定されるものではない。なかでも本工程においては、上記溶媒として、沸点が１００℃以上のケトン系溶媒を含むものが用いられることが好ましい。上記光学異方性層形成用塗工液に用いられる溶媒として、沸点が１００℃以上のケトン系溶媒を含むものが用いられることにより、上記光学異方性フィルム形成工程においてヘイズが小さい光学異方性フィルムを形成することが可能になるからである。

ここで、本態様おいて上記光学異方性層形成用塗工液に用いられる溶媒として、沸点が１００℃以上のケトン系溶媒を含むものが用いられていることにより、上記光学異方性フィルム形成工程においてヘイズが小さい光学異方性フィルムを形成することが可能になる理由については明らかではないが、次のような理由によるものであると考えられる。
すなわち、沸点が１００℃以上のケトン系溶媒を用いることにより、上記光学異方性層形成用塗工液を用いて光学機能層を形成する際に、塗膜の乾燥速度をより遅くすることができるため、基材から溶媒が揮発する際に光学異方性材料の配向性を劣化しにくくし、光学異方性層の内部散乱を抑制することができるため、より白濁の少ない光学機能層を形成することができると考えられる。

上記溶媒として沸点が１００℃以上のケトン系溶媒を含むものが用いられる場合、上記溶媒中に含まれる上記ケトン系溶媒の含有量としては、後述する光学異方性材料を所望の濃度で溶解できる範囲であれば特に限定されるものではない。なかでも本工程に用いられる溶媒としては、上記ケトン系溶媒の含有量が２０質量％〜１００質量％の範囲内であるものが好ましく、特に５０質量％〜１００質量％の範囲内であるものが好ましい。上記ケトン系溶媒の含有量が上記範囲内であることにより、本工程においてさらにヘイズが小さい光学異方性フィルムを形成することが可能になるからである。

なお、本工程に用いられる溶媒中の上記ケトン系溶媒の含有量は、ガスクロマトグラフィー法により、以下の条件で測定した値を用いるものとする。
（１）測定装置 島津製作所
（２）検出器 ＦＩＤ
（３）カラム ＳＢＳ−２００ ３ｍ
（４）カラム温度 １００℃
（５）インジェクション温度 １５０℃
（６）キャリアガス Ｈｅ １５０ｋＰａ
（７）水素圧 ６０ｋＰａ
（８）空気圧 ５０ｋＰａ

また、本工程に用いられるケトン系溶媒は沸点が１００℃以上であるものであれば特に限定されるものではなく、後述する光学異方性材料や、ケトン系溶媒と併用される他の溶媒の種類等に応じて適宜選択して用いることができる。なかでも本工程に用いられるケトン系溶媒は、沸点が１００℃以上のものが好ましく、特に１２０℃以上であるものが好ましく、さらに１３０℃〜１７０℃の範囲内であるものが好ましい。

また、本発明に用いられるケトン系溶媒は、セルロースアセテートに対して所望の溶解性を示すものが好ましい。より具体的にはセルロースアセテートに対する溶解度パラメーター（ＳＰ値）が８（Ｃａｌ／ｃｍ^−３）^１／２〜１３（Ｃａｌ／ｃｍ^−３）^１／２の範囲であることが好ましく、なかでも９（Ｃａｌ／ｃｍ^−３）^１／２〜１２（Ｃａｌ／ｃｍ^−３）^１／２の範囲内であるものが好ましい。

本工程に用いられるケトン系溶媒との具体例としては、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン等を挙げることができる。本工程においては、これらのいずれのケトン系溶媒であっても好適に用いることができるが、なかでもシクロペンタノンまたはシクロヘキサノンを用いることが好ましい。上記ケトン系溶媒として、シクロペンタノンまたはシクロヘキサノンが用いられていることにより、上記光学異方性フィルム形成工程において、よりヘイズが小さい光学異方性フィルムを形成することができる結果、本態様によりさらに透明性に優れた位相差フィルムを製造することが可能になるからである。

なお、本工程に用いられるケトン系溶媒は、１種類であってもよく、または、２種類以上であってもよい。

本工程に用いられる溶媒が、上記ケトン系溶媒を含有する態様としては、上記ケトン系溶媒のみからなる態様であってもよく、または、上記ケトン系溶媒が他の溶媒と混合された態様であってもよい。

本工程に用いられる溶媒が、上記ケトン系溶媒が他の溶媒と混合された態様のものである場合、上記他の溶媒としては、本工程に用いられる溶媒の後述する光学異方性材料に対する溶解性を所望の範囲にできるものであれば特に限定されるものではない。このような他の溶媒としては、例えば、メチルエチルケトン、イソプロピルアルコール、ノルマルプロピルアルコール、トルエン、イソブタノール、Ｎ−ブタノール、および、酢酸エチル等を挙げることができる。

また、本工程に用いられる上記他の溶媒は１種類のみであってもよく、または、２種類以上であってもよい。

ｂ．光学異方性材料
本工程に用いられる光学異方性材料は、レターデーションの波長依存性が正分散型を示すものであれば特に限定されるものではない。ここで、本工程に用いられる光学異方性材料については、上記「Ａ．位相差フィルム」の項において説明したものと同様であるため、ここでの説明は省略する。

本工程に用いられる光学異方性層形成用塗工液中の上記光学異方性材料の含有量としては、本工程において後述する透明基板上に光学異方性層形成用塗工液を塗工する塗布方式等に応じて、上記光学異方性層形成用塗工液の粘度を所望の範囲内にできる範囲であれば特に限定されるものではない。なかでも本工程においては、上記含有量が５質量％〜５０質量％の範囲内であることが好ましく、特に５質量％〜４０質量％の範囲内であることが好ましく、さらに５質量％〜３０質量％の範囲内であることが好ましい。

ｃ．光学異方性層形成用塗工液
本工程に用いられる光学異方性層形成用塗工液には、上記溶媒および上記光学異方性材料以外に他の化合物が含まれていてもよい。このような他の化合物としては、例えば、ポリジメチルシロキサン、メチルフェニルシロキサン、有機変性シロキサン等のシリコン形レベリング剤；ポリアルキルアクリレート、ポリアルキルビニルエーテル等の直鎖状重合物；フッ素系界面活性剤、炭化水素系界面活性剤等の界面活性剤；テトラフルオロエチレン等のフッ素系レベリング剤；光重合開始剤等を挙げることができる。
なかでも本工程においては、上記光学異方性材料として、光照射により重合する重合性官能基を有する棒状化合物を用いる場合に、上記他の化合物として光重合開始剤を含むことが好ましい。

ここで、本態様に用いられる光重合開始剤については、上記「Ａ．位相差フィルム」の項において説明したものと同様であるため、ここでの説明は省略する。

また、上記光重合開始剤を用いる場合には、光重合開始助剤を併用することができる。このような光重合開始助剤としては、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン等の３級アミン類や、２−ジメチルアミノエチル安息香酸、４−ジメチルアミド安息香酸エチル等の安息香酸誘導体を例示することができるが、これらに限られるものではない。

さらに上記光学異方性層形成用塗工液には、下記に示すような化合物を添加することができる。添加できる化合物としては、例えば、多価アルコールと１塩基酸または多塩基酸を縮合して得られるポリエステルプレポリマーに、（メタ）アクリル酸を反応させて得られるポリエステル（メタ）アクリレート；ポリオール基と２個のイソシアネート基を持つ化合物を互いに反応させた後、その反応生成物に（メタ）アクリル酸を反応させて得られるポリウレタン（メタ）アクリレート；ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、ポリカルボン酸ポリグリシジルエステル、ポリオールポリグリシジルエーテル、脂肪族または脂環式エポキシ樹脂、アミノ基エポキシ樹脂、トリフェノールメタン型エポキシ樹脂、ジヒドロキシベンゼン型エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂と、（メタ）アクリル酸を反応させて得られるエポキシ（メタ）アクリレート等の光重合性化合物；アクリル基やメタクリル基を有する光重合性の液晶性化合物等が挙げられる。

（２）透明基板
本工程に用いられる透明基板は、セルロース誘導体からなるものである。ここで、本工程に用いられる透明基板については、上記「Ａ．位相差フィルム」の項において説明したものと同様であるため、ここでの説明は省略する。

（３）光学異方性層の形成方法
次に、本工程において上記透明基板上に上記光学異方性層形成用塗工液を塗工することにより、光学異方性層を形成する方法について説明する。

本工程において、上記透明基板上に光学異方性層形成用塗工液を塗工する方法としては、厚みが均一で、所望の平面性を達成できる方法であれば特に限定されるものではない。このような方法としては、例えば、グラビアコート法、リバースコート法、ナイフコート法、ディップコート法、スプレーコート法、エアーナイフコート法、スピンコート法、ロールコート法、プリント法、浸漬引き上げ法、カーテンコート法、ダイコート法、キャスティング法、バーコート法、エクストルージョンコート法、Ｅ型塗布方法などを例示することができる。

また、本工程において、透明基板上に上記光学異方性層形成用塗工液を塗布することにより形成される塗膜の厚みについても、所望の光学スペック（Ｒｅや波長依存性）を達成できる範囲内であれば特に限定されるものではない。なかでも本工程においては０．１μｍ〜５０μｍの範囲内であることが好ましく、特に０．５μｍ〜３０μｍの範囲内であることが好ましく、さらに０．５μｍ〜２０μｍの範囲内であることが好ましい。光学異方性層形成用塗工液の塗膜の厚みが上記範囲より薄いと本工程により形成される光学異方性層の平面性が損なわれてしまう場合があり、また厚みが上記範囲より厚いと、溶媒の乾燥負荷が増大し、生産性が低下してしまう可能性があるからである。

また、本工程において上記光学異方性層形成用塗工液の塗膜を乾燥する方法としては、例えば、加熱乾燥方法、減圧乾燥方法、ギャップ乾燥方法等、一般的に用いられる乾燥方法を用いることができる。また、本工程に用いられる乾燥方法は、単一の方法に限られず、例えば、残留する溶媒量に応じて順次乾燥方式を変化させる等の態様により、複数の乾燥方式を採用してもよい。

なお、上記光学異方性材料として重合性官能基を有する化合物を用いる場合、上記光学異方性層形成用塗工液の塗膜を乾燥した後に、上記光学異方性材料を重合させる重合処理を行うことになる。このような重合処理としては、上記重合性官能基の種類に応じて任意に決定すればよい。このような重合処理としては、通常、紫外線または可視光の照射処理や、加熱処理等が用いられる。
上記重合処理を行うタイミングとしては、本工程において上記光学異方性層形成用塗工液の塗膜を乾燥した後に行ってもよく、あるいは、上記光学異方性層形成用塗工液の塗膜を乾燥した後、後述する延伸工程を経てから行ってもよい。

２．延伸工程
次に、本態様に用いられる延伸工程について説明する。本工程は、上記光学異方性フィルム形成工程によって形成された光学異方性フィルムを延伸する工程である。

本工程において、上記光学異方性フィルムを延伸する態様としては、上記光学異方性フィルムに所望の光学異方性を付与できる方法であれば特に限定されるものではない。したがって、本工程に用いられる延伸態様は一軸延伸であってもよく、または、二軸延伸であってもよい。なかでも本工程においては、上記光学異方性フィルムに、面内方向における遅相軸方向の屈折率ｎｘと、面内方向における進相軸方向の屈折率ｎｙとの間に、ｎｘ＞ｎｙの関係が成立する光学異方性を発現させるような態様で、上記光学異方性フィルムを延伸することが好ましい。

本工程において上記光学異方性フィルムを二軸延伸する場合は、アンバランス二軸延伸法を用いてもよい。また、アンバランス二軸延伸法を用いる場合は、通常、上記光学異方性フィルムをある方向に一定倍率延伸し、それと垂直な方向にそれ以上の倍率に延伸する方法が用いられる。なお、上記二方向の延伸処理は、同時に実施してもよい。

本工程において、上記光学異方性フィルムを延伸する延伸倍率としては、上記光学異方性フィルムに所望の光学異方性を付与できる範囲内であれば特に限定されるものではない。なかでも本工程においては、１．０１倍〜１．４倍の範囲内であることが好ましく、特に１．１倍〜１．４倍の範囲内であることが好ましく、さらに１．１５倍〜１．３５倍の範囲内であることが好ましい。

また、本工程に用いられる延伸方法としては、上記光学異方性フィルムを所望の延伸倍率に延伸できる方法であれば特に限定されるものではない。本工程に用いられる延伸方法としては、例えば、ロール延伸法、長間隙沿延伸法、テンター延伸法、チューブラー延伸法等を挙げることができる。なお、偏光子とのＲｏｌｌ ｔｏ Ｒｏｌｌの貼り合せを行うためには、テンター延伸法が望ましい。

なお、本工程においては、上記光学異方性フィルムを、ガラス転移点温度、以上溶融温度（乃至は融点温度）以下に加温した状態で延伸することが好ましい。

３．位相差層形成工程
次に、本態様に用いられる位相差層形成工程について説明する。本工程は、上記延伸工程によって延伸された光学異方性フィルムの光学異方性層上に、液晶材料を含有し、面内方向において互いに直交する任意のｘ、ｙ方向の屈折率ｎｘ、ｎｙと、厚み方向の屈折率ｎｚとの間にｎｘ≦ｎｙ＜ｎｚの関係が成立する位相差層を形成する工程である。

本工程において、上記光学異方性層上に位相差層を形成する方法としては、液晶材料を含有し、面内方向において互いに直交する任意のｘ、ｙ方向の屈折率ｎｘ、ｎｙと、厚み方向の屈折率ｎｚとの間にｎｘ≦ｎｙ＜ｎｚの関係が成立する位相差層を形成できる方法であれば特に限定されるものではない。このような方法としては、例えば、ホメオトロピック液晶材料を溶媒に溶解させた位相差層形成用塗工液を、上記光学異方性層上に塗工する方法や、ガラス基板等の他の基板上にホメオトロピック液晶材料がホメオトロピック配向した位相差層を別途形成した後、これを剥離して上記光学異方性フィルム上に積層する転写法等を挙げることができる。このような方法については、例えば、前者の方法については特開平１０−３１９４０８号公報、２００２−１７４７２４号、特表２０００−５１４２０２号公報及び特開２００３−１９５０３５号等に開示されている方法と同様であり、後者の方法については、例えば、特開２００３−１７７２４２号公報等に開示されている方法と同様であるため、ここでの詳しい説明は省略する。

また、本工程に用いられる液晶材料については、上記「Ａ．位相差フィルム」の項において説明したものと同様であるため、ここでの説明は省略する。

Ｄ−２．第２態様の位相差フィルムの製造方法
次に、本発明の第２態様の位相差フィルムの製造方法について説明する。本態様の位相差フィルムの製造方法は、セルロース誘導体からなる透明基板を用い、上記透明基板上にレターデーションの波長依存性が正分散型を示す光学異方性材料が溶媒に溶解された光学異方性層形成用塗工液を塗工することにより、上記透明基板上に光学異方性層が形成された光学異方性フィルムを形成する光学異方性フィルム形成工程と、上記光学異方性フィルム形成工程によって形成された光学異方性フィルムの光学異方性層上に、液晶材料を含有し、面内方向において互いに直交する任意のｘ、ｙ方向の屈折率ｎｘ、ｎｙと、厚み方向の屈折率ｎｚとの間にｎｘ≦ｎｙ＜ｎｚの関係が成立する位相差層を形成することにより、上記光学異方性層上に位相差層が形成された光学積層体を形成する位相差層形成工程と、上記位相差層形成工程によって形成された光学積層体を延伸する延伸工程と、を有するものである。

このような本態様の位相差フィルムの製造方法について図を参照しながら説明する。図８は本態様の位相差フィルムの製造方法の一例を示す概略図である。図８に例示するように、本態様の位相差フィルムの製造方法は、セルロース誘導体からなる透明基板５１ａを用い(図８（ａ））、上記透明基板５１ａ上にレターデーションの波長依存性が正分散型を示す光学異方性材料が溶媒に溶解された光学異方性層形成用塗工液を塗工することにより、上記透明基板５１ａ上に光学異方性層５１ｂが形成された光学異方性フィルム５１を形成する、光学異方性フィルム形成工程と(図８（ｂ））、上記光学異方性フィルム形成工程によって形成された光学異方性フィルム５１の光学異方性層５１ｂ上に、液晶材料を含有し、面内方向において互いに直交する任意のｘ、ｙ方向の屈折率ｎｘ、ｎｙと、厚み方向の屈折率ｎｚとの間にｎｘ≦ｎｙ＜ｎｚの関係が成立する位相差層５２を形成することにより、上記光学異方性層５１ｂ上に位相差層５２が形成された光学積層体５０’を形成する位相差層形成工程と（図８（ｃ））、上記位相差層形成工程によって形成された光学積層体５０’を延伸する延伸工程（図８（ｄ））と、により、光学異方性フィルム５１上に位相差層５２が形成された位相差フィルム５０を製造する方法である（図８（ｅ））。

本態様によれば、上記透明基板としてセルロース誘導体からなるものが用いられることにより、例えば、本態様により製造される位相差フィルムを内側の偏光板保護フィルムとして用いた場合に、外側の偏光板保護フィルムとしてシクロオレフィン系樹脂からなる偏光板保護フィルムを用いることができるため、耐久性に優れた偏光板を得ることができる。このようなことから、本態様によれば耐久性に優れた偏光板を作製可能な位相差フィルムを製造することができる。

本態様の位相差フィルムの製造方法は、少なくとも上記光学異方性フィルム形成工程、上記位相差層形成工程、および、上記延伸工程を有するものであり、必要に応じて他の工程を有してもよいものである。
以下、本態様の位相差フィルムの製造方法に用いられる各工程について順に説明する。

１．光学異方性フィルム形成工程
まず、本態様に用いられる光学異方性フィルム形成工程について説明する。本工程は、セルロース誘導体からなる透明基板を用い、上記透明基板上にレターデーションの波長依存性が正分散型を示す光学異方性材料が溶媒に溶解された光学異方性層形成用塗工液を塗工することにより、上記透明基板上に光学異方性層が形成された光学異方性フィルムを形成する工程である。

ここで、本工程において光学異方性フィルムを形成する方法については、上記「Ｄ−１．第１態様の位相差フィルムの製造方法」の項において説明した方法と同様であるため、ここでの説明は省略する。

２．位相差層形成工程
次に、本態様に用いられる位相差層形成工程について説明する。本工程は、上記光学異方性フィルム形成工程によって形成された光学異方性フィルムの光学異方性層上に、液晶材料を含有し、面内方向において互いに直交する任意のｘ、ｙ方向の屈折率ｎｘ、ｎｙと、厚み方向の屈折率ｎｚとの間にｎｘ≦ｎｙ＜ｎｚの関係が成立する位相差層を形成することにより、上記光学異方性層上に位相差層が形成された光学積層体を形成する工程である。

ここで、本工程において上記光学異方性層上に位相差層を形成し、上記光学積層体を形成する方法については、上記「Ｄ−１．第１態様の位相差フィルムの製造方法」の項において説明した方法と同様であるため、ここでの説明は省略する。

３．延伸工程
次に、本態様に用いられる延伸工程について説明する。本工程は、上記位相差層形成工程によって形成された光学積層体を延伸する工程である。
なお、上記光学積層体は、本工程において延伸されることにより所定の位相差性を有する位相差フィルムとなる。

本工程において、上記光学積層体を延伸する方法としては、所望の位相差性を有する位相差フィルムを形成できる方法であれば特に限定されるものではない。
ここで、本工程に用いられる延伸方法については、上記「Ｄ−１．第１態様の位相差フィルムの製造方法」の項において説明した方法と同様であるため、ここでの説明は省略する。

Ｄ−３．第３態様の位相差フィルムの製造方法
次に、本発明の第３態様の位相差フィルムの製造方法について説明する。本態様の位相差フィルムの製造方法は、セルロース誘導体からなる透明基板を用い、上記透明基板上にレターデーションの波長依存性が正分散型を示す光学異方性材料が溶媒に溶解された光学異方性層形成用塗工液を塗工することにより、上記透明基板上に光学異方性層が形成された光学異方性フィルムを形成する、光学異方性フィルム形成工程と、上記光学異方性フィルム形成工程によって形成された光学異方性フィルムを延伸する延伸工程と、上記延伸工程によって延伸された光学異方性フィルムの上記光学異方性層が形成された面とは反対側の面上に、液晶材料を含有し、面内方向において互いに直交する任意のｘ、ｙ方向の屈折率ｎｘ、ｎｙと、厚み方向の屈折率ｎｚとの間にｎｘ≦ｎｙ＜ｎｚの関係が成立する位相差層を形成する位相差層形成工程と、を有することを特徴とするものである。

このような本態様の位相差フィルムの製造方法について図を参照しながら説明する。図９は、本態様の位相差フィルムの製造方法の一例を示す概略図である。図９に例示するように、本態様の位相差フィルムの製造方法は、セルロース誘導体からなる透明基板５１ａを用い（図９（ａ））、上記透明基板５１ａ上にレターデーションの波長依存性が正分散型を示す光学異方性材料が溶媒に溶解された光学異方性層形成用塗工液を塗工することにより、上記透明基板５１ａ上に光学異方性層５１ｂが形成された光学異方性フィルム５１を形成する光学異方性フィルム形成工程と（図９（ｂ））、上記光学異方性フィルム形成工程によって形成された上記光学異方性フィルム５１を延伸する延伸工程（図９（ｃ））と、上記延伸工程によって延伸された光学異方性フィルム５１の上記光学異方性層５１ｂが形成された面と反対側の面上に、液晶材料を含有し、面内方向において互いに直交する任意のｘ、ｙ方向の屈折率ｎｘ、ｎｙと、厚み方向の屈折率ｎｚとの間にｎｘ≦ｎｙ＜ｎｚの関係が成立する位相差層５２を形成する位相差層形成工程と（図９（ｄ））、を有し、光学異方性フィルム５１上に、位相差層５２が形成された位相差フィルム５０’を製造するものである（図９（ｅ））。

本態様によれば、上記透明基板としてセルロース誘導体からなるものが用いられることにより、例えば、本態様により製造される位相差フィルムを内側の偏光板保護フィルムとして用いた場合に、外側の偏光板保護フィルムとしてシクロオレフィン系樹脂からなる偏光板保護フィルムを用いることができるため、耐久性に優れた偏光板を得ることができる。
また、本態様によれば上記位相差層形成工程が、上記光学異方性フィルムの上記光学異方性層が形成された面とは反対側の面上に位相差層を形成するものであることにより、位相差性の発現性に優れた位相差層を形成することが容易になる。
このようなことから、本態様によれば耐久性に優れた偏光板を作製可能な位相差フィルムを製造することができる。

本態様の位相差フィルムの製造方法は、少なくとも、上記光学異方性フィルム形成工程と、上記延伸工程と、上記位相差層形成工程とを有するものであり、必要に応じて他の工程を有してもよいものである。
ここで、本態様における上記光学異方性フィルム形成工程および上記延伸工程については、いずれも上記「Ｄ−１．第１態様の位相差フィルムの製造方法」の項において説明したものと同様である。
したがって、以下、本態様に用いられる位相差層形成工程についてのみ説明する。

本態様に用いられる位相差層形成工程について説明する。本工程は、上記延伸工程によって延伸された光学異方性フィルムの光学異方性層が形成された面とは反対側の面上に、液晶材料を含有し、面内方向において互いに直交する任意のｘ、ｙ方向の屈折率ｎｘ、ｎｙと、厚み方向の屈折率ｎｚとの間にｎｘ≦ｎｙ＜ｎｚの関係が成立する位相差層を形成する工程である。

本工程において、上記光学異方性フィルム上に位相差層を形成する方法としては、上記光学異方性層が形成された面とは反対側の面上に、液晶材料を含有し、面内方向において互いに直交する任意のｘ、ｙ方向の屈折率ｎｘ、ｎｙと、厚み方向の屈折率ｎｚとの間にｎｘ≦ｎｙ＜ｎｚの関係が成立する位相差層を形成できる方法であれば特に限定されるものではない。このような方法としては、光学異方性フィルムの上記光学異方性層が形成された面とは反対側の面上に形成すること以外は、上記「Ｄ−１．第１態様の位相差フィルムの製造方法」の項において説明した方法と同様であるため、ここでの詳しい説明は省略する。

Ｄ−４．第４態様の位相差フィルムの製造方法
次に、本発明の第４態様の位相差フィルムの製造方法について説明する。本態様の位相差フィルムの製造方法は、セルロース誘導体からなる透明基板を用い、上記透明基板上にレターデーションの波長依存性が正分散型を示す光学異方性材料が溶媒に溶解された光学異方性層形成用塗工液を塗工することにより、上記透明基板上に光学異方性層が形成された光学異方性フィルムを形成する、光学異方性フィルム形成工程と、上記光学異方性フィルム形成工程によって形成された光学異方性フィルムの上記光学異方性層が形成された面とは反対側の面上に、液晶材料を含有し、面内方向において互いに直交する任意のｘ、ｙ方向の屈折率ｎｘ、ｎｙと、厚み方向の屈折率ｎｚとの間にｎｘ≦ｎｙ＜ｎｚの関係が成立する位相差層を形成することにより、上記光学異方性層上に位相差層が形成された光学積層体を形成する、位相差層形成工程と、上記位相差層形成工程によって形成された光学積層体を延伸する延伸工程と、を有することを特徴とするものである。

このような本態様の位相差フィルムの製造方法について図を参照しながら説明する。図１０は本態様の位相差フィルムの製造方法の一例を示す概略図である。図１０に例示するように、本態様の位相差フィルムの製造方法は、セルロース誘導体からなる透明基板５１ａを用い(図１０（ａ））、上記透明基板５１ａ上にレターデーションの波長依存性が正分散型を示す光学異方性材料が溶媒に溶解された光学異方性層形成用塗工液を塗工することにより、上記透明基板５１ａ上に光学異方性層５１ｂが形成された光学異方性フィルム５１を形成する光学異方性フィルム形成工程と(図１０（ｂ））、上記光学異方性フィルム形成工程によって形成された光学異方性フィルム５１の光学異方性層５１ｂが形成された面とは反対側の面上に、液晶材料を含有し、面内方向において互いに直交する任意のｘ、ｙ方向の屈折率ｎｘ、ｎｙと、厚み方向の屈折率ｎｚとの間にｎｘ≦ｎｙ＜ｎｚの関係が成立する位相差層５２を形成することにより、上記光学異方性フィルム５１上に位相差層５２が形成された光学積層体５０’を形成する位相差層形成工程と（図１０（ｃ））、上記位相差層形成工程によって形成された光学積層体５０’を延伸する延伸工程（図１０（ｄ））と、により、光学異方性フィルム５１上に位相差層５２が形成された位相差フィルム５０を製造する方法である（図１０（ｅ））。

本発明によれば、上記透明基板としてセルロース誘導体からなるものが用いられることにより、例えば、本発明により製造される位相差フィルムを内側の偏光板保護フィルムとして用いた場合に、外側の偏光板保護フィルムとしてシクロオレフィン系樹脂からなる偏光板保護フィルムを用いることができるため、耐久性に優れた偏光板を得ることができる。
また、本発明によれば、上記位相差層形成工程が、上記光学異方性フィルムの上記光学異方性層が形成された面とは反対側の面上に位相差層を形成するものであることにより、位相差性の発現性に優れた位相差層を形成することが容易になる。
このようなことから、本発明によれば耐久性に優れた偏光板を作製可能な位相差フィルムを製造することができる。

本態様の位相差フィルムの製造方法は、少なくとも、上記光学異方性フィルム形成工程と、上記延伸工程と、上記位相差層形成工程とを有するものであり、必要に応じて他の工程を有してもよいものである。
ここで、本態様における上記光学異方性フィルム形成工程および上記延伸工程については、いずれも上記「Ｄ−２．第１態様の位相差フィルムの製造方法」の項において説明したものと同様である。
したがって、以下、本態様に用いられる位相差層形成工程についてのみ説明する。

本態様に用いられる位相差層形成工程について説明する。本工程は、上記延伸工程によって延伸された光学異方性フィルムの光学異方性層が形成された面とは反対側の面上に、液晶材料を含有し、面内方向において互いに直交する任意のｘ、ｙ方向の屈折率ｎｘ、ｎｙと、厚み方向の屈折率ｎｚとの間にｎｘ≦ｎｙ＜ｎｚの関係が成立する位相差層を形成する工程である。

本工程において、上記光学異方性フィルム上に位相差層を形成する方法としては、上記光学異方性層が形成された面とは反対側の面上に、液晶材料を含有し、面内方向において互いに直交する任意のｘ、ｙ方向の屈折率ｎｘ、ｎｙと、厚み方向の屈折率ｎｚとの間にｎｘ≦ｎｙ＜ｎｚの関係が成立する位相差層を形成できる方法であれば特に限定されるものではない。このような方法としては、光学異方性フィルムの上記光学異方性層が形成された面とは反対側の面上に形成すること以外は、上記「Ｄ−２．第１態様の位相差フィルムの製造方法」の項において説明した方法と同様であるため、ここでの詳しい説明は省略する。

Ｅ．液晶表示装置
次に、本発明の液晶表示装置について説明する。ここで、本発明の液晶表示装置は、その態様により４つの態様に分類することができる。したがって、以下、各態様に分けて本発明の液晶表示装置について説明する。

Ｅ−１．第１態様の液晶表示装置
まず、本発明の第１態様の液晶表示装置について説明する。本態様の液晶表示装置は、上記本発明の位相差フィルムが用いられたことを特徴とするものである。

このような本態様の液晶表示装置について図を参照しながら説明する。図１１は、本態様の液晶表示装置の一例を示す概略図である。図１１に例示するように、本態様の液晶表示装置６０は、液晶セル１０１と、上記液晶セル１０１の両面に配置された偏光板１０２Ａ’、１０２Ｂ’とを有するものである。
このような例において、本態様の液晶表示装置６０は、上記偏光板１０２Ａ’および１０２Ｂ’が、偏光子１１１が偏光板保護フィルム１１１ｂと、本発明の位相差フィルム１０とによって挟持された構成を有するものである。

本発明によれば上記本発明の位相差フィルムが用いられていることにより、耐久性および視野角特性に優れた液晶表示装置を得ることができる。

本態様の液晶表示装置に、上記本発明の位相差フィルムが用いられる態様としては、本発明の液晶表示装置の視野角特性を所望の程度にできる態様であれば特に限定されるものではない。このような態様としては、液晶セルと、偏光板との間に上記位相差フィルムを配置して用いる態様と、液晶セルを挟持する２枚の偏光板を構成する偏光板保護フィルムとして上記位相差フィルムを用いる態様とを挙げることができる。本態様においては、これらのいずれの態様であっても好適に用いることができるが、なかでも後者の態様が好ましい。上記本発明の位相差フィルムを後者の態様で用いることにより、本態様の液晶表示装置を薄型化することができるからである。

また、本発明の位相差フィルムを偏光板保護フィルムとして用いる場合、上記本発明の位相差フィルムは内側の偏光板保護フィルムとして用いられてもよく、または、外側の偏光板保護フィルムとして用いられてもよい。なかでも本態様においては内側の偏光板保護フィルムとして用いられることが好ましい。これにより、上記外側の偏光板保護フィルムとして、シクロオレフィン系樹脂等からなる偏光板保護フィルムを用いること等によって、本態様の液晶表示装置をより耐久性に優れたものにできるからである。

なお、本態様に用いられる液晶セル、および、偏光板等については、一般的な液晶表示装置に用いられているものと同様であるため、ここでの詳しい説明は省略する。

Ｅ−２．第２態様の液晶表示装置
次に、本発明の第２態様の液晶表示装置について説明する。本態様の液晶表示装置は、上記本発明の輝度向上フィルムが用いられたことを特徴とするものである。

このような本態様の液晶表示装置について図を参照しながら説明する。図１２は、本態様の液晶表示装置の一例を示す概略図である。図１２に例示するように本態様の液晶表示装置７０は、液晶セル１０１と、上記液晶セル１０１の両面に配置された偏光板１０２Ａ、１０２Ｂとを有するものであり、さらに上記偏光板１０２Ａ上に本発明の輝度向上フィルム２０が配置されていることを特徴とするものである。

本発明によれば、上記本発明の輝度向上フィルムが用いられていることにより、輝度特性に優れた液晶表示装置を得ることができる。

本態様の液晶表示装置において上記本発明の輝度向上フィルムが用いられている態様としては、一般的に液晶表示装置に輝度向上フィルムが用いられる態様であれば特に限定されるものではない。

なお、本態様に用いられる液晶セル、および、偏光板等については、一般的な液晶表示装置に用いられているものと同様であるため、ここでの詳しい説明は省略する。

Ｅ−３．第３態様の液晶表示装置
次に、本発明の第３態様の液晶表示装置について説明する。本態様の液晶表示装置は、上記本発明の偏光板が用いられたことを特徴とするものである。

このような本態様の液晶表示装置について図を参照しながら説明する。図１３は、本態様の液晶表示装置の一例を示す概略図である。図１３に例示するように、本態様の液晶表示装置８０は、液晶セル１０１と、上記液晶セル１０１の両面に本発明の偏光板３０が配置されていることを特徴とするものである。

本態様によれば、上記本発明の偏光板が用いられていることにより、耐久性および視野角特性に優れた液晶表示装置を得ることができる。

本態様の液晶表示装置に、上記本発明の偏光板が用いられている態様としては、本態様の液晶表示装置に用いられる２枚の偏光板の両方に上記本発明の偏光板が用いられている態様であってもよく、または、片方の偏光板に上記本発明の偏光板が用いられている態様であってもよい。なかでも本態様においては、上記２枚の偏光板の両方に上記本発明の偏光板が用いられていることが好ましい。これにより、本態様の液晶表示装置をより耐久性に優れたものにできるからである。

なお、本態様に用いられる液晶セル、および、偏光板等については、一般的な液晶表示装置に用いられているものと同様であるため、ここでの詳しい説明は省略する。

Ｅ−４．第４態様の液晶表示装置
次に、本発明の第４態様の液晶表示装置について説明する。本態様の液晶表示装置は、上記本発明の位相差フィルムの製造方法によって製造された位相差フィルムが用いられたことを特徴とするものである。

このような本態様の液晶表示装置について図を参照しながら説明する。図１４は、本態様の液晶表示装置の一例を示す概略図である。図１４に例示するように、本態様の液晶表示装置９０は、液晶セル１０１と、上記液晶セル１０１の両面に配置された偏光板１０２Ａ’、１０２Ｂ’とを有するものである。
このような例において、本態様の液晶表示装置９０は、上記偏光板１０２Ａ’および１０２Ｂ’が、偏光子１１１が偏光板保護フィルム１１１ｂと、本発明の位相差フィルムの製造方法によって製造された位相差フィルム５０とによって挟持された構成を有するものである。

本態様によれば、上記本発明の位相差フィルムの製造方法によって製造された位相差フィルムが用いられていることにより、耐久性および視野角特性に優れた液晶表示装置を得ることができる。

本態様の液晶表示装置に上記本発明の位相差フィルムの製造方法によって製造された位相差フィルムが用いられる態様としては、本態様の液晶表示装置の視野角特性を所望の程度にできる態様であれば特に限定されるものではない。このような態様としては、液晶セルと、偏光板との間に上記位相差フィルムを配置して用いる態様と、液晶セルを挟持する２枚の偏光板を構成する偏光板保護フィルムとして上記位相差フィルムを用いる態様とを挙げることができる。本態様においては、これらのいずれの態様であっても好適に用いることができるが、なかでも後者の態様が好ましい。上記位相差フィルムを後者の態様で用いることにより、本態様の液晶表示装置を薄型化することができるからである。

また、本発明の位相差フィルムの製造方法によって製造された位相差フィルムを偏光板保護フィルムとして用いる場合、上記位相差フィルムは内側の偏光板保護フィルムとして用いられてもよく、または、外側の偏光板保護フィルムとして用いられてもよい。なかでも本態様においては内側の偏光板保護フィルムとして用いられることが好ましい。これにより、上記外側の偏光板保護フィルムとして、シクロオレフィン系樹脂等からなる偏光板保護フィルムを用いること等によって、本態様の液晶表示装置をより耐久性に優れたものにできるからである。

なお、本態様に用いられる液晶セル、および、偏光板等については、一般的な液晶表示装置に用いられているものと同様であるため、ここでの詳しい説明は省略する。

なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。

次に、実施例を示すことにより本発明についてさらに具体的に説明する。

（１）実施例１
貯蔵引張弾性率３．５×１０^２ＭＰａのウレタンアクリレートモノマーをメチルエチルケトンに４０質量％になるように溶解させ、さらに重合開始剤を固形分に対して４質量％加えることにより光学異方性フィルム形成用塗工液を調製した。次いで、透明基板として貯蔵引張弾性率２．７×１０^３ＭＰａのＴＡＣ（トリアセチルセルロースの略称）フィルム基材（厚み：８０μｍ）を用い、当該ＴＡＣフィルム基材の表面上に上記光学異方性フィルム層形成用塗工液をバーコーティングにより塗工した。次いで、９０℃で４分間加熱して溶剤を乾燥除去し、塗工面に紫外線を照射することにより、上記ウレタンアクリレートモノマーを固定化して乾燥後の塗膜が６μｍの光学積層体を形成した。その後、上記光学積層体を延伸実験機により、延伸倍率が１．４倍になるように１６５℃で加熱しながら面内方向に一軸延伸して、透明基板上に光学異方性層が積層された光学異方性フィルムを作製した。

次に、下記式（Ａ）に示される側鎖型ポリマー５０質量％と、下記式（Ｂ）で示される光重合性液晶５０質量％の液晶混合物、光重合開始剤（チバスペシャリティケミカルズ社製、イルガキュア９０７、光重合性化合物に対して５質量％）を、シクロヘキサノン溶液に固形分２０％になるように溶解させ、更にレベリング剤を添加することにより位相差層形成用塗工液を得た。当該位相差層形成用塗工液を上記光学異方性層上に塗工した後、１００℃で１分間乾燥し、そのまま室温まで冷却することにより、上記液晶混合物をホメオトロピック配向させた。さらに１００ｍＪ／ｃｍ^２のＵＶにて硬化させ、上記光学異方性層上に厚み１μｍの位相差層を形成することにより、位相差フィルムを作製した。

（２）実施例２
下記式（Ｃ）、（Ｄ）、および、（Ｅ）に示される液晶材料を含有する液晶混合物、光重合開始剤（チバスペシャリティケミカルズ社製、イルガキュア９０７、液晶混合物に対して５質量％）を、シクロヘキサノン溶液に固形分２０質量％になるように溶解させ、更にレベリング剤を添加することにより位相差層形成用塗工液を得た。次いで、当該位相差層形成用塗工液を、垂直配向膜が形成されたガラス基板上に塗布し、６０℃で２分間乾燥し、ホメオトロピック配向させた。さらに１００ｍＪ／ｃｍ^２のＵＶにて硬化させることにより、厚み１μｍの位相差層を形成した。
次いで、上記位相差層をガラス基板から剥離し、粘着剤を介して実施例１に記載の光学異方性フィルムの光学異方性層上に貼り合せることにより位相差フィルムを作製した。

（３）実施例３
貯蔵引張弾性率５．１×１０^２ＭＰａのカプロラクトン変性ウレタンアクリレートモノマーをメチルエチルケトンに４０質量％になるように溶解させ、さらに重合開始剤を固形分に対して４質量％加えることにより、光学異方性層形成用塗工液を調製した。
次いで、透明基板として貯蔵引張弾性率２．７×１０^３ＭＰａのＴＡＣフィルム基材（厚み：８０μｍ）を用い、当該ＴＡＣフィルム基材の表面に上記光学異方性層形成用塗工液をバーコーティングにより塗工した。
その後、９０℃で４分間加熱して溶剤を乾燥除去し、塗工面に紫外線を照射することにより、上記カプロラクトン変性ウレタンアクリレートモノマーを固定化して乾燥後の塗膜が６μｍの光学異方性層を形成した。
このようにして、透明基板上に光学異方性層が積層された光学積層体を作製した。
次に、上記光学積層体を延伸実験機により、延伸倍率が１．４倍になるように１６５℃で加熱しながら面内方向に一軸延伸して、光学異方性フィルムを作製した。
この光学異方性フィルムの光学異方性層上に、実施例２に記載の位相差層を粘着剤を介して貼り合せることにより、位相差フィルムを作製した。

（４）実施例４
光学異方性材料として、下記式（Ｂ）で表される光重合性液晶化合物と実施例２に記載の光重合開始剤（液晶化合物の重量に対し５質量％）の混合物を用い、これをシクロヘキサノンに２０質量％になるように溶解させ、ＴＡＣフィルム（富士写真フィルム社製、商品名：ＴＦ８０ＵＬ）基材表面にバーコーティングにより、乾燥後の塗工量が２．０ｇ／ｍ^２となるように塗工した。
次いで、９０℃で４分間加熱して溶剤を乾燥除去し、塗工面に紫外線を照射することにより、上記光重合性液晶化合物を固定化して光学積層体を作製した。
上記光学積層体を延伸実験機により、延伸倍率が１．２５倍になるように１５０℃で加熱しながら面内方向に一軸延伸して、光学異方性フィルムを作製した。
この光学異方性フィルムの光学異方性層上に、実施例２に記載の位相差層を粘着剤を介して貼り合せることにより、位相差フィルムを作製した。

（５）実施例５
実施例４で用いた光重合性液晶化合物と光重合開始剤の混合物を用い、これをシクロペンタノンに２０質量％になるように溶解させ、実施例４と同様の塗工及び延伸処理を行った。
この光学異方性フィルムの光学異方性層上に、実施例１に記載の位相差層形成用塗工液を塗布し、６０℃で２分間乾燥し、ホメオトロピック配向させた。さらに１００ｍＪ／ｃｍ^２のＵＶにて硬化させることにより、厚み１μｍの位相差層を形成し、位相差フィルムを作製した。

（６）実施例６
実施例４で用いた光重合性液晶化合物と光重合開始剤の混合物を用い、これをメチルエチルケトンに２０質量％になるように溶解させ、実施例４と同様の塗工及び延伸処理を行った。
この光学異方性フィルムの光学異方性層上に、実施例２に記載の位相差層を、粘着剤を介して貼り合せることにより、位相差フィルムを作製した。

（７）実施例７
実施例４で用いた光重合性液晶化合物と光重合開始剤の混合物を用い、これを酢酸メチルに２０質量％になるように溶解させ、実施例４と同様の塗工及び延伸処理を行った。
この光学異方性フィルムの光学異方性層上に、実施例２に記載の位相差層を粘着剤を介して貼り合せることにより、位相差フィルムを作製した。

（８）実施例８
実施例４で用いた光重合性液晶化合物と光重合開始剤の混合物を用い、これをシクロヘキサノンに２０質量％になるように溶解させ、実施例４と同様の塗工を行い、この光学異方性フィルムの光学異方性層上に、実施例１に記載の位相差層形成用塗工液を塗布し、６０℃で２分間乾燥し、ホメオトロピック配向させた。さらに１００ｍＪ／ｃｍ^２のＵＶにて硬化させることにより、厚み１μｍの位相差層を形成し光学積層体を得た。
次に、上記光学積層体を延伸実験機により、延伸倍率が１．２５倍になるように１５０℃で加熱しながら面内方向に一軸延伸して、位相差フィルムを作製した。

（９）実施例９
下記式（Ｆ）で表される光重合性液晶化合物と実施例４で用いた光重合開始剤の混合物を用い、これをシクロヘキサノンとシクロペンタノンの混合溶媒に２０質量％になるように溶解させ、実施例４と同様の塗工及び延伸処理を行った。
この光学異方性フィルムの光学異方性層上に、実施例１に記載の位相差層形成用塗工液を塗布し、６０℃で２分間乾燥し、ホメオトロピック配向させた。さらに１００ｍＪ／ｃｍ^２のＵＶにて硬化させることにより、厚み１μｍの位相差層を形成し、位相差フィルムを作製した。

（１０）実施例１０
上記式（Ｆ）で表される光重合性液晶化合物と実施例４で用いた光重合開始剤の混合物を用い、これをシクロヘキサノンとシクロペンタノンの混合溶媒に２０質量％になるように溶解させ、実施例４と同様の塗工及び延伸処理を行った。
この光学異方性フィルムの光学異方性層が形成された面とは反対側の面上に、実施例１に記載の位相差層形成用塗工液を塗布し、６０℃で２分間乾燥し、ホメオトロピック配向させた。さらに１００ｍＪ／ｃｍ^２のＵＶにて硬化させることにより、厚み１μｍの位相差層を形成し、位相差フィルムを作製した。

（１１）実施例１１
実施例４で用いた光重合性液晶化合物と光重合開始剤の混合物を用い、これをシクロヘキサノンに２０質量％になるように溶解させ、実施例４と同様の塗工を行い、この光学異方性フィルムの光学異方性層とは反対の面上に、実施例１に記載の位相差層形成用塗工液を塗布し、６０℃で２分間乾燥し、ホメオトロピック配向させた。さらに１００ｍＪ／ｃｍ^２のＵＶにて硬化させることにより、厚み１μｍの位相差層を形成し光学積層体を得た。
次に、上記光学積層体を実施例８と同じ工程の延伸を行い、位相差フィルムを作製した。

（１２）実施例１２
ウレタンアクリレートモノマー（東亞合成社製、アロニックス：Ｍ１６００）をメチルエチルケトンに４０重量％になるように溶解させ、さらに重合開始剤を固形分に対して４重量％加えることにより、オーバーコート層形成用塗工液を調製した。実施例５で作製した位相差フィルムの位相差層側にオーバーコート層形成用塗工液を塗工し、９０℃で４分間加熱して溶剤を乾燥除去し、塗工液に紫外線を照射することにより、上記ウレタンアクリレートモノマーを固定化して乾燥後の塗膜が４μｍのオーバーコート層を形成し、位相差フィルムを得た。

（１３）実施例１３
実施例１０で作製した位相差フィルムの位相差層側に、実施例１１で調製したオーバーコート層形成用塗工液を実施例１１の工程で塗工し、乾燥後の塗膜が４μｍのオーバーコート層を形成し、位相差フィルムを得た。

（１４）比較例
光学異方性フィルムとしてＲｅ＝８０ｎｍのノルボルネン系樹脂からなる基板（日本ゼオン社製 商品名：ゼオノア）を用い、当該光学異方性フィルム上に実施例１と同様の方法により位相差層を形成することによって位相差フィルムを作製した。

（１５）評価
上記実施例および比較例において作製した位相差フィルムについてホメオトロピック配向性評価と、面内位相差のＲｅ比と、ヘイズとを評価した。上記ホメオトロピック配向性評価は、自動複屈折測定装置ＫＯＢＲＡを用いて位相差フィルムのｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出し、ｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙとなっていれば正のＣプレート機能が付与されたと判断した。Ｒｅ比は、ＫＯＢＲＡを用いて測定した。また、ヘイズは、東洋精機製「ヘイズガードII」で測定により測定した。

また、各位相差フィルムを片側の偏光板保護フィルムとして用いて偏光板を作製し、温度９０℃、湿度９０％ＲＨの環境下に１００時間放置するという環境試験を行い、額縁ムラ評価を行った。額縁ムラ評価は黒表示時の光漏れを目視にて評価した。
ここで、実施例１〜４の位相差フィルムを用いて偏光板を作成する際には、他方の偏光板保護フィルムとして、シクロオレフィン系樹脂からなる偏光板保護フィルムを用いることができた。
しかしながら、比較例１において作製した位相差フィルムを用いて偏光板を作成する際には、水分透過性の関係上、他方の偏光板保護フィルムとしてトリアセチルセルロースからなる偏光板保護フィルムを用いる他なかった。

上記評価結果を表１に示す。

Claims (20)

1. 面内方向における遅相軸方向の屈折率ｎｘと、面内方向における進相軸方向の屈折率ｎｙとの間に、ｎｘ＞ｎｙの関係が成立する光学異方性フィルムと、
   前記光学異方性フィルム上に形成され、液晶材料を含有し、さらに面内方向において互いに直交する任意のｘ、ｙ方向の屈折率ｎｘ、ｎｙと、厚み方向の屈折率ｎｚとの間にｎｘ≦ｎｙ＜ｎｚの関係が成立する位相差層と、を有する位相差フィルムであって、
   前記光学異方性フィルムが、セルロース誘導体からなる透明基板が用いられているものであることを特徴とする、位相差フィルム。
2. 前記光学異方性フィルムが、前記透明基板と、前記透明基板上に形成され、ウレタン系樹脂を含有する光学異方性層とを有するものであることを特徴とする、請求の範囲第１項に記載の位相差フィルム。
3. 前記光学異方性フィルムが、前記透明基板と、前記透明基板上に形成され、前記透明基板を構成するセルロース誘導体、および、レターデーションの波長依存性が正分散型を示す光学異方性材料を含有する光学異方性層と、を有するものであることを特徴とする、請求の範囲第１項または請求の範囲第２項に記載の位相差フィルム。
4. 前記光学異方性材料に、分子内に単一の重合性官能基を有する単官能重合性液晶化合物が含まれることを特徴とする、請求の範囲第３項に記載の位相差フィルム。
5. 前記セルロース誘導体が、トリアセチルセルロースであることを特徴とする、請求の範囲第１項から請求の範囲第４項までのいずれかの請求の範囲に記載の位相差フィルム。
6. 請求の範囲第１項から請求の範囲第５項までのいずれかの請求の範囲に記載の位相差フィルムと、前記位相差フィルムが備える前記位相差層上に形成され、コレステリック配列した液晶材料を含有するコレステリック液晶層とを有することを特徴とする、輝度向上フィルム。
7. 請求の範囲第１項から請求の範囲第５項までのいずれかの請求の範囲に記載の位相差フィルムと、前記位相差フィルムが備える前記光学異方性フィルム上であって、前記位相差層が形成された側とは反対側の面上に形成された偏光子と、前記偏光子上に形成された偏光板保護フィルムと、を有することを特徴とする、偏光板。
8. 請求の範囲第６項に記載の輝度向上フィルムと、前記輝度向上フィルムが備える前記光学異方性フィルム上であって、前記位相差層が形成された側とは反対側の面上に形成された偏光子と、前記偏光子上に形成された偏光板保護フィルムと、を有することを特徴とする、偏光板。
9. 前記偏光板保護フィルムが、シクロオレフィン系樹脂またはアクリル系樹脂からなることを特徴とする、請求の範囲第７項または請求の範囲第８項に記載の偏光板。
10. セルロース誘導体からなる透明基板を用い、前記透明基板上にレターデーションの波長依存性が正分散型を示す光学異方性材料が溶媒に溶解された光学異方性層形成用塗工液を塗工することにより、前記透明基板上に光学異方性層が形成された光学異方性フィルムを形成する、光学異方性フィルム形成工程と、
    前記光学異方性フィルム形成工程によって形成された光学異方性フィルムを延伸する延伸工程と、
    前記延伸工程によって延伸された光学異方性フィルムの光学異方性層上に、液晶材料を含有し、面内方向において互いに直交する任意のｘ、ｙ方向の屈折率ｎｘ、ｎｙと、厚み方向の屈折率ｎｚとの間にｎｘ≦ｎｙ＜ｎｚの関係が成立する位相差層を形成する位相差層形成工程と、を有することを特徴とする位相差フィルムの製造方法。
11. セルロース誘導体からなる透明基板を用い、前記透明基板上にレターデーションの波長依存性が正分散型を示す光学異方性材料が溶媒に溶解された光学異方性層形成用塗工液を塗工することにより、前記透明基板上に光学異方性層が形成された光学異方性フィルムを形成する、光学異方性フィルム形成工程と、
    前記光学異方性フィルム形成工程によって形成された光学異方性フィルムの光学異方性層上に、液晶材料を含有し、面内方向において互いに直交する任意のｘ、ｙ方向の屈折率ｎｘ、ｎｙと、厚み方向の屈折率ｎｚとの間にｎｘ≦ｎｙ＜ｎｚの関係が成立する位相差層を形成することにより、前記光学異方性層上に位相差層が形成された光学積層体を形成する、位相差層形成工程と、
    前記位相差層形成工程によって形成された光学積層体を延伸する延伸工程と、を有することを特徴とする位相差フィルムの製造方法。
12. セルロース誘導体からなる透明基板を用い、前記透明基板上にレターデーションの波長依存性が正分散型を示す光学異方性材料が溶媒に溶解された光学異方性層形成用塗工液を塗工することにより、前記透明基板上に光学異方性層が形成された光学異方性フィルムを形成する、光学異方性フィルム形成工程と、
    前記光学異方性フィルム形成工程によって形成された光学異方性フィルムを延伸する延伸工程と、
    前記延伸工程によって延伸された光学異方性フィルムの前記光学異方性層が形成された面とは反対側の面上に、液晶材料を含有し、面内方向において互いに直交する任意のｘ、ｙ方向の屈折率ｎｘ、ｎｙと、厚み方向の屈折率ｎｚとの間にｎｘ≦ｎｙ＜ｎｚの関係が成立する位相差層を形成する位相差層形成工程と、を有することを特徴とする位相差フィルムの製造方法。
13. セルロース誘導体からなる透明基板を用い、前記透明基板上にレターデーションの波長依存性が正分散型を示す光学異方性材料が溶媒に溶解された光学異方性層形成用塗工液を塗工することにより、前記透明基板上に光学異方性層が形成された光学異方性フィルムを形成する、光学異方性フィルム形成工程と、
    前記光学異方性フィルム形成工程によって形成された光学異方性フィルムの前記光学異方性層が形成された面とは反対側の面上に、液晶材料を含有し、面内方向において互いに直交する任意のｘ、ｙ方向の屈折率ｎｘ、ｎｙと、厚み方向の屈折率ｎｚとの間にｎｘ≦ｎｙ＜ｎｚの関係が成立する位相差層を形成することにより、前記光学異方性層上に位相差層が形成された光学積層体を形成する、位相差層形成工程と、
    前記位相差層形成工程によって形成された光学積層体を延伸する延伸工程と、を有することを特徴とする位相差フィルムの製造方法。
14. 前記溶媒に沸点が１００℃以上のケトン系溶媒が含まれることを特徴とする、請求の範囲第１０項から請求の範囲第１３項までのいずれかの請求の範囲に記載の位相差フィルムの製造方法。
15. 前記ケトン系溶媒が、シクロペンタノンまたはシクロヘキサノンであることを特徴とする、請求の範囲第１４項に記載の位相差フィルムの製造方法。
16. 前記セルロース誘導体がトリアセチルセルロースであることを特徴とする、請求の範囲第１０項から請求の範囲第１６項までのいずれかの請求の範囲に記載の位相差フィルムの製造方法。
17. 請求の範囲第１項から請求の範囲第５項までのいずれかの請求の範囲に記載の位相差フィルムが用いられたことを特徴とする、液晶表示装置。
18. 請求の範囲第６項に記載の輝度向上フィルムが用いられたことを特徴とする、液晶表示装置。
19. 請求の範囲第７項から請求の範囲第９項までのいずれかの請求の範囲に記載の偏光板が用いられたことを特徴とする、液晶表示装置。
20. 請求の範囲第１０項から請求の範囲第１６項までのいずれかの請求の範囲に記載の位相差フィルムの製造方法によって製造された位相差フィルムが用いられたことを特徴とする、液晶表示装置。

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