JP2009117801A - 照明光学系、露光装置、光学素子およびその製造方法、並びにデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 光源(1)からの光に基づいて被照射面を照明する照明光学系は、回折光学素子(6)が、その第1位置に配置され得る第1光路と、二次元的に配列されて個別に制御される複数の光学要素(3a)を有する空間光変調器(3)が、その第2位置に配置され得る第2光路と、第1光路および第2光路のうちの少なくとも一方を経た光の光路であり、分布形成光学系(11)が配置された第3光路と、を備える。分布形成光学系(11)は、第1及び第2光路のうち少なくとも一方を経た光に基づいて第3光路中に位置する照明瞳に所定の光強度分布を形成する。
【選択図】 図1
Description
3 空間光変調器
3a 空間光変調器の複数のミラー要素
4 制御部
5 リレー光学系
6 回折光学素子
7 アフォーカルレンズ
9 円錐アキシコン系
10 ズームレンズ
11 シリンドリカルマイクロフライアイレンズ
12 コンデンサー光学系
13 マスクブラインド
14 結像光学系
AS 開口絞り
M マスク
PL 投影光学系
W ウェハ
Claims (29)
- 光源からの光に基づいて被照射面を照明する照明光学系において、
回折光学素子が、その第1位置に配置され得る第1光路と、
二次元的に配列されて個別に制御される複数の光学要素を有する空間光変調器が、その第2位置に配置され得る第2光路と、
前記第1光路および前記第2光路のうちの少なくとも一方を経た光の光路であり、分布形成光学系が配置された第3光路と、を備え、
前記分布形成光学系は、前記第1及び第2光路のうち少なくとも一方を経た光に基づいて前記第3光路中に位置する照明瞳に所定の光強度分布を形成することを特徴とする照明光学系。 - 前記第2位置は、前記第1位置と同じ位置または前記第1位置と光学的に共役な位置であることを特徴とする請求項1に記載の照明光学系。
- 前記光源からの光に対し、前記第1光路に配置された前記回折光学素子へ導く光路と、前記第2位置に配置された前記空間光変調器へ導く光路とを切り換えるための選択手段を備えていることを特徴とする請求項1または2に記載の照明光学系。
- 前記選択手段は、前記第2位置に平面ミラーまたはプリズムミラーを挿脱することにより選択することを特徴とする請求項3に記載の照明光学系。
- 前記選択手段は、前記空間光変調器の直前の位置に挿脱可能な反射鏡を備えていることを特徴とする請求項3に記載の照明光学系。
- 光源からの光に基づいて被照射面を照明する照明光学系において、
二次元的に配列されて個別に制御される複数の光学要素を有する空間光変調器と、
前記空間光変調器を介した光に基づいて照明瞳に所定の光強度分布を形成する分布形成光学系とを備え、
前記空間光変調器の前記複数の光学要素は、前記照明光学系の光路内の位置および前記照明光学系の光路外の位置の間で選択的に位置することを特徴とする照明光学系。 - 前記空間光変調器は、前記照明光学系の光路に対して挿脱可能であることを特徴とする請求項6に記載の照明光学装置。
- 前記空間光変調器の前記複数の光学要素の入射側に挿脱可能に設けられた反射面を備えることを特徴とする請求項6に記載の照明光学装置。
- 光源からの光に基づいて被照射面を照明する照明光学系において、
前記照明光学系の光路中の第1位置に挿入可能な回折光学素子と、
前記第1位置または前記第1位置と光学的に共役な第2位置に挿入可能で、二次元的に配列されて個別に制御される複数の光学要素を有する空間光変調器と、
前記回折光学素子および前記空間光変調器のうちの少なくとも一方を介した光に基づいて照明瞳に所定の光強度分布を形成する分布形成光学系とを備えていることを特徴とする照明光学系。 - 前記空間光変調器は、前記第2位置において平面ミラーまたはプリズムミラーと交換可能であることを特徴とする請求項9に記載の照明光学系。
- 前記空間光変調器の直前に配置されて、前記空間光変調器への光の入射角度を所定の角度以下にする光路折曲げ反射ミラーを備えていることを特徴とする請求項10に記載の照明光学系。
- 前記光源と前記空間光変調器との間の光路中に配置された偏光ビームスプリッターと、該偏光ビームスプリッターと前記空間光変調器との間の光路中に配置された1/4波長板とを備え、前記偏光ビームスプリッターに入射した光を、前記1/4波長板、前記空間光変調器、前記1/4波長板、および前記偏光ビームスプリッターを介して前記被照射面へ導くことを特徴とする請求項10に記載の照明光学系。
- 前記回折光学素子および前記空間光変調器のうちの少なくとも一方の光路中への配置を制御する制御部を備えていることを特徴とする請求項9乃至12のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 前記制御部は、前記回折光学素子および前記空間光変調器のうちのいずれか一方を前記第1位置に配置することを特徴とする請求項13に記載の照明光学系。
- 前記制御部は、前記回折光学素子を前記第1位置に配置するとともに、前記空間光変調器を前記第2位置に配置することを特徴とする請求項13に記載の照明光学系。
- 前記空間光変調器は、二次元的に配列された複数のミラー要素と、該複数のミラー要素の姿勢を個別に制御駆動する駆動部とを有することを特徴とする請求項1乃至15のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 前記駆動部は、前記複数のミラー要素の向きを連続的または離散的に変化させることを特徴とする請求項16に記載の照明光学系。
- 前記被照射面と光学的に共役な面を形成する投影光学系と組み合わせて用いられ、前記照明瞳は前記投影光学系の開口絞りと光学的に共役な位置であることを特徴とする請求項1乃至17のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 所定のパターンを照明するための請求項1乃至18のいずれか1項に記載の照明光学系を備え、前記所定のパターンを感光性基板に露光することを特徴とする露光装置。
- 光源からの光に基づいて所定の照明瞳輝度分布を形成するための光学素子であって、前記所定の照明瞳輝度分布からの光によって所定のパターンを基板に露光する露光装置に適用される光学素子の製造方法において、
前記所定のパターンを前記露光装置内に設定する第1工程と;
所要の照明瞳輝度分布を形成するために、空間光変調器を用いて前記光源からの光を変調する第2工程と;
前記空間光変調器で変調された光に基づいて、前記露光装置内に設定された前記所定のパターンを前記基板に露光する第3工程と;
前記基板に露光された被露光パターンを計測する第4工程と;
前記第4工程で計測された前記被露光パターンに基づいて、照明瞳輝度分布を調節する第5工程と;
前記被露光パターンを露光する際に用いた照明瞳輝度分布の情報に基づいて、前記光学素子を製造する第6工程とを備えることを特徴とする光学素子の製造方法。 - 前記第5工程では、前記第4工程で計測された前記被露光パターンに基づいて、照明瞳輝度分布を調節した後再度前記第3工程、第4工程、第5工程を実行することを特徴とする請求項20に記載の光学素子の製造方法。
- 前記第5工程では、前記第4工程で計測された前記被露光パターンに基づいて、照明瞳輝度分布を変更することなく調節することを特徴とする請求項20に記載の光学素子の製造方法。
- 前記第5工程では、前記第4工程で計測された前記被露光パターンの形状誤差に基づいて、照明瞳輝度分布を調節することを特徴とする請求項20に記載の光学素子の製造方法。
- 前記第3工程と前記第4工程との間に、前記基板上の感光性材料を現像して前記被露光パターンを得る第7工程を備えていることを特徴とする請求項20〜23の何れか一項に記載の光学素子の製造方法。
- 前記所定のパターンは光学近接効果補正パターンを含んでいることを特徴とする請求項20乃至24のいずれか1項に記載の光学素子の製造方法。
- 前記光学素子は回折光学素子であることを特徴とする請求項20乃至25のいずれか1項に記載の光学素子の製造方法。
- 請求項20乃至26のいずれか1項に記載の製造方法に従って製造された光学素子。
- 請求項27に記載の光学素子を介した照明光を用いて所定のパターンを照明するための照明光学系を備え、前記所定のパターンを感光性基板に露光することを特徴とする露光装置。
- 請求項19または28に記載の露光装置を用いて、前記所定のパターンを前記感光性基板に露光する露光工程と、
前記パターンが転写された前記感光性基板を現像し、前記パターンに対応する形状のマスク層を前記感光性基板の表面に形成する現像工程と、
前記マスク層を介して前記感光性基板の表面を加工する加工工程とを含むことを特徴とするデバイス製造方法。
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