JP2007502346A - 改良された耐薬品性を有する接着剤及び接着剤を調製するための硬化性シリコーン組成物 - Google Patents

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Abstract

本発明は、硬化して接着剤を形成することができる組成物に関する。この接着剤は、エレクトロニクス産業において有用である。この組成物は、(I)1分子当たり平均で少なくとも2つの末端不飽和有機基を有するポリオルガノシロキサン、(II)1分子当たり平均で少なくとも2つのケイ素結合水素原子を有する有機水素ポリシロキサン、(III)ヒドロシリル化触媒、(IV)構成成分(I)、構成成分(II)又はその両方と反応する少なくとも1つの官能基を有するフルオロオルガノシリコーン、(V)不飽和エステル官能化合物、及び(VI)接着促進剤を含む構成成分を混合することにより調製される。この組成物は、(VII)ボイド低減剤、(VIII)顔料、(IX)充填剤、(X)硬化改質剤、(XI)レオロジー改質剤、及び(XII)スペーサーから選択される1つ又は複数の任意の構成成分も含んでもよい。

Description

本発明は、硬化性シリコーン組成物及び当該硬化性シリコーン組成物を硬化することにより生成される製品に関する。特に本発明は、硬化して、改良された接着性及び耐薬品性を有する製品を形成するヒドロシリル化硬化性組成物に関する。
[発明の背景]
低表面エネルギーポリマーを含有するプラスチック、例えばナイロン及びシンジオタクチックポリスチレン(sPS)の配合物は、高性能用途、例えばエレクトロニクス及び自動車産業において見出されるような用途における基材としてのより高密度の吸湿性プラスチック、例えばポリブチレンテレフタレート(PBT)及びナイロンの代替品として次第に容認されつつある。例えばエレクトロニクス産業において用いられている現行の接着剤は、シンジオタクチックポリスチレンを含有する基材への接着不良を有するという欠点を有する。したがって種々のその他の有機及び無機基材への接着性を保持しながら、sPSを含有する基材への接着改良を示す接着剤を開発する必要性がある。
さらに、ポリオルガノシロキサンエラストマー接着剤、例えばポリジメチルシロキサンベースのエラストマーは、それらの熱安定性、及び広範な熱範囲に亘って応力を軽減する能力といったような特性のために、エレクトロニクス産業においてしばしば用いられる。しかしながらこれらの接着剤は、いくつかの有機化学物質、例えば溶媒及びエンジン油に対する耐性不良という欠点を有し得る。フルオロシリコーンエラストマー及び有機エラストマーが、耐薬品性を改良するのに用いられてきた。しかしながらフルオロシリコーンエラストマーは、ポリオルガノシロキサンエラストマー(非フッ素化されている)よりコストが高いという欠点を有する。これを取り扱うために提唱された一アプローチは、フルオロシリコーンエラストマーをポリオルガノシロキサンエラストマーと組合せることである。しかしながら提唱されたアプローチは、フルオロシリコーン及び非フッ素化オルガノシリコーン構成成分が相分離して、不安定特性を生じるという問題のため、一般に用いられてこなかった。有機エラストマーは、不十分な柔軟性又は内部熱特性を有するという欠点を蒙り得る。したがって、柔軟性及び内部熱特性を保持しながら、耐薬品性改良を示す接着剤に対する必要性がエレクトロニクス産業において存在する。
[発明の概要]
本発明は、以下の:
(I)1分子当たり平均で少なくとも2つの不飽和有機基を有するポリオルガノシロキサン、
(II)1分子当たり平均で少なくとも2つのケイ素結合水素原子を有する有機水素ポリシロキサン、
(III)ヒドロシリル化触媒、
(IV)構成成分(I)、構成成分(II)又はそれらの両方と反応性の少なくとも1つの官能基を有するフルオロオルガノシリコーン、
(V)不飽和エステル官能化合物、及び
(VI)接着促進剤
を含む構成成分を混合することにより調製される組成物に関する。構成成分(I)はフッ素原子を含有しない。構成成分(II)はフッ素原子を含有しない。
[発明の詳細な説明]
量、比率及びパーセンテージは全て、別記しない限り重量単位である。以下は、本明細書中で用いる場合の定義の一覧である。
[用語の定義及び用法]
単数形の「a」及び「an」は各々、1つ又は複数を意味する。
「耐薬品性」とは、溶媒及び油に曝された場合に、膨潤するか若しくは分解するか又はその両方であるシリコーンエラストマーの傾向低減を意味する。
「組合せ」とは、任意の方法により一緒に置かれる2つ又はそれ以上の要素を意味する。
略号「cP」は、センチポアズを意味する。
略号「IR」は、赤外線を意味する。
「Pa・s」は、パスカル秒を意味する。
略号「ppm」は、百万分の一部を意味する。
「シリコーン」及び「シロキサン」は、本明細書中では同義的に用いられる。
本発明は、以下の:
(I)1分子当たり平均で少なくとも2つの不飽和有機基を有するポリオルガノシロキサン、
(II)1分子当たり平均で少なくとも2つのケイ素結合水素原子を有する有機水素ポリシロキサン、
(III)ヒドロシリル化触媒、
(IV)構成成分(I)、構成成分(II)又はそれらの両方と反応性である少なくとも1つの官能基を有するフルオロオルガノシリコーン、
(V)不飽和エステル官能化合物、及び
(VI)接着促進剤
を含む構成成分を混合することにより調製される組成物に関する。
〔構成成分(I)ポリオルガノシロキサン〕
構成成分(I)は、1分子当たり平均で少なくとも2つの不飽和有機基を有するポリオルガノシロキサンである。構成成分(I)は、線状、分岐状、又は樹脂性構造を有してよい。構成成分(I)は、ホモポリマー又はコポリマーであってもよい。不飽和有機基は2〜12個の炭素原子を有するアルケニル基であってもよく、例としてはビニル、アリル、ブテニル及びヘキセニルが挙げられるが、これらに限定されない。不飽和有機基は2〜12個の炭素原子を有するアルキニル基であってもよく、例としてはエチニル、プロピニル及びブチニルが挙げられるが、これらに限定されない。あるいは、不飽和有機基はアクリレート官能基又はメタクリレート官能基を含有してもよく、例としてはアクリロイルオキシアルキル、例えばアクリロイルオキシプロピル及びメタクリロイルオキシアルキル、例えばメタクリロイルオキシプロピルが挙げられるが、これらに限定されない。構成成分(I)中の不飽和有機基は、末端基位置、側基位置又は末端基位置及び側基位置の両方に位置してよい。
構成成分(I)中の残りのケイ素結合有機基は、脂肪族不飽和を含有しない一価有機基であってよい。これらの一価有機基は1〜20個の炭素原子、あるいは1〜10個の炭素原子を有してもよく、例としてはアルキル、例えばメチル、エチル、プロピル、ペンチル、オクチル、ウンデシル及びオクタデシル;シクロアルキル、例えばシクロヘキシル;アリール、例えばフェニル、トリル、キシリル、ベンジル及び2−フェニルエチル;並びにシアノ官能基、例えばシアノアルキル基、例えばシアノエチル及びシアノプロピルが挙げられるが、これらに限定されない。構成成分(I)は、フッ素原子を含有しない。
構成成分(I)の粘度は特に制限はされないが、構成成分(I)は、25℃で0.05〜500Pa・s、又は25℃で0.1〜200Pa・sの粘度を有してよい。構成成分(I)は、100重量部の量で組成物に添加される。
構成成分(I)は、次式:
(a)R SiO(R SiO)α(RSiO)βSiR
(b)R SiO(R SiO)χ(RSiO)δSiR 、又は
(c)それらの組合せ
のポリオルガノシロキサンを含んでもよい。
式(a)において、αは0〜2,000の平均値を有し、そしてβは2〜2,000の平均値を有する。Rは、各々独立して、一価有機基である。適切な一価有機基としては、アクリル官能基、例えばアクリロイルオキシプロピル及びメタクリロイルオキシプロピル;アルキル基、例えばメチル、エチル、プロピル及びブチル;アルケニル基、例えばビニル、アリル及びブテニル;アルキニル基、例えばエチニル及びプロピニル;芳香族基、例えばフェニル、トリル及びキシリル;並びにシアノアルキル基、例えばシアノエチル及びシアノプロピルが挙げられるが、これらに限定されない。Rは、各々独立して、不飽和一価有機基である。Rの例としては、アルケニル基、例えばビニル、アリル及びブテニル、並びにアルキニル基、例えばエチニル及びプロピニル、並びにアクリル官能基、例えばアクリロイルオキシプロピル及びメタクリロイルオキシプロピルが挙げられる。
式(b)において、χは0〜2,000の平均値を有し、そしてδは0〜2,000の平均値を有する。Rは、各々独立して、一価有機基である。適切な一価有機基としては、アクリル官能基、例えばアクリロイルオキシプロピル及びメタクリロイルオキシプロピル;アルキル基、例えばメチル、エチル、プロピル及びブチル;アルケニル基、例えばビニル、アリル及びブテニル;アルキニル基、例えばエチニル及びプロピニル;芳香族基、例えばフェニル、トリル及びキシリル;並びにシアノアルキル基、例えばシアノエチル及びシアノプロピルが挙げられるが、これらに限定されない。Rは、各々独立して、不飽和有機炭化水素基である。Rの例としては、アルケニル基、例えばビニル、アリル及びブテニル;アルキニル基、例えばエチニル及びプロピニル;並びにアクリル官能基、例えばアクリロイルオキシプロピル及びメタクリロイルオキシプロピルが挙げられる。
構成成分(I)は、ポリジオルガノシロキサン、例えば:
i)ジメチルビニルシロキシ末端ポリジメチルシロキサン、
ii)ジメチルビニルシロキシ末端ポリ(ジメチルシロキサン/メチルビニルシロキサン)、
iii)ジメチルビニルシロキシ末端ポリメチルビニルシロキサン、
iv)トリメチルシロキシ末端ポリ(ジメチルシロキサン/メチルビニルシロキサン)、
v)トリメチルシロキシ末端ポリメチルビニルシロキサン、
vi)ジメチルビニルシロキシ末端ポリ(ジメチルシロキサン/メチルフェニルシロキサン)、
vii)ジメチルビニルシロキシ末端ポリ(ジメチルシロキサン/ジフェニルシロキサン)、
viii)フェニル、メチル、ビニル−シロキシ末端ポリジメチルシロキサン、
ix)ジメチル−アクリロイルオキシプロピル−シロキシ末端ポリジメチルシロキサン、
x)ジメチル−メタクリロイルオキシプロピル−シロキシ末端ポリジメチルシロキサン、
xi)ジメチルヘキセニルシロキシ末端ポリジメチルシロキサン、
xii)ジメチルヘキセニルシロキシ末端ポリ(ジメチルシロキサン/メチルヘキセニルシロキサン)、
xiii)ジメチルヘキセニルシロキシ末端ポリメチルヘキセニルシロキサン、
xiv)トリメチルシロキシ末端ポリ(ジメチルシロキサン/メチルヘキセニルシロキサン)、
xv)ジメチルビニルシロキシ末端ポリ(ジメチルシロキサン/メチルシアノプロピルシロキサン)、及び
xvi)それらの組合せ
を含んでよい。
構成成分(I)として用いるのに適したポリジオルガノシロキサンの製造方法、例えば対応するオルガノハロシラン類の加水分解及び縮合、又は環状ポリジオルガノシロキサンの平衡は、当該技術分野でよく知られている。
構成成分(I)は、樹脂、例えば、R SiO1/2単位及びSiO4/2単位から本質的に成るMQ樹脂、RSiO3/2単位及びR SiO2/2単位から本質的に成るTD樹脂、R SiO1/2単位及びRSiO3/2単位から本質的に成るMT樹脂、R SiO1/2単位、RSiO3/2単位及びR SiO2/2単位から本質的に成るMTD樹脂、又はそれらの組合せをさらに含んでもよい。
は各々、一価有機基である。Rにより表される一価有機基は、1〜20個の炭素原子、あるいは1〜10個の炭素原子を有してよい。一価有機基の例としては、アクリレート官能基、例えばアクリルオキシアルキル基、メタクリレート官能基、例えばメタクリルオキシアルキル基、シアノ官能基及び一価炭化水素基が挙げられるが、これらに限定されない。一価炭化水素基としては、アルキル、例えばメチル、エチル、プロピル、ペンチル、オクチル、ウンデシル及びオクタデシル;シクロアルキル、例えばシクロヘキシル;アルケニル、例えばビニル、アリル、ブテニル及びヘキセニル;アルキニル、例えばエチニル、プロピニル及びブチニル;並びにアリール、例えばフェニル、トリル、キシリル、ベンジル及び2−フェニルエチルが挙げられるが、これらに限定されない。シアノ官能基としては、例えばシアノアルキル基、例えばシアノエチル及びシアノプロピルが挙げられるが、これらに限定されない。
樹脂は平均3〜30モル%の不飽和有機基を含有してよい。不飽和有機基は、アルケニル基、アルキニル基、アクリレート官能基、メタクリレート官能基、又はそれらの組合せであってよい。樹脂中の不飽和有機基のモル%は、樹脂中の不飽和基含有シロキサン単位のモル数対樹脂中のシロキサン単位の総モル数の比に100を掛けた値である。
樹脂の製造方法は、当該技術分野でよく知られている。例えば樹脂は、Daudt他のシリカヒドロゾルキャッピング方法により生成される樹脂コポリマーを、少なくとも1つのアルケニル含有末端ブロッキング試薬で処理することにより調製されてもよい。Daudt他の方法は、米国特許第2,676,182号に開示されている。
要するに、Daudt他の方法は、シリカヒドロゾルを、酸性条件下で、トリメチルクロロシランのような加水分解性のトリオルガノシラン、ヘキサメチルジシロキサンのようなシロキサン又はそれらの混合物と反応させること、並びにM及びQ単位を有するコポリマーを回収することを包含する。その結果生じるコポリマーは一般に、2〜5重量%のヒドロキシル基を含有する。
2重量%未満のケイ素結合ヒドロキシル基を典型的には含有する樹脂は、最終生成物中に3〜30モル%の不飽和有機基を提供するのに十分な量で、Daudt他の生成物を不飽和有機基含有末端ブロッキング剤及び脂肪族不飽和を含有しない末端ブロッキング剤と反応させることにより調製されてもよい。末端ブロッキング剤の例としては、シラザン、シロキサン及びシランが挙げられるが、これらに限定されない。適切な末端ブロッキング剤は当該技術分野でよく知られており、米国特許第4,584,355号、第4,591,622号及び第4,585,836号で例示されている。単一末端ブロッキング剤又はこのような作用物質の混合物は、樹脂を調製するのに用いられてよい。
構成成分(I)は、単一ポリオルガノシロキサン、又は以下の特性:構造、粘度、平均分子量、シロキサン単位及び配列のうちの少なくとも1つにおいて異なる2つ又はそれ以上のポリオルガノシロキサンから成る組合せであることができる。
〔構成成分(II)有機水素ポリシロキサン〕
構成成分(II)は、1分子当たり平均で少なくとも2つのケイ素結合水素原子を有する有機水素ポリシロキサンである。構成成分(II)は、ホモポリマー又はコポリマーであることができる。構成成分(II)は、線状、分岐状、環状又は樹脂性構造を有することができる。構成成分(II)中のケイ素結合水素原子は、末端基位置、側基位置又は末端基位置及び側基位置の両方に位置することができる。構成成分(II)は、フッ素原子を含有しない。
構成成分(II)は、シロキサン単位、例えばHR SiO1/2、R SiO1/2、HRSiO2/2、R SiO2/2、RSiO3/2及びSiO4/2単位(これらに限定されない)を含むことができる。上記の式中、Rは、各々独立して、脂肪族不飽和を含有しない一価有機基から選択される。
構成成分(II)は、次式:
(a)R SiO(R SiO)ε(RHSiO)φSiR
(b)R HSiO(R SiO)γ(RHSiO)ηSiR H、又は
(c)それらの組合せ
の化合物を含んでもよい。
式(a)において、εは0〜2,000の平均値を有し、そしてφは2〜2,000の平均値を有する。Rは、各々独立して、脂肪族不飽和を含有しない一価有機基である。脂肪族不飽和を含有しない適切な一価有機基としては、アルキル基、例えばメチル、エチル、プロピル及びブチル;芳香族基、例えばフェニル、トリル及びキシリル;並びにシアノ官能基、例えばシアノアルキル基、例えばシアノエチル及びシアノプロピルが挙げられる。
式(b)において、γは0〜2,000の平均値を有し、そしてηは0〜2,000の平均値を有する。Rは、各々独立して、脂肪族不飽和を含有しない一価有機基である。脂肪族不飽和を含有しない適切な一価有機基としては、アルキル基、例えばメチル、エチル、プロピル及びブチル;芳香族基、例えばフェニル、トリル及びキシリル;並びにシアノ官能基、例えばシアノアルキル基、例えばシアノエチル及びシアノプロピルが挙げられる。
構成成分(II)としては、以下のものが挙げられる:
i)ジメチル水素シロキシ末端ポリジメチルシロキサン、
ii)ジメチル水素シロキシ末端ポリ(ジメチルシロキサン/メチル水素シロキサン)、
iii)ジメチル水素シロキシ末端ポリメチル水素シロキサン、
iv)トリメチルシロキシ末端ポリ(ジメチルシロキサン/メチル水素シロキサン)、
v)トリメチルシロキシ末端ポリメチル水素シロキサン、
vi)H(CHSiO1/2単位及びSiO4/2単位から本質的に成る樹脂、及び
vii)それらの組合せ。
構成成分(II)は、以下の特性:構造、平均分子量、粘度、シロキサン単位及び配列のうちの少なくとも1つにおいて異なる2つ又はそれ以上の有機水素ポリシロキサンの組合せであることができる。
構成成分(II)として用いるのに適した線状、分岐状及び環状有機水素ポリシロキサンの製造方法、例えばオルガノハロシランの加水分解及び縮合は、当該技術分野でよく知られている。構成成分(II)として用いるのに適した有機水素ポリシロキサン樹脂の製造方法はまた、米国特許第5,310,843号、第4,370,358号及び第4,707,531号で例示されているようによく知られている。
構成成分(B)中のケイ素結合水素原子対構成成分(A)中の脂肪族不飽和基のモル比(SiH/Vi)は、重要でない。
〔構成成分(III)ヒドロシリル化触媒〕
構成成分(III)は、ヒドロシリル化触媒である。構成成分(III)は、組成物の重量を基にして、0.1〜1,000ppm、あるいは1〜500ppm、あるいは2〜200、あるいは5〜150ppmの白金族金属の量で、組成物に添加される。適切なヒドロシリル化触媒は当該技術分野でよく知られており、市販されている。構成成分(III)は、白金、ロジウム、ルテニウム、パラジウム、オスミウム若しくはイリジウム金属又はその有機金属化合物又はそれらの組合せから選択される白金族金属を含んでもよい。構成成分(III)の例としては、塩化白金酸、塩化白金酸・六水和物、二塩化白金、並びに上記の化合物と低分子量オルガノポリシロキサンとの錯体、又はマトリックス若しくはコアシェル型構造中にマイクロカプセル封入された白金化合物のような化合物が挙げられる。白金と低分子量オルガノポリシロキサンとの錯体としては、白金との1,3−ジエテニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン錯体が挙げられる。これらの錯体は、樹脂マトリックス中にマイクロカプセル封入されてもよい。
構成成分(III)に関する適切なヒドロシリル化触媒は、例えば米国特許第3,159,601号;第3,220,972号;第3,296,291号;第3,419,593号;第3,516,946号;第3,814,730号;第3,989,668号;第4,784,879号;第5,036,117号及び第5,175,325号並びにEP 0347895Bに記載されている。マイクロカプセル封入ヒドロシリル化触媒及びそれらの製造方法は、米国特許第4,766,176号及びそこに引用されている参照並びに米国特許第5,017,654号に例示されているように、当該技術分野でよく知られている。
〔構成成分(IV)フルオロオルガノシリコーン〕
構成成分(IV)は、構成成分(I)、構成成分(II)又はそれらの両方と反応性である少なくとも1つの官能基を有するフルオロオルガノシリコーンである。構成成分(I)の粘度は特に制限はされないが、構成成分(IV)は、25℃で0.0001〜500Pa・sの粘度を有してよい。
構成成分(IV)は、次式:
(a)R SiO(R SiO)ι(R10SiO)φSiR
(b)R11 12SiO(R11 SiO)κ(R1112SiO)λSiR11 12
(c)FC(CFν13−Si−[O−Si(R14(R15)]
(d)R1514 SiO1/2単位、CF(CFν13SiO3/2単位及び任意にSiO4/2単位から本質的に成る樹脂性又は分岐状構造、又は
(e)それらの組合せ
の化合物を含んでよい。
式(a)中、ιは0〜2,000の平均値を有し、そしてφは1〜500の平均値を有する。Rは、各々独立して、水素原子又は一価有機基である。適切な一価有機基としては、脂肪族不飽和を含有しない一価炭化水素基、例えばアルキル基、例えばメチル、エチル、プロピル及びブチル;芳香族基、例えばフェニル、トリル及びキシリル;並びにシアノ官能基、例えばシアノアルキル基、例えばシアノエチル及びシアノプロピルが挙げられる。適切な一価有機基としては、不飽和一価有機基、例えばアクリレート官能基;メタクリレート官能基;アルケニル基、例えばビニル、アリル及びブテニル;並びにアルキニル基、例えばエチニル、プロピニル及びブチニルも挙げられる。式(a)においては、少なくとも1つのRが水素原子又は不飽和一価有機基である。R10は、各々独立して、フルオロ−官能性有機基である。適切なフルオロ−官能性有機基としてはフッ素化アルキル基、例えば3,3,3−トリフルオロプロピル、4,4,4,3,3−ペンタフルオロブチル、5,5,5,4,4,3,3−ヘプタフルオロペンチル及び6,6,6,5,5,4,4,3,3−ノナフルオロヘキシルが挙げられるが、これらに限定されない。
式(b)において、κは、0〜2,000の平均値を有し、そしてλは、0〜500の平均値を有する。R11は、各々独立して、水素原子又は一価有機基である。適切な一価有機基としては、シアノ官能基、例えばシアノアルキル基、例えばシアノエチル及びシアノプロピル;並びに脂肪族不飽和を含有しない一価炭化水素基、例えばアルキル基、例えばメチル、エチル、プロピル及びブチル;並びに芳香族基、例えばフェニル、トリル及びキシリルが挙げられる。適切な一価有機基としては、不飽和一価有機基、例えばアクリレート官能基;メタクリレート官能基;アルケニル基、例えばビニル、アリル及びブテニル;並びにアルキニル基、例えばエチニル、プロピニル及びブチニルが挙げられる。式(b)においては、少なくとも1つのR11が水素原子又は不飽和一価有機基である。R12は、各々独立して、フルオロ−官能性有機基である。適切なフルオロ−官能性有機基としてはフッ素化アルキル基、例えば3,3,3−トリフルオロプロピル、4,4,4,3,3−ペンタフルオロブチル、5,5,5,4,4,3,3−ヘプタフルオロペンチル及び6,6,6,5,5,4,4,3,3−ノナフルオロヘキシルが挙げられる。
式(c)及び(d)において、νは、0〜10である。R13は、各々独立して、二価有機基、例えば二価有機基である。R13に関する適切な二価有機基は、少なくとも2個の炭素原子、あるいは2個〜20個の炭素原子、あるいは2〜10個の炭素原子を有してよい。R13に関する適切な二価炭化水素基の例としては、アルキレン基、例えばメチレン、エチレン、プロピレン及びブチレンが挙げられる。R14は、各々独立して、脂肪族不飽和を含有しない一価炭化水素基である。R14の例としては、アルキル、例えばメチル、エチル、プロピル、ペンチル、オクチル、ウンデシル及びオクタデシル;シクロアルキル、例えばシクロヘキシル;並びにアリール、例えばフェニル、トリル、キシリル、ベンジル及び2−フェニルエチルが挙げられる。R15は、各々独立して、水素原子又は脂肪族不飽和炭化水素基であり、例としては、アルケニル、例えばビニル、アリル、ブテニル及びヘキセニル;並びにアルキニル、例えばエチニル、プロピニル及びブチニルが挙げられる。1つのR15が脂肪族不飽和炭化水素基である場合には、分子中のR15は全て、同一の又は異なる脂肪族不飽和炭化水素基であってよい。分子中の1つのR15が水素原子である場合には、R15は全て水素原子であってよい。
構成成分(IV)の例としては、以下のものが挙げられる:
i)ジメチルビニルシロキシ末端ポリメチル3,3,3−トリフルオロプロピルシロキサン、
ii)ジメチルビニルシロキシ末端ポリ(メチル水素シロキサン/メチル−6,6,6,5,5,4,4,3,3−ノナフルオロヘキシルシロキサン)、
iii)トリメチルシロキシ末端ポリ(メチル水素シロキサン/メチル−6,6,6,5,5,4,4,3,3−ノナフルオロヘキシルシロキサン)、
iv)トリメチルシロキシ末端ポリ(メチル水素シロキサン/メチル−6,6,6,5,5,4,4,3,3−ノナフルオロヘキシルシロキサン)、及び
v)それらの組合せ。
構成成分(IV)は、構成成分(I)の重量を基にして0.01〜100重量部の量で組成物に添加される。最適な全体としての組成物は所望される特定の特性、例えば粘度、弾性率又は硬化速度に応じるので、したがって構成成分(IV)の最適濃度は変わり得る。理論に制約されることを望まないが、構成成分(IV)のハロゲン化部分は、硬化された場合、組成物の表面に移行すると考えられる。多数の用途に対して十分な耐薬品性は、組成物のコストを劇的に増大させる更なる多量の構成成分(IV)を添加せずに得られると考えられる。理論に制約されることを望まないが、構成成分(IV)は、組成物の表面への、そして他の界面への構成成分(V)の移行も促進して、耐薬品性をさらに増大し、且つ接着性を改良すると考えられる。構成成分(IV)は、以下の特性:構造、平均分子量、粘度、シロキサン単位及び配列のうちの少なくとも1つにおいて異なる2又はそれ以上のフルオロオルガノシリコーンの組合せであってもよい。
構成成分(IV)として用いるのに適したフルオロオルガノシリコーンは、当該技術分野でよく知られている。フルオロオルガノシリコーンは、適切な出発物質を変更することにより、構成成分(I)及び(II)に関する上記の方法により調製されてもよい。当業者は、過度の実験をすることなく、構成成分(IV)に関する適切なフルオロオルガノシリコーンを製造することができるであろう。
〔構成成分(V)不飽和エステル官能化合物〕
構成成分(V)は、不飽和エステル官能化合物、すなわちヒドロシリル化を受けることができる、1分子当たり少なくとも1つのエステル基及び1分子当たり少なくとも1つの不飽和基を有する有機化合物である。構成成分(V)は、以下のものを含んでよい:
Figure 2007502346
又はvi)それらの組合せ。
式i)において、R16は、各々独立して、水素原子、1〜4個の炭素原子を有する一価炭化水素基、又はCFである。R16に関する一価炭化水素基の例としては、アルキル基、例えばメチル、エチル、プロピル及びブチルが挙げられる。R17は、各々独立して、水素原子、一価有機基であるが、但し、R17のすべてが水素原子又は金属イオンというわけではない。R17に関する一価有機基の例としては、一価炭化水素基、フルオロアルキル基、エポキシ官能基及びポリエーテル基が挙げられる。一価炭化水素基の例としては、アルキル、例えばメチル、エチル、プロピル、ペンチル、オクチル、ウンデシル、ドデシル及びオクタデシル;シクロアルキル、例えばシクロヘキシル;アルケニル、例えばビニル、アリル、ブテニル及びヘキセニル;アルキニル、例えばエチニル、プロピニル及びブチニル;並びにアリール、例えばフェニル、トリル、キシリル、ベンジル及び2−フェニルエチルが挙げられるが、これらに限定されない。R17に関するエポキシ官能基の例としては、3−グリシドキシプロピルが挙げられる。R17に関するフルオロアルキル基の例としては、−(CH(CFCF(式中、xは0〜20の平均値を有し、yは0〜20の平均値を有する)、分岐状フルオロアルキル基、例えばパーフルオロt−ブチル、及び環状フルオロアルキル基、例えばパーフルオロシクロヘキシル、並びにフルオロアリール基、例えばパーフルオロフェニルが挙げられるが、これらに限定されない。R17に関するポリエーテル基の例としては、−(CHCHO)CHCH、−(CH(CH)CHO)CH(CH)CH、−(CHCHO)CHCH=CH、−(CH(CH)CHO)CHCH=CH、−(CHCHCHCHO)CHCH、−(CHCHCHCHO)CH=CH、−(CHCHO)CHCHOH、−(CH(CH)CHO)CH(CH)CH−OH、−(CHCHO)CHCHOCH及び(CH(CH)CHO)CH(CH)CH−OCH(式中、zは1〜20の平均値を有する)、並びに環状エーテル、例えばテトラヒドロフルフリル及び2−(カプロラクトン)エチルが挙げられるが、これらに限定されない。R17に関するフルオロポリエーテル基の例としては、−(CF−CF−O)H、−(CF(CF)CF−O)H、−(CF−CF−O)CF、−(CF(CF)CFO)CF(式中、zは上記と同様である)、−(CH(CF(CF))−(O−CF(CF))−F(式中、iは0〜10の平均値を有し、jは0〜10の平均値を有し、そしてkは1〜20の平均値を有する)が挙げられるが、これらに限定されない。R17に関する金属イオンの例としては、陽イオン、例えばZn、Al、Ca、Na、Mg及びKが挙げられるが、これらに限定されない。
式ii)において、R18は、各々独立して、水素原子、1〜4個の炭素原子を有する一価炭化水素基、又はCFである。R18に関する一価炭化水素基の例としては、アルキル、例えばメチル、エチル、プロピル及びブチルが挙げられる。R19は、各々独立して、1〜20個の炭素原子を有する二価有機基である。R19に関する二価有機基の例としては、アルキレン、例えばメチレン、エチレン、プロピレン、ペンチレン、ネオ−ペンチレン、オクチレン、ウンデシレン及びオクタデシレン;シクロアルキレン、例えばシクロへキシレン;アルケニレン、例えばビニレン、アリレン、ブテニレン及びヘキセニレン;アルキニレン、例えばエチニレン、プロピニレン及びブチニレン;アリーレン、例えばフェニレン、トリレン、キシリレン、ベンジレン及び2−フェニルエチレン;エーテルジオール誘導体、例えば−(CHCHO)CHCH−及び(CH(CH)CHO)CH(CH)CH(式中、zはR19に関して上記されたのと同様である);アルキレン/アリーレンの組合せ、例えば4,4’−イソプロピリデンジフェニル(ビスフェノール「A」としてもよく知られている)が挙げられるが、これらに限定されない。R19に関する二価フッ素化有機基の例としては、−(CH(CH(F))(CF−、−(CFCFO)−、−(CF(CF)CFO)−(式中、x、y及びz上記と同様である)、パーフルオロシクロヘキシル−1,4−ジメチル及び4,4’−ヘキサフルオロイソプロピリデンジフェニル(ヘキサフルオロビスフェノール「A」に由来する)が挙げられるが、これらに限定されない。R20は、各々独立して、水素原子、又は1〜20個の炭素原子を有する一価炭化水素基である。R20に関する一価炭化水素基の例としては、アルキル、例えばメチル、エチル、プロピル、ペンチル、オクチル、ウンデシル及びオクタデシル;シクロアルキル、例えばシクロヘキシル;アルケニル、例えばビニル、アリル、ブテニル及びヘキセニル;アルキニル、例えばエチニル、プロピニル及びブチニル;並びにアリール、例えばフェニル、トリル、キシリル、ベンジル及び2−フェニルエチルが挙げられるが、これらに限定されない。
式iii)において、nは0〜3の平均値を有し、そしてm=4−nである。R21は、各々独立して、水素原子、1〜20個の炭素原子を有する一価炭化水素基、ヒドロキシル基又はCFである。R21に関する一価炭化水素基の例としては、アルキル、例えばメチル、エチル、プロピル、ペンチル、オクチル、ウンデシル及びオクタデシル;シクロアルキル、例えばシクロヘキシル;アルケニル、例えばビニル、アリル、ブテニル及びヘキセニル;アルキニル、例えばエチニル、プロピニル及びブチニル;並びにアリール、例えばフェニル、トリル、キシリル、ベンジル及び2−フェニルエチルが挙げられるが、これらに限定されない。
22は、各々独立して、水素原子、1〜4個の炭素原子を有する一価炭化水素基、又はCFである。R22に関する一価炭化水素基の例としては、アルキル、例えばメチル、エチル、プロピル、ペンチル、オクチル、ウンデシル及びオクタデシル;シクロアルキル、例えばシクロヘキシル;アルケニル、例えばビニル、アリル、ブテニル及びヘキセニル;アルキニル、例えばエチニル、プロピニル及びブチニル;並びにアリール、例えばフェニル、トリル、キシリル、ベンジル及び2−フェニルエチルが挙げられるが、これらに限定されない。
23は、各々独立して、水素原子、又は1〜20個の炭素原子を有する一価炭化水素基である。R23に関する一価炭化水素基の例としては、アルキル、例えばメチル、エチル、プロピル、ペンチル、オクチル、ウンデシル及びオクタデシル;シクロアルキル、例えばシクロヘキシル;アルケニル、例えばビニル、アリル、ブテニル及びヘキセニル;アルキニル、例えばエチニル、プロピニル及びブチニル;並びにアリール、例えばフェニル、トリル、キシリル、ベンジル及び2−フェニルエチルが挙げられるが、これらに限定されない。
式iv)において、R24及びR25は、各々独立して、一価有機基又は水素原子であるが、但し、R24又はR25の少なくとも1つは不飽和である。R24に関する一価有機基の例としては、一価炭化水素基、フルオロアルキル基、エポキシ官能基及びポリエーテル基が挙げられる(全て、R17に関して列挙されたものにより例示される)。
25に関する一価有機基の例としては、一価炭化水素基、フルオロアルキル基、エポキシ官能基及びポリエーテル基が挙げられる(全て、R17に関して列挙されたものにより例示されるが、これらに限定されない)。R25に関する一価有機基のさらなる例としては、酸素架橋一価有機基、例えば−O−C(O)O−(CHCH=CH(式中、oは0〜20の平均値を有する)、及び炭素架橋カルボニル基、例えば−CH−C(O)−CHが挙げられる。
式v)において、R26は、各々独立して、一価有機基又は水素原子であるが、但し、少なくとも1つのR26は脂肪族不飽和一価有機基又は水素原子である。R26に関する一価有機基の例としては、一価炭化水素基、フルオロアルキル基、エポキシ官能基及びポリエーテル基が挙げられる(全て、R17に関して列挙されたものにより例示される)。
27は、各々独立して、酸素原子又は二価有機基である。R27に関する二価有機基の例としては、二価炭化水素基、フルオロアルキレン基、エポキシ官能基及びポリエーテル基が挙げられる(全て、R19に関して列挙されたものにより例示されるが、これらに限定されない)。
構成成分(V)の例としては、2−エチルヘキシルアクリレート、2−エチルヘキシルメタクリレート、メチルアクリレート、メチルメタクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、アリルアクリレート、アリルメタクリレート、ステアリルアクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、カプロラクトンアクリレート、パーフルオロブチルアクリレート、パーフルオロブチルメタクリレート、テトラヒドロパーフルオロアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、フェノキシエチルメタクリレート、ビスフェノール「A」アクリレート、ビスフェノール「A」ジメタクリレート、エトキシル化ビスフェノール「A」アクリレート、エトキシル化ビスフェノール「A」メタクリレート、ヘキサフルオロビスフェノール「A」ジアクリレート、ヘキサフルオロビスフェノール「A」ジメタクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、ジプロピレングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、エトキシル化トリメチロールプロパントリアクリレート、エトキシル化トリメチロールプロパントリメタクリレート)、ペンタエリトリトールトリアクリレート、ペンタエリトリトールトリメタクリレート)、ペンタエリトリトールテトラアクリレート、ペンタエリトリトールテトラメタクリレート、メチル−3−ブテノエート、アリルメチルカーボネート、ジアリルピロカーボネート、アリルアセトアセテート、ジアリルカーボネート、ジアリルフタレート、ジメチルイタコネート、ジアリルカーボネート又はそれらの組合せが挙げられる。
構成成分(V)は、組成物の重量を基にして、0.01〜50重量部の量で組成物に添加される。理論に制約されることを望まないが、構成成分(V)は、組成物の硬化生成物の耐薬品性及び接着特性の両方を改良すると考えられる。
構成成分(V)に適した不飽和エステル官能化合物は当該技術分野でよく知られており、例えばSartomer Company及びAldrich Chemical Companyから市販されている。当業者は、過度の実験をすることなく、不飽和エステル官能化合物を得ることができるであろう。
〔構成成分(VI)接着促進剤〕
構成成分(VI)は、接着促進剤である。構成成分(VI)は、組成物の重量を基にして、0.01〜50重量部の量で組成物に添加される。
構成成分(VI)は、遷移金属キレート化合物、アルコキシシラン、アルコキシシランとヒドロキシ官能ポリオルガノシランとの組合せ、又はそれらの組合せを含んでよい。
構成成分(VI)は、不飽和又はエポキシ官能化合物であることができる。適切なエポキシ官能化合物は当該技術分野でよく知られており、市販されている(例えば米国特許第4,087,585号;第5,194,649号;第5,248,715号及び第5,744,507号、4〜5列を参照)。構成成分(VI)は、不飽和又はエポキシ官能アルコキシシランを含んでよい。例えば官能アルコキシシランは、式R28 μSi(OR29(4−μ)(式中、μは1、2又は3であり、あるいはμは1である)を有することができる。
28は、各々独立して、一価有機基であるが、但し、少なくとも1つのR28が不飽和有機基又はエポキシ官能有機基である。R28に関するエポキシ官能有機基の例としては、3−グリシドキシプロピル及び(エポキシシクロヘキシル)エチルが挙げられる。R28に関する不飽和有機基の例としては、3−メタクリロイルオキシプロピル、3−アクリロイルオキシプロピル、及び不飽和一価炭化水素基、例えばビニル、アリル、ヘキセニル、ウンデシレニルが挙げられる。
29は、各々独立して、少なくとも1個の炭素原子を有する非置換飽和炭化水素基である。R29は、4個までの炭素原子、あるいは2個までの炭素原子を有してよい。R29の例としては、メチル、エチル、プロピル及びブチルが挙げられる。
適切なエポキシ官能アルコキシシランの例としては、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、(エポキシシクロヘキシル)エチルジメトキシシラン、(エポキシシクロヘキシル)エチルジエトキシシラン及びそれらの組合せが挙げられる。適切な不飽和アルコキシシランの例としては、ビニルトリメトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、アリルトリエトキシシラン、ヘキセニルトリメトキシシラン、ウンデシレニルトリメトキシシラン、3−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、3−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、3−アクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン及びそれらの組合せが挙げられる。
構成成分(VI)は、エポキシ官能シロキサン、例えばヒドロキシ末端ポリオルガノシロキサンとエポキシ官能アルコキシシランとの上記のような反応生成物、又はヒドロキシ末端ポリオルガノシロキサンとエポキシ官能アルコキシシランとの物理的配合物を含んでよい。構成成分(VI)は、エポキシ官能アルコキシシラン及びエポキシ官能シロキサンの組合せを含んでよい。例えば構成成分(VI)の例としては、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン及びヒドロキシ末端メチルビニルシロキサンと3−グリシドキシプロピルトリメトキシシランとの反応生成物の混合物、又は3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン及びヒドロキシ末端メチルビニルシロキサンの混合物、又は3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン及びヒドロキシ末端メチルビニル/ジメチルシロキサンコポリマーの混合物が挙げられる。反応生成物としてよりむしろ物理的配合物として用いられる場合、これらの構成成分は、多部式キット中に別個に保存されてもよい。
適切な遷移金属キレート化合物としては、チタネート、ジルコネート、例えばジルコニウムアセチルアセトネート、アルミニウムキレート化合物、例えばアルミニウムアセチルアセトネート、及びそれらの組合せが挙げられる。遷移金属キレート化合物及びそれらの製造方法は、当該技術分野でよく知られている(例えば米国特許第5,248,715号、EP0493791A1及びEP0497349B1を参照)。
〔任意の構成成分〕
構成成分(I)〜(IV)のほかに、任意の構成成分が組成物に添加されてもよい。適切な任意の構成成分としては、(VII)ボイド低減剤、(VIII)顔料、(IX)充填剤、(X)硬化改質剤、(XI)レオロジー改質剤、(XII)スペーサー、及びそれらの組合せが挙げられる。
〔構成成分(VII)ボイド低減剤〕
構成成分(VII)は、ボイド低減剤である。構成成分(VII)は、ボイドを低減するのに十分な量で組成物に添加される。適切なボイド低減剤は当該技術分野でよく知られており、市販されている(例えばEP0850997A2並びに米国特許第4,273,902号及び同第5,684,060号を参照)。適切なボイド低減剤は、ゼオライト、無水硫酸アルミニウム、分子篩(好ましくは10Å又はそれ未満の孔直径を有する)、多孔質珪藻土、シリカゲル、活性炭、パラジウム化合物、例えばパラジウム金属、炭素又はアルミナ上に支持されるパラジウム金属のような基材、及び有機パラジウム化合物を含むことができる。
〔構成成分(VIII)顔料〕
構成成分(VIII)は、顔料である。組成物に添加される構成成分(VIII)の量は、選択される顔料の種類に応じる。構成成分(VIII)は、組成物の重量を基にして、0.001%〜30%の量で組成物に添加されてよい。顔料は当該技術分野でよく知られており、市販されている。適切な顔料としては、カーボンブラック、例えばLB−1011Cカーボンブラック(Williams)、酸化クロム顔料、例えばHarcros G−6099、二酸化チタン、例えばDuPontから入手可能なもの、及びUV活性染料、例えばCiba Specialty ChemicalsからUVITEX OBの名称で市販されている(チオフェンジイル)ビス(t−ブチルベンゾキサゾール)が挙げられる。
〔構成成分(IX)充填剤〕
構成成分(IX)は、充填剤である。組成物に添加される構成成分(IX)の量は、選択される充填剤の種類に応じる。構成成分(IX)は、組成物の重量を基にして、0.1%〜90%の量で組成物に添加されてよい。適切な充填剤としては、強化充填剤、例えばシリカ、チタニア及びそれらの組合せが挙げられる。適切な強化充填剤は当該技術分野でよく知られており、市販されており、例えばU.S. Silica (Berkeley Springs, WV)によりMIN−U−SILの名称で販売されている粉砕シリカ、又はCabot Corporation (Massachusetts)によりCAB−O−SILの名称で販売されているヒュームドシリカが挙げられる。
伝導性充填剤(即ち、熱伝導性、導電性又はその両方である充填剤)も、構成成分(IX)として用いられてもよい。適切な伝導性充填剤としては、金属粒子、金属酸化物粒子、及びそれらの組合せが挙げられる。適切な熱伝導性充填剤としては、窒化アルミニウム;酸化アルミニウム;チタン酸バリウム;酸化ベリリウム;窒化ホウ素;ダイアモンド;黒鉛;酸化マグネシウム;金属粒子、例えば銅、金、ニッケル又は銀;炭化ケイ素;炭化タングステン;酸化亜鉛及びそれらの組合せが挙げられる。
伝導性充填剤は当該技術分野でよく知られており、市販されている(例えば米国特許第6,169,142号(4列7〜33行)を参照)。例えばCB−A20S及びA1−43−Meは、Showa-Denkoから市販されている種々の粒子サイズの酸化アルミニウム充填剤であり、AA−04、AA−2及びAA18は、Sumitomo Chemical Companyから市販されている酸化アルミニウム充填剤である。銀充填剤は、Metalor Technologies U.S.A. Corp.(Attleboro, Massachusetts, U.S.A)から市販されている。窒化ホウ素充填剤は、Advanced Ceramics Corporation(Cleveland, Ohio, U.S.A)から市販されている。
伝導性充填剤粒子の形状は特に制限されないが、丸みを帯びた又は球形の粒子は、組成物中の熱伝導性充填剤の多量投入時の望ましくないレベルへの粘度増大を防止し得る。
種々の粒子サイズ及び異なる粒子サイズ分布を有する熱伝導性充填剤の組合せが用いられてよい。例えば最も近似した充填理論分布曲線を満たす割合で、大きい平均粒子サイズを有する第1伝導性充填剤と小さい平均粒子サイズを有する第2伝導性充填剤とを組合せるのが望ましい。これは充填効率を改良し、粘度を低減し、且つ熱移動を増強し得る。
熱伝導性充填剤は任意に、処理剤で表面処理されてもよい。処理剤及び処理方法は、当該技術分野でよく知られている(例えば米国特許第6,169,142号(4列42行〜5列2行)を参照)。熱伝導性充填剤は、熱伝導性充填剤を組成物の他の構成成分と併合する前に処理剤で処理してもよく、又は熱伝導性充填剤は、in situで処理されてもよい。
処理剤は、式:R30 Si(OR31(4−p)(式中、pは1、2又は3であり、あるいはpは3である)を有するアルコキシシランであることができる。R30は、少なくとも1個の炭素原子、あるいは少なくとも8個の炭素原子を有する置換又は非置換一価炭化水素基である。R30は、50個までの炭素原子、あるいは30個までの炭素原子、あるいは18個までの炭素原子を有する。R30の例としては、アルキル基、例えばへキシル、オクチル、ドデシル、テトラデシル、ヘキサデシル及びオクタデシル;並びに芳香族基、例えばベンジル、フェニル及びフェニルエチルが挙げられる。R30は、飽和又は不飽和、分岐状又は非分岐状、及び非置換であることができる。R30は、飽和、非分岐状及び非置換であることができる。
31は、少なくとも1個の炭素原子を有する非置換飽和炭化水素基である。R31は、4個までの炭素原子、あるいは2個までの炭素原子を有してよい。処理剤としては、ヘキシルトリメトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、ドデシルトリメトキシシラン、テトラデシルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルエチルトリメトキシシラン、オクタデシルトリメトキシシラン、オクタデシルトリエトキシシラン、及びそれらの組合せが挙げられる。
アルコキシ官能オリゴシロキサンも、処理剤として用いられることができる。アルコキシ官能オリゴシロキサン及びそれらの製造方法は、当該技術分野でよく知られている(例えばEP1101167A2を参照)。例えば適切なアルコキシ官能オリゴシロキサンとしては、式(R32O)Si(OSiR33 344−dを有するものが挙げられる。この式中、dは1、2又は3であり、あるいはdは3である。R32は各々、アルキル基である。R33は、各々独立して、1〜10個の炭素原子を有する飽和及び不飽和一価炭化水素基から選択することができる。各R34は、少なくとも11個の炭素原子を有する飽和又は不飽和一価炭化水素であることができる。
金属充填剤は、アルキルチオール、例えばオクタデシルメルカプタン等、及び脂肪酸、例えばオレイン酸、ステアリン酸、チタネート、チタネートカップリング剤、ジルコネートカップリング剤、並びにそれらの組合せで処理することができる。
アルミナ又は不動態化窒化アルミニウムに対する処理剤としては、アルコキシシリル官能アルキルメチルポリシロキサン(例えばR35 36 Si(OR37(4−b−c)の部分加水分解縮合物、又は同時加水分解縮合物、あるいは混合物)、加水分解基がシラザン、アシルオキシ又はオキシモである類似の物質が挙げられる。これらのすべてにおいて、Siに繋がれる基、例えば上記の式中のR35は、長鎖不飽和一価炭化水素又は一価芳香族官能炭化水素である。R36は一価炭化水素基であり、R37は1〜4個の炭素原子を有する一価炭化水素基である。上記の式中で、bは1、2又は3であり、cは0、1又は2であるが、但し、b+cは1、2又は3である。当業者は、過度の実験をすることなく、充填剤の分布を促すよう特定の処理を最適化することができる。
〔構成成分(X)硬化改質剤〕
構成成分(X)は、硬化改質剤である。本発明の組成物の保存寿命若しくは作用時間又はその両方を延長するために、構成成分(X)を添加することができる。組成物の硬化温度を上げるために、構成成分(X)を添加することができる。適切な硬化改質剤は当該技術分野でよく知られており、市販されている。構成成分(X)の例としては、アセチレンアルコール、例えばメチルブチノール、エチニルシクロヘキサノール、ジメチルヘキシノール及びそれらの組合せ;シクロアルケニルシロキサン、例えばメチルビニルシクロシロキサン、例えば1,3,5,7−テトラメチル−1,3,5,7−テトラビニルシクロテトラシロキサン、1,3,5,7−テトラメチル−1,3,5,7−テトラヘキセニルシクロテトラシロキサン及びそれらの組合せ;エン−イン化合物、例えば3−メチル−3−ペンテン−1−イン、3,5−ジメチル−3−ヘキセン−1−イン;トリアゾール、例えばベンゾトリアゾール;ホスフィン;メルカプタン;ヒドラジン;アミン、例えばテトラメチルエチレンジアミン、ジアルキルフマレート、ジアルケニルフマレート、ジアルコキシアルキルフマレート、マレエート及びそれらの組合せが挙げられる。
適切な硬化改質剤は、例えば米国特許第3,445,420号;同第3,989,667号;同第4,584,361号及び同第5,036,117号に開示されている。
組成物に添加される構成成分(X)の量は、用いられる特定の硬化改質剤、構成成分(III)の性質及び量、並びに構成成分(II)の組成に応じる。しかしながら構成成分(X)の量は、組成物の重量を基にして、0.001%〜10%であってよい。
〔構成成分(XI)レオロジー改質剤〕
構成成分(XI)は、レオロジー改質剤である。組成物のチキソトロピー性を変えるために、レオロジー改質剤を添加することができる。構成成分(XI)の例としては、流動制御添加剤;反応性希釈剤;沈降防止剤;アルファ−オレフィン;ヒドロキシル末端シリコーン有機コポリマー、例えばヒドロキシル末端ポリプロピレンオキシド−ジメチルシロキサンコポリマー(これに限定されない);並びにそれらの組合せが挙げられる。
〔構成成分(XII)スペーサー〕
構成成分(XII)は、スペーサーである。スペーサーは、有機粒子、無機粒子又はそれらの組合せを含むことができる。スペーサーは、熱伝導性、導電性又はその両方であることができる。スペーサーは、25μm〜250μmの粒子サイズを有することができる。スペーサーは、単分散ビーズを含むことができる。構成成分(XII)の量は、種々の因子、例えば粒子の分布、組成物の投入中に印加される圧力、投入温度等に応じる。組成物は、構成成分(IX)の一部の他に、又は代わりに添加される15%まで、あるいは5%までの構成成分(XII)を含有することができる。
〔その他の任意の構成成分〕
その他の任意の構成成分は、上記のものの全部又は一部のほかに、又はその代わりに、添加されてもよいが、但し、任意の構成成分は、組成物が硬化して、上記のような改良された接着性及び耐薬品性を有するシリコーン生成物を生成するのを妨げない。その他の任意の構成成分の例としては、酸受容体;酸化防止剤;安定剤、例えば酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、金属塩添加剤、例えばEP0950685A1に開示されたもの、熱安定剤、及び紫外線(UV)安定剤;難燃剤;シリル化剤、例えば4−(トリメチルシリルオキシ)−3−ペンテン−2−オン及びN−(t−ブチルジメチルシリル)−N−メチルトリフルオロアセトアミド;乾燥剤、例えばゼオライト、無水硫酸アルミニウム、分子篩(好ましくは10Å又はそれ未満の孔直径を有する)、多孔質珪藻土、シリカゲル及び活性炭;並びに発泡剤、例えば水、メタノール、エタノール、イソ−プロピルアルコール、ベンジルアルコール、1,4ブタンジオール、1,5ペンタンジオール、1,7ヘプタンジオール及びシラノールが挙げられるが、これらに限定されない。
〔総SiH:Vi比〕
組成物中の構成成分は、組成物中のケイ素結合水素原子の総量対脂肪族不飽和基のモル比(SiHtot/Vitot)が、0.9より大きい、あるいは少なくとも1.0、あるいは少なくとも1.05であるよう選択されてよい。SiHtot/Vitotは、10.0まで、あるいは5.0まで、あるいは3.0までであってもよい。理論に制約されることを望まないが、SiHtot/Vitotが低すぎる場合には、組成物は硬化しない可能性があるか、あるいはいくつかの基材に接着しない可能性があると考えられる。理論に制約されることを望まないが、SiHtot/Vitotが高すぎる場合には、表面特性、例えば接着は妨害され、処方物内から他の表面へのブリードが増大し得ると考えられる。
〔キット〕
組成物は、一部式組成物又は多部式組成物、例えば二部式組成物であってよい。多部式組成物では、構成成分(II)及び(III)は、別個の部に保存される。構成成分(I)及び(IV)〜(XI)のうちのいずれかを、どちらか又は両方の部に添加することができる。過度の実験をすることなく、各部に対する構成成分を選択する方法を、当業者は知っているであろう。
多部式組成物が調製される場合、それはキットとして販売されてもよい。キットは、キットの使用方法、部の組合せ方法、又はその結果生じる組合せの硬化方法、あるいはそれらの組合せ等の、情報又は使用説明書又はその両方をさらに包含してもよい。例えばA部及びB部を包含するキットは、以下のように調製することができる。
A部は、以下を包含する:
(I)1分子当たり少なくとも2つの末端不飽和有機基を有するポリオルガノシロキサン、
(III)ヒドロシリル化触媒、
任意に(IV)構成成分(I)と反応性である少なくとも1つの官能基を有するフルオロオルガノシリコーン、
任意に(V)不飽和エステル官能化合物、
任意に(VI)接着促進剤、
任意に(VII)ボイド低減剤、
任意に(VIII)顔料、
任意に(IX)充填剤、
任意に(X)硬化改質剤、
任意に(XI)レオロジー改質剤、及び
任意に(XII)スペーサー。
そしてB部は、以下を包含する:
任意に(I)1分子当たり少なくとも2つの末端不飽和有機基を有するポリオルガノシロキサン、
(II)1分子当たり少なくとも2つのケイ素結合水素原子を有する有機水素ポリシロキサン、
任意に(IV)構成成分(I)、構成成分(II)又はそれらの両方と反応性である少なくとも1つの官能基を有するフルオロオルガノシリコーン、
任意に(V)不飽和エステル官能化合物、
任意に(VI)接着促進剤、
任意に(VII)ボイド低減剤、
任意に(VIII)顔料、
任意に(IX)充填剤、
任意に(X)硬化改質剤、
任意に(XI)レオロジー改質剤、及び
任意に(XII)スペーサー。
キット中で、A部及びB部のうちの少なくとも一方は構成成分(IV)を含有し、そしてA部及びB部のうちの少なくとも一方は構成成分(V)を含有する。
A部及びB部は、0.05:1〜20:1、あるいは0.1:1〜10:1、あるいは1:1〜5:1のA部:B部(A:B)の比で、一緒に混合することができる。
〔組成物の調製方法〕
上記の組成物は、任意の便利な手段により構成成分を混合することによって調製することができる。例えば組成物は、周囲温度で全ての構成成分を混合することにより調製することができる。構成成分(X)が存在する場合、構成成分(X)は構成成分(III)の前に添加されてもよい。
用いられるミキサーは特に制限されず、構成成分及び組成物の粘度により決定される。適切なミキサーとしては、バドル型ミキサー、混練型ミキサー、非押込み型ミキサー、例えば遠心分離動作によるもの、及びゴム用二本及び三本ロール機が挙げられるが、これらに限定されない。上記に開示され、下記の実施例に記載の方法により、過度の実験をすることなく、当業者は組成物を調製することができるであろう。
〔使用方法〕
本発明の組成物は、表面又は界面特性又はその両方の改質が所望される一連の用途に関して有用である。例えば上記の組成物は、硬化して、接着剤;電子回路、平坦面、繊維又は小粒子のための保護コーティング;又はガスケット材料を形成する。この組成物の完全硬化又は部分硬化生成物の曝露表面も、別の接着剤による結合のための、又は別の基材への二次結合(例えば乾燥フィルム接着剤)のための基材としても有用であり得る。
本発明の組成物は、硬化して、接着剤として用いることのできる生成物を形成する。組成物は、周囲温度又は高温で硬化することができる。組成物は、硬化前又は硬化中に基材に塗布されてよい。本発明の完全硬化又は部分硬化物質の曝露表面は、別の接着剤による結合のための、又は別の基材への二次結合のための基材としても有用である(例えば乾式皮膜接着剤)。接着剤は、例えばダイ取り付け接着剤のような生成物として、蓋封止剤、ゲル及び封入剤として用いられてもよい。
本発明の組成物を用いて調製される硬化生成物は、例えば構成成分(I)及び(II)並びに組成物に添加される任意の構成成分の種類及び濃度によって、剛性樹脂からエラストマー、ゲルへと特性が変わることができる。該組成物を用いて調製される硬化生成物は、例えばコーティングとして又は成形若しくは押出し製品として、種々の最終用途において有用である。組成物は、噴霧、浸漬、流し込み、スクリーン印刷、押出しにより、又はブラシ、ローラー若しくはコーティングバーの使用により、基材に塗布することができる。特定の塗布方法の選択は、少なくとも一部は、硬化性組成物の粘度により決定される。
組成物又はその硬化生成物が塗布されてもよい、エレクトロニクス用途において有用である適切な基材としては、エポキシド、ポリカーボネート、ポリ(ブチレンテレフタレート)樹脂、ポリアミド樹脂、並びにそれらの配合物、例えばポリアミド樹脂とシンジオタクチックポリスチレン、例えばDow Chemical Company(Midland, Michigan, U.S.A)から市販されているものとの配合物、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン、スチレン修飾ポリ(フェニレンオキシド)、ポリ(フェニレンスルフィド)、ビニルエステル、ポリフタルアミド、ポリイミド、ケイ素、アルミニウム、ステンレススチール合金、チタン、銅、ニッケル、銀、金及びそれらの組合せが挙げられる。
本発明の組成物は、2つの表面を接着するために、例えば蓋密封用途において用いることができる。例えば、組成物は、以下の:
(1)プラスチックハウジング上に上記の組成物を塗布すること、
(2)蓋の縁が組成物と接触するように、ハウジング上に蓋を載せること、及び
(3)その組み立て体を硬化させて密封ハウジングを形成すること
を包含する方法により、組み立て工程における電子回路のためのプラスチックハウジング上にプラスチック蓋をぴったり接着させるために用いることができる。
あるいは、組成物は、例えば、以下の:
(1)電子回路基板上に上記の組成物を塗布すること、及び
(2)組成物を硬化させて密封回路基板を製造すること
を包含する方法により、電子回路基板を被覆するために用いることができる。
あるいは、組成物は、例えば以下の:
(1)電子基板上に上記の組成物を塗布すること、
(2)半導体ダイを組成物に取り付けること、及び
(3)組成物を硬化させて接合複合体を製造すること
を包含する方法で、ダイ取り付け用途のために用いることができる。
該方法は、1つ又は複数の任意の工程、例えば、(4)上記工程(1)〜(3)を反復して、1つ又は複数の付加的半導体ダイスを半導体ダイに取り付ける工程、(5)半導体ダイ又は半導体ダイスをワイヤボンディングする工程、(6)例えばプラズマに曝露することにより清浄化(clean)する工程、(7)半導体ダイ又は半導体ダイスを成形化合物でオーバーモールディングする工程、及び(8)はんだボールを取り付けて、完成パッケージを形成する工程をさらに包含してもよい。工程(1)では、電子基板は、例えば回路基板、TABテープ又は当該技術分野で既知のその他の基板であってもよく、又は電子基板は半導体ダイであってもよい。
図3は、本方法に従って調製されたパッケージ300の一例を示す。パッケージ300は、本発明の組成物から調製されたダイ取り付け接着剤303を介してポリイミドTABテープフレキシブル回路として示された基板302に接合された半導体ダイ301を包含する。半導体ダイ301は、リードボンド304により基板302に電気的に接続される。リードボンド304の形状は、基板302からの半導体ダイ301の高さに応じる。封入材305は、リードボンド304を保護するために用いられる。図4は、パッケージ300が載せられる基板(示されていない)との接続メカニズムを提供するはんだボール306も示す。
本発明の組成物は、基板302上にプリントされるか又は計量分配されてもよい。次に半導体ダイ301が組成物上に圧力及び熱を用いて置かれて、ダイ取り付け接着剤303を調製してもよい。
図4は、本方法に従って調製されたパッケージ400の一例を示す。パッケージは、第2半導体ダイ402の上部に重ねられ、第1ダイ取り付け接着剤403を介して取り付けられた第1半導体ダイ401を包含する。第2半導体ダイ402は、第2ダイ取り付け接着剤405を介して回路基板として図4に示された基板404に載せられる。第1ダイ取り付け接着剤403及び第2ダイ取り付け接着剤405は、本発明の組成物を硬化することにより調製される。第1ダイ取り付け接着剤403及び第2ダイ取り付け接着剤405は、同一であるか又は異なってよい。
パッケージ400は、例えば、本発明の組成物を基板404に塗布することにより組み立てられてよい。第2半導体ダイ402は、加熱され、第2半導体ダイ402下に均一に組成物を広げるのに十分な圧力を用いて組成物上に置かれ得る。ダイの熱は、組成物を一部又は全部硬化して、第2ダイ取り付け接着剤405を生成し得る。本発明による組成物は次に、第2半導体ダイ402の上部に塗布され、第1半導体ダイ401が、上記のように十分な圧力を用いて組成物に熱塗布されてもよい。組成物は一部又は全部硬化して、第1ダイ取り付け接着剤403を形成する。
第1半導体ダイ401は、ボンディングワイヤ406を介して基板に電気的に接続され、第2半導体ダイ402は、ボンディングワイヤ407を介して基板に電気的に接続される。次にオーバーモールディング408が塗布されて、半導体ダイス401,402及びボンディングワイヤ406,407を保護し得る。次にはんだボール409が基板404に付加されてもよい。
これらの実施例は、当業者に本発明を例示するが、特許請求の範囲に記述された本発明の範囲を限定するよう意図されるべきではない。以下の構成成分を、これらの実施例に用いる。
配合物1は、(i)CH=CH(CHSiO1/2単位、(CHSiO1/2単位及びSiO4/2単位(ここで、SiO4/2単位に併合されるCH=CH(CHSiO1/2単位及び(CHSiO1/2単位のモル比は、0.7であり、樹脂は22,000の重量平均分子量、5の多分散性を有し、そして1.8重量%(5.5モル%)のビニル基を含有する)から本質的に成る27部のオルガノポリシロキサン樹脂、(ii)25℃で55Pa・sの粘度を有する71部のジメチルビニルシロキシ末端ポリジメチルシロキサン、(iii)0.1部のエチルベンゼン、(iv)0.4部のキシレン、(v)0.5部のテトラ(トリメチルシロキシ)シラン、及び(vi)0.7部のジメチルシクロシロキサンの混合物である。
PDMS1は、25℃で450cPの粘度を有するジメチルビニルシロキシ末端線状ポリジメチルシロキサンである。
触媒1は、1,1−ジエテニル−1,1,3,3、−テトラメチルジシロキサンの白金(IV)錯体1%、25℃で0.45Pa・sの粘度を有するジメチルビニルシロキシ末端ポリジメチルシロキサン92%、及びテトラメチルジビニルジシロキサン7%の混合物である。
接着促進剤1は、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン46%、ヒドロキシ末端メチルビニルシロキサン40%、環状メチルビニルシロキサン7%、ヒドロキシ末端メチルビニルシロキサンと3−グリシドキシプロピルトリメトキシシランの反応生成物6%、及びメタノール1%の混合物である。混合物は、25℃で15cStの粘度を有する。
ボイド低減剤は、炭素上パラジウムである。
顔料は、カーボンブラック(Williams)である。
石英は、U.S. Silica (Berkeley Springs, WV)によりMIN−U−SILの名称で販売されている粉砕シリカ固体である。シリカは、5μmのトップサイズ(98%<5μm)、1.6μmの中央値粒子サイズ、41のタップ密度、31の非タップ密度、及び2.65の比重を有する。
有機水素ポリシロキサン1は、平均で1分子当たり3のジメチルシロキサン単位及び1分子当たり5のメチル水素シロキサン単位を有し、0.8%のケイ素結合水素原子を含有するトリメチルシロキシ末端ポリ(ジメチルシロキサン/メチル水素シロキサン)である。
不飽和エステル官能化合物1は、ネオペンチルグリコールジアクリレートである。
不飽和エステル官能化合物2は、ネオペンチルグリコールジメタクリレートである。
フルオロオルガノシリコーン1は、0.5〜2%のビニル基、並びに25℃で310〜2,000cStの粘度を有するジメチルビニルシロキシ末端メチル3,3,3−トリフルオロプロピルシロキサンである。
フルオロオルガノシリコーン2は、平均で1分子当たり28のメチル水素シロキサン単位及び1分子当たり12のメチル−6,6,6,5,5,4,4,3,3−ノナフルオロヘキシルシロキサン単位を有するトリメチルシロキシ末端ポリ(メチル水素シロキサン/メチル−6,6,6,5,5,4,4,3,3−ノナフルオロヘキシルシロキサン)である。
有機水素ポリシロキサン2は、25℃で20〜40cStの粘度、並びに1.4〜1.75重量%の水素を有するメチル水素シロキサンである。
硬化改質剤1は、3,5−ジメチル−1−ヘキシン−3−オールである。
補強シリカは、200〜250平方メートル/グラム(m/g)のBET表面積、4.5〜6.5のpH、及び105℃で重力分析的に測定して0.6%を超えない含水量を有するヘキサメチルジシラザン処理シリカである。この物質は、Cabot CorporationによりCab−O−Sil TS−530の名称で販売されている。
レオロジー改質剤は、140〜190センチストークス(cSt)の粘度を有するトリメチルシロキシ末端ジメチル、メチル(プロピル(ポリ(プロピレンオキシド)ヒドロキシ))シロキサンコポリマーである。レオロジー改質剤は、Dow Corning Corporationにより1248Fluidの名称で販売されている。
以下の基材を、これらの実施例に用いる。
FR−4は、0.152センチメートル(cm)の厚みを有する銅−被着FR−4(ガラス強化エポキシ)ラミネートのエポキシ面であり、これはLaird Plastics(West Palm Beach, Fl)から入手可能である。
PCは、0.635cmの厚みを有するビスフェノールAポリカーボネートシートであり、これはExotic Automation & Supply(Farmington Hills, MI)によりHYZOD Mの名称で販売されている。
PBTは、0.635cmの厚みを有するポリ(ブチレンテレフタレート)樹脂シートであり、これはBoedeker Plastics, Inc.(Shiner, TX)によりHYDEX 4101(ホワイト)の名称で販売されている。
GF−PBTは、0.318cmの厚みを有するガラス強化ポリ(ブチレンテレフタレート)樹脂シートであり、これはTicona(Summit, NJ)によりCelanex 3300Dの名称で販売されている。
N66は、0.635cmの厚みを有するナイロンタイプ6/6ポリアミド樹脂シートであり、これはBoedeker Plastics, Inc.(Shiner, TX)から入手可能である。
ABSは、0.635cmの厚みを有するアクリロニトリル−ブタジエン−スチレンシートであり、これはBoedeker Plastics, Inc.(Shiner, TX)から入手可能である。
PPOは、0.635cmの厚みを有するスチレン修飾ポリ(フェニレンオキシド)シートであり、これはBoedeker Plastics, Inc.(Shiner, TX)によりNORYL EN−265(ブラック)の名称で販売されている。
PPSは、0.318cmの厚みを有するポリ(フェニレンスルフィド)シートであり、これはBoedeker Plastics, Inc.(Shiner, TX)によりTECHTRON PPS(ナチュラル)の商標で販売されている。
Alは、0.163cmの厚みを有するダイ−カストアルミニウムである。
SSは、0.160cmの厚みを有する304ステンレススチール合金(タイプSS−34)パネルであり、これはQ-Panel Lab Products(Cleveland, OH)から入手可能である。
Cuは、0.152cmの厚みを有する銅−被着FR−4(ガラス強化エポキシ)ラミネートの銅面であり、これはLaird Plastics(West Palm Beach, Fl)から入手可能である。
PA−sPS1は、70%の配合物及び30%のガラス充填剤から成る熱可塑性物質である。配合物は、70%のナイロン66及び30%のシンジオタクチックポリスチレンを含む。PA−sPS1は、Dow Chemical Company(Midland, MI)から市販されている。
PA−sPS2は、90%の配合物及び10%のガラス充填剤から成る熱可塑性物質である。配合物は、70%のナイロン66及び30%のシンジオタクチックポリスチレンを含む。PA−sPS2は、Dow Chemical Company(Midland, MI)から市販されている。
PA−sPS3は、70%の配合物及び30%のガラス充填剤から成る熱可塑性物質である。配合物は、50%のナイロン66及び50%のシンジオタクチックポリスチレンを含む。PA−sPS3は、Dow Chemical Company(Midland, MI)から市販されている。
ビニルエステルは、Premi−Glas(登録商標)1285VEの商品名でDow Chemical Companyから入手可能な圧縮成形ガラス充填ビニルエステル熱硬化基材である。
PPAは、30%ガラス充填ポリフタルアミドである。ポリフタルアミド樹脂は、Amodel(登録商標)の商品名でSolvay Advanced Polymersから入手可能である。
〔参考例1− 基材の清浄〕
プラスチック基材(ナイロン以外)を、先ず、希釈石鹸溶液を含有する超音波浴中で清浄して、機械油及びその他の炭化水素残渣を除去し、そして清浄水中ですすぐ。使用直前に、試験表面上でイソプロピルアルコールをしみ込ませたKimwipe使い捨てワイパーを引き寄せる(drawing)ことにより、各プラスチック基材を反復清浄する。最終清浄工程で、TECHNICLOTH TX604室内清浄用ワイパー(The Texwipe Company, Upper Saddle River, NJ)を用いて、イソプロピルアルコールを試験表面に塗布する。各ナイロン基材の試験表面にイソプロピルアルコールを噴霧し、Kimwipeで拭いて、アセトンを噴霧し、そしてTECHNICLOTH TX604室内清浄用ワイパーで拭く。ヘプタン、その後イソプロピルアルコールを用いて、金属基材を同様に清浄する。全ての物質を少なくとも12分間風乾させた後、シリコーン組成物を塗布する。
〔参考例2− 掻き取り接着試験のための試験片の調製及び掻き取り接着の測定〕
新たに調製した接着組成物を、手術用メスで清浄化基材の表面に引いて、0.025インチ(0.0635cm)の厚みの皮膜とする。次に被覆基材を、強制空気対流炉中で150℃で30分間加熱し、次に室温に冷却させる。基材をカミソリの刃で刻み目を付けて、接着剤層を介して基材中に貫通する0.25インチ(0.635cm)離れた2つの平行線を引く。
湾曲末端を有するステンレススチールマイクロスパチュラ(Fisherbrand21−401−5)を、表面から約30°の角度で上記の2つの平行刻み目線間の接着表面と接触させる。基材の表面から接着剤を掻取ろうとして、刻み目線間の軌道に沿ってヘラ(spatula)に手で力を加える。破壊方式を、接着、凝集、又はそれらの組合せとして報告する。接着破壊は、基材からのシリコーン生成物の清浄剥離(開放)を意味する。凝集破壊は、シリコーン生成物それ自体の破損(割裂)及び基材への残渣の密着を意味する。
〔参考例3− 重ね剪断試験片の調製及び単一重ね剪断試験による接着の測定〕
清浄化基材を、1平方インチ、又は0.5平方インチの重複面積、並びに0.030インチの結合線厚を有する2つの3インチ長基材パネルを支持するよう設計された機械加工アルミニウム支持ジグ中に置く。試験する接着組成物を、マイクロスパチュラを用いて塗布し、試料中に空気を混入しないよう注意深く展延する。二次清浄化基材を接着剤上に載せ、圧縮して、上部拘束棒下で軽く捩じることにより適切な厚みを形成する。試料を150℃に予備設定した対流炉に移し、60分間硬化させる。炉から取り出し、室温に冷却後、試験片をジグからはずして、余分な接着剤を全て、カミソリの刃を用いて重なり領域の縁から完全に削り取る。24時間後、5,000ポンドフォース変換器を装備したMTS Sintech5/G引張り試験器に試料を入れて、周囲条件下で2インチ/分(in/分)(0.085cm/秒)のクロスヘッド速度で試験する。各基材/組成物の組合せの少なくとも3回の反復試験からの最大応力の中央値を、凝集破壊(CF)を示す総結合領域の概算パーセンテージにより評価される破壊の方式とともに報告する。シリコーン生成物を介してではあるが基材表面に極近い1箇所で破砕が生じて残渣の薄膜のみを残す場合、この作用は、「薄膜」破壊としてさらに注目される。
〔参考例4− 耐薬品性試験のための試験片の調製及び耐薬品性の測定〕
接着組成物を基材上に被覆して、参考例3に記載したように硬化させる。その結果生じた試料を、油を取り換えずに、150℃で500時間、10W30モーター油中に連続的に浸漬する。油浸漬の前後に、接着剤の剪断強度を測定する。
〔参考例5− 表面分析による界面組成の決定〕
試料を、参考例2に記載した方法で、ただし、図1に示した概略図に示すように、試料を70℃に予熱した対流炉中で30分間硬化させて、参考例1に記載したように清浄したポリカーボネート基材101上で、0.025インチ(0.0635cm)の標準厚に注型する。硬化試料102を、3つの当該平面に沿った多数のスポット:即ち図示したような自由表面103、バルク104及び基材界面105で分光分析的に検査する。空気汚染を避けるために、試験の前後に、試料を清浄なヘビーゲージアルミ箔でゆるく包む。可能な場合には、硬化皮膜を注意深く剥ぎ取ることにより、基材界面を曝露する。接着が非常に強力である場合は、試料を極低温破砕するか又は注意深く切り離して、界面を曝露する。後者の場合、界面の両側からのスペクトルを比較して、分離が粘着的に生じなかったことを保証する。清浄ミクロトーム刃を用いて、表面から薄層を薄片に切断することにより曝露される新たな領域から、バルクスペクトルを得る。この技法は、勾配が最大である場合の深さ1〜2マイクロメートル(μm)を十分に超える領域へのアクセスを生じたため、この薄片の厚みを正確に制御する試みはしない。これを、無作為薄片からのバルクスペクトルの間の良好な再現可能性により、確証する。
〔参考例6− X線光電子分光分析法による表面分析〕
280ワット(W)で単色AlX線源を有するKratos AXIS165計器を用いて、X線光電子分光分析を得る。荷電補償を用いる。この方法は、0.7ミリメートル(mm)×1.4mmの分析スポットサイズを生じる。3つの短い細片を各試料から切断して、基材(105)及び空気(103)界面並びに「バルク」(104)組成物を提供する(種々の表面を説明するために用いられる数字は、図1に示されている)。細片は、幅3〜5mm及び長さ10〜15mmである。金属クリップを用いて、試料を長い試料台に載せる。各細片上の2つの位置(106、107)をXPSにより分析する。O、C及びSiの低分解能調査スペクトル及び高分解能スペクトルを、分析した各位置で得る。
〔参考例7− ATR−IR試験法による表面分析〕
Spectratech減衰全反射赤外分光(ATR−IR)顕微鏡を用いて、硬化シリコーン皮膜の種々の深度での濃度を比較する。この装置は、半球Zn−Se結晶から成るATR対物レンズを備え、38.68°の入射角を提供する。この幾何学は、該IR領域における2±0.5μmの深度を探査する。台上圧力センサーで標準接触圧読取りに到達するまで試料をゆっくり上げて、全てのスペクトルに関して接触の類似レベルを保証する。各新規スペクトル間で、分析等級ヘプタンで湿らせたKimwipeを用いて穏やかに拭くことにより結晶を清浄化して、完全に乾燥させる。ATR−IR実験全てにおいて、試料小室を乾燥窒素ガスで十分にパージした後、バックグラウンドスペクトルを得る。256スキャンを用いて、各スペクトルを生成する。Omnic(商標)ソフトウエアを用いて、標準化ベースラインポイントで、吸収ピーク高さ分析を実施する。
分析した3つの表面(103、104、105)の各々で、3反復スペクトル(図2においてスポット106、107、108として模式的に示す)を得た。各スペクトル(例えば図3に示した3つのスペクトルのいずれか)に関しては、1446cm−1でのケイ素−メチル(−Si−Me)帯域のピーク高で割ることにより、1740cm−1でのカルボニル(−C=O)ストレッチ及び2160cm−1での水素化ケイ素(−Si−H)の両方に関する正規化ピーク高を算定する。次に正規化ピーク高を3反復値全体で平均する。バルク(104)における対応する値で、空気及び基材界面(それぞれ103及び105)に関する平均正規化ピーク比を割ることにより、バルクに関する界面の相対濃度濃厚化の比較を行なう。
〔実施例1− 二部式接着組成物〕
二部式接着組成物を調製する。A部を、93.3部の配合物1、0.7部の触媒1、4.8部の接着促進剤1、0.6部のボイド低減剤、及び0.6部の顔料を混合することにより調製する。B部を、36.1部の配合物1、43.4部の石英、5.1部の有機水素ポリシロキサン1、3.1部の不飽和エステル官能化合物1、4.9部のフルオロオルガノシリコーン1、0.6部の有機水素ポリシロキサン2、及び6.8部のフルオロオルガノシリコーン2を混合することにより調製する。
A部及びB部を、2回の12秒混合サイクルでHauschildミキサーを用いて、2.6:1(A:B)比で混合する。その結果生じる接着組成物を硬化させ、参考例2の方法に従って試験する。結果を表1に示す。その結果生じる接着組成物を硬化させ、参考例4の方法に従って試験する。結果を表2に示す。
〔比較例1〕
二部式接着組成物を調製する。A部を、94.0部の配合物1、0.6部の触媒1、4.8部の接着促進剤1、0.6部の顔料を混合することにより調製する。B部を、47.7部の配合物1、47.1部の石英、4.3部の有機水素ポリシロキサン1、及び0.83部の有機水素ポリシロキサン2を混合することにより調製する。
A部及びB部を、2回の12秒混合サイクルでHauschildミキサーを用いて、2.0:1(A:B)比で混合する。その結果生じる接着組成物を硬化させ、参考例2の方法に従って試験する。結果を表1に示す。その結果生じる接着組成物を硬化させ、参考例4の方法に従って試験する。結果を表2に示す。
Figure 2007502346
Figure 2007502346
実施例1及び比較例1は、有機水素ポリシロキサン、フルオロオルガノシリコーン添加剤、及び不飽和エステル官能化合物の混合物の組合せが、接着及び耐薬品性の改良を提供するということを示す。
〔実施例2− 接着組成物〕
一部式接着組成物を、52.76部の配合物1、29.97部の石英、0.19部の触媒1、1.32部の接着促進剤1、0.18部のボイド低減剤、0.18部の顔料、4.17部の有機水素ポリシロキサン1、2.20部の不飽和エステル官能化合物1、3.52部のフルオロオルガノシリコーン1、0.45部の有機水素ポリシロキサン2、4.90部のフルオロオルガノシリコーン2、及び0.18部の硬化改質剤2を混合することにより調製する。参考例3の方法に従って、重ね剪断強度を試験する。結果を表3に示す。SiH/Viは3.7であり、そしてSiHtot/Vitotは1.55である。
〔実施例3− 任意の構成成分を有する実施例2の組成物〕
一部式接着組成物を、50.59部の配合物1、28.47部の石英、0.19部の触媒1、1.33部の接着促進剤1、0.18部のボイド低減剤、0.18部の顔料、4.02部の有機水素ポリシロキサン1、2.21部の不飽和エステル官能化合物1、3.54部のフルオロオルガノシリコーン1、0.45部の有機水素ポリシロキサン2、4.92部のフルオロオルガノシリコーン2、0.18部の硬化改質剤2,3.54部の補強シリカ、及び0.22部のレオロジー改質剤を混合することにより調製する。
参考例3の方法に従って、重ね剪断強度を試験する。結果を表3に示す。実施例3は、レオロジー改質剤及び補強充填剤の添加は本発明の有効性に有害でないということを示す。
〔比較例2− フルオロオルガノシリコーン、不飽和エステル及び有機水素ポリシロキサン2を含有しない接着組成物〕
一部式接着組成物を、62.26部の配合物1、31.64部の石英、0.19部の触媒1、1.36部の接着促進剤1、0.20部のボイド低減剤、0.20部の顔料、3.96部の有機水素ポリシロキサン1、及び0.18部の硬化改質剤2を混合することにより調製する。参考例3の方法に従って、重ね剪断強度を試験する。結果を表3に示す。
〔比較例3− フルオロオルガノシリコーン及び不飽和エステルを含有しないが、有機水素ポリシロキサン2を含有する接着組成物〕
一部式接着組成物を、62.43部の配合物1、31.73部の石英、0.19部の触媒1、1.36部の接着促進剤1、0.20部のボイド低減剤、0.20部の顔料、3.34部の有機水素ポリシロキサン1、0.36部の有機水素ポリシロキサン2、及び0.18部の硬化改質剤2を混合することにより調製する。参考例3の方法に従って、重ね剪断強度を試験する。結果を表3に示す。
Figure 2007502346
実施例2及び比較例2は、有機水素ポリシロキサン、フルオロオルガノシリコーン添加剤、及び不飽和エステル官能化合物の混合物の組合せがポリアミド−シンジオタクチック配合物への接着改良を提供するということを例示する。比較例3は、接着における類似の改良が、この組成物中の有機水素ポリシロキサン混合物単独の使用により達成されないということを示す。
〔比較例4− 不飽和エステル官能化合物を含有しない実施例2の組成物〕
一部式接着組成物を、57.53部の配合物1、32.67部の石英、0.21部の触媒1、1.32部の接着促進剤1、0.19部のボイド低減剤、0.19部の顔料、3.08部の有機水素ポリシロキサン1、3.84部のフルオロオルガノシリコーン1、0.45部の有機水素ポリシロキサン2、0.32部のフルオロオルガノシリコーン2、及び0.19部の硬化改質剤2を混合することにより調製する。参考例3の方法に従って、重ね剪断強度を試験する。結果を表4に示す。
〔比較例5− 不飽和エステル官能化合物を含有せず、等量のフルオロオルガノシリコーンを含有する実施例2の組成物〕
一部式接着組成物を、56.42部の配合物1、32.05部の石英、0.21部の触媒1、1.32部の接着促進剤1、0.19部のボイド低減剤、0.19部の顔料、0.57部の有機水素ポリシロキサン1、3.53部のフルオロオルガノシリコーン1、0.45部の有機水素ポリシロキサン2、4.89部のフルオロオルガノシリコーン2、及び0.19部の硬化改質剤1を混合することにより調製する。参考例3の方法に従って、重ね剪断強度を試験する。結果を表4に示す。
〔比較例6− フルオロオルガノシリコーンを含有しない実施例2の組成物〕
一部式接着組成物を、56.43部の配合物1、32.05部の石英、0.21部の触媒1、1.32部の接着促進剤1、0.19部のボイド低減剤、0.19部の顔料、6.77部の有機水素ポリシロキサン1、2.21部の不飽和エステル官能化合物1、0.45部の有機水素ポリシロキサン2、及び0.19部の硬化改質剤2を混合することにより調製する。参考例3の方法に従って、重ね剪断強度を試験する。結果を表4に示す。
Figure 2007502346
〔実施例4− 表面分析のための組成物〕
A部として、35.1部のPDMS1、64.7部の石英及び0.39部の触媒1を混合することにより、二部形式の基剤処方物を調製する。B部を、37.8部のPDMS1、59.9部の石英及び2.31部の有機水素ポリシロキサン1を混合することにより調製する。
基剤処方物のA部 4.65部に、0.25部の不飽和エステル官能化合物2を添加する。基剤処方物のB部 4.65部に、0.46部のフルオロオルガノシリコーン2を添加する。A部及びB部をマイクロスパチュラを用いて手動混合し、混合物を、参考例5に記載した方法に従って皮膜試料に注型する。参考例6及び参考例7の方法に従って、試料を分析する。結果を表5及び6、並びに図2に示す。
〔比較例7− フルオロシリコーン添加剤を含有しない組成物〕
実施例4の基剤処方物のA部 4.74部に、0.25部の不飽和エステル官能化合物2を添加する。実施例4の基剤処方物のB部 4.74部に、0.27部の有機水素ポリシロキサン1を、1モルのSiH/不飽和エステル官能化合物2からの1モルのメタクリロイルオキシ官能基の比を生じる量で、添加する。次にA部及びB部をマイクロスパチュラを用いて手動混合し、混合物を、参考例5に記載した方法に従って皮膜試料に注型する。参考例6及び参考例7の方法に従って、試料を分析する。結果を表5及び6、並びに図2に示す。
Figure 2007502346
Figure 2007502346
実施例4及び比較例7は、付加硬化シリコーンマトリックス中の不飽和エステル官能化合物2とフルオロオルガノシリコーン2の組合せが、空気及びプラスチック界面でのこれらの化学種の強化された濃厚化を提供するということを分光的に実証する。したがって理論に縛られることなく予測すると、不飽和エステル官能化合物とフルオロオルガノシリコーンの組合せは、表面及び界面組成に応じる特性、例えば接着及び耐薬品性の同等の改質を提供する。
〔比較例8〕
構成成分(A)、(B)、(C)及び(D)を混合することにより、組成物を調製する。構成成分(A)は、56.75部の配合物1、0.21部の触媒1、2.67部の有機水素ポリシロキサン1、0.19部の硬化改質剤1、0.19部のボイド低減剤、及び0.19部の顔料である。有機水素ポリシロキサン1を、構成成分(A)の不飽和ポリオルガノシロキサン中のSi結合アルキル基1モル当たり、有機水素ポリシロキサン1中の1.9モルのSiH基が利用可能であるような量で、添加する(SiH:Viは1.9:1である)。
(B)は、32.23部の石英である。
(C)は、1.42部の接着促進剤1及び2.37部の不飽和エステル官能化合物1である。
(D)は、3.79部のフルオロオルガノシリコーン1である。
ケイ素結合水素原子を有する化学種及び脂肪族不飽和基を有する化学種の含量は、SiHtot:Vitotが0.51であるような含量である。参考例3の方法に従って、重ね剪断強度を試験する。結果を表7に示す。
〔比較例9〕
構成成分(A)、(B)、(C)及び(D)を混合することにより、組成物を調製する。構成成分(A)は、55.83部の配合物1、0.20部の触媒1、4.25部の有機水素ポリシロキサン1、0.19部の硬化改質剤1、0.19部のボイド低減剤、及び0.19部の顔料である。SiH/Viが3.0であるであるような量で、有機水素ポリシロキサン1を添加する。
(B)は、31.71部の石英である。
(C)は、1.40部の接着促進剤1及び2.33部の不飽和エステル官能化合物1である。
(D)は、3.72部のフルオロオルガノシリコーン1である。
ケイ素結合水素原子を有する化学種及び脂肪族不飽和基を有する化学種の含量は、SiHtot:Vitotが0.83であるような含量である。参考例3の方法に従って、重ね剪断強度を試験する。結果を表7に示す。
〔比較例10〕
構成成分(A)、(B)、(C)及び(D)を混合することにより、組成物を調製する。構成成分(A)は、54.01部の配合物1、0.20部の触媒1、2.13部の有機水素ポリシロキサン1、0.23部の有機水素ポリシロキサン2、0.18部の硬化改質剤1、0.18部のボイド低減剤、0.18部の顔料である。SiH:Viが1.9であるであるような量で、有機水素ポリシロキサン1を添加する。
(B)は、30.67部の石英である。
(C)は、1.35部の接着促進剤1及び2.25部の不飽和エステル官能化合物1である。
(D)は、3.60部のフルオロオルガノシリコーン1及び5.01部のフルオロオルガノシリコーン2である。
ケイ素結合水素原子を有する化学種及び脂肪族不飽和基を有する化学種の含量は、SiHtot/Vitotが1.04であるような含量である。参考例3の方法に従って、重ね剪断強度を試験する。結果を表7に示す。
〔実施例5〕
構成成分(A)、(B)、(C)及び(D)を混合することにより、組成物を調製する。構成成分(A)は、54.68部の配合物1、0.20部の触媒1、5.09部の有機水素ポリシロキサン1、0.18部の硬化改質剤1、0.18部のボイド低減剤、0.18部の顔料である。SiH/Viは3.7である。
(B)は、31.06部の石英である。
(C)は、1.37部の接着促進剤1及び2.28部の不飽和エステル官能化合物1である。
(D)は、4.77部のフルオロオルガノシリコーン2である。
ケイ素結合水素原子を有する化学種及び脂肪族不飽和基を有する化学種の含量は、SiHtot/Vitotが1.56であるような含量である。参考例3の方法に従って、重ね剪断強度を試験する。結果を表7に示す。
Figure 2007502346
比較例7、8及び9は、不十分なSiHtot/Vitot比を有するいくつかの処方物は、ナイロン−sPS配合プラスチックに対して不十分な硬化を示すか、あるいは接着不良を示すということを示す。その結果、反応性フルオロオルガノシリコーン添加剤の任意のヒドロシリル化組成物への単なる添加は、必ずしもプラスチック及び金属との接着を提供しない。
[産業的適用可能性]
本発明の組成物は、硬化して、接着剤を形成する。該接着剤は、金属と接着する。該接着剤は、他の基材、例えばプラスチックとも接着する。
参考例5に記載した方法に従う表面分析による界面組成の決定に用いられる試料を示す。 実施例4の硬化皮膜を用いて図1に表した各表面からの代表的ATR−IRスペクトルを示す。重要なIR帯域を示すために当該スペクトルの領域でスペクトルを拡大する。 本発明の組成物をダイ取り付け接着剤として用いるパッケージの一例を示す。 本発明の組成物をダイ取り付け接着剤として用いるパッケージの一例を示す。
符号の説明
101 ポリカーボネート基材、102 硬化試料、103 自由表面、104 バルク、105 基材界面、106 分析スポット、107 分析スポット、108 分析スポット、300 パッケージ、301 半導体ダイ、302 基板、303 ダイ取り付け接着剤、304 リードボンド、305 封入材、306 はんだボール、400 パッケージ、401 第1半導体ダイ、402 第2半導体ダイ、403 第1ダイ取り付け接着剤、404 基板、405 第2ダイ取り付け接着剤、406 ボンディングワイヤ、407 ボンディングワイヤ、408 オーバーモールディング、409 はんだボール。

Claims (11)

  1. 以下の:
    (I)1分子当たり平均で少なくとも2つの不飽和有機基を有するポリオルガノシロキサン(但し、構成成分(I)はフッ素原子を含有しない)、
    (II)1分子当たり平均で少なくとも2つのケイ素結合水素原子を有する有機水素ポリシロキサン(但し、構成成分(II)はフッ素原子を含有しない)、
    (III)ヒドロシリル化触媒、
    (IV)構成成分(I)、構成成分(II)又はそれらの両方と反応する少なくとも1つの官能基を有するフルオロオルガノシリコーン、
    (V)不飽和エステル官能化合物であって、2−エチルヘキシルアクリレート、
    i)2−エチルヘキシルメタクリレート、
    ii)メチルアクリレート、
    iii)メチルメタクリレート、
    iv)ネオペンチルグリコールジアクリレート、
    v)ネオペンチルグリコールジメタクリレート、
    vi)グリシジルアクリレート、
    vii)グリシジルメタクリレート、
    viii)アリルアクリレート、
    ix)アリルメタクリレート、
    x)ステアリルアクリレート、
    xi)テトラヒドロフルフリルメタクリレート、
    xii)カプロラクトンアクリレートパーフルオロブチルアクリレート、
    xiii)パーフルオロブチルメタクリレート、
    xiv)テトラヒドロパーフルオロアクリレート、
    xv)フェノキシエチルアクリレート、
    xvi)フェノキシエチルメタクリレート、
    xvii)ビスフェノール「A」アクリレート、
    xviii)ビスフェノール「A」ジメタクリレート、
    xix)エトキシル化ビスフェノール「A」アクリレート、
    xx)エトキシル化ビスフェノール「A」メタクリレート、
    xxi)ヘキサフルオロビスフェノール「A」ジアクリレート、
    xxii)ヘキサフルオロビスフェノール「A」ジメタクリレート、
    xxiii)ジエチレングリコールジアクリレート、
    xxiv)ジエチレングリコールジメタクリレート、
    xxv)ジプロピレングリコールジアクリレート、
    xxvi)ジプロピレングリコールジメタクリレート、
    xxvii)ポリエチレングリコールジアクリレート、
    xxviii)ポリエチレングリコールジメタクリレート、
    xxix)ポリプロピレングリコールジアクリレート、
    xxx)ポリプロピレングリコールジメタクリレート、
    xxxi)トリメチロールプロパントリアクリレート、
    xxxii)トリメチロールプロパントリメタクリレート、
    xxxiii)エトキシル化トリメチロールプロパントリアクリレート、
    xxxiv)エトキシル化トリメチロールプロパントリメタクリレート、
    xxxv)ペンタエリトリトールトリアクリレート、
    xxxvi)ペンタエリトリトールトリメタクリレート、
    xxxvii)ペンタエリトリトールテトラアクリレート、
    xxxviii)ペンタエリトリトールテトラメタクリレート、
    xxxix)メチル−3−ブテノエート、
    xl)アリルメチルカーボネート、
    xli)ジアリルピロカーボネート、
    xlii)アリルアセトアセテート、
    xliii)ジアリルカーボネート、
    xliv)ジアリルフタレート、
    xlv)ジメチルイタコネート、
    xlvi)ジアリルカーボネート、又は
    xlvii)それらの組合せ
    から選択される不飽和エステル官能化合物、及び
    (VI)接着促進剤
    を含む構成成分を混合することにより調製される組成物であって、組成物中のケイ素結合水素原子の総量と脂肪族不飽和基とのモル比であるSiHtot/Vitotが0.9を超え10.0以下である組成物。
  2. 構成成分(IV)は、次式:
    (a)R SiO(R SiO)ι(R10SiO)φSiR
    (b)R11 12SiO(R11 SiO)κ(R1112SiO)λSiR11 12
    (c)FC(CFν13−Si−[O−Si(R14(R15)]
    (d)R1514 SiO1/2単位、CF(CFν13SiO3/2単位及び任意にSiO4/2単位から本質的に成る樹脂性又は分岐状構造、又は
    (e)それらの組合せ、
    (但し、ιは0〜2,000の平均値を有し、
    φは1〜500の平均値を有し、
    は、各々独立して、水素原子又は一価有機基であるが、但し、少なくとも1つのRは水素原子又は不飽和一価有機基であり、
    10は、各々独立して、フルオロ−官能性有機基であり、
    κは、0〜2,000の平均値を有し、
    λは、0〜500の平均値を有し、
    11は、各々独立して、水素原子又は一価有機基であるが、但し、少なくとも1つのR11は水素原子又は不飽和一価有機基であり、
    12は、各々独立して、フルオロ−官能性有機基であり、
    13は、各々独立して、二価有機基であり、
    14は、各々独立して、脂肪族不飽和を含有しない一価炭化水素基であり、
    νは、0〜10であり、且つ
    15は、各々独立して、水素原子又は不飽和一価有機基である)
    の化合物を含む請求項1に記載の組成物。
  3. 構成成分(IV)は、以下の:
    i)ジメチルビニルシロキシ末端ポリメチル3,3,3−トリフルオロプロピルシロキサン、
    ii)ジメチルビニルシロキシ末端ポリ(メチル水素シロキサン/メチル−6,6,6,5,5,4,4,3,3−ノナフルオロヘキシルシロキサン)、
    iii)トリメチルシロキシ末端ポリ(メチル水素シロキサン/メチル−6,6,6,5,5,4,4,3,3−ノナフルオロヘキシルシロキサン)、
    iv)トリメチルシロキシ末端ポリ(メチル水素シロキサン/メチル−6,6,6,5,5,4,4,3,3−ノナフルオロヘキシルシロキサン)、又は
    v)それらの組合せ
    を含む請求項1に記載の組成物。
  4. 構成成分(V)はネオペンチルグリコールジアクリレート又はネオペンチルグリコールジメタクリレートを含む請求項1に記載の組成物。
  5. 構成成分(IV)はジメチルビニルシロキシ末端メチル3,3,3−トリフルオロプロピルシロキサン又はトリメチルシロキシ末端ポリ(メチル水素シロキサン/メチル−6,6,6,5,5,4,4,3,3−ノナフルオロヘキシルシロキサン)を含む請求項1に記載の組成物。
  6. 構成成分(VI)は、(a)遷移金属キレート化合物、アルコキシシラン、アルコキシシランとヒドロキシ官能ポリオルガノシロキサンとの組合せ、又はそれらの組合せを含む請求項1に記載の組成物。
  7. 構成成分(VI)は、不飽和アルコキシシラン、エポキシ官能アルコキシシラン、エポキシ官能シロキサン、又はそれらの組合せを含む請求項1に記載の組成物。
  8. 構成成分(VI)は、ヒドロキシ末端ポリオルガノシロキサンとエポキシ官能アルコキシシラン若しくは不飽和アルコキシシランとの反応生成物、又はヒドロキシ末端ポリオルガノシロキサンとエポキシ官能アルコキシシラン若しくは不飽和アルコキシシランとの物理的配合物を含む請求項1に記載の組成物。
  9. (VII)ボイド低減剤、(VIII)顔料、(IX)充填剤、(X)硬化改質剤、(XI)レオロジー改質剤、(XII)スペーサー、(XIII)酸受容体、酸化防止剤、(XIV)安定剤、(XV)難燃剤、(XVI)流動制御添加剤、(XVII)反応性希釈剤、(XVIII)沈降防止剤、(XIX)シリル化剤、(XX)乾燥剤、(XXI)発泡剤、又はそれらの組合せをさらに含む請求項1に記載の組成物。
  10. 前記組成物は、1.05〜5.0のSiHtot/Vitotを有する請求項1に記載の組成物。
  11. 接着剤、保護コーティング及びガスケット材料から成る群から選択される用途のための請求項1に記載の組成物の使用。
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