DE2559846C2 - 1-Phenacyl-pyridinium- und Phenacyl-triphenyl-phosphoniumsalze sowie deren Verwendung als Photoinitiatoren zum Härten von Epoxyharzen - Google Patents
1-Phenacyl-pyridinium- und Phenacyl-triphenyl-phosphoniumsalze sowie deren Verwendung als Photoinitiatoren zum Härten von EpoxyharzenInfo
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Description
ein Epoxyharz, das in einen Zustand höheren Molekulargewichtes polymerisierbar ist, ausgewählt
aus Epoxymonomer. -präpolymer, oxiranhaltigem organischen Polymer und deren Mischungen
und
einer wirksamen Menge eines erfindungsgemäßen Salzes, das die Härtung von A) bewirken kann,
wenn es Strahlungsenergie ausgesetzt wird.
Beispiele für die erfindungsgcmäßen Oniumsalze oder Photoinitiatoren sind
N-CH2-C
(C6H5)3P—CH2-C
SbFT
AsFr
Die erfindungsgemäßen Oniumsalze können hergestellt werden wie in den Beispielen beschrieben, analog
dazu oder entsprechend nach Verfahren, die von J. Goerdeler in Methoden der organischen Chemie. 11/12,
591—640(1958) und K-Sasse, ebenfalls in den Methoden
der organischen Chemie, 12/1,79—112(1963), beschrieben sind.
Nachfolgend wird die Erfindung anhand von Beispielen näher erläutert- Alle angegebenen Teile sind
Gewich tsteile.
Herstellung der erfindungsgemäßen Oniumsalze: ' Beispiel 1
Eine Mischung äquimolarer Mengen von Triphenyl- m obigen rohen aromatischen Phosphoniumbromids und
phosphin und Phenacylbromid in wäßrigem Aceton wurde 2 Stunden gerührt, bis sich rohes Triphenyl-phenacyl-Phosphoniumbromid
abtrennte. Das Rohprodukt wurde durch Filtration isoliert und getrocknet- Eine
wäßrige Mischung von etwa gleichen Molmengen des π einem Kalium- oder Natriumhexafluorophosphat, -arsenat
oder -antimonat wurde gerührt, wobei das gewünschte Produkt ausfieL
■Die folgenden Verbindungen wurden so hergestellt:
■Die folgenden Verbindungen wurden so hergestellt:
Kation
Anion
Fp. (0C)
II
III
(C6Hs)jP—CH2-C
SbFT
AsF6-
PF6-
149-152
194-197
203-206
l-Phenacyl-pyridiniumbromid wurde zubereitet
durch langsames Zugeben von Phenacylbromid zu einer gerührten äquimolaren Menge Pyridin in einer Flasche.
Die leicht exotherme Reaktion wurde begleitet vom Ausfallen des festen l-Phenacyl-pyridiniumbromides.
Das Salz wurde dann filtriert und gründlich mit wasserfreiem Äther gewaschen.
Es wurden aktive Photokatalysatoren zubereitet durch Auflösen von 0,025 Mol des Pyridiniumsalzes in
100 ml Wasser. Dann wurden zu verschiedenen Anteilen des Pyridiniumsalzes 0,03 Mol KAsF6, NaSbF6, und KPF6
hinzugegeben. In allen Fällen fielen weiße Salze aus der Lösung aus. Die Salze wurden mit destilliertem Wasser
gewaschen und über Nacht im Vakuum bei 6O0C getrocknet. In der folgenden Tabelle sind die Schmelzpunkte
der erhaltenen Salze aufgeführt.
50
Schmelz-
punkt ü>
O Il |
+/,—* —N N—j |
> PFT | 197-203 |
Il C-CH2 |
|||
O Μ |
+ /, * — N |
)> AsFT | 202-205 |
Il C-CH2 |
|||
O M |
— N | S SbFI | 166-174 |
Il C-CH2 |
|||
Anwendungsbeispiele
A) Durch Einarbeiten von jeweils 3 Gew.-% der Triphenyl-phenacyl-phosphoniumsalze von Beispiel
1 in Teile einer 60:40-Mischung von Diglycidyläther des Bisphenol-A und 4-Vinylcyclohexendioxid
wurden härtbare Zusammensetzungen zubereitet. Man ließ einen Teil jeder Mischung in
einem transparenten Behälter für eine längere Zeit unter normalen Tageslichtbedingungen stehen. Es
gab keine Viskosilätsveränderung der Mischung.
Ein Teil jeder härtbaren Zusammensetzung wurde als 0,0025 mm dicker Film auf einen
Stahlstreifen aufgebracht. Die beschichtete Stahloberflächc wurde für 30 Sekunden der UV-Strahlung
einer H3T7-Lampe aus einem Abstand von 15 cm ausgesetzt. Bei jeder der drei härtbaren
Zusammensetzungen bildete sich innerhalb 1 min ein klarer klebrigkeitsfreier Film der keine
Anzeichen von Blasen oder anderen Fehlern zeigte. Aus den l-Phenacyl-pyridiniumsalzen des Beispiels
2 wurden härtbare Zusammensetzungen hergestellt, die jeweils 3% des Salzes in 4-Vinylcyclohexendioxid
enthielten. Die Mischungen wurden mit einer GE H3T7-Lampe in einem Abstand von 15cm innerhalb von 03min (das PFb~- und das
AsFh--SaIz) bzw. 1 min (das SbF„--Salz) bis zu
6Q einem klebrigkcitsfreien Zustand gehärtet
C) Es wurden 80 Teile Bisphcnol-A-diglycidyläther
und eine Lösung aus 2 Teilen 1-Phenacyl-pyridinium-hexafluoroarsenat
in 18 Teilen 4-Vinylcyclohexendioxid miteinander vermengt. Unter Verwendung
eines Ziehstabes wurde eine 0,025 mm dicke Beschichtung auf eine 7,5 χ 15 cm große Stahlplatte
aufgebracht. Über der Platte wurde eine Maske angeordnet und an Ort und Stelle festgeklemmt.
Das Ganze wurde £ür 20 Sekunden ultraviolettem
Licht ausgesetzt und dann in ein Isopropanolbad eingetaucht, wobei die unbelichteten Teile der
Beschichtung entfernt wurden und ein scharfes Negativbild der Maske zurückließen.
D) Es wurden 10 Teile festen multifunktionellen aromatischen Glyddyläthers mit einem Epoxyäquivalentgewicht
von 210 bis 240 zu 40 Teilen Limoneiidioxid hinzugefügt. Die Mischung wurde
mit 1 Teil l-Phenacyl-pyridinium-hexafluorophosphat
kombiniert und eine halbe Stunde bei 500C erhitzt, um eine homogene Lösung der Bestandteile
zu erhalten. Die Mischung wurde dann unter Verwendung eines 0,012-mm-Zugstabes auf Glas
aufgebracht und 10 Sekunden aus einer Entfernung von 73 cm mit einer G£H3T7-Lampe mit einer
Intensität von 200 Watt/6,45 cm2 belichtet und Tabelle dabei eine harte Beschichtung erhalten.
E) Es wurde ausreichend 1 -Phenacyl-pyridinium-hexafluoroarsenat
zu einer Mischung von 67 Gew.-% eines Novolak-Epoxyharzes mit einem Epoxyäquivalentgewicht
von 172—178,33% 4-vinylcycIohexendioxid
und 0,5% eines oberflächenaktiven Mittels hinzugegeben, um eine härtbare Mischung
zu erhalten, die 1 % des Ammoniumsalzes enthielt Es wurde eine Beschichtung in Form eines
0,0025 mm dicken Filmes auf 7,5 χ 15 cm große Stahlplatten aufgebracht und 20 Sekunden mit
einer GE H3T7-Lampe aus einem Abstand von 10 cm gehärtet. Die Platten wurden danach zum jo
Teil 5 Stunden bei Zimmertemperatur in Methylenchlorid eingetaucht und zum Teil 4 Stunden in
Aceton. In allen Fällen wurden keine sichtbaren Zeichen des Angriffes auf die Beschichtung durch G)
diese Mittel beobachtet. Die Platten wurden 1 Stunde auf 1600C erhitzt und dann wurden
getrennte Versuche ausgeführt in siedender 5%iger KOH-Lösung für 30 Minuten und in siedendem
destillierten Wasser für 4 Stunden. Nach diesen Tests waren die Beschichtungen intakt und zeigten
keine Zeichen eines Abbaus.
F) Es wurden Lösungen zweier Triphcnyl-phenacylphosphoniumsalze
in 4-Vinylcyclohexendioxid in einer Dicke von etwa 0,075 mm auf Glasplättchen
gebracht. Diese Filme wurden einer UV-Bestrahlung aus einer GE H3T7-QuecksilberdampfIaiTipe
aus einer Entfernung von etwa 15 cm ausgesetzt. Die Härtungszeiten wurden gemessen als die
erforderliche Bestrahlungsdauer, um einen klebrigkeitsfreien RIm zu erzeugen. Als klebrigkeitsfreier
RIm ist ein Film bezeichnet, der bei durchschnittlichem
Daumendruck klebrigkeitsfrei ist und wobei die Oberfläche des Rlmes keinen nachweisbaren
Abdruck mehr aufnimmt. In der folgenden Tabelle sind die jeweiligen Anionen der verwendeten
Photoinitiatoren, deren Menge in Gewichtsprozent in der 4-VinylcyclohexendioxidIösung. ob eine
Härtung auftrat oder nicht und die Belichtungszeit dafür in Sekunden angegeben.
Anion | Gewichts- prozeni |
Härtung | Belichtungs zeit |
(Sekunden) | |||
SbF6- | 0,5 1 2 3 |
ja ja ja ja |
7 5 3 3 |
AsF5- | 0,5 1 2 3 |
ja ja ja ja |
8 6 5 5 |
Zu 95 g Lhnonendioxid wurden 2,7 g 1-Phenacylpyridiniumbromid
und 2,1 g Natriumhexafluoroarsenat hinzugegeben. Diese Zusammensetzung wurde durch Rollen auf einer Kugelmühle für δ
Stunden gründlich vermischt. Die unlöslichen Salze wurden dann durch Rllrieren entfernt und die
verbleibende Epoxylösung auf Photoempfindlichkeit untersucht. Es wurde ein gehärteter 0,05 mm
dicker iösungsmittelbeständiger RIm unter Anwendung des Verfahrens des Anwendungsbeispiels B in
30 Sekunden erhalten.
Claims (2)
- Patentansprüche:I. I-Phenacyl-pyridinium- und Phenacyl-triphenylphosphoniumsalze der allgemeinen Formeln I und IIC—CH2-P(C6Hj)3 (MF6)-(IDin denen M Phosphor. Arsen oder Antimon bedeutet.
- 2. Verwendung der Verbindungen gemäß Anspruch ! als Photoinitiatoren zum Härten von Epoxyharzen.20Gegenstand der Erfindung sind 1-Phenacyl-pyridinium- und Phenacyl-triphenyl-phosphoniumsalze der allgemeinen Formeln I und II(MF6)-(D(MF6)-(IDin denen M Phosphor, Arsen oder Antimon bedeutet. Die Erfindung betrifft weiter die Verwendung der Verbindungen der Formeln I und Il als Photoinitiatoren zum Härten von Epoxyharzen.In der US 37 08 296 ist die Verwendung gewisser phoiocmpfindlicher aromatischer Diazoniumsalze zum Härten von Epoxyharzen beschrieben. Durch Photolyse setzen diese aromatischen Diazoniumsalze in situ einen Lewissäurc-Katalysator frei, der die rasche Polymerisation des Epoxyhar/.es einleiten kann. Obwohl daher diese Einkomponentcn-Epoxyharzmischungcn rasch härtende Zusammensetzungen ergeben können, muß A) ein Stabilisator verwendet werden, um die Härtung im Dunkeln während der Lagerung dieser Mischungen möglichst gering zu halten (vgl. auch die US-PS 38 16278. 38 16279. 38 16280 und 38 16281). Trotz dieser Maßnahmen kann die Gelierung der Mischung B) häufig selbst bei Abwesenheit von Licht eintreten. Außerdem wird während der UV-Härtung Stickstoff freigesetzt, der zu Fehlern in dem entstehenden Film führen kann. Diazoniumsalze sind im allgemeinen thermisch instabil und machen daher die Verwendung solcher Materialien wegen der Möglichkeit unkontrollierter Zersetzung gefährlich. 'Im l.Mcd.Chcm. 12, 1081 (1969) ist über die Aktivität von verschiedenen Pyridiniumsalzcn einschließlich l-Benzylpyridiniiim-hcxafluorophosphat als Mittel zur VVurmbckämpfung belichtet.Im ). Chem. Soc. Dalton Trans. 1973, 743 ist die M Herstellung von llydridotetnikis(triphenylphosphin)ruihenium(ll)-hexaf!uorophosphat und verwandten Komnlexcn beschrieben.Das J. Chem. Soc, Chem. Comrnun. 1972.469 enthält einen Artikel über die Kinetik der Retrocyanäthylierung von Phosphoniumsalzen und erwähnt in diesem Zusammenhang einige Phosphoniumsalze.In den Chem. Ber. 106,3882 (1973) sind anläßlich einer Untersuchung über die Abspaltung der Carbenliganden bei der Reaktion von Methoxy(organyl) Carben-Komp'exen des Chroms(O) mit Säuren verschiedene Phosphoniumsalze einschließlich Hexafiuorophosphate genannt.In dem Artikel in der Z. Naturforsch, Teil B 26, 184 (1971) ist die Herstellung einiger quarternärer Phosphoniumsalze einschließlich Hexafiuorophosphate beschrieben.Gegenstand der DE-OS 22 37 823 ist ein silberfreies photographisches Aufzeichnungsmaterial, das in der bilderzeugenden Schicht neben einem Oi^anoazid ein Phosphoniumsalz enthält. Dieses Phosphoniumsalz soll die vorher verwendeten Diazoniumsalze oder organischen Azide ersetzen, die zum Zweck der Bildstabilität ein Waschen des Aufzeichnungsmaterials erforderten, bei dem empfindliche bzw. nicht eingesetzte Komponenten entfernt wurden. Bei Belichtung bilden das Organoazid und das Phosphoniumsalz einen Phosphin-Azid-Komplex.Der vorliegenden Erfindung lag die Aufgabe zugrunde, die eingangs genannten Salze zu schaffen, bei deren Verwendung als Photoinitiatoren zum Härten von Epoxyharzen die mit Diazoniumsa!zen verbundenen Nachteile der mangelnden Stabilität und der Freisetzung von Gas nicht auftreten.Die vorliegende Erfindung beruht auf der Feststellung, daß strahlungsempfindliche aromatische Oniumsalze von Elementen der Gruppe Va des Periodensystems geschaffen werden können, die bei Einarbeitung in Epoxyharze mittels Strahlung härtbare Zusammensetzungen als Einkomponentensysteme ergeben, die keinen Stabilisator erfordern, um die Härtung während der Lagerung bei Umgebungstemperaturen möglichst gering zu halten und die alle vorgenannten Nachteile der Zusammensetzungen mit aromatischen Diazoniumsalzen nicht aufweisen.Mit den als Photoinitiatoren brauchbaren Salzen der vorliegenden Erfindung können härtbare Epoxyzusammensetzungen geschaffen werden, die folgende Bestandteile umfassen:
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Families Citing this family (411)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4407759A (en) * | 1974-05-02 | 1983-10-04 | General Electric Company | Photoinitiators |
US4175973A (en) * | 1974-05-02 | 1979-11-27 | General Electric Company | Curable compositions |
US4161478A (en) * | 1974-05-02 | 1979-07-17 | General Electric Company | Photoinitiators |
US4173551A (en) * | 1974-05-02 | 1979-11-06 | General Electric Company | Heat curable compositions |
GB1508951A (en) * | 1976-02-19 | 1978-04-26 | Ciba Geigy Ag | Epoxide resin based prepregs |
AU517415B2 (en) * | 1976-07-09 | 1981-07-30 | General Electric Company | Curable polymer composition |
US4090936A (en) | 1976-10-28 | 1978-05-23 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Photohardenable compositions |
US4101513A (en) * | 1977-02-02 | 1978-07-18 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Catalyst for condensation of hydrolyzable silanes and storage stable compositions thereof |
US4196138A (en) * | 1977-05-20 | 1980-04-01 | General Electric Company | Dicarbonyl chelate salts |
GB1587536A (en) * | 1977-07-05 | 1981-04-08 | Ciba Geigy Ag | Expoxide resin-impregnated composites |
GB1587159A (en) * | 1977-07-05 | 1981-04-01 | Ciba Geigy Ag | Film adhesives containing an epoxide resin |
GB1604953A (en) * | 1977-08-05 | 1981-12-16 | Gen Electric | Photocurable compositions and method for curing |
DE2750123C2 (de) * | 1977-11-09 | 1982-10-21 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Härtungskatalysatoren für wärmehärtbare, epoxidgruppenhaltige Einkomponentensysteme |
US4283312A (en) * | 1977-12-16 | 1981-08-11 | General Electric Company | Heat curable processable epoxy compositions containing aromatic iodonium salt catalyst and copper salt cocatalyst |
US4186108A (en) * | 1978-02-08 | 1980-01-29 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Liquid compositions containing triarylsulfonium complex salts and oxyethylene material |
US4173476A (en) * | 1978-02-08 | 1979-11-06 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Complex salt photoinitiator |
US4231951A (en) * | 1978-02-08 | 1980-11-04 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Complex salt photoinitiator |
US4216288A (en) * | 1978-09-08 | 1980-08-05 | General Electric Company | Heat curable cationically polymerizable compositions and method of curing same with onium salts and reducing agents |
US4310469A (en) * | 1978-12-29 | 1982-01-12 | General Electric Company | Diaryliodonium salts |
US4231886A (en) * | 1979-01-29 | 1980-11-04 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Ester solutions of complex salts |
US4246298A (en) * | 1979-03-14 | 1981-01-20 | American Can Company | Rapid curing of epoxy resin coating compositions by combination of photoinitiation and controlled heat application |
US4197174A (en) * | 1979-03-14 | 1980-04-08 | American Can Company | Method for producing bis-[4-(diphenylsulfonio) phenyl] sulfide bis-MX6 |
US4201640A (en) * | 1979-03-14 | 1980-05-06 | American Can Company | Method for producing bis-[4-(diphenylsulfonio)phenyl] sulfide bis-M.X6 |
US4250006A (en) * | 1979-03-19 | 1981-02-10 | American Can Company | Polymerizable coating composition containing polymerizable epoxide compound and vinyl chloride dispersion polymer and method of coating utilizing same and coated articles produced thereby |
WO1980002838A1 (en) * | 1979-06-14 | 1980-12-24 | Gen Electric | Heat curable compositions |
US4227978A (en) * | 1979-06-27 | 1980-10-14 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Photohardenable composition |
US4247473A (en) * | 1979-07-19 | 1981-01-27 | American Can Company | Method for producing bis-[4-(diphenylsulfonio)pheny] sulfide bis-M.X6 photoinitiator |
US4247472A (en) * | 1979-07-19 | 1981-01-27 | American Can Company | Method for producing bis-[4-(diphenylsulfonic)phenyl]sulfide bis-MF6 photoinitiator |
US4286047A (en) * | 1979-07-25 | 1981-08-25 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Pressure-sensitive adhesive susceptible to ultraviolet light-induced detackification |
DE2940332A1 (de) * | 1979-10-04 | 1981-04-23 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Verwendung von quartaeren ammoniumsalzen als latente katalysatoren in beschichtungsmassen auf basis von polyurethan- oder epoxidharz-vorprodukten, die diese katalysatoren enthaltenden beschichtungsmassen, sowie ein verfahren zur herstellung von beschichtungen |
US4306953A (en) * | 1979-11-05 | 1981-12-22 | American Can Company | Cationically polymerizable compositions containing sulfonium salt photoinitiators and stable free radicals as odor suppressants and _method of polymerization using same |
US4238587A (en) * | 1979-11-28 | 1980-12-09 | General Electric Company | Heat curable compositions |
US4341714A (en) * | 1980-04-25 | 1982-07-27 | General Electric Company | Aryloxyphosphonium salts |
US4382130A (en) * | 1980-04-25 | 1983-05-03 | General Electric Company | Moisture curable compositions and aryloxyphosphonium salts |
US4371605A (en) * | 1980-12-09 | 1983-02-01 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Photopolymerizable compositions containing N-hydroxyamide and N-hydroxyimide sulfonates |
JPS588724A (ja) * | 1981-07-08 | 1983-01-18 | Mitsubishi Electric Corp | 光硬化型プリプレグ用樹脂組成物 |
DE3218287A1 (de) * | 1982-05-13 | 1983-11-17 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Isolierband zur herstellung einer mit einer heisshaertenden epoxidharz-saeureanhydrid-mischung impraegnierten isolierhuelse fuer elektrische leiter |
US4725653A (en) * | 1983-10-27 | 1988-02-16 | Union Carbide Corporation | Low viscosity adducts of a polycaprolactone polyol and a polyepoxide |
US5503937A (en) * | 1984-07-17 | 1996-04-02 | The Dow Chemical Company | Curable composition which comprises adducts of heterocyclic compounds |
US4594291A (en) * | 1984-07-17 | 1986-06-10 | The Dow Chemical Company | Curable, partially advanced epoxy resins |
US4694029A (en) * | 1985-04-09 | 1987-09-15 | Cook Paint And Varnish Company | Hybrid photocure system |
US4717440A (en) * | 1986-01-22 | 1988-01-05 | Loctite Corporation | Compositions curable by in situ generation of cations |
US4756787A (en) * | 1986-01-22 | 1988-07-12 | Loctite Corporation | Compositions curable by in situ generation of cations |
DE3604580A1 (de) * | 1986-02-14 | 1987-08-20 | Basf Ag | Haertbare mischungen, enthaltend n-sulfonylaminosulfoniumsalze als kationisch wirksame katalysatoren |
US4661429A (en) * | 1986-04-28 | 1987-04-28 | Eastman Kodak Company | Photoelectrographic elements and imaging method |
US4749728A (en) * | 1986-06-06 | 1988-06-07 | The Glidden Company | Epoxy/nucleophile transesterification catalysts and thermoset coatings |
US5310619A (en) * | 1986-06-13 | 1994-05-10 | Microsi, Inc. | Resist compositions comprising a phenolic resin, an acid forming onium salt and a tert-butyl ester or tert-butyl carbonate which is acid-cleavable |
US5362607A (en) * | 1986-06-13 | 1994-11-08 | Microsi, Inc. | Method for making a patterned resist substrate composite |
US4751138A (en) | 1986-08-11 | 1988-06-14 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Coated abrasive having radiation curable binder |
CA1305823C (en) * | 1986-08-29 | 1992-07-28 | Union Carbide Corporation | Photocurable blends of cyclic ethers and cycloaliphatic epoxides |
JPS63246890A (ja) * | 1987-04-02 | 1988-10-13 | 関西ペイント株式会社 | プリント回路の形成方法 |
AU618313B2 (en) * | 1988-02-12 | 1991-12-19 | Dow Chemical Company, The | Epoxy resin composition containing latent catalysts |
US4925901A (en) * | 1988-02-12 | 1990-05-15 | The Dow Chemical Company | Latent, curable, catalyzed mixtures of epoxy-containing and phenolic hydroxyl-containing compounds |
US5399596A (en) * | 1988-03-03 | 1995-03-21 | Sanshin Kagaku Kogyo Co., Ltd. | Polyfluoride sulfonium compounds and polymerization initiator thereof |
US5070161A (en) * | 1988-05-27 | 1991-12-03 | Nippon Paint Co., Ltd. | Heat-latent, cationic polymerization initiator and resin compositions containing same |
US5047568A (en) * | 1988-11-18 | 1991-09-10 | International Business Machines Corporation | Sulfonium salts and use and preparation thereof |
US5141969A (en) * | 1988-11-21 | 1992-08-25 | Eastman Kodak Company | Onium salts and the use thereof as photoinitiators |
US5439766A (en) * | 1988-12-30 | 1995-08-08 | International Business Machines Corporation | Composition for photo imaging |
US5026624A (en) * | 1989-03-03 | 1991-06-25 | International Business Machines Corporation | Composition for photo imaging |
US5747223A (en) * | 1988-12-30 | 1998-05-05 | International Business Machines Corporation | Composition for photoimaging |
US6180317B1 (en) | 1988-12-30 | 2001-01-30 | International Business Machines Corporation | Composition for photoimaging |
US5264325A (en) * | 1988-12-30 | 1993-11-23 | International Business Machines Corporation | Composition for photo imaging |
US5278010A (en) * | 1989-03-03 | 1994-01-11 | International Business Machines Corporation | Composition for photo imaging |
US6210862B1 (en) | 1989-03-03 | 2001-04-03 | International Business Machines Corporation | Composition for photoimaging |
US5304457A (en) * | 1989-03-03 | 1994-04-19 | International Business Machines Corporation | Composition for photo imaging |
US5041358A (en) * | 1989-04-17 | 1991-08-20 | International Business Machines Corporation | Negative photoresist and use thereof |
DE3933420C1 (de) * | 1989-10-06 | 1991-03-07 | Th. Goldschmidt Ag, 4300 Essen, De | |
EP0431564B1 (de) * | 1989-12-05 | 1996-04-10 | Konica Corporation | Aufzeichnungsmaterial eines photographischen Bildes. |
ES2077664T3 (es) * | 1989-12-07 | 1995-12-01 | Sicpa Holding Sa | Tintas de imprenta altamente reactivas. |
US5310581A (en) * | 1989-12-29 | 1994-05-10 | The Dow Chemical Company | Photocurable compositions |
US5464538A (en) * | 1989-12-29 | 1995-11-07 | The Dow Chemical Company | Reverse osmosis membrane |
US5238747A (en) * | 1989-12-29 | 1993-08-24 | The Dow Chemical Company | Photocurable compositions |
US5021595A (en) * | 1990-03-02 | 1991-06-04 | Exxon Chemical Patents Inc. | Transition metal catalyst composition for olefin polymerization |
KR960000980B1 (ko) * | 1990-03-27 | 1996-01-15 | 가부시기가이샤 히다찌 세이사꾸쇼 | 무전해도금용 기재 접착제, 이 접착제를 사용한 프린트 회로판 및 이의 용도 |
US5108859A (en) * | 1990-04-16 | 1992-04-28 | Eastman Kodak Company | Photoelectrographic elements and imaging method |
ZA913801B (en) * | 1990-05-21 | 1993-01-27 | Dow Chemical Co | Latent catalysts,cure-inhibited epoxy resin compositions and laminates prepared therefrom |
US5721323A (en) * | 1990-05-21 | 1998-02-24 | The Dow Chemical Company | Cure inhibited epoxy resin compositions and laminates prepared from the compositions |
DE4027438C1 (en) * | 1990-08-30 | 1991-08-29 | Th. Goldschmidt Ag, 4300 Essen, De | Cationically curable organo-polysiloxane cpd. prodn. - by reacting di:hydro:propane with an organo-polysiloxane in presence of catalyst at elevated temp. |
DE4027437C1 (en) * | 1990-08-30 | 1991-08-29 | Th. Goldschmidt Ag, 4300 Essen, De | Cationically curable organo-polysiloxane(s) - used as coating materials for laminar supports or modifying additives for cationically curable cpds. |
DE4102340A1 (de) * | 1991-01-26 | 1992-07-30 | Bayer Ag | Lichtleitfasern und verfahren zu ihrer herstellung |
EP0508951B1 (de) * | 1991-04-08 | 1996-08-21 | Ciba-Geigy Ag | Thermisch härtbare Zusammensetzungen |
JPH0592670A (ja) * | 1991-10-03 | 1993-04-16 | Konica Corp | 感熱転写記録用受像シート、画像保護材料、画像保護方法、及び画像記録体 |
US5262232A (en) * | 1992-01-22 | 1993-11-16 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Vibration damping constructions using acrylate-containing damping materials |
US5166126A (en) * | 1992-02-19 | 1992-11-24 | Eastman Kodak Company | Color filter array element with protective overcoat layer and method of forming same |
US5166125A (en) * | 1992-02-19 | 1992-11-24 | Eastman Kodak Company | Method of forming color filter array element with patternable overcoat layer |
EP0599779A1 (de) * | 1992-10-29 | 1994-06-01 | OCG Microelectronic Materials AG | Hochauflösender negativ arbeitender Photoresist mit grossem Prozessspielraum |
JP3517240B2 (ja) * | 1992-12-25 | 2004-04-12 | 日本曹達株式会社 | 新規アニリニウム塩化合物および重合開始剤 |
US5439779A (en) * | 1993-02-22 | 1995-08-08 | International Business Machines Corporation | Aqueous soldermask |
US5514728A (en) * | 1993-07-23 | 1996-05-07 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Catalysts and initiators for polymerization |
DE4421623A1 (de) * | 1994-06-21 | 1996-01-04 | Thera Ges Fuer Patente | Mehrkomponentige, kationisch härtende Epoxidmassen und deren Verwendung sowie Verfahren zur Herstellung gehärteter Massen |
JP3442176B2 (ja) | 1995-02-10 | 2003-09-02 | 富士写真フイルム株式会社 | 光重合性組成物 |
JPH0954437A (ja) | 1995-06-05 | 1997-02-25 | Fuji Photo Film Co Ltd | 化学増幅型ポジレジスト組成物 |
DE19534594B4 (de) * | 1995-09-19 | 2007-07-26 | Delo Industrieklebstoffe Gmbh & Co. Kg | Kationisch härtende, flexible Epoxidharzmassen und ihre Verwendung zum Auftragen dünner Schichten |
SG48462A1 (en) * | 1995-10-26 | 1998-04-17 | Ibm | Lead protective coating composition process and structure thereof |
US5814431A (en) | 1996-01-10 | 1998-09-29 | Mitsubishi Chemical Corporation | Photosensitive composition and lithographic printing plate |
JPH1087963A (ja) * | 1996-09-20 | 1998-04-07 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | 樹脂組成物および繊維質材料成形型 |
JP3786480B2 (ja) * | 1996-10-14 | 2006-06-14 | Jsr株式会社 | 光硬化性樹脂組成物 |
JP3626302B2 (ja) * | 1996-12-10 | 2005-03-09 | Jsr株式会社 | 光硬化性樹脂組成物 |
JP3765896B2 (ja) * | 1996-12-13 | 2006-04-12 | Jsr株式会社 | 光学的立体造形用光硬化性樹脂組成物 |
US6254954B1 (en) | 1997-02-28 | 2001-07-03 | 3M Innovative Properties Company | Pressure-sensitive adhesive tape |
AU711786B2 (en) * | 1997-05-16 | 1999-10-21 | National Starch And Chemical Investment Holding Corporation | Reactive radiation- or thermally-initiated cationically- curable epoxide monomers and compositions made from those monomers |
US6066889A (en) | 1998-09-22 | 2000-05-23 | International Business Machines Corporation | Methods of selectively filling apertures |
US6204456B1 (en) | 1998-09-24 | 2001-03-20 | International Business Machines Corporation | Filling open through holes in a multilayer board |
KR100317169B1 (ko) | 1998-10-28 | 2002-10-25 | 한국화학연구원 | 열과자외선개시형에폭시수지의잠재성경화제와그것을함유한에폭시수지조성물및에폭시경화물 |
US6498200B1 (en) * | 1999-01-12 | 2002-12-24 | Namics Corporation | Cationically polymerizable resin composition |
JP3218026B2 (ja) * | 1999-01-30 | 2001-10-15 | 財団法人韓国化学研究所 | 体積膨張反応を随伴する潜在性触媒型の硬化剤を含有するエポキシ樹脂組成物 |
JP4130030B2 (ja) | 1999-03-09 | 2008-08-06 | 富士フイルム株式会社 | 感光性組成物および1,3−ジヒドロ−1−オキソ−2h−インデン誘導体化合物 |
WO2001030307A1 (en) * | 1999-10-28 | 2001-05-03 | 3M Innovative Properties Company | Dental materials with nano-sized silica particles |
US6376590B2 (en) | 1999-10-28 | 2002-04-23 | 3M Innovative Properties Company | Zirconia sol, process of making and composite material |
US6730156B1 (en) | 1999-10-28 | 2004-05-04 | 3M Innovative Properties Company | Clustered particle dental fillers |
US6387981B1 (en) | 1999-10-28 | 2002-05-14 | 3M Innovative Properties Company | Radiopaque dental materials with nano-sized particles |
US6572693B1 (en) | 1999-10-28 | 2003-06-03 | 3M Innovative Properties Company | Aesthetic dental materials |
KR100422971B1 (ko) | 1999-12-29 | 2004-03-12 | 삼성전자주식회사 | 나프톨 구조를 가진 이온형 광산발생제 및 이를 이용한감광성 폴리이미드 조성물 |
JP2001337460A (ja) | 2000-03-21 | 2001-12-07 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版用原版 |
EP2548739B1 (de) | 2000-06-02 | 2015-12-16 | Fujifilm Corporation | Lithografiedruckplattenvorläufer |
US6350792B1 (en) | 2000-07-13 | 2002-02-26 | Suncolor Corporation | Radiation-curable compositions and cured articles |
US6511790B2 (en) | 2000-08-25 | 2003-01-28 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Alkaline liquid developer for lithographic printing plate and method for preparing lithographic printing plate |
EP2036721B1 (de) | 2000-11-30 | 2011-02-09 | FUJIFILM Corporation | Flachdruckplattenvorläufer |
EP1390664A4 (de) | 2001-03-30 | 2008-01-02 | Univ Arizona | Materialien, verfahren und verwendungen zur photochemischen erzeugung von säuren und/oder radikalen spezien |
JP2003073481A (ja) | 2001-09-06 | 2003-03-12 | Brother Ind Ltd | 活性エネルギー線硬化型組成物、それを含有するインク及びそのインクを使用するプリンタ |
US20030218269A1 (en) * | 2001-09-28 | 2003-11-27 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | Image-receiving layer composition and overcoat layer composition for ink-jet recording |
JP2003105077A (ja) | 2001-09-28 | 2003-04-09 | Brother Ind Ltd | 活性エネルギー線硬化型組成物、それを含有するインク及びそのインクを使用するプリンタ |
JP2003212965A (ja) * | 2002-01-28 | 2003-07-30 | Brother Ind Ltd | 活性エネルギー線硬化型組成物 |
WO2003063804A1 (en) * | 2002-01-31 | 2003-08-07 | 3M Innovative Properties Company | Dental pastes, dental articles, and methods |
US7521168B2 (en) | 2002-02-13 | 2009-04-21 | Fujifilm Corporation | Resist composition for electron beam, EUV or X-ray |
US6939662B2 (en) | 2002-05-31 | 2005-09-06 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Positive-working resist composition |
US7091259B2 (en) * | 2002-07-03 | 2006-08-15 | 3M Innovative Properties Company | Dental fillers, pastes, and compositions prepared therefrom |
US20040067435A1 (en) | 2002-09-17 | 2004-04-08 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Image forming material |
US7081330B2 (en) | 2002-09-20 | 2006-07-25 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method of making lithographic printing plate |
US7449146B2 (en) * | 2002-09-30 | 2008-11-11 | 3M Innovative Properties Company | Colorimetric sensor |
US20040062682A1 (en) * | 2002-09-30 | 2004-04-01 | Rakow Neal Anthony | Colorimetric sensor |
US6841333B2 (en) * | 2002-11-01 | 2005-01-11 | 3M Innovative Properties Company | Ionic photoacid generators with segmented hydrocarbon-fluorocarbon sulfonate anions |
US7025791B2 (en) * | 2002-12-02 | 2006-04-11 | Gi Dynamics, Inc. | Bariatric sleeve |
US6777460B2 (en) * | 2002-12-23 | 2004-08-17 | 3M Innovative Properties Company | Curing agents for cationically curable compositions |
US6984261B2 (en) | 2003-02-05 | 2006-01-10 | 3M Innovative Properties Company | Use of ceramics in dental and orthodontic applications |
US7122294B2 (en) * | 2003-05-22 | 2006-10-17 | 3M Innovative Properties Company | Photoacid generators with perfluorinated multifunctional anions |
JP2005028774A (ja) | 2003-07-07 | 2005-02-03 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版用原版および平版印刷方法 |
US7026367B2 (en) * | 2003-09-26 | 2006-04-11 | 3M Innovative Properties Company | Photoiniators having triarylsulfonium and arylsulfinate ions |
US7064152B2 (en) * | 2003-09-26 | 2006-06-20 | 3M Innovative Properties Company | Arylsulfinate salts in photoinitiator systems for polymerization reactions |
US7250452B2 (en) * | 2003-09-26 | 2007-07-31 | 3M Innovative Properties Company | Dental compositions and methods with arylsulfinate salts |
US7030169B2 (en) * | 2003-09-26 | 2006-04-18 | 3M Innovative Properties Company | Arylsulfinate salts in initiator systems for polymeric reactions |
US7192991B2 (en) * | 2003-11-26 | 2007-03-20 | 3M Innovative Properties Company | Cationically curable composition |
US20050153239A1 (en) | 2004-01-09 | 2005-07-14 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method using the same |
JP4199687B2 (ja) | 2004-03-17 | 2008-12-17 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
US7553670B2 (en) * | 2004-04-28 | 2009-06-30 | 3M Innovative Properties Company | Method for monitoring a polymerization in a three-dimensional sample |
US20070144384A1 (en) | 2004-05-19 | 2007-06-28 | Fuji Photo Film Co., Ltd | Image recording method |
EP2618215B1 (de) | 2004-05-31 | 2017-07-05 | Fujifilm Corporation | Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckplatte |
JP4452572B2 (ja) | 2004-07-06 | 2010-04-21 | 富士フイルム株式会社 | 感光性組成物およびそれを用いた画像記録方法 |
JP2006021396A (ja) | 2004-07-07 | 2006-01-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版原版および平版印刷方法 |
US7146909B2 (en) | 2004-07-20 | 2006-12-12 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Image forming material |
US7425406B2 (en) | 2004-07-27 | 2008-09-16 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method |
US20060032390A1 (en) | 2004-07-30 | 2006-02-16 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method |
JP2006051656A (ja) * | 2004-08-11 | 2006-02-23 | Konica Minolta Medical & Graphic Inc | 平版印刷版材料用支持体及び平版印刷版材料 |
DE602005005403T2 (de) | 2004-08-24 | 2009-04-23 | Fujifilm Corp. | Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte |
JP2006062188A (ja) | 2004-08-26 | 2006-03-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | 色画像形成材料及び平版印刷版原版 |
JP2006068963A (ja) | 2004-08-31 | 2006-03-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | 重合性組成物、それを用いた親水性膜、及び、平版印刷版原版 |
GB0421175D0 (en) | 2004-09-23 | 2004-10-27 | Securis Ltd | High speed manufacture of microstructures |
JP4404734B2 (ja) | 2004-09-27 | 2010-01-27 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
US20060150846A1 (en) | 2004-12-13 | 2006-07-13 | Fuji Photo Film Co. Ltd | Lithographic printing method |
US7199192B2 (en) | 2004-12-21 | 2007-04-03 | Callaway Golf Company | Golf ball |
JP2006181838A (ja) | 2004-12-27 | 2006-07-13 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版原版 |
US7910286B2 (en) | 2005-01-26 | 2011-03-22 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor, lithographic printing method and packaged body of lithographic printing plate precursors |
JP4439409B2 (ja) | 2005-02-02 | 2010-03-24 | 富士フイルム株式会社 | レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 |
JP4474296B2 (ja) | 2005-02-09 | 2010-06-02 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
US7858291B2 (en) | 2005-02-28 | 2010-12-28 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor, method for preparation of lithographic printing plate precursor, and lithographic printing method |
EP1701213A3 (de) | 2005-03-08 | 2006-11-22 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Lichtempfindliche Zusammensetzung |
US20060204732A1 (en) | 2005-03-08 | 2006-09-14 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Ink composition, inkjet recording method, printed material, method of producing planographic printing plate, and planographic printing plate |
JP4404792B2 (ja) | 2005-03-22 | 2010-01-27 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
JP4474317B2 (ja) | 2005-03-31 | 2010-06-02 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法 |
JP2006335826A (ja) | 2005-05-31 | 2006-12-14 | Fujifilm Holdings Corp | インクジェット記録用インク組成物およびこれを用いた平版印刷版の作製方法 |
US7514482B2 (en) | 2005-07-25 | 2009-04-07 | The Walman Optical Company | Optical coating composition |
JP2007051193A (ja) | 2005-08-17 | 2007-03-01 | Fujifilm Corp | インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の製造方法、及び、平版印刷版 |
JP4815270B2 (ja) | 2005-08-18 | 2011-11-16 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法及び作製装置 |
JP4759343B2 (ja) | 2005-08-19 | 2011-08-31 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版および平版印刷方法 |
ATE410460T1 (de) | 2005-08-23 | 2008-10-15 | Fujifilm Corp | Härtbare tinte enthaltend modifiziertes oxetan |
DE102005040126A1 (de) * | 2005-08-25 | 2007-03-01 | Altana Electrical Insulation Gmbh | Überzugsmasse |
JP4757574B2 (ja) | 2005-09-07 | 2011-08-24 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の製造方法、及び、平版印刷版 |
JP4593419B2 (ja) | 2005-09-26 | 2010-12-08 | 富士フイルム株式会社 | 赤外線感光性平版印刷版原版 |
JP2007101693A (ja) * | 2005-09-30 | 2007-04-19 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版 |
US7728050B2 (en) | 2005-11-04 | 2010-06-01 | Fujifilm Corporation | Curable composition, ink composition, inkjet recording method, printed matter, method for producing planographic printing plate, planographic printing plate and oxetane compound |
JP5364267B2 (ja) | 2005-12-26 | 2013-12-11 | 株式会社カネカ | 硬化性組成物 |
EP1829684B1 (de) | 2006-03-03 | 2011-01-26 | FUJIFILM Corporation | Härtbare Zusammensetzung, Tintenzusammensetzung, Tintenstrahlaufzeichnungsverfahren und Flachdruckplatte |
JP2007241144A (ja) | 2006-03-10 | 2007-09-20 | Fujifilm Corp | 感光性組成物、並びに光記録媒体及びその製造方法、光記録方法、光記録装置 |
JP5171005B2 (ja) | 2006-03-17 | 2013-03-27 | 富士フイルム株式会社 | 高分子化合物およびその製造方法、並びに顔料分散剤 |
JP4698470B2 (ja) | 2006-03-31 | 2011-06-08 | 富士フイルム株式会社 | 光記録媒体の処理方法及び処理装置、並びに光記録再生装置 |
US7767143B2 (en) * | 2006-06-27 | 2010-08-03 | 3M Innovative Properties Company | Colorimetric sensors |
US20080003420A1 (en) * | 2006-06-29 | 2008-01-03 | 3M Innovative Properties Company | Transfer hardcoat films for graphic substrates |
JP5276264B2 (ja) | 2006-07-03 | 2013-08-28 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、平版印刷版の製造方法 |
CN101529293B (zh) * | 2006-10-31 | 2012-02-22 | 株式会社日本触媒 | 柔性光波导及其制备方法以及用于柔性光波导的环氧树脂组合物 |
JP4777226B2 (ja) | 2006-12-07 | 2011-09-21 | 富士フイルム株式会社 | 画像記録材料、及び新規化合物 |
US8771924B2 (en) | 2006-12-26 | 2014-07-08 | Fujifilm Corporation | Polymerizable composition, lithographic printing plate precursor and lithographic printing method |
EP2114349B1 (de) * | 2006-12-28 | 2016-09-14 | 3M Innovative Properties Company | Dentalfüllstoff und verfahren |
TW200838967A (en) | 2007-02-02 | 2008-10-01 | Jsr Corp | Composition for radiation-curable adhesive, composite, and method for producing the composite |
JP2008189776A (ja) | 2007-02-02 | 2008-08-21 | Fujifilm Corp | 活性放射線硬化型重合性組成物、インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の作製方法、及び平版印刷版 |
US8541063B2 (en) | 2007-02-06 | 2013-09-24 | Fujifilm Corporation | Undercoat solution, ink-jet recording method and ink-jet recording device |
JP4881756B2 (ja) | 2007-02-06 | 2012-02-22 | 富士フイルム株式会社 | 感光性組成物、平版印刷版原版、平版印刷方法、及び新規シアニン色素 |
EP1955850B1 (de) | 2007-02-07 | 2011-04-20 | FUJIFILM Corporation | Tintenstrahlaufzeichnungsvorrichtung mit Wartungsvorrichtung für Tintenstrahldruckkopf und Wartungsverfahren für einen Tintenstrahldruckkopf |
JP5227521B2 (ja) | 2007-02-26 | 2013-07-03 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、インクセット |
JP2008208266A (ja) | 2007-02-27 | 2008-09-11 | Fujifilm Corp | インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の製造方法、および平版印刷版 |
JP5224699B2 (ja) | 2007-03-01 | 2013-07-03 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の製造方法、及び平版印刷版 |
JP2008233660A (ja) | 2007-03-22 | 2008-10-02 | Fujifilm Corp | 浸漬型平版印刷版用自動現像装置およびその方法 |
ATE471812T1 (de) | 2007-03-23 | 2010-07-15 | Fujifilm Corp | Negativ-lithografiedruckplattenvorläufer und lithografiedruckverfahren damit |
JP4860525B2 (ja) | 2007-03-27 | 2012-01-25 | 富士フイルム株式会社 | 硬化性組成物及び平版印刷版原版 |
EP1975702B1 (de) | 2007-03-29 | 2013-07-24 | FUJIFILM Corporation | Farbige lichthärtbare Zusammensetzung für eine Festkörperbildaufnahmevorrichtung, Farbfilter und Verfahren zur Herstellung davon, sowie Festkörperbildaufnahmevorrichtung |
JP5030638B2 (ja) | 2007-03-29 | 2012-09-19 | 富士フイルム株式会社 | カラーフィルタ及びその製造方法 |
EP1974914B1 (de) | 2007-03-29 | 2014-02-26 | FUJIFILM Corporation | Verfahren zur Herstellung einer Lithographiedruckplatte |
EP1975710B1 (de) | 2007-03-30 | 2013-10-23 | FUJIFILM Corporation | Plattenherstellungsverfahren eines Lithografiedruckplattenvorläufers |
EP1975706A3 (de) | 2007-03-30 | 2010-03-03 | FUJIFILM Corporation | Lithografiedruckplattenvorläufer |
JP5243072B2 (ja) | 2007-03-30 | 2013-07-24 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、並びに、それを用いた画像記録方法及び画像記録物 |
JP5306681B2 (ja) | 2007-03-30 | 2013-10-02 | 富士フイルム株式会社 | 重合性化合物、重合体、インク組成物、印刷物及びインクジェット記録方法 |
JP5159141B2 (ja) | 2007-03-30 | 2013-03-06 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の作製方法及び平版印刷版 |
US8399592B2 (en) | 2007-04-17 | 2013-03-19 | Kaneka Corporation | Polyhedral polysiloxane modified product and composition using the modified product |
JP5046744B2 (ja) | 2007-05-18 | 2012-10-10 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、及びそれを用いた印刷方法 |
JP5101930B2 (ja) | 2007-06-08 | 2012-12-19 | マブチモーター株式会社 | 多角形状外形の小型モータ |
EP2006738B1 (de) | 2007-06-21 | 2017-09-06 | Fujifilm Corporation | Lithographiedruckplattenvorläufer |
US8426102B2 (en) | 2007-06-22 | 2013-04-23 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor and plate making method |
US20090000727A1 (en) * | 2007-06-29 | 2009-01-01 | Kanta Kumar | Hardcoat layers on release liners |
US20090004478A1 (en) * | 2007-06-29 | 2009-01-01 | 3M Innovative Properties Company | Flexible hardcoat compositions, articles, and methods |
DE602008002963D1 (de) | 2007-07-02 | 2010-11-25 | Fujifilm Corp | Flachdruckplattenvorläufer und Flachdruckverfahren damit |
JP5213375B2 (ja) | 2007-07-13 | 2013-06-19 | 富士フイルム株式会社 | 顔料分散液、硬化性組成物、それを用いるカラーフィルタ及び固体撮像素子 |
DE102007041988A1 (de) * | 2007-09-05 | 2009-03-12 | Forschungszentrum Karlsruhe Gmbh | Flammhemmende Additive |
JP2009069761A (ja) | 2007-09-18 | 2009-04-02 | Fujifilm Corp | 平版印刷版の製版方法 |
JP2009091555A (ja) | 2007-09-18 | 2009-04-30 | Fujifilm Corp | 硬化性組成物、画像形成材料及び平版印刷版原版 |
JP4890403B2 (ja) | 2007-09-27 | 2012-03-07 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
JP5111039B2 (ja) | 2007-09-27 | 2012-12-26 | 富士フイルム株式会社 | 重合性化合物、重合開始剤、および染料を含有する光硬化性組成物 |
JP2009085984A (ja) | 2007-09-27 | 2009-04-23 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版 |
JP2009083106A (ja) | 2007-09-27 | 2009-04-23 | Fujifilm Corp | 平版印刷版用版面保護剤及び平版印刷版の製版方法 |
JP5227560B2 (ja) | 2007-09-28 | 2013-07-03 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成形印刷物の製造方法 |
EP2042928B1 (de) | 2007-09-28 | 2010-07-28 | FUJIFILM Corporation | Negatives lichtempfindliches Material und negativer planographischer Druckplattenvorläufer |
JP5055077B2 (ja) | 2007-09-28 | 2012-10-24 | 富士フイルム株式会社 | 画像形成方法および平版印刷版原版 |
JP4994175B2 (ja) | 2007-09-28 | 2012-08-08 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、及びそれに用いる共重合体の製造方法 |
JP5244518B2 (ja) | 2007-09-28 | 2013-07-24 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法 |
JP4790682B2 (ja) | 2007-09-28 | 2011-10-12 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
EP2042311A1 (de) | 2007-09-28 | 2009-04-01 | FUJIFILM Corporation | Lithographiedruckplattenvorläufer, Verfahren zur Herstellung einer Lithographiedruckplatte und Lithographiedruckverfahren |
JP4898618B2 (ja) | 2007-09-28 | 2012-03-21 | 富士フイルム株式会社 | インクジェット記録方法 |
JP5002399B2 (ja) | 2007-09-28 | 2012-08-15 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版の処理方法 |
JP5265165B2 (ja) | 2007-09-28 | 2013-08-14 | 富士フイルム株式会社 | 塗布装置及びこれを用いるインクジェット記録装置 |
JP4951454B2 (ja) | 2007-09-28 | 2012-06-13 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作成方法 |
JP5322537B2 (ja) | 2007-10-29 | 2013-10-23 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
EP2218519A4 (de) | 2007-11-14 | 2012-03-21 | Fujifilm Corp | Verfahren zum trocknen eines beschichtungsfilms und verfahren zur herstellung eines vorläufers für eine lithographische druckplatte |
US8240838B2 (en) | 2007-11-29 | 2012-08-14 | Fujifilm Corporation | Ink composition for inkjet recording, inkjet recording method, and printed material |
WO2009075233A1 (ja) | 2007-12-10 | 2009-06-18 | Kaneka Corporation | アルカリ現像性を有する硬化性組成物およびそれを用いた絶縁性薄膜および薄膜トランジスタ |
JP2009139852A (ja) | 2007-12-10 | 2009-06-25 | Fujifilm Corp | 平版印刷版の作製方法及び平版印刷版原版 |
US20090155596A1 (en) * | 2007-12-12 | 2009-06-18 | 3M Innovative Properties Company | Nozzle sealing composition and method |
JP5066452B2 (ja) | 2008-01-09 | 2012-11-07 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版用現像処理方法 |
JP2009186997A (ja) | 2008-01-11 | 2009-08-20 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法及び平版印刷版方法 |
JP5155677B2 (ja) | 2008-01-22 | 2013-03-06 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、およびその製版方法 |
JP5371449B2 (ja) | 2008-01-31 | 2013-12-18 | 富士フイルム株式会社 | 樹脂、顔料分散液、着色硬化性組成物、これを用いたカラーフィルタ及びその製造方法 |
JP2009184188A (ja) | 2008-02-05 | 2009-08-20 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版および印刷方法 |
JP5150287B2 (ja) | 2008-02-06 | 2013-02-20 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法及び平版印刷版原版 |
JP5254632B2 (ja) | 2008-02-07 | 2013-08-07 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成形印刷物 |
US20090214797A1 (en) | 2008-02-25 | 2009-08-27 | Fujifilm Corporation | Inkjet ink composition, and inkjet recording method and printed material employing same |
JP5175582B2 (ja) | 2008-03-10 | 2013-04-03 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法 |
JP5448352B2 (ja) | 2008-03-10 | 2014-03-19 | 富士フイルム株式会社 | 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、及び、固体撮像素子 |
JP5583329B2 (ja) | 2008-03-11 | 2014-09-03 | 富士フイルム株式会社 | 顔料組成物、インク組成物、印刷物、インクジェット記録方法、及びポリアリルアミン誘導体 |
WO2009114580A2 (en) * | 2008-03-11 | 2009-09-17 | 3M Innovative Properties Company | Hardcoat composition |
JP2009214428A (ja) | 2008-03-11 | 2009-09-24 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版および平版印刷方法 |
JP5334624B2 (ja) | 2008-03-17 | 2013-11-06 | 富士フイルム株式会社 | 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、及びカラーフィルタの製造方法 |
JP4940174B2 (ja) | 2008-03-21 | 2012-05-30 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版用自動現像装置 |
JP2009229771A (ja) | 2008-03-21 | 2009-10-08 | Fujifilm Corp | 平版印刷版用自動現像方法 |
JP2009236942A (ja) | 2008-03-25 | 2009-10-15 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版及びその製版方法 |
JP5422146B2 (ja) | 2008-03-25 | 2014-02-19 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版作成用処理液および平版印刷版原版の処理方法 |
JP5422134B2 (ja) | 2008-03-25 | 2014-02-19 | 富士フイルム株式会社 | 浸漬型平版印刷版用自動現像方法 |
JP5020871B2 (ja) | 2008-03-25 | 2012-09-05 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の製造方法 |
JP4914862B2 (ja) | 2008-03-26 | 2012-04-11 | 富士フイルム株式会社 | インクジェット記録方法、及び、インクジェット記録装置 |
JP2009236355A (ja) | 2008-03-26 | 2009-10-15 | Fujifilm Corp | 乾燥方法及び装置 |
EP2105298B1 (de) | 2008-03-28 | 2014-03-19 | FUJIFILM Corporation | Negativ arbeitender Lithografiedruckplattenvorläufer und Lithografiedruckverfahren damit |
JP5535444B2 (ja) | 2008-03-28 | 2014-07-02 | 富士フイルム株式会社 | 固体撮像素子用緑色硬化性組成物、固体撮像素子用カラーフィルタ及びその製造方法 |
JP5528677B2 (ja) | 2008-03-31 | 2014-06-25 | 富士フイルム株式会社 | 重合性組成物、固体撮像素子用遮光性カラーフィルタ、固体撮像素子および固体撮像素子用遮光性カラーフィルタの製造方法 |
JP5137662B2 (ja) | 2008-03-31 | 2013-02-06 | 富士フイルム株式会社 | 硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子 |
JP5164640B2 (ja) | 2008-04-02 | 2013-03-21 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
EP2110261B1 (de) | 2008-04-18 | 2018-03-28 | FUJIFILM Corporation | Aluminiumlegierungsplatte für eine lithographische Druckplatte, lithographische Druckplattenträger, Druckplattenvorläufer, Verfahren zur Herstellung einer Aluminiumlegierungsplatte für eine lithographische Druckplatte und Verfahren zur Herstellung eines lithographischen Druckplatteträgers |
KR101441998B1 (ko) | 2008-04-25 | 2014-09-18 | 후지필름 가부시키가이샤 | 중합성 조성물, 차광성 컬러필터, 흑색 경화성 조성물, 고체촬상소자용 차광성 컬러필터와 그 제조 방법, 및 고체촬상소자 |
JP2009265519A (ja) * | 2008-04-28 | 2009-11-12 | Hitachi Cable Ltd | フレキシブル光導波路およびその製造方法 |
JP2010015135A (ja) * | 2008-06-03 | 2010-01-21 | Hitachi Cable Ltd | 光ファイバ固定溝付き光導波路基板およびその製造方法、その製造方法に用いる型、ならびに、その光導波路基板を含む光電気混載モジュール |
JP5106285B2 (ja) | 2008-07-16 | 2012-12-26 | 富士フイルム株式会社 | 光硬化性組成物、インク組成物、及び該インク組成物を用いたインクジェット記録方法 |
JP5296434B2 (ja) | 2008-07-16 | 2013-09-25 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版用原版 |
JP5274151B2 (ja) | 2008-08-21 | 2013-08-28 | 富士フイルム株式会社 | 感光性樹脂組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに、固体撮像素子 |
JP5444933B2 (ja) | 2008-08-29 | 2014-03-19 | 富士フイルム株式会社 | ネガ型平版印刷版原版及びそれを用いる平版印刷方法 |
JP5183380B2 (ja) | 2008-09-09 | 2013-04-17 | 富士フイルム株式会社 | 赤外線レーザ用感光性平版印刷版原版 |
JP5383133B2 (ja) | 2008-09-19 | 2014-01-08 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクジェット記録方法及び印刷物成形体の製造方法 |
JP5408942B2 (ja) | 2008-09-22 | 2014-02-05 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版および製版方法 |
JP5449898B2 (ja) | 2008-09-22 | 2014-03-19 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、及びそれを用いた印刷方法 |
US8151705B2 (en) | 2008-09-24 | 2012-04-10 | Fujifilm Corporation | Method of preparing lithographic printing plate |
JP2010077228A (ja) | 2008-09-25 | 2010-04-08 | Fujifilm Corp | インク組成物、インクジェット記録方法、及び、印刷物 |
ATE541905T1 (de) | 2008-09-26 | 2012-02-15 | Fujifilm Corp | Tintenzusammensetzung und tintenaufzeichnungsverfahren |
JP5461809B2 (ja) | 2008-09-29 | 2014-04-02 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、及び、インクジェット記録方法 |
JP5079653B2 (ja) | 2008-09-29 | 2012-11-21 | 富士フイルム株式会社 | 着色硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子 |
JP5171514B2 (ja) | 2008-09-29 | 2013-03-27 | 富士フイルム株式会社 | 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、及びカラーフィルタの製造方法 |
JP5660268B2 (ja) | 2008-09-30 | 2015-01-28 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、平版印刷版の製版方法及び重合性モノマー |
JP5127651B2 (ja) | 2008-09-30 | 2013-01-23 | 富士フイルム株式会社 | 着色硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子 |
EP2343326B1 (de) | 2008-10-02 | 2018-08-15 | Kaneka Corporation | Lichthärtbare zusammensetzung und gehärtetes produkt |
JP5340102B2 (ja) | 2008-10-03 | 2013-11-13 | 富士フイルム株式会社 | 分散組成物、重合性組成物、遮光性カラーフィルタ、固体撮像素子、液晶表示装置、ウェハレベルレンズ、及び撮像ユニット |
JP2010180330A (ja) | 2009-02-05 | 2010-08-19 | Fujifilm Corp | 非水系インク、インクセット、画像記録方法、画像記録装置、および記録物 |
JP5350827B2 (ja) | 2009-02-09 | 2013-11-27 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、及び、インクジェット記録方法 |
JP2010221692A (ja) | 2009-02-26 | 2010-10-07 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版及びその製版方法 |
JP5349095B2 (ja) | 2009-03-17 | 2013-11-20 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、及び、インクジェット記録方法 |
JP5349097B2 (ja) | 2009-03-19 | 2013-11-20 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成形印刷物の製造方法 |
JP5292156B2 (ja) | 2009-03-30 | 2013-09-18 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及びその製版方法 |
JP2010237435A (ja) | 2009-03-31 | 2010-10-21 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版 |
JP5383289B2 (ja) | 2009-03-31 | 2014-01-08 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクジェット用であるインク組成物、インクジェット記録方法、およびインクジェット法による印刷物 |
JP5583210B2 (ja) | 2009-07-21 | 2014-09-03 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 硬化性組成物、フォトツールをコーティングする方法、及びコーティングされたフォトツール |
KR101768237B1 (ko) | 2009-09-16 | 2017-08-14 | 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 | 플루오르화된 코팅 및 그로 제조된 포토툴 |
EP2478033A1 (de) | 2009-09-16 | 2012-07-25 | 3M Innovative Properties Company | Fluorierte beschichtungen und damit hergestellte fotowerkzeuge |
US8420281B2 (en) * | 2009-09-16 | 2013-04-16 | 3M Innovative Properties Company | Epoxy-functionalized perfluoropolyether polyurethanes |
JP5572026B2 (ja) | 2009-09-18 | 2014-08-13 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、及び、インクジェット記録方法 |
EP2481603A4 (de) | 2009-09-24 | 2015-11-18 | Fujifilm Corp | Lithografische originaldruckplatte |
JP2011073211A (ja) | 2009-09-29 | 2011-04-14 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版の製造方法 |
JP5530141B2 (ja) | 2009-09-29 | 2014-06-25 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物及びインクジェット記録方法 |
KR101592960B1 (ko) | 2009-10-01 | 2016-02-12 | 히타치가세이가부시끼가이샤 | 유기 일렉트로닉스용 재료, 유기 일렉트로닉스 소자, 유기 일렉트로 루미네센스 소자, 및 그것을 사용한 표시 소자, 조명 장치, 표시 장치 |
JP2011148292A (ja) | 2009-12-25 | 2011-08-04 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版及びその製版方法 |
JP5322963B2 (ja) | 2010-01-29 | 2013-10-23 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法 |
JP5537980B2 (ja) | 2010-02-12 | 2014-07-02 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及びその製版方法 |
US8828648B2 (en) | 2010-02-17 | 2014-09-09 | Fujifilm Corporation | Method for producing a planographic printing plate |
CN102812402B (zh) | 2010-03-19 | 2015-08-05 | 富士胶片株式会社 | 着色感光性组合物、平版印刷版原版和制版方法 |
US20130137040A1 (en) | 2010-03-26 | 2013-05-30 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor and method of producing thereof |
CN102821969B (zh) | 2010-03-26 | 2014-12-03 | 富士胶片株式会社 | 平版印刷版原版及其制造方法 |
JP5791874B2 (ja) | 2010-03-31 | 2015-10-07 | 富士フイルム株式会社 | 着色組成物、インクジェット用インク、カラーフィルタ及びその製造方法、固体撮像素子、並びに表示装置 |
EP2555054B1 (de) | 2010-03-31 | 2018-06-20 | FUJIFILM Corporation | Verfahren zur herstellung einer lithographischen druckplatte und druckverfahren |
CN102859740B (zh) * | 2010-04-22 | 2016-06-15 | 日立化成株式会社 | 有机电子材料、聚合引发剂及热聚合引发剂、油墨组合物、有机薄膜及其制造方法、有机电子元件、有机电致发光元件、照明装置、显示元件以及显示装置 |
JP5622564B2 (ja) | 2010-06-30 | 2014-11-12 | 富士フイルム株式会社 | 感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン形成方法、パターン膜、低屈折率膜、光学デバイス、及び、固体撮像素子 |
EP2610067B1 (de) | 2010-08-27 | 2014-11-26 | FUJIFILM Corporation | Master-flachdruckplatte für entwicklung auf der druckpresse und plattenherstellungsverfahren unter verwendung dieser master-flachdruckplatte |
JP5789448B2 (ja) | 2010-08-31 | 2015-10-07 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及びその製版方法 |
JP5656784B2 (ja) | 2010-09-24 | 2015-01-21 | 富士フイルム株式会社 | 重合性組成物及びそれを用いた平版印刷版原版、並びに平版印刷方法 |
JP5286350B2 (ja) | 2010-12-28 | 2013-09-11 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、その製版方法、及び、その平版印刷方法 |
JP5205505B2 (ja) | 2010-12-28 | 2013-06-05 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及びその平版印刷方法 |
JP5244987B2 (ja) | 2011-02-28 | 2013-07-24 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及びその製版方法 |
WO2012117882A1 (ja) | 2011-02-28 | 2012-09-07 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法 |
JP5417364B2 (ja) | 2011-03-08 | 2014-02-12 | 富士フイルム株式会社 | 固体撮像素子用硬化性組成物、並びに、これを用いた感光層、永久パターン、ウエハレベルレンズ、固体撮像素子、及び、パターン形成方法 |
US8785517B2 (en) | 2011-05-25 | 2014-07-22 | 3M Innovative Properties Company | Pressure-sensitive adhesives with onium-epdxy crosslinking system |
JP5651538B2 (ja) | 2011-05-31 | 2015-01-14 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及びその製版方法 |
EP2723812B1 (de) | 2011-06-23 | 2016-04-13 | 3M Innovative Properties Company | Druckempfindliche kleber mit einem onium-epoxidharzvernetzersystem |
EP2749947B8 (de) | 2011-08-22 | 2016-06-01 | FUJIFILM Corporation | Lithografiedruckplattenvorläufer und verfahren zur herstellung von lithografiedruckplatten |
JP5432960B2 (ja) | 2011-08-24 | 2014-03-05 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法 |
JP5514781B2 (ja) | 2011-08-31 | 2014-06-04 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及びこれを用いた平版印刷版の作成方法 |
JP5602195B2 (ja) | 2011-09-27 | 2014-10-08 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法 |
JP5690696B2 (ja) | 2011-09-28 | 2015-03-25 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の製版方法 |
JP5740275B2 (ja) | 2011-09-30 | 2015-06-24 | 富士フイルム株式会社 | 機上現像型の平版印刷版原版を用いる印刷方法 |
CN103890045A (zh) | 2011-10-19 | 2014-06-25 | 3M创新有限公司 | 硬涂层组合物 |
JP5922013B2 (ja) | 2011-12-28 | 2016-05-24 | 富士フイルム株式会社 | 光学部材セット及びこれを用いた固体撮像素子 |
JP5976523B2 (ja) | 2011-12-28 | 2016-08-23 | 富士フイルム株式会社 | 光学部材セット及びこれを用いた固体撮像素子 |
SG11201404548QA (en) | 2012-02-03 | 2014-08-28 | 3M Innovative Properties Co | Primer compositions for optical films |
EP2818522B1 (de) | 2012-02-23 | 2018-11-21 | FUJIFILM Corporation | Chromogene zusammensetzung, chromogene härtbare zusammensetzung, lithografiedruckplattenvorläufer, plattenherstellungsverfahren und chromogene verbindung |
JP5490168B2 (ja) | 2012-03-23 | 2014-05-14 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法 |
JP5579217B2 (ja) | 2012-03-27 | 2014-08-27 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
EP2644664B1 (de) | 2012-03-29 | 2015-07-29 | Fujifilm Corporation | Durch aktinische Strahlung härtbare Tintenzusammensetzung, Tintenstrahlaufzeichnungsverfahren, Dekorfolie, Dekorfolienformprodukt, Verfahren zur Herstellung eines In-Mold-Formartikels sowie In-Mold-Formartikel |
JP5512730B2 (ja) | 2012-03-30 | 2014-06-04 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法 |
EP2851386B1 (de) | 2012-05-18 | 2017-08-16 | Cmet Inc. | Harzzusammensetzung für optische stereolithografie |
JP6081458B2 (ja) | 2012-06-29 | 2017-02-15 | 富士フイルム株式会社 | 現像処理廃液濃縮方法及び現像処理廃液のリサイクル方法 |
JP5699112B2 (ja) | 2012-07-27 | 2015-04-08 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及びその製版方法 |
JP5786098B2 (ja) | 2012-09-20 | 2015-09-30 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及び製版方法 |
WO2014050435A1 (ja) | 2012-09-26 | 2014-04-03 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及び製版方法 |
JP5786099B2 (ja) | 2012-09-26 | 2015-09-30 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及び平版印刷版の製版方法 |
KR102047349B1 (ko) | 2012-12-07 | 2019-11-21 | 디에스피 고쿄 후도 & 케미카루 가부시키가이샤 | 신규한 술포늄염 화합물, 그 제조 방법 및 광산발생제 |
JP2014129475A (ja) * | 2012-12-28 | 2014-07-10 | Kyoritsu Kagaku Sangyo Kk | 熱カチオン重合性組成物 |
EP2940090A4 (de) | 2012-12-28 | 2016-01-06 | Fujifilm Corp | Härtbare harzzusammensetzung zur herstellung eines infrarot-reflektierenden films, infrarot-reflektierender film und herstellungsverfahren dafür, infrarot-kantenfilter und festkörperbildgebungselement damit |
JP6343446B2 (ja) | 2012-12-28 | 2018-06-13 | 富士フイルム株式会社 | 硬化性樹脂組成物、赤外線カットフィルタ及びこれを用いた固体撮像素子 |
EP2963495B1 (de) | 2013-02-27 | 2019-06-05 | FUJIFILM Corporation | Infrarotempfindliche chromogene zusammensetzung, infrarothärtbare chromogene zusammensetzung, lithografiedruckplattenvorläufer und plattenherstellungsverfahren |
JP5980702B2 (ja) | 2013-03-07 | 2016-08-31 | 富士フイルム株式会社 | インクジェットインク組成物、インクジェット記録方法、及び、成型印刷物の製造方法 |
EP2966942A4 (de) | 2013-03-08 | 2016-12-07 | Hitachi Chemical Co Ltd | Behandlungslösung mit ionischer verbindung, organisches elektronisches element und verfahren zur herstellung eines organischen elektronischen elements |
WO2014164000A1 (en) | 2013-03-13 | 2014-10-09 | 3M Innovative Properties Company | Adhesives comprising epoxy-acid crosslinked groups and methods |
JP5939644B2 (ja) | 2013-08-30 | 2016-06-22 | 富士フイルム株式会社 | 画像形成方法、インモールド成型品の製造方法、及び、インクセット |
US10219880B2 (en) | 2013-10-04 | 2019-03-05 | 3M Innovative Properties Company | Dental mill blank |
EP3489026B1 (de) | 2014-02-04 | 2023-05-24 | FUJIFILM Corporation | Flachdruckplattenvorläufer |
CN106459300B (zh) | 2014-04-24 | 2020-01-10 | 3M创新有限公司 | 包含可裂解交联剂的组合物及其制备方法 |
WO2016036701A1 (en) | 2014-09-05 | 2016-03-10 | 3M Innovative Properties Company | Heat conformable curable adhesive films |
CN107001673A (zh) | 2014-12-30 | 2017-08-01 | 埃西勒国际通用光学公司 | 用溅射涂层改善粘附性的组合物和方法 |
WO2016108061A1 (en) | 2014-12-30 | 2016-07-07 | Essilor International (Compagnie Generale D'optique) | Uv curable coating compositions for improved abrasion resistance |
US11198795B2 (en) | 2015-02-17 | 2021-12-14 | The Walman Optical Company | Glycidyl ether based optical coating compositions |
WO2016140950A1 (en) | 2015-03-05 | 2016-09-09 | 3M Innovative Properties Company | Composite material having ceramic fibers |
US9856394B2 (en) | 2015-03-19 | 2018-01-02 | Mark Alan Litman | Dye-tintable, abrasion resistant coating for ophthalmic lenses and method of application |
JP6422598B2 (ja) | 2015-04-16 | 2018-11-14 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | チオール−エポキシマトリックスを有する量子ドット物品 |
JP6469887B2 (ja) | 2015-04-16 | 2019-02-13 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | チオール−アルケン−エポキシマトリックスを有する量子ドット物品 |
US10836960B2 (en) | 2015-09-15 | 2020-11-17 | 3M Innovative Properties Company | Additive stabilized composite nanoparticles |
US10829687B2 (en) | 2015-09-15 | 2020-11-10 | 3M Innovative Properties Company | Additive stabilized composite nanoparticles |
US10768528B2 (en) | 2015-09-28 | 2020-09-08 | 3M Innovative Properties Company | Patterned film article comprising cleavable crosslinker and methods |
EP3374181A1 (de) | 2015-11-11 | 2018-09-19 | 3M Innovative Properties Company | Mehrschichtige konstruktion mit barriereschicht und versiegelungsschicht |
KR20180084089A (ko) | 2015-11-18 | 2018-07-24 | 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 캄파니 | 나노입자를 위한 공중합체성 안정화 담체 유체 |
US10899961B2 (en) | 2016-02-17 | 2021-01-26 | 3M Innovative Properties Company | Quantum dots with stabilizing fluorochemical copolymers |
US10829686B2 (en) | 2016-04-01 | 2020-11-10 | 3M Innovative Properties Company | Quantum dots with stabilizing fluorochemical agents |
WO2017200824A1 (en) | 2016-05-20 | 2017-11-23 | 3M Innovative Properties Company | Quantum dots with mixed amine and thiol ligands |
WO2018005285A1 (en) | 2016-06-29 | 2018-01-04 | 3M Innovative Properties Company | Compound, adhesive article, and methods of making the same |
CN109415603A (zh) | 2016-06-29 | 2019-03-01 | 3M创新有限公司 | 粘合剂制品及其制备方法 |
WO2018017514A1 (en) | 2016-07-20 | 2018-01-25 | 3M Innovative Properties Company | Stabilizing styrenic polymer for quantum dots |
US11149194B2 (en) | 2016-07-20 | 2021-10-19 | 3M Innovative Properties Company | Stabilizing styrenic polymer for quantum dots |
EP3510115A1 (de) | 2016-09-08 | 2019-07-17 | 3M Innovative Properties Company | Haftartikel und verfahren zur herstellung davon |
CN110268333A (zh) | 2017-02-28 | 2019-09-20 | 富士胶片株式会社 | 平版印刷版的制作方法 |
TW201842164A (zh) | 2017-03-14 | 2018-12-01 | 美商3M新設資產公司 | 經添加劑穩定之複合奈米粒子 |
CN110997816B (zh) | 2017-07-31 | 2022-08-23 | 美国陶氏有机硅公司 | 双重可固化有机硅组合物 |
US11168223B2 (en) | 2017-09-28 | 2021-11-09 | Sdc Technologies, Inc. | Photochromic article |
US20210332269A1 (en) | 2018-12-19 | 2021-10-28 | 3M Innovative Properties Company | Release layers and articles containing them |
EP3725820B1 (de) | 2019-04-16 | 2022-04-06 | Henkel AG & Co. KGaA | Verwendung von funktionalisierten alpha-angelica-lactonen |
EP3798246B1 (de) | 2019-09-27 | 2024-01-31 | Henkel AG & Co. KGaA | Einkomponentige (1k) zusammensetzung auf basis von modifiziertem epoxidharz |
EP3831863B1 (de) | 2019-12-04 | 2023-07-05 | Henkel AG & Co. KGaA | Einkomponentige (1k) zusammensetzung auf der basis von epoxidharz |
EP3831862B1 (de) | 2019-12-04 | 2023-06-28 | Henkel AG & Co. KGaA | Einkomponentige (1k) zusammensetzung auf basis von epoxidharz |
MX2022006809A (es) | 2019-12-05 | 2022-07-11 | Ppg Ind Ohio Inc | Composiciones curables. |
WO2021124156A1 (en) | 2019-12-20 | 2021-06-24 | 3M Innovative Properties Company | Method of pattern coating adhesive composition comprising unpolymerized cyclic olefin and latent catalyst, adhesive compositions and articles |
US20230014501A1 (en) | 2019-12-20 | 2023-01-19 | 3M Innovative Properties Company | Adhesive article comprising polymer and polymerizable cyclic olefins, adhesive compositions and methods |
EP3916033A1 (de) | 2020-05-28 | 2021-12-01 | Henkel AG & Co. KGaA | Einkomponentige (1k) zusammensetzung auf basis von epoxidharz |
EP3919943A1 (de) | 2020-06-03 | 2021-12-08 | Essilor International | Härtbare beschichtungszusammensetzung |
WO2022081271A1 (en) | 2020-10-13 | 2022-04-21 | Cabot Corporation | Conductive photo-curable compositions for additive manufacturing |
EP4012000A1 (de) | 2020-12-11 | 2022-06-15 | Bostik SA | Lichthärtbare klebstoffzusammensetzung |
EP4050060A1 (de) | 2021-02-26 | 2022-08-31 | Henkel AG & Co. KGaA | Photohärtbare klebe- oder dichtungsmasse |
EP4050061A1 (de) | 2021-02-26 | 2022-08-31 | Henkel AG & Co. KGaA | Im nahinfrarotbereich (nir) sensibilisierte kleb- und dichtstoffzusammensetzungen |
KR102627683B1 (ko) | 2021-08-31 | 2024-01-23 | 후지필름 가부시키가이샤 | 경화물의 제조 방법, 적층체의 제조 방법, 및, 반도체 디바이스의 제조 방법, 및, 처리액 |
WO2023091407A1 (en) | 2021-11-16 | 2023-05-25 | 3M Innovative Properties Company | Release composition, articles prepared from the release composition, and related methods |
EP4183807A1 (de) | 2021-11-18 | 2023-05-24 | Henkel AG & Co. KGaA | Copolymer und heissschmelzzusammensetzungen mit diesem copolymer |
WO2023111715A1 (en) | 2021-12-16 | 2023-06-22 | 3M Innovative Properties Company | Compositions comprising cleavable crosslinkers |
EP4332144A1 (de) | 2022-09-05 | 2024-03-06 | Henkel AG & Co. KGaA | Einkomponentige (1k) härtbare klebstoffzusammensetzung |
WO2024074908A1 (en) | 2022-10-03 | 2024-04-11 | 3M Innovative Properties Company | Adhesive composition comprising polar (meth)acrylate monomer and epoxy resin, articles and methods |
WO2024074909A1 (en) | 2022-10-07 | 2024-04-11 | 3M Innovative Properties Company | Articles comprising cyclic olefin, catalyst, and second polymerizable material, methods and compositions |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3708296A (en) * | 1968-08-20 | 1973-01-02 | American Can Co | Photopolymerization of epoxy monomers |
DE2237823A1 (de) * | 1971-08-02 | 1973-02-15 | Eastman Kodak Co | Photographisches aufzeichnungsmaterial |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3373221A (en) * | 1964-11-04 | 1968-03-12 | Shell Oil Co | Reaction products of unsaturated esters of polyepoxides and unsaturated carboxylic acids, and polyisocyanates |
US3567453A (en) * | 1967-12-26 | 1971-03-02 | Eastman Kodak Co | Light sensitive compositions for photoresists and lithography |
US3637572A (en) * | 1969-05-26 | 1972-01-25 | Hitachi Ltd | Epoxy resins with organoboron cure promotors |
US3660354A (en) * | 1969-08-13 | 1972-05-02 | Gen Tire & Rubber Co | Quaternary ammonium and phosphonium thiocyanates and their use as accelerators for epoxy resins |
US3711390A (en) * | 1971-05-18 | 1973-01-16 | J Feinberg | Photopolymerizable epoxy systems containing substituted cyclic amides or substituted ureas as gelation inhibitors |
US3816280A (en) * | 1971-05-18 | 1974-06-11 | American Can Co | Photopolymerizable epoxy systems containing cyclic amide gelation inhibitors |
JPS509183B1 (de) * | 1971-07-02 | 1975-04-10 | ||
US3729313A (en) * | 1971-12-06 | 1973-04-24 | Minnesota Mining & Mfg | Novel photosensitive systems comprising diaryliodonium compounds and their use |
NL7300007A (de) * | 1973-01-02 | 1974-07-04 | ||
US3826280A (en) * | 1973-02-16 | 1974-07-30 | Us Army | Quick-acting, self-resetting fluid pressure release valve assembly |
US3979355A (en) * | 1974-02-13 | 1976-09-07 | Westinghouse Electric Corporation | Arsonium latent catalysts for curing epoxy resins |
-
1975
- 1975-04-16 GB GB500/78A patent/GB1512982A/en not_active Expired
- 1975-04-16 GB GB15705/75A patent/GB1512981A/en not_active Expired
- 1975-04-26 DE DE2518656A patent/DE2518656C3/de not_active Expired
- 1975-04-26 DE DE2559846A patent/DE2559846C2/de not_active Expired
- 1975-04-30 FR FR7513521A patent/FR2269553B1/fr not_active Expired
- 1975-05-01 JP JP50052112A patent/JPS5214279B2/ja not_active Expired
- 1975-05-02 BE BE156011A patent/BE828668A/xx not_active IP Right Cessation
- 1975-12-09 US US05/638,994 patent/US4069055A/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3708296A (en) * | 1968-08-20 | 1973-01-02 | American Can Co | Photopolymerization of epoxy monomers |
DE2237823A1 (de) * | 1971-08-02 | 1973-02-15 | Eastman Kodak Co | Photographisches aufzeichnungsmaterial |
Non-Patent Citations (7)
Title |
---|
Anal.Chem., 35, 1963, 1912 * |
Chem.Ber., 106, 1973, 3 882 * |
J.Chem.Soc., Chem.Commun., 1972, 469 * |
J.Chem.Soc., Dalton Trans., 1973, 743 * |
J.Med.Chem., 12, 1969, 1081 * |
Samaan, S.: Metallorganische Verbindungen, As, Sb, Bi, Stuttgart 1978, S. 624 * |
Z: Naturforsch., T. B 26, 1971, 184 * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB1512982A (en) | 1978-06-01 |
US4069055A (en) | 1978-01-17 |
FR2269553B1 (de) | 1978-09-08 |
DE2518656C3 (de) | 1979-06-07 |
JPS5214279B2 (de) | 1977-04-20 |
DE2518656A1 (de) | 1975-11-06 |
BE828668A (fr) | 1975-09-01 |
FR2269553A1 (de) | 1975-11-28 |
DE2518656B2 (de) | 1978-10-12 |
GB1512981A (en) | 1978-06-01 |
JPS50158698A (de) | 1975-12-22 |
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