DE2833648A1 - Photohaertbare zusammensetzungen und haertungsverfahren - Google Patents
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- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 60
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 11
- -1 hexafluoroarsenate Chemical group 0.000 claims description 22
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 12
- 125000005409 triarylsulfonium group Chemical group 0.000 claims description 12
- 239000011368 organic material Substances 0.000 claims description 11
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims description 6
- RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1CO1 RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims description 6
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 6
- 229920006305 unsaturated polyester Polymers 0.000 claims description 6
- WLOQLWBIJZDHET-UHFFFAOYSA-N triphenylsulfonium Chemical group C1=CC=CC=C1[S+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 WLOQLWBIJZDHET-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 4
- 229910052755 nonmetal Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 4
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 3
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 2
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 claims 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 claims 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 claims 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 17
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 14
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 9
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 9
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 9
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 8
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 5
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 5
- NZNQMPZXPUKVSQ-UHFFFAOYSA-N [O].C1CO1 Chemical compound [O].C1CO1 NZNQMPZXPUKVSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 4
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 4
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- KUBDPQJOLOUJRM-UHFFFAOYSA-N 2-(chloromethyl)oxirane;4-[2-(4-hydroxyphenyl)propan-2-yl]phenol Chemical compound ClCC1CO1.C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 KUBDPQJOLOUJRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LCFVJGUPQDGYKZ-UHFFFAOYSA-N Bisphenol A diglycidyl ether Chemical compound C=1C=C(OCC2OC2)C=CC=1C(C)(C)C(C=C1)=CC=C1OCC1CO1 LCFVJGUPQDGYKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- DZZAHLOABNWIFA-UHFFFAOYSA-N 2-butoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCCCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 DZZAHLOABNWIFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YXALYBMHAYZKAP-UHFFFAOYSA-N 7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-ylmethyl 7-oxabicyclo[4.1.0]heptane-4-carboxylate Chemical compound C1CC2OC2CC1C(=O)OCC1CC2OC2CC1 YXALYBMHAYZKAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 2
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PBOSTUDLECTMNL-UHFFFAOYSA-N lauryl acrylate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)C=C PBOSTUDLECTMNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- 150000002843 nonmetals Chemical class 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- ZFEAYIKULRXTAR-UHFFFAOYSA-M triphenylsulfanium;chloride Chemical compound [Cl-].C1=CC=CC=C1[S+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 ZFEAYIKULRXTAR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000012953 triphenylsulfonium Substances 0.000 description 2
- YJTKZCDBKVTVBY-UHFFFAOYSA-N 1,3-Diphenylbenzene Chemical group C1=CC=CC=C1C1=CC=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1 YJTKZCDBKVTVBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VUBUXALTYMBEQO-UHFFFAOYSA-N 2,2,3,3,3-pentafluoro-1-phenylpropan-1-one Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(=O)C1=CC=CC=C1 VUBUXALTYMBEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZSLUVFAKFWKJRC-IGMARMGPSA-N 232Th Chemical compound [232Th] ZSLUVFAKFWKJRC-IGMARMGPSA-N 0.000 description 1
- OECTYKWYRCHAKR-UHFFFAOYSA-N 4-vinylcyclohexene dioxide Chemical compound C1OC1C1CC2OC2CC1 OECTYKWYRCHAKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N Acetaminophen Chemical compound CC(=O)NC1=CC=C(O)C=C1 RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 1
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006222 Berchtold homologation reaction Methods 0.000 description 1
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052781 Neptunium Inorganic materials 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052777 Praseodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052776 Thorium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052770 Uranium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000004 White lead Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052768 actinide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001255 actinides Chemical class 0.000 description 1
- 239000004964 aerogel Substances 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000005428 anthryl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C([H])=C3C(*)=C([H])C([H])=C([H])C3=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000410 antimony oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010425 asbestos Substances 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- IRERQBUNZFJFGC-UHFFFAOYSA-L azure blue Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[Al+3].[Al+3].[Al+3].[Al+3].[Al+3].[Al+3].[S-]S[S-].[O-][Si]([O-])([O-])[O-].[O-][Si]([O-])([O-])[O-].[O-][Si]([O-])([O-])[O-].[O-][Si]([O-])([O-])[O-].[O-][Si]([O-])([O-])[O-].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] IRERQBUNZFJFGC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000440 bentonite Substances 0.000 description 1
- 229910000278 bentonite Inorganic materials 0.000 description 1
- SVPXDRXYRYOSEX-UHFFFAOYSA-N bentoquatam Chemical compound O.O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O SVPXDRXYRYOSEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce] ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 1
- 229910052570 clay Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- LDLDYFCCDKENPD-UHFFFAOYSA-N ethenylcyclohexane Chemical compound C=CC1CCCCC1 LDLDYFCCDKENPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052602 gypsum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010440 gypsum Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052747 lanthanoid Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002602 lanthanoids Chemical class 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000006224 matting agent Substances 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 1
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N neodymium atom Chemical compound [Nd] QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFNLGNPSGWYGGD-UHFFFAOYSA-N neptunium atom Chemical compound [Np] LFNLGNPSGWYGGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N oxoantimony Chemical compound [Sb]=O VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- PUDIUYLPXJFUGB-UHFFFAOYSA-N praseodymium atom Chemical compound [Pr] PUDIUYLPXJFUGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 239000005297 pyrex Substances 0.000 description 1
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002910 rare earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052895 riebeckite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229910052706 scandium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003573 thiols Chemical class 0.000 description 1
- 239000013008 thixotropic agent Substances 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 1
- 235000013799 ultramarine blue Nutrition 0.000 description 1
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 1
- DNYWZCXLKNTFFI-UHFFFAOYSA-N uranium Chemical compound [U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U] DNYWZCXLKNTFFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920006163 vinyl copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005023 xylyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G59/00—Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
- C08G59/18—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
- C08G59/68—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the catalysts used
- C08G59/687—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the catalysts used containing sulfur
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
- C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
- C08F2/50—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
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Description
Photohärtbare Zusammensetzungen 'und Hartungsverfahren
Die Erfindung bezieht sich auf härtbare Zusammensetzungen, insbesondere
mittels UV-Licht härtbari Zusammensetzungen, sowie ein Verfahren zum Härten dieser Zusammensetzungen, wobei dieses Verfahren
auf der gleichzeitigen Erzeugung freier Radikale und eines kationischen Härtungskatalysators beruht. Mehr im besonderen
bezieht sich die vorliegende Erfindung auf die Verwendung eines Triarylsulfoniumsalzes als Photoinitiator für diu gleichzeitig
ablaufende Härtung eines Ä'thylenoxid-haltigen aliphatisch ungesättigten organischen Materials mittels freier Radikale und
nach einem kationischen Mechanismus.
In den DE-OS 2 518 749 und 2 518 652 ist die Verwendung von Triarylsulfoniumsalzen
der Formel
beschrieben, worin R ein einwertiger aromatischer Rest ist, M ein Metall oder Nichtmetall ist, Q für einen Halogenrest steht und
d einen typischen Wert von 4-6 hat und diese Salze als Initiatoren der Polymerisation verschiedener kationisch polymerisierbarer
organischer Materialien eingesetzt sind.
In der am gleichen Tage eingereichten deutschen Patentanmeldung, für die die Priorität der/Serial Nr. 822 220 vom 5.August 1977
beansprucht ist, ist die Verwendung von Triarylsulfoniumsalzen der Formel (1) als Photoinitiatoren für die Härtung aliphatisch
ungesättigter organischer Harze mittels freier Radikale besehrieben.
Beispiele für die Harze sind Acrylharze und gewisse ungesättigte Polyestermischungen, die frei von Äthylenoxidsauerstoff
sind. -Je US-Patentanmeldung
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In der US-PS 3 028 361 ist die Verwendung von Sulfoniumsalzen
als Stabilisatoren für mittels freier Radikale polymerisierbarer Zusammensetzungen, wie einer Polyestermonomer-Zusammensetzung
beschrieben. Nach dieser US-PS kann die Härtung der vorgenannten Polyester-Zusammensetzung mittels eines Initiators für freie
Radikale3 wie einem Peroxid, z. B. Benzoylperoxid,bewirkt werden.
Obwohl die Härtung solcher aliphatisch ungesättigter organischer Materialien, sei es mittels freier Radikale oder sei es über einen
kationischen Mechanismus die Brauchbarkeit des als Ausgangsmaterials eingesetzten aliphatisch ungesättigten organischen Materials
verbessert, haben doch überzüge aus solchen Materialien auf verschiedenen Substraten häufig nicht die Lösungsmittelbeständigkeit,
die in gewissen Anwendungen erforderlich ist. Es wäre daher erwünscht, eine Technik zu entwickeln, mit der organische
Überzüge, die durch Härtung aufgebrachten aliphatisch ungesättigten
Materials gebildet werden, dahingehend verbessert werden können, daß sie Eigenschaften aufweisen, die bisher nicht
erzielbar waren.
Die vorliegende Erfindung beruht auf der Peststellung, daß Äthylenoxid-haltige
aliphatisch ungesättigte organische Materialien gleichzeitig mittels freier Radikale und einem kationischen Mechanismus
gehärtet werden können, wodurch in dem Endprodukt verbesserte Eigenschaften, wie Lösungsmittelbeständigkeit, erzielt
werden. Die gleichzeitige Härtung von Äthylenoxid-haltigen aliphatisch ungesättigten organischen Materialien mittels freier
Radikale und eines kationischen Mechanismus kann nach der vorliegenden Erfindung dadurch bewirkt werden, daß eine wirksame
Menge des Triarylsulfoniumsalzes der Formel (1) in solche Äthylenoxid-haltigen aliphatisch ungesättigten organischen Materialien
eingearbeitet und die dabei erhaltene photohärtbare Mischung Strahlungsenergie und vorzugsweise UV-Licht ausgesetzt wird.
Durch die vorliegende Erfindung werden photohärtbare Zusammensetzungen
aus
äthylenoxidhaltigem
(A) aliphatisch ungesättigtem organischen Material
(B) 0,1 - 15 Gew.-% von (A) eines Triarylsulfoniumsalzes der
909807/00^1
- 5 Formel (1) geschaffen.
Beispiele für Reste, die für R in Formel (1) stehen können, sind aromatische Kohlenwasserstoffreste mit 6-13 Kohlenstoffatomen,
wie Phenyl, Tolyl, Naphthyl, Xylyl, Anthryl usw. Beispiele von
Metallen oder Nichtmetallen, die für M in der obigen Formel
stehen können, sind Übergangsmetalle, wie Sb, Fe, Sn, Bi, Al,
Ga, In, Ti, Zr, Sc, V, Cr, Mn, Cs, Seltene Erdmetalle, wie die Lanthaniden, z. B. Cer, Praseodym, Neodym usw. Aktiniden, wie
_LJSW.
Thorium, Protactinium,Uran, Neptunium /"und Nichtmetalle, wie
Bor, Phosphor, Arsen usw.
Beispiele für Triarylsulfoniumsalze der Formel (1) sind die folgenden:
ci /3
1 +
C(CH3)
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Die Triphenylsulfonium der Formel (1) können nach Verfahren hergestellt werden, die in folgenden Druckschriften
beschrieben sind:
dem Artikel von J.W. Knapczyk und <W.E. McEwen in J. Am-. Chem.
Society 90,145 (1969), dem Artikel von A. L. Mycock und G. A.
Berchtold in Journal Organic Chemical Society _3j5, 2532 (1970);
der US-PS 2 807 648, dem Artikel von E Goethals und P. De
Radzetzky in BuI. Soc. Chim. BeIg. 73,546 (1964) und dem Artikel
von J. M. Leicester und P. W. Bergstrom in Journal American Chemical Society 51 (1929) usw.
Eine Härtung von Äthylenoxid-haltigen oder aliphatisch ungesättigten
Polyestern, die chemisch gebundenen Äthylenoxidsauerstoff
enthalten in Kombination mit vinylaromatischen Verbindungeny5der solcher
Harze mit oder ohne chemisch gebundenen Äthylenoxidsauerstoff mit Verbindungen wie Glycidyl-acrylat, Glycidylmethacrylat, Bisphenol-A-diglycidylather,
4-Vinylcyclohexandioxid, 3j4-Epoxycyclohexyl-313
4'-epoxycyclohexancarboxylat, Diglycidylphthalat, Cyclohexenoxid, 1, 4-Butandioldigly cidy lather, C^-C50 <*. -Olefinoxiden,
Epoxynovolackharzen, wie den von der Dow Chemical Company. Midland, Michigan unter den Handelsbezeichnungen DEN 431, DEN
und DEN 439 vertriebenen Harzen mittels freier Radikale kann über die Verwendung von Triarylsulfoniumsalzen der Formel (1) ebenfalls
bewirkt werden.
Zusätzlich zu den obigen Verbindungen können Äthylenoxid-haltige polymere Materialien, die endständige oder seitenständige Epoxygruppen
enthalten auch mit den oben beschriebenen Acrylharzen oder ungesättigten Polyester-Zusammensetzungen vermengt werden.
Beispiele dieser Materialien sind Vinylcopolymere, die Glycidylacrylat
oder Methacrylat als eines der Comonomeren enthalten.
Andere Klassen von epoxyhaltigen Monomeren, die unter Verwendung der obigen Triarylsulfoniumsalze der Formel (1) über freie Radikale
gehärtet werden können, sind Epoxysiloxanharze, Epoxypolyurethane und Epoxypolyester. Solche Polymeren haben üblicherweise
funktioneile Epoxygruppen an den Enden ihrer Ketten. Epoxysiloxanharze und ein Verfahren zu deren Herstellung sind mehr
im einzelnen von E.P. Plueddemann und G. Fanger in Journal
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American Chemical Society JBl1, 632-635 (1959) beschrieben. Epoxyharze
können wie in der Literatur beschrieben, in einer Reihe von Standardweisen modifiziert werden, so durch Umsetzung von
Aminen, Karbonsäuren, Thiolen, Phe'nolen, Alkoholen usw. } wie in
den US-PS 2 935 488; 3 235 620; 3 369 055; 3 379 653; 3 398 211;
3 403 199; 3 563 85O; 3 567 797; 3 677 995 usw. beschrieben.
Weitere Beispiele von Epoxyharzen, die verwendet werden können, finden sich in der Encyclopädia of Polymer Science and Technology
6_, 209-271 (1976) von Interscience Publishers, New York.
In die oben beschriebenen organischen Harze können 100 Teile Füllstoff
pro 100 Teile des· organischen Harzes und andere Materialien eingearbeitet werden, wie Mattierungsmittel, thixotrope Mittel,
Farbstoffe und Pigmente, wie Baryte, Bariumsulfat, Gips, Kalziumcarbonat, Quarz, Diatomeensiliziumdioxid, synthetisches Siliziumdioxid,
Ton, Talk, Asbest, Glimmer, Bentonit, Aerogele, Glasfasern basisches Karbonat, Bleiweiß,Antimonoxid, Lithophone,
Titandioxid, Ultramarinblau, Aluminiumpulver usw.
Die Härtung der photohärtbaren Zusammensetzungen der vorliegenden Erfindung kann entweder durch Erhitzen der Zusammensetzung auf
eine Temperatur im Bereich von 150 - 250 C oder mittels Strahlungsenergie,
wie einem Elektronenstrahl oder ÜV-Licht erfolgen. Die Elektronenstrahlhärtung kann mit einer Beschleunigerspannung
von etwa 100 - 1000 KV bewirkt werden. Die Härtung der Zusammensetzungen erfolgt vorzugsweise durch UV-Bestrahlung mit einer
Wellenlänge von 1849 - 4000 S und einer Intensität von mindestens
5OOO - 80 000 Mikrowatt/cm . Das Lampensystem zur Erzeugung einer solchen Strahlung kann aus UV-Lampen bestehen, wie 1 - 50
Entladungslampen, ζ. B. Xenon-Metallhalogenid-Metallbogenlampen,
wie Nieder-.Mittel-oder Hochdruckquecksilberdampfentladungslampen
usw. mit einem Betriebsdruck von wenigen mm bis zu etwa 10 Atmosphären.
Die Lampen können Kolben aufweisen, die Licht mit einer Wellenlänge von etwa 1849 - 4000 8 und vorzugsweise von 2400 4000
A durchlassen» Der Lampenkolben kann aus Quarz bestehen, wie Spektrocil oder Pyrex. Spezifische Lampen, die zur Erzeugung
der UV-Strahlüng eingesetzt werden können, sind z. B. die Queck-
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silberbogenlampen mittleren Druckes, wie die GE-H3T7- und die
Hanovia 450 Watt-Lampen. Für die Härtung kann eine Kombination
verschiedener Lampen eingesetzt werden, von denen einige oder
alle in einer inerten Atmosphäre arbeiten können. Benutzt man UV-Lampen, dann kann die Bestrahlungsdichte auf dem Substrat
mindestens O5Ol Watt/6,^5 cm betragen, um die Härtung des organischen
Harzes innerhalb von 1-20 Sekunden zu bewirken und eine kontinuierliche Härtung zu ermöglichen.
Im folgenden wird die Erfindung anhand von Beispielen näher erläutert,
in denen alle angegebenen Teile bzw. Prozente Gew.-Teile bzw. Gew.-? sind.
Es wurden zwei Lösungen zubereitet, von denen die erste aus Glycidylacrylat bestand, das 1 % Triphenylsulfoniumchlorid als
Photoinitiator enthielt. Die zweite Lösung bestand aus Glycidylacrylat mit 1 % Triphenylsulfoniumhexafluorantimonat als Photoinitiator.
Beide Lösungen wurden bis zu einer Dicke von 0,025 nun auf Stahlplatten
ausgebreitet und aus einem Abstand von etwa 10 cm für 30 Sekunden mit einer GE-H3T7~Lampe bestrahlt. Danach waren die
Überzüge auf beiden Platten trocken und hart.
Beide Proben wurden dann in Methyläthylketon eingetaucht. Die mit
Triphenylsulfoniumchlorid gehärtete Probe wurde nach 1 Minute herausgenommen, während die mit Triphenylsulfoniumhexafluorophosphat
gehärtete Probe auch nach 15-minütigem Eintauchen noch unverändert geblieben war.
Diese Ergebnisse demonstrieren die hervorragende Lösungsmittelbeständigkeit
von mit Triphenylsulfoniumhexafluorophosphat gehärteten Filmen, wobei dieses zuletzt genannte Salz in der Lage
ist, gleichzeitig eine Härtung über freie Radikale als auch über einen kationischen Mechanismus einzuleiten.
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Eine Mischung von 66 % eines aliphatischen ungesättigten Polyesters
in Form eines Reaktionsproduktes von Isophthalsäure,
Fumarsäure und Diäthylenglycol, ~$tf % Styrol und etwa 2 %, bezogen
auf die Mischung^von Triphenylsulfoniumhexafluoroarsenat
wurde auf eine Stahlplatte aufgebracht und durch einminütiges Bestrahlen mit einer GE-H3T7-Lampe gehärtet.
Das gleiche Verfahren wurde mit einer anderen Mischung wiederholt,
die aus 33 % aliphatisch ungesättigtem Polyester, 17 % Styrol und 50 % Bisphenol-A-diglycidylather (Shell Epon 828) bestand.
Diese zweite Mischung enthielt ebenfalls 2 % des Triphenyl&ulfoniumhexafluoroarsenates,
Nach dem Härten wurden die beiden Platten in 50 #ige wäßrige
Natriumhydroxidlösung eingetaucht. Nach einer Stunde bei 95 0C
erwies sich die zuerst genannte Mischung, die keinen Äthylenoxidsauerstoff enthielt, als vollkommen abgebaut. Die zweite
Mischung mit Epoxyharz erwies sich jedoch als im wesentlichen unverändert. Diese Ergebnisse zeigen, daß die durch das erfindungsgemäße
Verfahren gleichzeitig bewirkte Härtung über freie Radikale und einen kationischen Mechanismus zu Produkten führen,
die eine hervorragende Hydrolysebeständigkeit aufweisen.
Ein Abbau durch Hydrolyse trat auch dann auf, wenn in der ersten Mischung dieses Beispiels anstelle des Triphenylsulfoniumsalzes
Benzoinbutylather eingesetzt wurde.
Eine photohärtbare Zusammensetzung C wurde zubereitet durch Vermischen
von 98 Teilen Trimethylolpropantriacrylat und zwei Teilen
Benzoinbutyläther. Eine Zusammensetzung D wurde zubereitet durch Vermischen von 98 Teilen Trimethylolpropantriacrylat und zwei
Teilen Triphenylsulfoniumhexafluoroantimonat. Und schließlich wurde eine Zusammensetzung E gebildet durch Vermischen von 49
Teilen Trimethylolpropantriacrylat, 49 Teilen Bisphenol-A-diglycidy
lather und zwei Teilen Triphenylsulfoniumhexafluoroantimonat,
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Die drei vorgenannten fotohärtbaren Mischungen wurden dann jeweils
bis zu einer Dicke von etwa 0,05 mm auf Stahlplatten aufgetragen. Die überzogenen Stahlplatten wurden dann nach dem in
Beispiel 1 beschriebenen Verfahren gehärtet. Die Mischungen C und D benötigten 5 Minuten bis zur Bildung eines klebrigkeitsfreien
Films, während die Mischung E bereits nach 30 Sekunden Bestrahlung gehärtet war. Die drei überzogenen Stahlplatten
wurden dann in eine 50 %ige wäßrige Natriumhydroxidlösung bei 95 0C eingetaucht. Es wurde festgestellt, daß nach 30 Minuten die überzüge aus den Mischungen C und D durch Hydrolyse entfernt waren, während der überzug aus der Mischung E im wesentlichen intakt geblieben war.
wurden dann in eine 50 %ige wäßrige Natriumhydroxidlösung bei 95 0C eingetaucht. Es wurde festgestellt, daß nach 30 Minuten die überzüge aus den Mischungen C und D durch Hydrolyse entfernt waren, während der überzug aus der Mischung E im wesentlichen intakt geblieben war.
Die vorstehenden Ergebnisse zeigen, daß die durch gleichzeitige Härtung mittels freier Radikale und kationischem Mechanismus
erhaltenen überzüge nach der vorliegenden Erfindung rascher
härten und einer Hydrolyse durch Alkali bei erhöhten Temperaturen besser widerstehen.
erhaltenen überzüge nach der vorliegenden Erfindung rascher
härten und einer Hydrolyse durch Alkali bei erhöhten Temperaturen besser widerstehen.
Es wurde eine Reihe von fotohärtbaren Mischungen hergestellt, indem man jeweils 2 %, bezogen auf die Mischung, von Triphenylsulfoniumhexafluoroantimonat
als Fotoinitiator einsetzte. Die erste Mischung bestand aus Laurylacrylat, die zweite aus 3,4-Epoxycyclohexylmethyl-3',4'-epoxycyclohexancarboxylat,
und eine dritte Mischung bestand aus 78 % des 3,4-Epoxycyclohexylmethyl-3',4'-epoxycyclohexancarboxylats
und etwa 20 % Laurylacrylat.
Die obigen drei Mischungen wurden jeweils bis zu einer Dicke von etwa 0,05 mm auf Glasplatten aufgebracht und, wie oben beschrieben,
unter UV-Strahlung 1 Minute gehärtet. Danach wurden die
überzogenen Glasplatten in Wasser eingetaucht, um das Ablösen der klebrigkeitsfreien Filme zu bewirken.
überzogenen Glasplatten in Wasser eingetaucht, um das Ablösen der klebrigkeitsfreien Filme zu bewirken.
Der aus der ersten Mischung erhaltene Film war sehr weich und außerordentlich zerstörungsanfällig. Der aus der zweiten Mischung
erhaltene Film war hart, brüchig und starr und brach leicht, wenn
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man versuchte, ihn bis zu einem Winkel von 45 zu biegen. Der aus der dritten Mischung erhaltene Film war zäh und flexibel
und konnte leicht um 180° geboten werden, ohne zu brechen.
Diese Ergebnisse zeigen, daß nach der vorliegenden Erfindung zähe flexible Filme hergestellt werden können, was nach den bekannten
Verfahren nicht möglich war.
Es wurde eine Reihe von fotohärtbaren Mischungen zubereitet, die jeweils etwa 3 % Triphenylsulfoniumhexafluoroantimonat enthielten.
In allen Mischungen wurde auch Trimethylolpropantriacrylat
eingesetzt, das in einigen Mischungen weiter mit einem äthylenoxidsauerstoffhaltigen Material vermengt wurde. Die verschiedenen
Mischungen" wurden dann auf ein Glassubstrat bis zu einer Dicke von 0,05 mm aufgebracht und der Bestrahlung durch
GE-H3T7-Lampe aus einer Entfernung von etwa 20 cm ausgesetzt, um die Zeit zu bestimmen, die erforderlich ist, die fotohärtbare
Zusammensetzung in einen gehärteten klebrigkeitsfreien Film umzuwandeln.
Es wurden die in der folgenden Tabelle zusammengefaßten Ergebnisse
erhalten, in der TMT für Trimethylolpropantriacrylat,
"Initiator" für Triphenylsulfoniumhexafluoroantimonat, VCD für 4-Vinylcyclohexendioxid und "EPON 828" für Bisphenol-A-diglycidyläther
steht.
Mischung | Gewichts-% | Härtungszeit |
TMT Initiator |
97% 3% |
5 min. |
TMT VCD Initiator |
87% 10% 3% |
3,5 min. |
TMT
VCD Initiator |
73% 24% 3% |
30 see. |
TMT
EPON 828 Initiator |
73% 24% 3% |
30 sec. |
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Die obigen Ergebnisse zeigen, daß Mischungen aus Acrylat und dem
Triphenylsulfonium-Initiator, die eine geringe Menye äthylenoxidhaltigen
Materials enthalten, in einer relativ kurzen Zeit in Luft gehärtet werden können. Eine mögliche Erklärung hierfür
ist, daß das äthylenoxidhaltige Material die Wirkung der Sauerste rf-Inhibierung beseitigt, da die kationische Polymerisation
dor durch freie Radikale bewirkten Polymerisation vorausgeht.
Zusätzlich zu den Triarylsulfoniumsalzen der Formel (1) können in den fotohärtbaren Zusammensetzungen der vorliegenden Erfindung
auch Triarylsulfoniumsalze der Formel
(2) [(R) (R1 ) Sj [MQ-]'
eingesetzt werden, worin R ausgewählt ist aus aromatischen Kohlenwasserstoffresten
mit 6 bis 13 Kohlenstoffatomen und heterozyklischen Resten und den substituierten Derivaten der vorgenannten
Reste, R ein zweiwertiger aromatischer Kohlenwasserstoffrest, ein zweiwertiger heterozyklischer Rest oder ein substituiertes
Derivat der vorgenannten Reste istr a den Wert 1
oder 3, b den Wert 0 oder 1 hat, S eine Valenz von 3 hat, die
oder 1
entweder durch R alleinIdurch eine Kombination von R und R
abgesättigt werden kann, und M, Q und d die im Zusammenhang mit der Formel (1) gegebenen Bedeutungen haben.
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Claims (1)
- PatentansprüchePhotohärtbare Zusammensetzungen mit einem Äthylenoxid-haltigen aliphatisch ungesättigten organischen Material und einer wirksamen Menge eines durch Strahlung aktivierbaren Salzes, dadurch gekennzeichnet, daß dasdurch Strahlung härtbare Salz ein Triarylsulfoniumsalz der folgenden Formel ist:worin R ausgewählt ist aus aromatischen Kohlenwasserstoffresten mit 6-I3 Kohlenstoffatomen, heterocyclischen Resten und deren substituierten Derivaten, R ein zweiwertiger aromatischer Kohlenwasserstoffrest, ein zweiwertiger heterocyclischer Rest oder ein substituiertes Derivat der vorgenannten Reste ist, a einen Wert von 1 oder 3, b einen Wert von 0 oder 1 hat, S eine Valenz von 3 hat, die entweder durch R allein oder eine Kombination von R und R abgesättigt werden kann, M ein Metall oder Nichtmetall ist, Q für einen Halogenrest steht und d einen Wert von k - 6 einschließlich hat.2. Photohärtbare Zusammensetzung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß das Triarylsulfoniumsalz ein Triphenylsulfoniumsalz ist.909807/0921ORIGlNAtINSPECTED3- Photohärtbare Zusammensetzung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet , daß das Triphenylsulfonium ■-salz eil Hexafluorarsenat ist.l\. Photohärtbare Zusammensetzung nach Anspruch I3 dadurch gekennzeichnet , daß das Äthylenoxid-haltige aliphatisch ungesättigte organische Material Glycidylacrylat ist.5· Photohärtbare Zusammens' fcsurig nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet 3 daß das Äthylenoxid-haltige aliphatisch ungesättigte Material eine Mischung eines Epoxyharzes mit einem aliphatisch ungesättigten organischen Materials ist.6. Photohärtbare Zusammensetzung nach Anspruch I3 dadurch gekennzeichnet ·, daß das Äthylenoxid-haltige aliphatisch ungesättigte Material eine Mischung eines Epoxyharzes, eines ungesättigten Polyesters und von Styrol ist.7. Photohärtbare Zusammensetzung nach Anspruch I3 dadurch gekennzeichnet 3 daß das Äthylenoxid-haltige aliphatisch ungesättigte Material ein Glycidylacrylat ist.8. Photohärtbare Zusammensetzung nach Anspruch I3 dadurch gekennzeichnet , daß das Äthylenoxid-haltige aliphatisch ungesättigte Material eine Mischung eines Epoxyharzes, von Methylmethacrylat und Polymethylmethacrylat ist.9. Verfahren zum Härten einer Zusammensetzung nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 - 83 mittels UV-Licht, dadurch gekennzei chnet, daß man(a) die Bestandteile der Zusammensetzung miteinander vermischt(b) die Mischung UV-Licht aussetzt.9 09807/0921
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US82215277A | 1977-08-05 | 1977-08-05 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2833648A1 true DE2833648A1 (de) | 1979-02-15 |
Family
ID=25235309
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19782833648 Withdrawn DE2833648A1 (de) | 1977-08-05 | 1978-08-01 | Photohaertbare zusammensetzungen und haertungsverfahren |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
JP (2) | JPS5495686A (de) |
BE (1) | BE869409A (de) |
CA (1) | CA1120180A (de) |
DE (1) | DE2833648A1 (de) |
FR (1) | FR2399443A1 (de) |
GB (1) | GB1604954A (de) |
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OD | Request for examination | ||
8130 | Withdrawal |