KR102407519B1 - 광학 이방성 막 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 투명성이 높은 광학 이방성 막을 제공한다.
nz>nx>ny의 굴절률 관계를 갖는 광학 이방성 막이며,
중합성 액정 화합물의 중합물 및 유기 변성 폴리실록산을 포함하는 광학 이방성 막이 제공된다.
(식 중, nz는 광학 이방성 막이 형성하는 굴절률 타원체에 있어서, 막 평면에 대하여 수직인 방향의 굴절률을 나타내고, nx는 광학 이방성 막이 형성하는 굴절률 타원체에 있어서, 막 평면에 대하여 평행한 방향의 주굴절률을 나타내고, ny는 광학 이방성 막이 형성하는 굴절률 타원체에 있어서, 막 평면에 대하여 평행하면서 상기 nx의 방향에 대하여 직교하는 방향의 굴절률을 나타냄)

Description

광학 이방성 막{OPTICAL ANISOTROPIC FILM}
본 발명은 광학 이방성 막에 관한 것이다.
플랫 패널 표시 장치(FPD)에는 편광판, 위상차판 등의 광학 이방성 막을 포함하는 부재가 사용되고 있다. 이러한 광학 이방성 막으로서, 중합성 액정 화합물을 포함하는 조성물을 기재 상에 도포함으로써 제조된 광학 이방성 막이 알려져 있다. 예를 들어, 특허문헌 1에는 배향 처리를 실시한 기재 상에 중합성 액정 화합물을 포함하는 조성물을 도포하고, 중합성 액정 화합물을 중합시킴으로써 형성된 광학 이방성 막이 기재되어 있다.
일본 특허 공개 제2007-148098호 공보
종래의 광학 이방성 막은 투명성이 충분하지 않았다.
본 발명은 이하의 발명을 포함한다.
[1] nz>nx>ny의 굴절률 관계를 갖고, 중합성 액정 화합물의 중합물 및 유기 변성 폴리실록산을 포함하는 광학 이방성 막.
(식 중, nz는 광학 이방성 막이 형성하는 굴절률 타원체에 있어서, 막 평면에 대하여 수직인 방향의 굴절률을 나타내고, nx는 광학 이방성 막이 형성하는 굴절률 타원체에 있어서, 막 평면에 대하여 평행한 방향의 주굴절률을 나타내고, ny는 광학 이방성 막이 형성하는 굴절률 타원체에 있어서, 막 평면에 대하여 평행하면서 상기 nx의 방향에 대하여 직교하는 방향의 굴절률을 나타냄)
[2] 유기 변성 폴리실록산의 함유량이 광학 이방성 막 100질량부에 대하여 0.1 내지 30질량부인 [1]에 기재된 광학 이방성 막.
[3] 중합성 액정 화합물의 중합물이, 중합성 액정 화합물이 수직 배향한 상태에서 중합한 중합물인 [1] 또는 [2]에 기재된 광학 이방성 막.
[4] 유기 변성 폴리실록산이 폴리에테르 변성 폴리디메틸실록산 구조를 갖는 [1] 내지 [3] 중 어느 하나에 기재된 광학 이방성 막.
[5] 물의 접촉각이 70°내지 100°인 [1] 내지 [4] 중 어느 하나에 기재된 광학 이방성 막.
[6] 중합성 액정 화합물 및 유기 변성 폴리실록산을 포함하는 광학 이방성 막 형성용 조성물로부터 얻어지는 [1] 내지 [5] 중 어느 하나에 기재된 광학 이방성 막.
[7] IPS(평면 정렬 스위칭; in-plane switching) 액정 표시 장치용의 [1] 내지 [6] 중 어느 하나에 기재된 광학 이방성 막.
[8] [1] 내지 [7] 중 어느 하나에 기재된 광학 이방성 막을 구비하는 위상차 필름.
[9] [1] 내지 [7] 중 어느 하나에 기재된 광학 이방성 막을 구비하는 편광판.
[10] [1] 내지 [7] 중 어느 하나에 기재된 광학 이방성 막을 구비하는 표시 장치.
[11] 중합성 액정 화합물 100질량부에 대하여 유기 변성 폴리실록산 0.1질량부 내지 30질량부를 포함하는 광학 이방성 막 형성용 조성물.
[12] 이소시아네이트기를 갖는 화합물을 더 포함하는 [11]에 기재된 조성물.
본 발명의 광학 이방성 막은 투명성이 높다.
도 1은 본 발명에 관한 편광판의 일례를 도시하는 모식도이다.
도 2는 본 발명에 관한 액정 표시 장치의 일례를 도시하는 모식도이다.
본 발명의 광학 이방성 막(이하, 본 광학 이방성 막이라는 경우가 있음)은 중합성 액정 화합물의 중합물 및 유기 변성 폴리실록산을 포함한다. 바람직하게는, 중합성 액정 화합물의 중합물을 주성분으로서 포함한다.
<광학 이방성 막>
본 광학 이방성 막은, 광학 이방성 막이 형성하는 굴절률 타원체에 있어서, 막 평면에 대하여 평행한 방향의 주굴절률을 nx, 막 평면에 대하여 평행하면서 상기 nx의 방향에 대하여 직교하는 방향의 굴절률을 ny, 막 평면에 대하여 수직인 방향의 굴절률을 nz로 한 경우, nz>nx>ny로 표시되는 굴절률의 관계를 갖는다.
본 광학 이방성 막의 550㎚의 광에 대한 정면 위상차값 Re(550)는 바람직하게는 0 내지 10㎚이며, 보다 바람직하게는 0 내지 5㎚이다. 두께 방향의 위상차값 Rth는 바람직하게는 -10㎚ 내지 -300㎚이며, 보다 바람직하게는 -20㎚ 내지 -200㎚이다. 본 광학 이방성 막 중에서도 이러한 광학 특성을 갖는 것은 IPS(in-plane switching) 모드의 액정 표시 장치의 보상에 적합하다.
Rth는 면 내의 진상축을 경사축으로 하고, 해당 진상축에 대하여 광학 이방성 막 평면을 50도 경사지게 하여 측정되는 위상차값 R50과 면 내의 위상차값 R0으로부터 산출할 수 있다. 즉, Rth는 면 내의 위상차값 R0, 진상축을 경사축으로 하고, 해당 진상축에 대하여 광학 이방성 막 평면을 50도 경사지게 하여 측정한 위상차값 R50, 광학 이방성 막의 두께 d 및 광학 이방성 막의 평균 굴절률 n0으로부터 이하의 식 (9) 내지 (11)에 의해 nx, ny 및 nz를 구하고, 이들을 식 (8)에 대입하여 산출할 수 있다.
Figure 112014117112765-pat00001
여기서,
Figure 112014117112765-pat00002
광학 이방성 막의 두께는 0.1㎛ 내지 10㎛가 바람직하고, 광탄성을 작게 하는 점에서 0.2㎛ 내지 5㎛가 보다 바람직하다.
중합성 액정 화합물의 배향 상태에는 수평 배향, 수직 배향, 하이브리드 배향 및 경사 배향 등이 있지만, 바람직하게는 수직 배향이다. 본 광학 이방성 막은 수직 배향한 중합성 액정 화합물의 중합물을 포함하는 것이 바람직하다.
수평, 수직 등의 표현은, 광학 이방성 막이 형성되는 기재 평면에 대한 중합성 액정 화합물의 장축 배향 방향을 나타낸다. 수직 배향이란 광학 이방성 막이 형성되는 기재 평면에 대하여 수직인 방향으로 중합성 액정 화합물의 장축을 갖는 것이다. 여기에서 말하는 수직이란 90°±20°이다.
본 광학 이방성 막의 표면의 물의 접촉각은, 본 광학 이방성 막의 표면의 습윤성이 높고, 본 광학 이방성 막에 대한 접착제 등의 도포를 용이하게 하기 때문에, 바람직하게는 70°내지 100°이며, 보다 바람직하게는 80°내지 95°이며, 더욱 바람직하게는 85°내지 95°이다.
본 광학 이방성 막의 헤이즈값은 통상 1.5％ 이하이고, 바람직하게는 0.5％ 이하이고, 보다 바람직하게는 0.3％ 이하이고, 더욱 바람직하게는 0.25％ 이하이다. 헤이즈값이 낮을수록 투명성이 높은 것을 의미한다.
본 광학 이방성 막의 두께 분포의 편차는 통상 5％ 이하이고, 바람직하게는 4％ 이하이고, 보다 바람직하게는 3％ 미만이고, 더욱 바람직하게는 2％ 이하이다.
<유기 변성 폴리실록산>
유기 변성 폴리실록산으로서는 폴리에테르 변성 폴리디메틸실록산, 알킬 변성 폴리디메틸실록산, 폴리에스테르 변성 폴리디메틸실록산 및 아르알킬 변성 폴리디메틸실록산을 들 수 있으며, 바람직하게는 폴리에테르 변성 폴리디메틸실록산이다.
유기 변성 폴리실록산은 공지의 방법으로 제조할 수 있으며, 예를 들어 일본 특허 공개(평)4-242499호 공보의 합성예 1, 2, 3 및 4나, 일본 특허 공개(평)9-165318호 공보의 참고예에 기재된 방법 등에 의해 제조할 수 있다. 또한, 시판되는 재료를 사용할 수도 있고, 구체적으로는 TSF4445, TSF4446(GE 도시바 실리콘(주)제), SH200, SH3746M, DC3PA, ST869A(도레이·다우코닝(주)제), KP 시리즈(신에쯔 가가꾸 고교(주)제), BYK-302, BYK-306, BYK-307, BYK-330, BYK-370(빅 케미재팬사제) 등을 들 수 있다.
유기 변성 폴리실록산은 단독으로 사용할 수도 있고, 2종 이상을 조합할 수도 있다.
유기 변성 폴리실록산의 함유량은 본 광학 이방성 막 100질량부에 대하여 통상 0.1 내지 30질량부이며, 바람직하게는 0.1 내지 10질량부이며, 보다 바람직하게는 0.2 내지 1질량부이다.
본 광학 이방성 막은, 통상 중합성 액정 화합물 및 유기 변성 폴리실록산을 포함하는 광학 이방성 막 형성용 조성물을 기재에 도포하고, 도포된 중합성 액정 화합물을 중합함으로써 제조된다.
<기재>
기재는 수지 기재인 것이 바람직하다.
수지 기재는 통상 투명 수지 기재이다. 투명 수지 기재란 광, 특히 가시광을 투과할 수 있는 투광성을 갖는 기재를 의미하고, 투광성이란 파장 380㎚ 내지 780㎚에 걸친 광선에 대한 투과율이 80％ 이상으로 되는 특성을 의미한다. 수지 기재에는 통상 필름상의 것이 사용되고, 바람직하게는 장축 필름 롤이 사용된다.
기재를 구성하는 수지로서는 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 노르보르넨계 중합체 등의 폴리올레핀; 폴리비닐알코올; 폴리에틸렌테레프탈레이트; 폴리메타크릴산에스테르; 폴리아크릴산에스테르; 셀룰로오스에스테르; 폴리에틸렌나프탈레이트; 폴리카르보네이트; 폴리술폰; 폴리에테르술폰; 폴리에테르케톤; 폴리페닐렌술피드; 및 폴리페닐렌옥시드를 들 수 있다. 그 중에서도, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 노르보르넨계 중합체 등의 폴리올레핀을 포함하는 기재가 바람직하다.
기재에는 표면 처리를 실시할 수도 있다. 표면 처리의 방법으로서는, 예를 들어 진공으로부터 대기압의 분위기하에서 코로나 또는 플라즈마에 의해 기재의 표면을 처리하는 방법, 기재 표면을 레이저 처리하는 방법, 기재 표면을 오존 처리하는 방법, 기재 표면을 비누화 처리하는 방법, 기재 표면을 화염 처리하는 방법, 기재 표면에 커플링제를 도포하는 방법, 기재 표면을 프라이머 처리하는 방법, 및 반응성 단량체나 반응성을 갖는 중합체를 기재 표면에 부착시킨 후에 방사선, 플라즈마 또는 자외선을 조사하여 반응시키는 그라프트 중합시켜 처리하는 방법 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 진공으로부터 대기압의 분위기하에서 기재 표면을 코로나 또는 플라즈마 처리하는 방법이 바람직하다.
코로나 또는 플라즈마에 의해 기재의 표면 처리를 행하는 방법으로서는, 대기압 근방의 압력하에서 대향한 전극간에 기재를 설치하고, 코로나 또는 플라즈마를 발생시켜 기재의 표면 처리를 행하는 방법, 대향한 전극간에 가스를 흘려 전극간에서 가스를 플라즈마화하고, 플라즈마화된 가스를 기재에 분무하는 방법 및 저압 조건하에서 글로우 방전 플라즈마를 발생시켜, 기재의 표면 처리를 행하는 방법을 들 수 있다.
그 중에서도, 대기압 근방의 압력하에서 대향한 전극간에 기재를 설치하고, 코로나 또는 플라즈마를 발생시켜 기재의 표면 처리를 행하는 방법, 또는 대향한 전극간에 가스를 흘려 전극간에서 가스를 플라즈마화하고, 플라즈마화된 가스를 기재에 분무하는 방법이 바람직하다. 이러한 코로나 또는 플라즈마에 의한 표면 처리는 통상 시판되고 있는 표면 처리 장치에 의해 행하여진다.
기재는 광학 이방성 막 형성용 조성물을 도포하는 면과는 반대인 면에 보호 필름을 가질 수도 있다. 보호 필름으로서는 폴리에틸렌, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리카르보네이트 및 폴리올레핀 등의 필름 및 당해 필름에 점착층을 더 갖는 필름 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 건조시에 있어서의 열변형이 작기 때문에, 폴리에틸렌테레프탈레이트가 바람직하다. 보호 필름을, 기재의 광학 이방성 막 형성용 조성물을 도포하는 면과는 반대인 면에 가짐으로써, 기재 반송시의 필름의 흔들림이나 도포면의 얼마 안 되는 진동을 억제할 수 있어, 도막의 균일성을 향상시킬 수 있다.
기재의 두께는, 통상 5㎛ 내지 300㎛이며, 바람직하게는 20㎛ 내지 200㎛이다.
장척 필름 롤의 장척 방향의 길이는 통상 10m 내지 3000m이며, 바람직하게는 100m 내지 2000m이다. 장척 필름 롤의 단척 방향의 길이는 통상 0.1m 내지 5m이며, 바람직하게는 0.2m 내지 2m이다.
<배향막>
기재의 광학 이방성 막 형성용 조성물이 도포되는 면에는, 바람직하게는 배향막이 형성되어 있다.
배향막이란 후술하는 중합성 액정 화합물을 원하는 방향으로 배향시키는 배향 규제력을 갖는 것이다.
배향막으로서는 광학 이방성 막 형성용 조성물의 도포 등에 의해 용해되지 않는 용제 내성을 갖고, 또한 용제의 제거나 중합성 액정 화합물의 배향을 위한 가열 처리에 있어서의 내열성을 갖는 것이 바람직하다. 배향막으로서는 배향성 중합체를 포함하는 배향막, 광 배향막 및 표면에 요철 패턴이나 복수의 홈을 갖는 그루브 배향막 등을 들 수 있다.
이러한 배향막은 중합성 액정 화합물의 배향을 용이하게 한다. 또한, 배향막의 종류나 러빙 조건에 의해 수평 배향, 수직 배향, 하이브리드 배향, 경사 배향 등의 다양한 배향의 제어가 가능하다.
배향막의 두께는 통상 10㎚ 내지 10000㎚의 범위이며, 바람직하게는 10㎚ 내지 1000㎚의 범위이며, 보다 바람직하게는 500㎚ 이하이고, 더욱 바람직하게는 10㎚ 내지 200㎚의 범위이다.
<배향성 중합체를 포함하는 배향막>
배향성 중합체로서는 아미드 결합을 갖는 폴리아미드나 젤라틴류, 이미드 결합을 갖는 폴리이미드 및 그의 가수분해물인 폴리아믹산, 폴리비닐알코올, 알킬 변성 폴리비닐알코올, 폴리아크릴아미드, 폴리옥사졸, 폴리에틸렌이민, 폴리스티렌, 폴리비닐피롤리돈, 폴리아크릴산 및 폴리아크릴산에스테르류를 들 수 있다. 그 중에서도 폴리비닐알코올이 바람직하다. 2종 이상의 배향성 중합체를 조합할 수도 있다.
배향성 중합체를 포함하는 배향막은 통상 배향성 중합체가 용제에 용해된 배향성 중합체 조성물을 기재에 도포하고, 용제를 제거하여 도포막을 형성하거나, 또는 배향성 중합체 조성물을 기재에 도포하고, 용제를 제거하여 도포막을 형성하고, 해당 도포막을 러빙함으로써 얻어진다.
상기 용제로서는 물, 메탄올, 에탄올, 에틸렌글리콜, 이소프로필알코올, 프로필렌글리콜, 메틸셀로솔브, 부틸셀로솔브, 프로필렌글리콜모노메틸에테르 등의 알코올 용제, 아세트산에틸, 아세트산부틸, 에틸렌글리콜메틸에테르아세테이트, γ-부티로락톤, 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트, 락트산에틸 등의 에스테르 용제, 아세톤, 메틸에틸케톤, 시클로펜타논, 시클로헥사논, 메틸아밀케톤, 메틸이소부틸케톤 등의 케톤 용제, 펜탄, 헥산, 헵탄 등의 지방족 탄화수소 용제, 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소 용제, 아세토니트릴 등의 니트릴 용제, 테트라히드로푸란, 디메톡시에탄 등의 에테르 용제 및 클로로포름, 클로로벤젠 등의 염소화탄화수소 용제를 들 수 있다. 용제는 2종 이상을 조합할 수도 있다.
배향성 중합체 조성물 중의 배향성 중합체의 농도는 배향성 중합체가 용제에 완전 용해되는 범위이면 된다. 배향성 중합체 조성물에 대한 배향성 중합체의 함유량은, 바람직하게는 0.1 내지 20％이며, 보다 바람직하게는 0.1 내지 10％이다.
배향성 중합체 조성물은 시장으로부터 입수할 수 있다. 시판되고 있는 배향성 중합체 조성물로서는, 선에버(등록 상표, 닛산 가가꾸 고교(주)제), 옵트머(등록 상표, JSR(주)제) 등을 들 수 있다.
배향성 중합체 조성물을 기재에 도포하는 방법으로서는 스핀 코팅법, 익스트루전법, 그라비아 코팅법, 다이 코팅법, 슬릿 코팅법, 바 코팅법, 어플리케이터법 등의 도포법, 플렉소법 등의 인쇄법 등의 공지의 방법을 들 수 있다. 광학 이방성 막을 후술하는 롤 투 롤(Roll to Roll) 형식의 연속적 제조 방법에 의해 제조하는 경우, 당해 도포 방법으로서는 통상 그라비아 코팅법, 다이 코팅법 또는 플렉소법 등의 인쇄법이 채용된다.
배향성 중합체 조성물에 포함되는 용제를 제거하는 방법으로서는 자연 건조, 통풍 건조, 가열 건조, 감압 건조 및 이들을 조합한 방법을 들 수 있다. 건조 온도는 10 내지 250℃가 바람직하고, 25 내지 200℃가 보다 바람직하다. 건조 시간은 용제의 종류에 따라 다르지만, 5초간 내지 60분간이 바람직하고, 10초간 내지 30분간이 보다 바람직하다.
배향성 중합체 조성물로부터 형성된 도포막에는 러빙 처리를 실시할 수도 있다. 러빙 처리를 실시함으로써 상기 도포막에 배향 규제력을 부여할 수 있다.
러빙 처리의 방법으로서는, 러빙 천이 둘러 감겨져, 회전하고 있는 러빙 롤에 상기 도포막을 접촉시키는 방법을 들 수 있다.
러빙 처리를 행할 때에 마스킹을 행하면 배향의 방향이 상이한 복수의 영역(패턴)을 배향막에 형성할 수도 있다.
<광 배향막>
광 배향막은, 통상 광 반응성기를 갖는 중합체 또는 단량체와 용제를 포함하는 광 배향막 형성용 조성물을 기재에 도포하고, 편광(바람직하게는, 편광 UV)을 조사함으로써 얻어진다. 광 배향막은 조사하는 편광의 편광 방향을 선택함으로써 배향 규제력의 방향을 임의로 제어할 수 있다.
광 반응성기란 광조사함으로써 배향능을 발생시키는 기를 의미한다. 구체적으로는, 광조사에 의해 발생하는 분자의 배향 유기 반응, 이성화 반응, 광 이량화 반응, 광가교 반응 또는 광분해 반응 등의 배향능의 기원이 되는 광 반응에 관여하는 기를 들 수 있다. 광 반응성기로서는 불포화 결합, 특히 이중 결합을 갖는 기가 바람직하고, 탄소-탄소 이중 결합(C=C 결합), 탄소-질소 이중 결합(C=N 결합), 질소-질소 이중 결합(N=N 결합) 및 탄소-산소 이중 결합(C=O 결합)으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나를 갖는 기가 특히 바람직하다.
C=C 결합을 갖는 광 반응성기로서는 비닐기, 폴리엔기, 스틸벤기, 스틸바졸기, 스틸바졸륨기, 칼콘기 및 신나모일기를 들 수 있다. C=N 결합을 갖는 광 반응성기로서는 방향족 쉬프염기, 방향족 히드라존 등의 구조를 갖는 기를 들 수 있다. N=N 결합을 갖는 광 반응성기로서는 아조벤젠기, 아조나프탈렌기, 방향족 복소환 아조기, 비스아조기, 포르마잔기 및 아족시벤젠 구조를 갖는 기를 들 수 있다. C=O 결합을 갖는 광 반응성기로서는 벤조페논기, 쿠마린기, 안트라퀴논기 및 말레이미드기를 들 수 있다. 이들 기는 알킬기, 알콕시기, 아릴기, 알릴옥시기, 시아노기, 알콕시카르보닐기, 히드록실기, 술폰산기, 할로겐화알킬기 등의 치환기를 가질 수도 있다.
광 반응성기로서는 광 이량화 반응 또는 광가교 반응에 관여하는 기가 배향성이 우수한 점에서 바람직하다. 그 중에서도, 광 이량화 반응에 관여하는 광 반응성기가 바람직하고, 배향에 필요한 편광 조사량이 비교적 적으며, 열 안정성이나 경시 안정성이 우수한 광 배향막이 얻어지기 쉽다는 점에서, 신나모일기 및 칼콘기가 바람직하다. 광 반응성기를 갖는 중합체로서는 당해 중합체 측쇄의 말단부가 신남산 구조로 되는 신나모일기를 갖는 것이 특히 바람직하다.
광 배향막 형성용 조성물을 기재 상에 도포함으로써 기재 상에 광 배향 유기층을 형성할 수 있다. 해당 조성물에 포함되는 용제로서는 상술한 배향성 중합체 조성물에 포함되는 용제와 마찬가지의 것을 들 수 있고, 광 반응성기를 갖는 중합체 또는 단량체의 용해성에 따라 선택할 수 있다.
광 배향막 형성용 조성물 중의 광 반응성기를 갖는 중합체 또는 단량체의 함유량은, 중합체 또는 단량체의 종류나 목적으로 하는 광 배향막의 두께에 따라 조절할 수 있고, 적어도 0.2질량％로 하는 것이 바람직하고, 0.3 내지 10질량％의 범위가 보다 바람직하다. 광 배향막의 특성이 현저하게 손상되지 않는 범위에서, 광 배향막 형성용 조성물은 폴리비닐알코올이나 폴리이미드 등의 고분자 재료나 광 증감제를 포함하고 있을 수도 있다.
광 배향막 형성용 조성물을 기재에 도포하는 방법으로서는 배향성 중합체 조성물을 기재에 도포하는 방법과 마찬가지의 방법을 들 수 있다. 도포된 광 배향막 형성용 조성물로부터 용제를 제거하는 방법으로서는 배향성 중합체 조성물로부터 용제를 제거하는 방법과 동일한 방법을 들 수 있다.
편광을 조사하기 위해서는, 기재 상에 도포된 광 배향막 형성용 조성물로부터 용제를 제거한 것에 직접 편광을 조사하는 형식일 수도 있고, 기재측으로부터 편광을 조사하여, 편광을 기재를 투과시켜 조사하는 형식일 수도 있다. 또한, 당해 편광은 실질적으로 평행광이면 바람직하다. 조사하는 편광의 파장은, 광 반응성기를 갖는 중합체 또는 단량체의 광 반응성기가 빛에너지를 흡수할 수 있는 파장 영역의 것이 좋다. 구체적으로는, 파장 250㎚ 내지 400㎚의 범위의 UV(자외선)가 특히 바람직하다. 당해 편광을 조사하는 광원으로서는 크세논 램프, 고압 수은 램프, 초고압 수은 램프, 메탈 할라이드 램프, KrF, ArF 등의 자외광 레이저 등을 들 수 있다. 그 중에서도 고압 수은 램프, 초고압 수은 램프 및 메탈 할라이드 램프가 파장 313㎚의 자외선의 발광 강도가 크기 때문에 바람직하다. 상기 광원으로부터의 광을 적당한 편광층을 통과하여 조사함으로써 편광 UV를 조사할 수 있다. 편광층으로서는 편광 필터, 글란-톰슨 및 글란-테일러 등의 편광 프리즘 및 와이어 그리드 타입의 편광층을 들 수 있다.
편광 조사는, 편광 조사를 행할 때에 마스킹을 행하면, 배향의 방향이 상이한 복수의 영역(패턴)을 배향막에 형성할 수 있다.
<그루브 배향막>
그루브(groove) 배향막은 막 표면에 요철 패턴 또는 복수의 그루브(홈)를 갖는 막이다. 등간격으로 배열한 복수의 직선상의 그루브를 갖는 막에 액정 분자를 둔 경우, 그 홈을 따른 방향으로 액정 분자가 배향한다.
그루브 배향막을 얻는 방법으로서는, 감광성 폴리이미드막 표면에 패턴 형상의 슬릿을 갖는 노광용 마스크를 통해 노광한 후, 현상 및 린스 처리를 행하여 요철 패턴을 형성하는 방법, 표면에 홈을 갖는 판상의 원반에 경화 전의 UV 경화 수지층을 형성하고, 수지층을 기재로 옮기고 나서 경화하는 방법, 및 기재 상에 형성한 경화 전의 UV 경화 수지의 막에 복수의 홈을 갖는 롤상의 원반을 눌러 요철을 형성하고, 그 후 경화되는 방법 등을 들 수 있다. 구체적으로는, 일본 특허 공개(평) 6-34976호 공보 및 일본 특허 공개 제2011-242743호 공보 기재된 방법 등을 들 수 있다.
상기 방법 중에서도 기재 상에 형성한 경화 전의 UV 경화 수지의 막에 복수의 홈을 갖는 롤상의 원반을 눌러 요철을 형성하고, 그 후 경화하는 방법이 바람직하다. 롤상 원반으로서는 내구성의 관점에서 스테인리스(SUS) 강이 바람직하다.
UV 경화 수지로서는 단관능 아크릴레이트, 다관능 아크릴레이트 또는 이들의 혼합물을 들 수 있다.
단관능 아크릴레이트란, 아크릴로일옥시기(CH2=CH-COO-) 및 메타크릴로일옥시기(CH2=C(CH3)-COO-)로 이루어지는 군으로부터 선택되는 기(이하, (메트)아크릴로일옥시기라고 기재하는 경우도 있음)를 1개 갖는 화합물이다. 또한, (메트)아크릴레이트란 아크릴레이트 또는 메타크릴레이트를 의미한다.
(메트)아크릴로일옥시기를 1개 갖는 단관능 아크릴레이트로서는, 탄소수 4 내지 16의 알킬(메트)아크릴레이트, 탄소수 2 내지 14의 β카르복시알킬(메트)아크릴레이트, 탄소수 2 내지 14의 알킬화페닐(메트)아크릴레이트, 메톡시폴리에틸렌글리콜(메트)아크릴레이트, 페녹시폴리에틸렌글리콜(메트)아크릴레이트 및 이소보닐(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.
다관능 아크릴레이트란, 2 이상의 (메트)아크릴로일옥시기를 갖는 화합물이며, (메트)아크릴로일옥시기를 2 내지 6개 갖는 화합물이 바람직하다.
(메트)아크릴로일옥시기를 2개 갖는 다관능 아크릴레이트로서는, 1,3-부탄디올디(메트)아크릴레이트; 1,6-헥산디올디(메트)아크릴레이트; 에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트; 디에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트; 네오펜틸글리콜디(메트)아크릴레이트; 트리에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트; 테트라에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트; 폴리에틸렌글리콜디아크릴레이트; 비스페놀 A의 비스(아크릴로일옥시에틸)에테르; 에톡시화비스페놀 A 디(메트)아크릴레이트; 프로폭시화네오펜틸글리콜디(메트)아크릴레이트; 에톡시화네오펜틸글리콜디(메트)아크릴레이트 및 3-메틸펜탄디올디(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.
(메트)아크릴로일옥시기를 3 내지 6개 갖는 다관능 아크릴레이트로서는,
트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트; 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트; 트리스(2-히드록시에틸)이소시아누레이트트리(메트)아크릴레이트; 에톡시화트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트; 프로폭시화트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트; 펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트; 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트; 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트; 트리펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트; 트리펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트; 트리펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트; 트리펜타에리트리톨헵타(메트)아크릴레이트; 트리펜타에리트리톨옥타(메트)아크릴레이트;
펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트와 산 무수물의 반응물; 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트와 산 무수물의 반응물;
트리펜타에리트리톨헵타(메트)아크릴레이트와 산 무수물의 반응물;
카프로락톤 변성 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트; 카프로락톤 변성 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트; 카프로락톤 변성 트리스(2-히드록시에틸)이소시아누레이트트리(메트)아크릴레이트; 카프로락톤 변성 펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트; 카프로락톤 변성 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트; 카프로락톤 변성 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트; 카프로락톤 변성 트리펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트; 카프로락톤 변성 트리펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트; 카프로락톤 변성 트리펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트; 카프로락톤 변성 트리펜타에리트리톨헵타(메트)아크릴레이트; 카프로락톤 변성 트리펜타에리트리톨옥타(메트)아크릴레이트; 카프로락톤 변성 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트와 산 무수물의 반응물; 카프로락톤 변성 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트와 산 무수물의 반응물 및 카프로락톤 변성 트리펜타에리트리톨헵타(메트)아크릴레이트와 산 무수물 등을 들 수 있다.
카프로락톤 변성이란, (메트)아크릴레이트 화합물의 알코올 유래 부위와 (메트)아크릴로일옥시기 사이에, 카프로락톤의 개환체 또는 개환 중합체가 도입되어 있는 것을 의미한다.
다관능 아크릴레이트는 시장으로부터 입수할 수 있다. 시판품으로서는 A-DOD-N, A-HD-N, A-NOD-N, APG-100, APG-200, APG-400, A-GLY-9E, A-GLY-20E, A-TMM-3, A-TMPT, AD-TMP, ATM-35E, A-TMMT, A-9550, A-DPH, HD-N, NOD-N, NPG, TMPT [신나까무라 가가꾸(주)], "아로닉스(ARONIX) M-220", 아로닉스 "M-325", 아로닉스 "M-240", 아로닉스 "M-270" , 아로닉스 "M-309" , 아로닉스 "M-310", 아로닉스 "M-321", 아로닉스 "M-350", 아로닉스 "M-360", 아로닉스 "M-305", 아로닉스 "M-306", 아로닉스 "M-450", 아로닉스 "M-451", 아로닉스 "M-408", 아로닉스 "M-400", 아로닉스 "M-402", 아로닉스 "M-403", 아로닉스 "M-404", 아로닉스 "M-405", 아로닉스 "M-406"[도아 고세(주)], "에베크릴(EBECRYL)11", 에베크릴 "145", 에베크릴 "150", 에베크릴 "40", 에베크릴 "140", 에베크릴 "180", DPGDA, HDDA, TPGDA, HPNDA, PETIA, PETRA, TMPTA, TMPEOTA, DPHA, 에베크릴 시리즈[다이셀·사이텍(주)] 등을 들 수 있다.
그루브 배향막의 볼록부의 폭은 배향 혼란이 작은 배향을 얻기 위하여 0.05㎛ 내지 5㎛인 것이 바람직하고, 오목부의 폭은 0.1㎛ 내지 5㎛인 것이 바람직하고, 요철의 단차의 깊이는 2㎛ 이하인 것이 바람직하고, 0.01㎛ 내지 1㎛ 이하인 것이 바람직하다.
<광학 이방성 막 형성용 조성물>
광학 이방성 막 형성용 조성물에 포함되는 유기 변성 폴리실록산으로서는 상기한 것과 동일한 것을 들 수 있다.
광학 이방성 막 형성용 조성물에 있어서의 유기 변성 폴리실록산의 함유량은 중합성 액정 화합물 100질량부에 대하여 통상 0.1 내지 30질량부이며, 바람직하게는 0.1 내지 10질량부이며, 보다 바람직하게는 0.2 내지 1질량부이다.
<중합성 액정 화합물>
중합성 액정 화합물로서는, 예를 들어 식 (X)로 표시되는 기를 포함하는 화합물(이하 「화합물 (X)」라는 경우가 있음)을 들 수 있다. 중합성 액정 화합물은 1종류일 수도 있고, 상이한 구조의 화합물을 복수 조합할 수도 있다.
Figure 112014117112765-pat00003
[식 (X) 중, P11은 수소 원자 또는 중합성기를 나타내고,
A11은 2가의 지환식 탄화수소기 또는 2가의 방향족 탄화수소기를 나타내고, 해당 2가의 지환식 탄화수소기 및 2가의 방향족 탄화수소기의 수소 원자는, 할로겐 원자, 탄소수 1 내지 6의 알킬기, 탄소수 1 내지 6 알콕시기, 시아노기 또는 니트로기로 치환되어 있을 수도 있고, 해당 탄소수 1 내지 6의 알킬기 및 해당 탄소수 1 내지 6 알콕시기의 수소 원자는 불소 원자로 치환되어 있을 수도 있으며,
B11은 -O-, -S-, -CO-O-, -O-CO-, -O-CO-O-, -CO-NR16-, -NR16-CO-, -CO-, -CS- 또는 단결합을 나타내고, R16은 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 6의 알킬기를 나타내고,
B12 및 B13은 각각 독립적으로 -C≡C-, -CH=CH-, -CH2-CH2-, -O-, -S-, -C(=O)-, -C(=O)-O-, -O-C(=O)-, -O-C(=O)-O-, -CH=N-, -N=CH-, -N=N-, -C(=O)-NR16-, -NR16-C(=O)-, -OCH2-, -OCF2-, -CH2O-, -CF2O-, -CH=CH-C(=O)-O-, -O-C(=O)-CH=CH- 또는 단결합을 나타내고,
E11은 탄소수 1 내지 12의 알칸디일기를 나타내고, 해당 알칸디일기에 포함되는 수소 원자는 탄소수 1 내지 5의 알콕시기로 치환되어 있을 수도 있고, 해당 알콕시기의 수소 원자는 할로겐 원자로 치환되어 있을 수도 있으며, 또한 해당 알칸디일기를 구성하는 -CH2-는 -O- 또는 -CO-로 치환되어 있을 수도 있음]
A11의 방향족 탄화수소기 및 지환식 탄화수소기의 탄소수는 3 내지 18의 범위인 것이 바람직하고, 5 내지 12의 범위인 것이 보다 바람직하고, 5 또는 6인 것이 특히 바람직하다. A11로서는 시클로헥산-1,4-디일기, 1,4-페닐렌기가 바람직하다.
E11로서는 직쇄상의 탄소수 1 내지 12의 알칸디일기가 바람직하다. 해당 알칸디일기를 구성하는 -CH2-는 -O-로 치환되어 있을 수도 있다.
구체적으로는, 메틸렌기, 에틸렌기, 프로판-1,3-디일기, 부탄-1,4-디일기, 펜탄-1,5-디일기, 헥산-1,6-디일기, 헵탄-1,7-디일기, 옥탄-1,8-디일기, 노난-1, 9-디일기, 데칸-1,10-디일기, 운데칸-1,11-디일기 및 도데칸-1,12-디일기 등의 탄소수 1 내지 12의 직쇄상 알칸디일기; -CH2-CH2-O-CH2-CH2-, -CH2-CH2-O-CH2-CH2-O-CH2-CH2- 및 -CH2-CH2-O-CH2-CH2-O-CH2-CH2-O-CH2-CH2- 등을 들 수 있다.
B11로서는 -O-, -S-, -CO-O-, -O-CO-가 바람직하고, 그 중에서도 -CO-O-가 보다 바람직하다.
B12 및 B13으로서는 각각 독립적으로 -O-, -S-, -C(=O)-, -C(=O)-O-, -O-C(=O)-, -O-C(=O)-O-가 바람직하고, 그 중에서도 -O- 또는 -O-C(=O)-O-가 보다 바람직하다.
P11로 표시되는 중합성기로서는, 중합 반응성, 특히 광중합 반응성이 높다는 점에서 라디칼 중합성기 또는 양이온 중합성기가 바람직하고, 취급이 용이할 뿐만 아니라, 액정 화합물의 제조도 용이하기 때문에, 중합성기는 하기 화학식 (P-11) 내지 화학식 (P-15)로 표시되는 기 또는 스틸벤기인 것이 바람직하다.
Figure 112014117112765-pat00004
[화학식 (P-11) 내지 (P-13) 중,
R17 내지 R21은 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 6의 알킬기 또는 수소 원자를 나타냄]
화학식 (P-11) 내지 화학식 (P-13)으로 표시되는 기의 구체예로서는, 하기 화학식 (P-16) 내지 화학식 (P-20)으로 표시되는 기 또는 p-스틸벤기를 들 수 있다.
Figure 112014117112765-pat00005
P11은 화학식 (P-14) 내지 화학식 (P-20)으로 표시되는 기인 것이 바람직하고, 비닐기, 에폭시기 또는 옥세타닐기가 보다 바람직하다.
P11-B11-로 표시되는 기가 아크릴로일옥시기 또는 메타크릴로일옥시기인 것이 더욱 바람직하다.
화합물 (X)로서는 화학식 (I), 화학식 (II), 화학식 (III), 화학식 (IV), 화학식 (V) 또는 화학식 (VI)으로 표시되는 화합물을 들 수 있다.
Figure 112014117112765-pat00006
(식 중,
A12 내지 A14는 각각 독립적으로 A11과 동일한 의미이고, B14 내지 B16은 각각 독립적으로 B12와 동일한 의미이고, B17은 B11과 동일한 의미이고, E12는 E11과 동일한 의미이고,
F11은 수소 원자, 탄소수 1 내지 13의 알킬기, 탄소수 1 내지 13의 알콕시기, 시아노기, 니트로기, 트리플루오로메틸기, 디메틸아미노기, 히드록시기, 메틸올기, 포르밀기, 술포기(-SO3H), 카르복시기, 탄소수 1 내지 10의 알콕시카르보닐기 또는 할로겐 원자를 나타내고, 상기 알킬기 및 알콕시기를 구성하는 -CH2-는 -O-로 치환되어 있을 수도 있고,
P12는 수소 원자 또는 중합성기를 나타내고, 바람직하게는 중합성기이며, 중합성기로서는 상기 P11과 동일한 중합성기를 들 수 있고,
P11 및 P12는 적어도 한쪽이 중합성기임)
중합성 액정 화합물의 구체예로서는, 액정 편람(액정 편람 편집 위원회 편, 마루젠(주) 2000년 10월 30일 발행)의 「3.8.6 네트워크(완전 가교형)」, 「6.5.1 액정 재료 b. 중합성 네마틱 액정 재료」에 기재된 화합물 중에서 중합성기를 갖는 화합물, 일본 특허 공개 제2010-31223호 공보, 일본 특허 공개 제2010-270108호 공보, 일본 특허 공개 제2011-6360호 공보 및 일본 특허 공개 제2011-207765호 공보에 기재된 중합성 액정 화합물을 들 수 있다.
화합물 (X)의 구체예로서는, 하기 화학식 (I-1) 내지 화학식 (I-4), 화학식 (II-1) 내지 화학식 (II-4), 화학식 (III-1) 내지 화학식 (III-26), 화학식 (IV-1) 내지 화학식 (IV-26), 화학식 (V-1) 내지 화학식 (V-2) 및 화학식 (VI-1) 내지 화학식 (VI-6)으로 표시되는 화합물을 들 수 있다. 또한, 하기 화학식 중, k1 및 k2는 각각 독립적으로 2 내지 12의 정수를 나타낸다. 하기 화학식 (I-1) 내지 화학식 (I-4), 화학식 (II-1) 내지 화학식 (II-4), 화학식 (III-1) 내지 화학식 (III-26), 화학식 (IV-1) 내지 화학식 (IV-26), 화학식 (V-1) 내지 화학식 (V-2) 및 화학식 (VI-1) 내지 화학식 (VI-6)으로 표시되는 화합물 (X)는, 그의 합성의 용이함 또는 입수의 용이함의 면에서 바람직하다.
Figure 112014117112765-pat00007
Figure 112014117112765-pat00008
Figure 112014117112765-pat00009
Figure 112014117112765-pat00010
Figure 112014117112765-pat00011
Figure 112014117112765-pat00012
Figure 112014117112765-pat00013
Figure 112014117112765-pat00014
Figure 112014117112765-pat00015
광학 이방성 막 형성용 조성물에 있어서의 중합성 액정 화합물의 함유량은, 광학 이방성 막 형성용 조성물 100질량부에 대하여 통상 5 내지 50질량부이고, 바람직하게는 10 내지 30질량부이다.
광학 이방성 막 형성용 조성물에는 상기 중합성 액정 화합물 및 유기 변성 폴리실록산 이외에 용제, 중합 개시제, 중합 금지제, 광증감제, 레벨링제, 키랄제, 반응성 첨가제 등이 포함될 수도 있다. 광학 이방성 막 형성용 조성물에는 바람직하게는 중합 개시제가 포함된다.
<용제>
용제로서는 중합성 액정 화합물 등의 광학 이방성 막 형성용 조성물의 구성 성분을 용해할 수 있는 유기 용제가 바람직하고, 중합성 액정 화합물 등의 광학 이방성 막 형성용 조성물의 구성 성분을 용해할 수 있는 용제이며, 중합성 액정 화합물의 중합 반응에 불활성인 용제가 보다 바람직하다.
구체적으로는, 메탄올, 에탄올, 에틸렌글리콜, 이소프로필알코올, 프로필렌글리콜, 메틸셀로솔브, 부틸셀로솔브, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 페놀 등의 알코올 용제; 아세트산에틸, 아세트산부틸, 에틸렌글리콜메틸에테르아세테이트, γ-부티로락톤, 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트, 락트산에틸 등의 에스테르 용제; 아세톤, 메틸에틸케톤, 시클로펜타논, 시클로헥사논, 메틸아밀케톤, 메틸이소부틸케톤 등의 케톤 용제; 펜탄, 헥산, 헵탄 등의 비염소화 지방족 탄화수소 용제; 톨루엔, 크실렌 등의 비염소화 방향족 탄화수소 용제; 아세토니트릴 등의 니트릴 용제; 테트라히드로푸란, 디메톡시에탄 등의 에테르 용제; 및 클로로포름, 클로로벤젠 등의 염소화 탄화수소 용제를 들 수 있다. 2종 이상의 유기 용제를 조합하여 사용할 수도 있다. 이 중에서도, 알코올 용제, 에스테르 용제, 케톤 용제, 비염소화 지방족 탄화수소 용제 및 비염소화 방향족 탄화수소 용제가 바람직하다.
용제의 함유량은 고형분 100질량부에 대하여 10 내지 10000질량부가 바람직하고, 보다 바람직하게는 100 내지 5000질량부이다. 광학 이방성 막 형성용 조성물 중의 고형분 농도는 통상 1 내지 90질량％이고, 바람직하게는 2 내지 50질량％이고, 보다 바람직하게는 5 내지 50질량％이다. "고형분"이란, 광학 이방성 막 형성용 조성물로부터 용제를 제거한 성분의 합계를 의미한다.
<중합 개시제>
중합 개시제로서는 광중합 개시제가 바람직하고, 광조사에 의해 라디칼을 발생하는 광중합 개시제가 바람직하다.
광중합 개시제로서는, 예를 들어 벤조인 화합물, 벤조페논 화합물, 벤질 케탈 화합물, α-히드록시케톤 화합물, α-아미노케톤 화합물, α-아세토페논 화합물, 트리아진 화합물, 요오도늄염 및 술포늄염을 들 수 있다. 구체적으로는, 이르가큐어(Irgacure) 907, 이르가큐어 184, 이르가큐어 651, 이르가큐어 819, 이르가큐어 250, 이르가큐어 369(이상, 모두 시바 재팬 카부시끼가이샤제), 세이쿠올 BZ, 세이쿠올 Z, 세이쿠올 BEE(이상, 모두 세이코 가가꾸 가부시끼가이샤제), 카야큐어(kayacure) BP100(닛본 가야꾸 가부시끼가이샤제), 카야큐어 UVI-6992(다우사제), 아데카 옵토머 SP-152, 아데카 옵토머 SP-170(이상, 모두 가부시끼가이샤 아데카(ADEKA)제), TAZ-A, TAZ-PP(이상, 닛본 시베르헤그너사제) 및 TAZ-104(산와 케미컬사제)를 들 수 있다. 이 중에서도, α-아세토페논 화합물이 바람직하고,α-아세토페논 화합물로서는, 2-메틸-2-모르폴리노-1-(4-메틸술파닐페닐)프로판-1-온, 2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-2-벤질부탄-1-온 및 2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-2-(4-메틸페닐메틸)부탄-1-온 등을 들 수 있고, 보다 바람직하게는 2-메틸-2-모르폴리노-1-(4-메틸술파닐페닐)프로판-1-온 및 2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-2-벤질부탄-1-온을 들 수 있다. α-아세토페논 화합물의 시판품으로서는, 이르가큐어 369, 379EG, 907(이상, 바스프(BASF) 재팬(주)제) 및 세이쿠올 BEE(세꼬 가가꾸사제) 등을 들 수 있다.
중합 개시제의 함유량은, 중합성 액정 화합물의 배향을 혼란시키지 않고 중합성 액정 화합물을 중합하기 위해서는, 중합성 액정 화합물 100질량부에 대하여 통상 0.1 내지 30질량부이고, 바람직하게는 0.5 내지 10질량부이다.
<중합 금지제>
중합 금지제는, 중합성 액정 화합물의 중합 반응을 컨트롤할 수 있다.
중합 금지제로서는, 히드로퀴논 및 알킬에테르 등의 치환기를 갖는 히드로퀴논류; 부틸카테콜 등의 알킬에테르 등의 치환기를 갖는 카테콜류; 피로갈롤류, 2,2,6,6-테트라메틸-1-피페리디닐옥시라디칼 등의 라디칼 보충제; 티오페놀류; β-나프틸아민류 및 β-나프톨류를 들 수 있다.
중합 금지제의 함유량은, 중합성 액정 화합물의 배향을 혼란시키지 않고 중합성 액정 화합물을 중합하기 위해서는, 중합성 액정 화합물 100질량부에 대하여 통상 0.1 내지 30질량부이고, 바람직하게는 0.5 내지 10질량부이다.
<광증감제>
광증감제로서는, 크산톤, 티오크산톤 등의 크산톤류; 안트라센 및 알킬에테르 등의 치환기를 갖는 안트라센류; 페노티아진; 루브렌을 들 수 있다.
광증감제를 사용함으로써, 광중합 개시제를 고감도화할 수 있다. 광증감제의 함유량은, 중합성 액정 화합물 100질량부에 대하여 통상 0.1 내지 30질량부이고, 바람직하게는 0.5 내지 10질량부이다.
<레벨링제>
레벨링제로서는, 폴리아크릴레이트계 및 퍼플루오로알킬계의 레벨링제를 들 수 있다. 구체적으로는, 플루오리너트(fluorinert)(등록 상표) FC-72, 플루오리너트 FC-40, 플루오리너트 FC-43, 플루오리너트 FC-3283(이상, 모두 스미또모 쓰리엠(주)제), 메가팩(등록 상표) R-08, 메가팩 R-30, 메가팩 R-90, 메가팩 F-410, 메가팩 F-411, 메가팩 F-443, 메가팩 F-445, 메가팩 F-470, 메가팩 F-477, 메가팩 F-479, 메가팩 F-482, 메가팩 F-483(이상, 모두 DIC(주)제), 에프톱(상품명) EF301, 에프톱 EF303, 에프톱 EF351, 에프톱 EF352(이상, 모두 미쯔비시 매터리얼 덴시 가세이(주)제), 서플론(등록 상표) S-381, 서플론 S-382, 서플론 S-383, 서플론 S-393, 서플론 SC-101, 서플론 SC-105, KH-40, SA-100(이상, 모두 AGC 세이미 케미칼(주)제), 상품명 E1830, 동 E5844((주)다이킨 파인 케미컬 겡뀨쇼제), BM-1000, BM-1100, BYK-352, BYK-353 및 BYK-361N(모두 상품명: BM 케미(Chemie)사제)을 들 수 있다. 2종 이상의 레벨링제를 조합할 수도 있다.
레벨링제를 사용함으로써, 보다 평활한 광학 이방성 막을 형성할 수 있다. 또한, 광학 이방성 막의 제조 과정에서, 광학 이방성 막 형성용 조성물의 유동성을 제어하거나, 광학 이방성 막의 가교 밀도를 조정할 수 있다. 레벨링제의 함유량은 중합성 액정 화합물 100질량부에 대하여 통상 0.1 내지 30질량부이고, 바람직하게는 0.1 내지 10질량부이다.
<키랄제>
키랄제로서는, 공지된 키랄제(예를 들어, 액정 디바이스 핸드북, 제3장 4-3항, TN, STN용 키랄제, 199페이지, 일본 학술 진흥회 제142 위원회 편, 1989에 기재)를 들 수 있다.
키랄제는 일반적으로 비대칭 탄소 원자를 포함하지만, 비대칭 탄소 원자를 포함하지 않는 축성 비대칭 화합물 또는 면성 비대칭 화합물도 키랄제로서 사용할 수 있다. 축성 비대칭 화합물 또는 면성 비대칭 화합물로서는, 비나프틸, 헬리센, 파라시클로판 및 이들의 유도체를 들 수 있다.
구체적으로는, 일본 특허 공개 제2007-269640호 공보, 일본 특허 공개 제2007-269639호 공보, 일본 특허 공개 제2007-176870호 공보, 일본 특허 공개 제2003-137887호 공보, 일본 특허 공표 제2000-515496호 공보, 일본 특허 공개 제2007-169178호 공보 및 일본 특허 공표 (평)9-506088호 공보에 기재되어 있는 바와 같은 화합물을 들 수 있고, 바람직하게는 바스프 재팬(주)제의 팔리오컬러(paliocolor)(등록 상표) LC756이다.
키랄제의 함유량은, 중합성 액정 화합물의 배향을 혼란시키지 않고 중합성 액정 화합물을 중합하기 위해서는, 중합성 액정 화합물 100질량부에 대하여 통상 0.1 내지 30질량부이고, 바람직하게는 1.0 내지 25질량부이다.
<반응성 첨가제>
반응성 첨가제로서는, 그의 분자 내에 탄소-탄소 불포화 결합과 활성 수소 반응성기를 갖는 것이 바람직하다. 또한, 여기서 말하는 「활성 수소 반응성기」란, 카르복실기(-COOH), 수산기(-OH), 아미노기(-NH2) 등의 활성 수소를 갖는 기에 대하여 반응성을 갖는 기를 의미하고, 에폭시기, 옥사졸린기, 카르보디이미드기, 아지리딘기, 이미드기, 이소시아네이트기, 티오이소시아네이트기, 무수 말레산기 등이 그의 대표예이다.
반응성 첨가제에 있어서, 활성 수소 반응성기는 적어도 2개 존재하는 것이 바람직하고, 이 경우 복수 존재하는 활성 수소 반응성기는 서로 독립적으로 동일할 수도, 상이한 것일 수도 있다.
반응성 첨가제가 갖는 탄소-탄소 불포화 결합은, 탄소-탄소 이중 결합, 탄소-탄소 삼중 결합 또는 이들의 조합일 수 있고, 바람직하게는 탄소-탄소 이중 결합이다. 이 중에서도, 반응성 첨가제가 비닐기 및/또는 (메트)아크릴기를 포함하는 것이 바람직하다. 또한, 활성 수소 반응성기가 에폭시기, 글리시딜기 및 이소시아네이트기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종인 것이 바람직하고, 아크릴기와 이소시아네이트기를 갖는 반응성 첨가제가 특히 바람직하다.
반응성 첨가제의 구체예로서는, 메타크릴옥시글리시딜에테르나 아크릴옥시글리시딜에테르 등의 (메트)아크릴기와 에폭시기를 갖는 화합물; 옥세탄아크릴레이트나 옥세탄메타크릴레이트 등의 (메트)아크릴기와 옥세탄기를 갖는 화합물; 락톤아크릴레이트나 락톤메타크릴레이트 등의 (메트)아크릴기와 락톤기를 갖는 화합물; 비닐옥사졸린이나 이소프로페닐옥사졸린 등의 비닐기와 옥사졸린기를 갖는 화합물; 이소시아네이트메틸아크릴레이트, 이소시아네이트메틸메타크릴레이트, 2-이소시아네이트에틸아크릴레이트 및 20 이소시아네이트에틸메타크릴레이트 등의 (메트)아크릴기와 이소시아네이트기를 갖는 화합물의 올리고머 등을 들 수 있다. 또한, 메타크릴산 무수물, 아크릴산 무수물, 무수 말레산 및 비닐 무수 말레산 등의 비닐기나 비닐렌기와 산 무수물을 갖는 화합물 등을 들 수 있다. 이 중에서도, 메타크릴옥시글리시딜에테르, 아크릴옥시글리시딜에테르, 이소시아네이트메틸아크릴레이트, 이소시아네이트메틸메타크릴레이트, 비닐옥사졸린, 2-이소시아네이트에틸아크릴레이트, 2-이소시아네이트에틸메타크릴레이트 및 상기한 올리고머가 바람직하고, 이소시아네이트메틸아크릴레이트, 2-이소시아네이트에틸아크릴레이트 및 상기한 올리고머가 특히 바람직하다.
이 바람직한 반응성 첨가제는, 하기 화학식 (Y)로 표시된다.
Figure 112014117112765-pat00016
[화학식 (Y) 중,
n은 1부터 10까지의 정수를 나타내고, R1'은 탄소수 2 내지 20의 2가의 지방족 또는 지환식 탄화수소기, 또는 탄소수 5 내지 20의 2가의 방향족 탄화수소기를 나타내고, 각 반복 단위에 있는 2개의 R2'은 한쪽이 -NH-이고, 다른쪽이 >N-C(=O)-R3'으로 표시되는 기이고, R3'은 수산기 또는 탄소-탄소 불포화 결합을 갖는 기를 나타내고,
n이 2 이상인 경우에는, 복수개 존재하는 >N-C(=O)-R3'기 중 적어도 하나의 R3'이 탄소-탄소 불포화 결합을 갖는 기인 것이 바람직함]
상기 화학식 (Y)로 표시되는 반응성 첨가제 중에서도, 하기 화학식 (YY)로 표시되는 화합물(이하, 경우에 따라 「화합물 (YY)」라 함)이 특히 바람직하다(또한, n은 상기와 동일한 의미임).
Figure 112014117112765-pat00017
화합물 (YY)에는, 시판품을 그대로 또는 필요에 따라 정제하여 사용할 수 있다. 시판품으로서는, 예를 들어 라로머(Laromer)(등록 상표) LR-9000(바스프사제) 등을 들 수 있다.
반응성 첨가제의 함유량은, 중합성 액정 화합물 100질량부에 대하여 통상 0.1 내지 30질량부이고, 바람직하게는 0.1 내지 5질량부이다.
<도포>
광학 이방성 막 형성용 조성물을 기재에 도포하는 방법으로서는, 압출 코팅법, 다이렉트 그라비아 코팅법, 리버스 그라비아 코팅법, CAP 코팅법, 슬릿 코팅법, 다이 코팅법 등을 들 수 있다. 또한, 딥 코터, 바 코터, 스핀 코터 등의 코터를 사용하여 도포하는 방법 등도 들 수 있다. 이 중에서도, 롤 투 롤 형식으로 연속적으로 도포할 수 있다는 점에서, CAP 코팅법, 잉크젯법, 딥 코팅법, 슬릿 코팅법, 다이 코팅법 및 바 코터에 의한 도포 방법이 바람직하다. 롤 투 롤 형식으로 도포하는 경우, 기재에 배향막을 형성하고, 얻어진 배향막 상에 광학 이방성 막 형성용 조성물을 연속적으로 도포할 수도 있다.
중합성 액정 화합물을 중합하는 방법으로서는, 광중합법이 바람직하다. 광중합에 따르면 저온에서 중합을 실시할 수 있기 때문에, 내열성의 관점에서 사용하는 수지 기재의 선택 폭이 넓어진다. 광중합 반응은 통상 가시광, 자외광 또는 레이저광을 조사함으로써 행해지고, 바람직하게는 자외광을 조사함으로써 행해진다.
광조사는, 도포된 광학 이방성 막 형성용 조성물이 용제를 포함하는 경우에는, 당해 용제를 건조하여 제거한 후에 행하는 것이 바람직하다. 건조는, 광조사와 병행하여 행할 수도 있지만, 광조사를 행하기 전에 대부분의 용제를 제거하는 것이 바람직하다.
건조하는 방법으로서는, 통상의 건조 방법을 들 수 있다. 통상의 건조 방법으로서는, 자연 건조, 통풍 건조, 가열 건조, 감압 건조 및 이들을 조합한 방법을 들 수 있으며, 이 중에서도 자연 건조 또는 가열 건조가 바람직하다. 건조 온도는 0 내지 250℃의 범위가 바람직하고, 50 내지 220℃의 범위가 보다 바람직하고, 80 내지 170℃의 범위가 더욱 바람직하다. 건조 시간은 10초간 내지 60분간이 바람직하고, 보다 바람직하게는 30초간 내지 30분간이다.
광학 이방성 막이 네마틱상 등의 액정상을 나타내는 경우에는, 모노 도메인 배향에 의한 복굴절성을 갖는다. 본 광학 이방성 막은, 중합성 액정 화합물의 배향이 고정화되어 있기 때문에, 열에 의한 복굴절의 변화의 영향을 받기 어렵다.
본 광학 이방성 막은, 시야각 보상 필름, 시야각 확대 필름, 반사 방지 필름, 편광판, 원편광판, 타원 편광판 또는 휘도 향상 필름에 사용되는 위상차 필름으로서 사용할 수 있다.
또한, 본 광학 이방성 막은, 중합성 액정 화합물의 배향 상태에 따라 광학 특성을 변화시킬 수 있으며, VA(vertical alignment) 모드, IPS(in-plane switching) 모드, OCB(optically compensated bend) 모드, TN(twisted nematic) 모드, STN(super twisted nematic) 모드 등의 액정 표시 장치의 위상차 필름에 사용할 수 있다.
본 광학 이방성 막은, 편광판을 구성하는 부재로서도 유용하다. 본 발명의 편광판은, 본 광학 이방성 막을 적어도 하나 포함하는 것이다.
편광판(4)의 구체예로서는, 도 1(a) 내지 도 1(e)에 도시하는 편광판을 들 수 있다. 도 1(a)에 도시하는 편광판(4a)은, 위상차 필름(1)과 편광 필름(2)이 직접 적층된 편광판이며, 도 1(b)에 도시하는 편광판(4b)은, 위상차 필름(1)과 편광 필름(2)이 접착제층(3')을 통해 접합된 편광판이다. 도 1(c)에 도시하는 편광판(4c)은 위상차 필름(1)과 위상차 필름(1')을 적층시키고, 나아가 위상차 필름(1')과 편광 필름(2)을 적층시킨 편광판이며, 도 1(d)에 도시하는 편광판(4d)은, 위상차 필름(1)과 위상차 필름(1')을 접착제층(3)을 통해 접합하고, 나아가 위상차 필름(1') 상에 편광 필름(2)을 적층시킨 편광판이다. 도 1(e)에 도시하는 편광판(4e)은, 위상차 필름(1)과 위상차 필름(1')을 접착제층(3)을 통해 접합하고, 나아가 위상차 필름(1')과 편광 필름(2)을 접착제층(3')을 통해 접합한 편광판이다. "접착제"란, 접착제 및/또는 점착제의 총칭을 의미한다. 상기 위상차 필름(1) 및 위상차 필름(1')으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 한쪽에는 본 광학 이방성 막이 포함된다.
편광 필름(2)은 편광 기능을 갖는 필름일 수 있다. 당해 필름으로서는 흡수 이방성을 갖는 색소를 흡착시킨 연신 필름 및 흡수 이방성을 갖는 색소를 도포한 필름 등을 들 수 있다. 흡수 이방성을 갖는 색소로서는 요오드 및 아조 화합물 등의 2색성 색소를 들 수 있다.
흡수 이방성을 갖는 색소를 흡착시킨 연신 필름으로서는, 폴리비닐알코올계 필름에 2색성 색소를 흡착시켜 연신한 필름 및 폴리비닐알코올계 필름을 연신하여 2색성 색소를 흡착시킨 필름 등을 들 수 있다.
흡수 이방성을 갖는 색소를 도포한 필름으로서는, 액정성을 갖는 2색성 색소를 포함하는 조성물 또는 2색성 색소와 중합성 액정 화합물을 포함하는 조성물을 도포하여 얻어지는 필름 등을 들 수 있다.
편광 기능을 갖는 필름은, 바람직하게는 그의 편면 또는 양면에 보호 필름을 갖는다. 당해 보호 필름으로서는, 상기한 기재와 동일한 것을 들 수 있다.
상기 흡수 이방성을 갖는 색소를 흡착시킨 연신 필름으로서는, 구체적으로는 일본 특허 제3708062호, 일본 특허 제4432487호 등에 기재된 편광판을 들 수 있다.
상기 흡수 이방성을 갖는 색소를 도포한 필름으로서는, 구체적으로는 일본 특허 공개 제2012-33249호 공보 등에 기재된 편광 필름을 들 수 있다.
편광 필름(2)의 두께는 얇은 편이 바람직하지만, 지나치게 얇으면 강도가 저하되고, 가공성이 떨어지는 경향이 있다. 편광 필름의 두께는 통상 0.1㎛ 내지 300㎛이고, 바람직하게는 1㎛ 내지 200㎛이고, 보다 바람직하게는 5㎛ 내지 100㎛이다.
접착제층(3) 및 접착제층(3')을 형성하는 접착제는 투명성이 높고, 내열성이 우수한 접착제인 것이 바람직하다. 그러한 접착제로서는, 아크릴계 접착제, 에폭시계 접착제 및 우레탄계 접착제를 들 수 있다.
본 광학 이방성 막은 표시 장치에 사용할 수 있다. 상기 표시 장치로서는, 광학 이방성 막과 액정 패널이 접합된 액정 패널을 구비하는 액정 표시 장치, 및 광학 이방성 막과 발광층이 접합된 유기 전계 발광(이하, 「EL」이라고도 함) 패널을 구비하는 유기 EL 표시 장치 등을 들 수 있다. 본 광학 이방성 막을 구비한 표시 장치의 실시 형태로서, 액정 표시 장치에 대하여 설명한다.
액정 표시 장치로서는, 도 2(a) 및 도 2(b)에 도시하는 액정 표시 장치(10a) 및 (10b)를 들 수 있다. 도 2(a)에 도시하는 액정 표시 장치(10a)에서는, 본 발명의 편광판(4)과 액정 패널(6)이 접착층(5)을 통해 접합되어 있다. 도 2(b)에 도시하는 액정 표시 장치(10b)에서는, 본 발명의 편광판(4)이 액정 패널(6)의 한쪽의 면에, 본 발명의 편광판(4')이 액정 패널(6)의 다른쪽의 면에 접착층(5) 및 접착층(5')을 각각 통하여 접합된 구조를 갖고 있다. 이들 액정 표시 장치에서는, 도시하지 않은 전극을 사용하여 액정 패널에 전압을 인가함으로써, 액정 분자의 배향이 변화되어, 흑백 표시를 실현할 수 있다.
[실시예]
이하, 실시예에 의해 본 발명을 보다 구체적으로 설명한다. 또한, 예 중의 「％」 및 「부」는, 특별히 기재하지 않는 한 질량％ 및 질량부를 의미한다.
[배향막 형성용 조성물의 제조]
배향막 형성용 조성물의 조성을 표 1에 나타낸다. 시판되어 있는 배향성 중합체인 선에버 SE-610(닛산 가가꾸 고교 가부시끼가이샤제)에 N-메틸-2-피롤리돈, 2-부톡시에탄올 및 에틸시클로헥산을 가하여 배향막 형성용 조성물 (1)을 얻었다.
Figure 112014117112765-pat00018
표 1의 값은, 제조한 조성물의 전량에 대한 각 성분의 함유 비율을 나타낸다. SE-610에 대해서는, 고형분량을 납품 사양서에 기재된 농도로부터 환산하였다.
[광학 이방성 막 형성용 조성물의 제조]
광학 이방성 막 형성용 조성물의 조성을 표 2에 나타낸다. 각 성분을 혼합하고, 얻어진 용액을 80℃에서 1시간 교반한 후, 실온까지 냉각하여, 광학 이방성 막 형성용 조성물 (1) 내지 (4)를 얻었다.
Figure 112014117112765-pat00019
표 2에 있어서의 괄호 내의 값은, 제조한 조성물의 전량에 대한 각 성분의 함유 비율을 나타낸다.
표 2에 있어서의 LR9000은 바스프 재팬사제의 라로머(등록 상표) LR-9000을, Irg907은 바스프 재팬사제의 이르가큐어 907을, BYK330은 빅 케미 재팬제의 유기 변성 폴리실록산을, LC242는 하기 화학식으로 표시되는 바스프사제의 중합성 액정 화합물을, PGMEA는 프로필렌글리콜 1-모노메틸에테르2-아세테이트를 나타낸다.
Figure 112014117112765-pat00020
실시예 1
상압 플라즈마 표면 처리 장치(롤 다이렉트 헤드형 AP-T04S-R890, 세끼스이 가가꾸 고교 가부시끼가이샤제)를 사용하여, 질소와 산소를 포함하는 분위기(부피비 질소:산소=99.9:0.1)하에서 1.3kV하의 조건으로 플라즈마를 발생시켜, 롤상의 시클로올레핀 중합체 필름(ZF-14, 닛본 제온 가부시끼가이샤제)의 표면을 100m 처리하였다. 플라즈마 처리를 실시한 시클로올레핀 중합체 필름 표면에 다이 코터를 사용하여 배향막 형성용 조성물 (1)을 도포하고, 90℃의 열풍 건조로에 반송하여 1분간 건조하여 배향막을 얻었다. 이어서, 얻어진 배향막의 표면에 다이 코터를 사용하여 광학 이방성 막 형성용 조성물 (1)을 도포하고, 80℃의 건조로에 반송하여 1분간 건조하고, 고압 수은 램프(GS 유아사 가부시끼가이샤제)를 사용하여 자외선을 파장 365nm에 있어서 160W/cm의 조도로 조사하여, 광학 이방성 막 (1)을 구비하는 롤상의 위상차 필름 (1)을 얻었다.
비교예 1
상압 플라즈마 표면 처리 장치(롤 다이렉트 헤드형 AP-T04S-R890, 세끼스이 가가꾸 고교 가부시끼가이샤제)를 사용하여, 질소와 산소를 포함하는 분위기(부피비 질소:산소=99.9:0.1)하에서 1.3kV하의 조건으로 플라즈마를 발생시켜, 롤상의 시클로올레핀 중합체 필름(ZF-14, 닛본 제온 가부시끼가이샤제)의 표면을 100m 처리하였다. 플라즈마 처리를 실시한 시클로올레핀 중합체 필름 표면에 다이 코터를 사용하여 배향막 형성용 조성물 (1)을 도포하고, 90℃의 열풍 건조로에 반송하여 1분간 건조하여 배향막을 얻었다. 이어서, 얻어진 배향막의 표면에 다이 코터를 사용하여 광학 이방성 막 형성용 조성물 (2)를 도포하고, 80℃의 건조로에 반송하여 1분간 건조하고, 고압 수은 램프(GS 유아사 가부시끼가이샤제)를 사용하여 자외선을 파장 365nm에 있어서 160W/cm의 조도로 조사하여, 광학 이방성 막 (2)를 구비하는 롤상의 위상차 필름 (2)를 얻었다.
실시예 2
광학 이방성 막 형성용 조성물 (3)을 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지의 방법으로 행하여, 광학 이방성 막 (3)을 구비하는 롤상의 위상차 필름 (3)을 얻었다.
실시예 3
광학 이방성 막 형성용 조성물 (4)를 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지의 방법으로 행하여, 광학 이방성 막 (4)를 구비하는 롤상의 위상차 필름 (4)를 얻었다.
[광학 특성의 측정]
위상차 필름 (1) 내지 (4)의 위상차값을 광의 입사각을 변경하여 측정하고(측정기: 코브라(KOBRA)-WR, 오지 게이소꾸 기끼사제), 광학 이방성 막에 포함되는 중합성 액정 화합물의 중합물의 배향의 상태를 확인하였다. 결과를 표 3에 나타낸다.
[접촉각의 측정]
위상차 필름 (1) 내지 (4)의 광학 이방성 막면의 수접촉각을, 교와 가이멘 가가꾸 가부시끼가이샤제 드롭마스터(DropMaster) 700을 사용하여 액적법(액량: 1.1μL)에 의해 측정하였다. 결과를 표 3에 나타낸다.
[투명성 평가]
스가 시껭끼 가부시끼가이샤제 헤이즈 미터(형식 HZ-2)를 사용하여, 더블 빔법으로 위상차 필름 (1) 내지 (4)의 헤이즈값을 측정하였다. 결과를 표 3에 나타낸다.
[두께 분포, 불균일]
광학 이방성 막 (1) 내지 (4)의 두께 분포의 편차를 닛본 분꼬우 가부시끼가이샤제 엘립소미터 M-220을 사용하여 측정하였다.
또한, 흡수축이 직교하도록 배치한 편광판의 사이에 위상차 필름 (1) 내지 (4)를 배치하고, 불균일의 유무를 육안으로 확인하였다. 결과를 표 3에 나타낸다.
Figure 112014117112765-pat00021
실시예에서 제작한 광학 이방성 막을 구비하는 위상차 필름은 헤이즈값이 낮고 투명성이 높았다.
본 발명의 광학 이방성 막은 투명성이 우수하기 때문에 유용하다.
1, 1': 위상차 필름
2: 편광 필름
3, 3': 접착제층
4a, 4b, 4c, 4d, 4e, 4, 4': 편광판
5, 5': 접착층
6: 액정 패널
10a, 10b: 액정 표시 장치

Claims (13)

  1. nz>nx>ny의 굴절률 관계를 갖고,
    아크릴로일옥시기 또는 메타크릴로일옥시기를 갖는 중합성 액정 화합물의 중합물 및 유기 변성 폴리실록산을 포함하고,
    추가로 (메트)아크릴기와 이소시아네이트기를 갖는 반응성 첨가제를 포함하고,
    상기 유기 변성 폴리실록산이 폴리에테르 변성 폴리디메틸실록산 구조를 갖는 광학 이방성 막으로서,
    상기 광학 이방성 막의 두께 분포의 편차가 3.0% 미만이고, 헤이즈값이 0.5% 이하인 광학 이방성 막.
    (식 중, nz는 광학 이방성 막이 형성하는 굴절률 타원체에 있어서, 막 평면에 대하여 수직인 방향의 굴절률을 나타내고, nx는 광학 이방성 막이 형성하는 굴절률 타원체에 있어서, 막 평면에 대하여 평행한 방향의 주굴절률을 나타내고, ny는 광학 이방성 막이 형성하는 굴절률 타원체에 있어서, 막 평면에 대하여 평행하면서 상기 nx의 방향에 대하여 직교하는 방향의 굴절률을 나타냄)
  2. 제1항에 있어서, 유기 변성 폴리실록산의 함유량이 광학 이방성 막 100질량부에 대하여 0.1질량부 내지 30질량부인 광학 이방성 막.
  3. 제1항에 있어서, 중합성 액정 화합물의 중합물이 수직 배향한 중합성 액정 화합물의 중합물인 광학 이방성 막.
  4. 제2항에 있어서, 중합성 액정 화합물의 중합물이 수직 배향한 중합성 액정 화합물의 중합물인 광학 이방성 막.
  5. 삭제
  6. 제1항에 있어서, 물의 접촉각이 70° 내지 100°인 광학 이방성 막.
  7. 제1항 또는 제2항에 있어서, 중합성 액정 화합물 및 유기 변성 폴리실록산을 포함하는 광학 이방성 막 형성용 조성물로부터 얻어지는 광학 이방성 막.
  8. 제1항에 있어서, IPS(평면 정렬 스위칭; in-plane switching) 액정 표시 장치용의 광학 이방성 막.
  9. 제1항에 기재된 광학 이방성 막을 구비하는 위상차 필름.
  10. 제1항에 기재된 광학 이방성 막을 구비하는 편광판.
  11. 제1항에 기재된 광학 이방성 막을 구비하는 표시 장치.
  12. 삭제
  13. 삭제
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