DE2639395C2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- DE2639395C2 DE2639395C2 DE2639395A DE2639395A DE2639395C2 DE 2639395 C2 DE2639395 C2 DE 2639395C2 DE 2639395 A DE2639395 A DE 2639395A DE 2639395 A DE2639395 A DE 2639395A DE 2639395 C2 DE2639395 C2 DE 2639395C2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- aromatic
- groups
- atoms
- radicals
- hydroxyl
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
- G03F7/0385—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable using epoxidised novolak resin
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G59/00—Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
- C08G59/18—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
- C08G59/40—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the curing agents used
- C08G59/62—Alcohols or phenols
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G59/00—Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
- C08G59/18—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
- C08G59/68—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the catalysts used
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/114—Initiator containing
- Y10S430/115—Cationic or anionic
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/114—Initiator containing
- Y10S430/122—Sulfur compound containing
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/114—Initiator containing
- Y10S430/126—Halogen compound containing
Description
Die Erfindung betrifft die in den Patentansprüchen aufgeführten
Gegenstände.
Die Erfindung betrifft somit photopolymerisierbare Massen, die bei
der Belichtung mit aktinischer Strahlung oder Elektronenstrahlen
aushärten. Die Massen bestehen aus
- a) einem ersten organischen Material mit einer Epoxidfunktionalität von mehr als etwa 1,5, dessen Substituenten keine aktiven Wasserstoffatome enthalten;
- b) einem zweiten organischen Material mit einer Hydroxylfunktionalität von mindestens 1, das frei ist von anderen aktiven Wasserstoffatomen und von Epoxidgruppen;
- c) einem aromatischen Jodonium-Komplexsalz und/oder aromatischen Sulfonium- Komplexsalz als Photoinitiator und
- d) gegebenenfalls herkömmlichen nicht-basischen Füllstoffen, Viskositätsreglern, Kautschuken, Klebrigkeitsverbesserern, Pigmenten, inerten Lösungsmitteln.
Die Erfindung betrifft ferner die photopolymerisierbaren Massen, die darüber hinaus einen Sensibilisator
für den Photoinitiator enthalten. Die photocopolymerisierbaren
Massen der Erfindung vermeiden die Nachteile entsprechender
bekannter Massen. Beispielsweise sind sie stabile Einpackungssysteme
mit langer Gebrauchsdauer, die unter Strahlungseinwirkung
selbst bei Raumtemperatur oder darunter härten. Falls die
Massen mehr Epoxidäquivalente enthalten als Äquivalente an
hydroxylhaltigem Material, besitzen die gehärteten Massen ausgezeichnete
Zähigkeit, Abriebsbeständigkeit, Haftung auf Metall,
Glas, Kunststoff, Holz und anderen Oberflächen sowie Chemikalienbeständigkeit.
Falls das Epoxid einen relativ geringen Gewichtsanteil
der Masse ausmacht und das hydroxylhaltige Material
polyfunktional ist, hängen die Eigenschaften der gehärteten
Masse in erster Linie von den Eigenschaften des hydroxylhaltigen
Materials ab. Auch flüssige hydroxylhaltige organische
Materialien können mit flüssigen Epoxiden kombiniert werden,
wobei lösungsmittelfreie Beschichtungsmassen mit niedriger
Viskosität und ausgezeichneter thermischer Stabilität entstehen.
Diese Massen können dennoch schnell gehärtet werden, ohne
flüchtige Bestandteile freizusetzen, wobei zähe flexible Überzüge
mit ausgezeichneten Eigenschaften entstehen. Bei Verwendung
dieser lösungsmittelfreien flüssigen Massen werden die
Probleme und Nachteile lösungsmittelhaltiger Beschichtungsmassen
vermieden und der Energieverbrauch sowie die Umweltbelastung
minimal gehalten. Die Massen der Erfindung eignen sich für verschiedene
Anwendungsbereiche, z. B. als strahlungshärtbare Farbbindemittel,
Binder für Schleifmittel, Anstrichmittel, Klebstoffe,
Beschichtungsmassen für Lithographie- und Reliefdruckplatten
und als Schutzüberzüge für Metalle, Holz etc.
Durch Auswahl eines geeigneten hydroxylhaltigen organischen Materials
als Comonomer für das Epoxid erhält man eine lagerstabile,
photopolymerisierbare Masse, die sich durch Bestrahlen
mit Licht oder Elektronenstrahlen leicht zu einer gehärteten
Masse mit ausgezeichneten physikalischen Eigenschaften aushärten
läßt.
Geeignete epoxyhaltige Materialien sind organische Verbindungen
mit einem Oxiranring
die durch Ringöffnung polymerisierbar sind. Derartige Materialien
werden allgemein als Epoxide bezeichnet; sie umfasen monomere
und polymere Epoxide, die aliphatischer, cycloaliphatischer,
aromatischer oder heterocyclischer Natur sein können.
Diese Materialien weisen im Durchschnitt mindestens 1,5 polymerisierbare
Epoxygruppen pro Molekül auf, vorzugsweise 2 oder
mehr Epoxygruppen pro Molekül. Zu den polymeren Epoxiden zählen
z. B. lineare Polymere mit Epoxy-Endgruppen, z. B. Diglycidyläther
von Polyoxyalkylenglykolen, Polymere mit Gerüst-Oxiraneinheiten,
z. B. Polybutdien-polyepoxid, und Polymere mit
Epoxy-Seitengruppen, z. B. Glycidylmethacrylat-Polymerisate oder
-copolymerisate. Die Epoxide können als reine Verbindungen vorliegen;
üblicherweise sind sie jedoch Gemische, die ein, zwei
oder mehrere Epoxygruppen pro Molekül enthalten. Die durchschnittliche
Anzahl von Epoxygruppen pro Molekül wird dadurch
ermittelt, daß man die Gesamtanzahl der Epoxygruppen im epoxyhaltigen
Material durch die Gesamtzahl der vorhandenen Epoxymoleküle
dividiert.
Als epoxyhaltige Materialien eignen sich sowohl niedermolekulare
Monomere als auch hochmolekulare Polymere, die in der
Art des chemischen Gerüsts und der Substituenten große Unterschiede
aufweisen können. Das Gerüst und die Substituenten
können von beliebiger Art sein, allerdings dürfen letztere kein
aktives Wasserstoffatom enthalten, das mit Oxiranringen bei
Raumtemperatur reagieren kann. Beispiele für geeignete Substituenten
sind Halogenatome, Ester-, Äther-, Sulfonat-, Siloxan-,
Nitro- und Phosphatgruppen. Das Molekulargewicht des
epoxyhaltigen Materials kann z. B. 58 bis etwa 100 000 oder
höher betragen. Die Massen der Erfindung können auch Gemische
aus verschiedenen epoxyhaltigen Materialien enthalten.
Brauchbare epoxyhaltige Materialien sind z. B. Cyclohexenoxid-
Gruppen enthaltende Materialien, z. B. Epoxycyclohexancarboxylate,
wie 3,4-Epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexancarboxylat,
3,4-Epoxy-2-methylcyclohexylmethyl-3,4-epoxy-2-methylcyclohexancarbo-xylat
und Bis-(3,4-epoxy-6-methylcyclohexylmethyl)-adipat.
Weitere Epoxide dieser Art sind in der
US-PS 31 17 099 beschrieben.
Weitere geeignete epoxyhaltige Materialien sind Glycidyläthermonomere
der Formel
in der R′ ein Alkylrest oder Arylrest und n eine ganze Zahl
von 1 bis 6 ist. Beispiele hierfür sind die Glycidyläther von
mehrwertigen Phenolen, die durch Umsetzen eines mehrwertigen
Phenols mit überschüssigem Chlorhydrin, wie Epichlorhydrin,
erhalten werden, z. B. der Diglycidyläther von 2,2-Bis-(2,3-epoxypropoxyphenol)-
propan. Weitere Epoxide dieser Art sind in
der US-PS 30 18 262 und bei Lee und Neville, "Handbook of
Epoxy Resins", McGraw-Hill Book Co., New York (1967), beschrieben.
Im Rahmen der Erfindung können auch zahllose handelsübliche
epoxyhaltige Materialien eingesetzt werden. Hierzu zählen z. B.
leicht verfügbare Epoxide, wie Octadecylenoxid, Epichlorhydrin,
Styroloxid, Vinylcyclohexenoxid, Glycidol, Glycidylmethacrylat,
Diglycidyläther von Bisphenol A (z. B.
"DER-332" und "DER-334" der Dow Chemical Co.),
Bis-(3,4-epoxy-6-methylcyclohexylmethyl)-
adipat, Bis-(2,3-epoxy-cyclopentyl)-äther, aliphatische,
mit Polypropylenglykol modifizierte Epoxyverbindungen,
Dipentendioxid, epoxydiertes Polybutadien, Silikonharze mit
Epoxyfunktionalität, flammwidrige Epoxyharze, 1,4-Butandioldiglycidyläther
von Phenol-Formaldehyd-Novolak (z. B. "DEN-432"
und "DEN-438" der Dow Chemical Co.) und Resorcin-diglycidyläther.
Weitere Beispiele für epoxyhaltige Materialien, die sich für
die erfindungsgemäße Verwendung eignen, sind in Tabelle I
aufgeführt.
Im folgenden werden für die in Tabelle I aufgeführten epoxyhaltigen
Materialien die Abkürzungen verwendet.
Weitere geeignete epoxyhaltige Materialien sind Copolymerisate
von Acrylsäure-Glycidestern, wie Glycidylacrylat und Glycidylmethacrylat,
mit einer oder mehreren copolymerisierbaren Vinylverbindungen,
z. B. 1 : 1-Styrol-Glycidylmethacrylat, 1 : 1-Methylmethacrylat-
Glycidylacrylat und 62,5 : 24 : 13,5-Methylmethacrylat-
Äthylacrylat-Glycidylmethacrylat.
Ferner eignen sich als epoxyhaltige Materialien bekannte Epoxide,
z. B. Epichlorhydrine, wie Epichlorhydrin, Alkylenoxide, wie
Propylenoxid und Styroloxid, Alkenyloxide, wie Butadienoxid,
und Glycidylester, wie Glycidäthylester.
Das erfindungsgemäß verwendete hydroxylhaltige Material ist ein
flüssiges oder festes organisches Material mit einer Hydroxylfunktionalität
von mindestens 1, vorzugsweise mindestens 2, das frei von Epoxidgruppen ist.
Auch das hydroxylhaltige organische Material ist frei von anderen
aktiven Wasserstoffatomen. Der Ausdruck "aktives Wasserstoffatom"
entspricht hierbei der üblichen Definition; vgl.
Zerewitinoff, J. Am. Chem. Soc., Bd. 49, S. 3181 (1927). Das
hydroxylhaltige Material ist darüber hinaus im wesentlichen
frei von Gruppen, die thermisch oder photolytisch instabil sind.
Mit anderen Worten: es erfolgt keine Zersetzung oder Freisetzung
flüchtiger Bestandteile bei Temperaturen unterhalb etwa
100°C oder in Gegenwart von aktinischer Strahlung bzw. Elektronenstrahlen
während der Aushärtung.
Bevorzugte organische Materialien enthalten zwei oder mehrere
primäre oder sekundäre aliphatische Hydroxylgruppen (d. h. Hydroxylgruppen,
die direkt an ein nicht-aromatisches Kohlenstoffatom
gebunden sind). Die Hydroxylgruppen können Endgruppen
oder Seitengruppen eines Polymerisats oder Copolymerisats
sein. Das mittlere Molekulargewicht (Zahlenmittel) des hydroxylhaltigen
organischen Materials kann von sehr niedrigen Werten
(z. B. 62) bis zu sehr hohen Werten (z. B. 1 000 000 oder
mehr) reichen. Das Äquivalentgewicht (Zahlenmittel) des hydroxylhaltigen
Materials liegt vorzugsweise im Bereich von etwa
31 bis 5000. Materialien mit höheren Äquivalentgewichten neigen
gewöhnlich zu einer Verringerung der Geschwindingkeit und
des Ausmaßes der Copolymerisation.
Beispiele für geeignete organische Materialien mit einer Hydroxylfunktionalität
von 1 sind Alkanole, Monoalkyläther von Polyoxyalkylenglykolen
und Monoalkyläther von Alkylenglykolen.
Spezielle Beispiele für geeignete monomere organische Polyhydroxyverbindungen
sind Alkylenglykole, wie 1,2-Äthandiol,
1,3-Propandiol, 1,4-Butandiol, 2-Äthyl-1,6-hexandiol, Bis-
(hydroxymethyl)-cyclohexan, 1,18-Dihydroxyoctadecan und
3-Chlor-1,2-propandiol, Polyhydroxyalkane, wie Glycerin, Trimethyloläthan,
Pentaerythrit und Sorbit, und andere Polyhydroxyverbindungen,
wie N,N-Bis-(hydroxyäthyl)-benzamid, 2-Butin-
1,4-diol, 4,4′-Bis-(hydroxymethyl)-diphenylsulfon und Ricinusöl.
Beispiele für geeignete polymere hydroxyhaltige Materialien
sind Polyoxyäthylen- und Polyoxypropylenglykole und -triole
mit Molekulargewichten von etwa 200 bis 10 000, was Äquivalentgewichten
von 100 bis 5000 für die Diole bzw. 70 bis 3300 für
die Triole entspricht, Polytetramethylenglykole von unterschiedlichem
Molekulargewicht, Copolymerisate von Hydroxypropyl-
und Hydroxyläthylacrylaten bzw. -methacrylaten mit anderen
radikalische polymerisierbaren Monomeren, wie Acrylsäureestern,
Vinylhalogeniden oder Styrol, Copolymerisate mit Hydroxyl-
Seitengruppen, die durch vollständige oder teilweise Hydrolyse
von Vinylacetat-Copolymerisaten erhalten worden sind, Polyvinylacetalharze
mit Hydroxyl-Seitengruppen, modifizierte Cellulosepolymere,
wie hydroxyäthylierte und hydroxypropylierte
Cellulose, sowie Polyester, Polylactone und Polyalkadiene mit
Hydroxyl-Endgruppen.
Als handelsübliche hydroxylhaltige Materialien eignen sich z. B.
die "Polymeg"-Produkte der Quaker Cats Company (Polytetramethylenätherglykole)
wie Polymeg 1000 und 2000; die
"PEP"-Produkte der Wyandotte Chemicals Corporation (Polyoxyalkylentetrole
mit sekundären Hydroxylgruppen), wie Pep 450,
550 und 650; die "Butvar®"-Produkte der Monsanto Chemical Company
(Polyvinylacetalharze), wie Butvar® B-72A und B-90
und "Formvar®" R 7/70, 12/85, 7/958, 7/95E, 15/95S und
15/95E; die "PCP"-Produkte der Union Carbide (Polycaprolactonpolyole),
wie PCP 0200, 0210, 0230, 0240 und 0300; "Paraplex®
U-148" von Röhm und Haas (aliphatisches Polyesterdiol), die
"Multron"-Produkte der Mobay Chemical Co. (gesättigte Polyesterpolyole),
wie Multron R-2, R-12A, R-16, R-18, R-38,
R-68 und R-74.
Weitere Beispiele für hydroxylhaltige Materialien, die sich
für die erfindungsgemäße Verwendung eignen, sind in Tabelle
II aufgeführt.
Im folgenden werden für die in Tabelle II aufgeführten hydroxylhaltigen
Materialien die Abkürzungen verwendet.
Die Menge des in den Massen der Erfindung enthaltenen hydroxylhaltigen
organischen Materials kann innerhalb weiter Grenzen
schwanken; sie richtet sich z. B. nach der Verträglichkeit des
hydroxylhaltigen Materials mit dem Epoxid, dem Äquivalentgewicht
und der Funktionalität des hydroxylhaltigen Materials,
den gewünschten physikalischen Eigenschaften der gehärteten Masse
und der gewünschten Härtungsgeschwindigkeit. Im allgemeinen
zeigt das gehärtete Produkt bei erhöhten Mengen an hydroxylhaltigem
Material eine verbesserte Schlagfestigkeit, Haftung
auf Substraten und Biegsamkeit sowie eine verminderte
Schrumpfung während des Härtungsvorgangs, während gleichzeitig
die Härte, Zugfestigkeit und Lösungsmittelbeständigkeit graduell
abnehmen.
Obwohl die erfindungsgemäßen Massen sowohl monofunktionelle als
auch polyfunktionelle hydroxylhaltige Materialien enthalten
können, sind für die meisten Anwendungsbereiche polyfunktionelle
hydroxylhaltige Materialien bevorzugt. Monofunktionelle
hydroxylhaltige Materialien eignen sich insbesondere zur Herstellung
lösungsmittelfreier Beschichtungsmassen mit niedriger
Viskosität. Bei Verwendung hydroxylhaltiger organischer Materialien,
deren Funktionalität beträchtlich unterhalb 2 liegt
(z. B. 1 bis 1,5), kann es bei Mengen von mehr als etwa 0,2 Hydroxyläquivalenten
pro Epoxyäquivalent zur Bildung gehärteter
Massen kommen, die geringe innere Festigkeit, Zugfestigkeit
und Lösungsmittelbeständigkeit besitzen und daher für manche
Anwendungsbereiche ungeeignet sind. Diese Tendenz tritt mit zunehmendem
Äquivalentgewicht des hydroxylhaltigen Materials eher
in Erscheinung. Bei Verwendung monofunktioneller Hydroxylmaterialien
beträgt daher das Äquivalentgewicht vorzugsweise nicht
mehr als etwa 250.
Im Falle von polyfunktionellen hydroxylhaltigen Materialien
richtet sich die eingesetzte Menge nach den gewünschten Eigenschaften
des gehärteten Produkts. Das Verhältnis von Hydroxyläquivalenten
zu Epoxidäquivalenten kann z. B. etwa 0,001 : 1 bis
10 : 1 betragen. In Anwendungsbereichen, bei denen in erster
Linie eine Flexibilisierung von Epoxyharzen beabsichtigt ist
(z. B. bei Schutzüberzügen auf Metallen) ermöglichen niedrige
Verhältnisse von bis zu 0,001 : 1 ausgezeichnete Ergebnisse. In
Anwendungsbereichen, bei denen das Epoxid in erster Linie zum
Unlöslichmachen eines filmbildenden thermoplastischen organischen
Polyhydroxymaterials dient (z. B. bei Überzügen auf Druckplatten)
können Verhältnisse von Hydroxyläquivalenten zu Epoxidäquivalenten
von bis zu 10 : 1 angewandt werden. Im allgemeinen
verleihen höhere Hydroxyl-Äquivalentgewichte der gehärteten
Masse eine höhere Zähigkeit und Flexibilität.
Gegebenenfalls können Gemische von hydroxylhaltigen Materialien
verwendet werden, z. B. Gemische aus zwei oder mehreren polyfunktionellen
Hydroxylmaterialien oder Gemische aus einem oder
mehreren monofunktionellen Hydroxylmaterialien mit polyfunktionellen
Hydroxylmaterialien.
Die in den Massen der Erfindung verwendeten Photoinitiatoren
unterteilen sich in zwei Arten, nämlich in aromatische Jodonium-
Komplexsalze und aromatische Sulfonium-Komplexsalze. Die
aromatischen Jodonium-Komplexsalze haben die allgemeine Formel I
in der Ar¹ und Ar² aromatische Gruppen mit 4 bis 20 Kohlenstoffatomen
aus der Reihe der Phenyl-, Thienyl-, Furanyl- und
Pyrazolylgruppen bedeuten, Z ein Sauerstoff- oder Schwefelatom,
eine C-C-Bindung oder eine der folgenden Gruppen ist:
(wobei R ein Arylrest mit z. B. 6 bis 20
C-Atomen, wie die Phenylgruppe, oder ein Acylrest mit z. B. 2
bis 20 C-Atomen, wie Acetyl- oder Benzoylgruppe, ist) oder
(wobei R₁ und R₂ Wasserstoffatome, Alkylreste mit 1
bis 4-C-Atomen oder Alkenylreste mit 2 bis 4 C-Atomen sind),
n den Wert 0 oder 1 hat und X⁻ ein halogenhaltiges Komplexanion
aus der Reihe der Tetrafluoroborat-, Hexafluorophosphat-,
Hexafluoroarsenat- und Hexafluoroantimonat-Anionen darstellt.
Die aromatischen Jodoniumkationen sind stabil und bereits bekannt:
vgl. zum Beispiel US-PS 35 65 906, 37 12 920, 37 59 989 und
37 63 187; F. Beringer et al., Diaryliodonium Salts IX, J. Am.
Chem. Soc., Bd. 81, S. 342-51 (1959), F. Beringer et al.,
Diaryliodonium Salts XXIII, J. Chem. Soc. (1964), S. 442-51, und
F. Beringer et al., Jodonium Salts Containing Heterocyclic
Iodine, J. Org. Chem. Bd. 30, S. 1141-8 (1965).
Spezielle Beispiele für die Reste Ar¹ und Ar² sind aromatische
Gruppen mit 4 bis 20 C-Atomen aus der Reihe der Phenyl-,
Thienyl-, Furanyl- und Pyrazolylgruppen. Diese aromatischen
Gruppen können gegebenenfalls einen oder mehrere ankondensierte
Benzolringe aufweisen, wie z. B. die Naphthyl-, Benzothienyl-,
Dibenzothienyl-, Benzofuranyl- und Dibenzofuranylgruppe.
Diese aromatischen Gruppen können gegebenenfalls auch durch
eine oder mehrere der folgenden nichtbasischen Gruppen, die
mit Epoxy- und Hydroxylgruppen praktisch nicht reagieren,
substituiert sein: Halogenatome, Nitrogruppen, N-Arylanilinoreste,
Esterreste, z. B. Alkoxycarbonylreste, wie die Methoxycarbonyl-,
Äthoxycarbonyl- und Phenoxycarbonylgruppe, Sulfoesterreste,
z. B. Alkoxysulfonylreste, wie die Methoxysulfonyl-,
Butoxysulfonyl- und Phenoxysulfonylgruppe, Amidoreste,
wie die Acetamido-, Butyramido- und Äthylsulfoamidgruppe,
Carbamylreste, wie die Carbamyl-, N-Alkylcarbamyl- und
N-Phenylcarbamylgruppe, Sulfamylreste, wie die Sulfamyl-,
N-Alkylsulfamyl-, N,N-Dialkylsulfamyl- und N-Phenylsulfamylgruppe,
Alkoxyreste, wie die Methoxy-, Äthoxy- und Butoxygruppe,
Arylreste, wie die Phenylgruppe, Alkylreste, wie die
Methyl-, Äthyl- und Butylgruppe, Aryloxyreste, wie die Phenoxygruppe,
Alkylsulfonylreste, wie die Methylsulfonyl- und
Äthylsulfonylgruppe, Arylsulfonylreste, wie die Phenylsulfonylgruppe,
Perfluoralkylreste, wie die Trifluormethyl- und
Perfluoräthylgruppe, und Perfluoralkylsulfonylreste, wie die
Trifluormethylsulfonyl- und Perfluorbutylsulfonylgruppe.
Spezielle Beispiele für aromatische Jodonium-Komplexsalzphotoinitiatoren
sind:
Diphenyljodoniumtetrafluoroborat,
Di-(4-methylphenyl)-jodoniumtetrafluoroborat,
Phenyl-4-methylphenyljodoniumtetrafluoroborat,
Di-(4-heptylphenyl)-jodoniumtetrafluoroborat,
Di-(3-nitrophenyl)-jodoniumhexafluorophosphat,
Di-(4-chlorphenyl)-jodoniumhexafluorophosphat,
Di-(naphthyl)-jodoniumtetrafluoroborat,
Di-(4-trifluormethylphenyl)-jodoniumtetrafluoroborat,
Diphenyljodoniumhexafluorophosphat,
Di-(4-methylphenyl)-jodoniumhexafluorophosphat,
Diphenyljodoniumhexafluoroarsenat,
Di-(4-phenoxyphenyl)-jodoniumtetrafluoroborat,
Phenyl-2-thienyljodoniumhexafluorophosphat,
3,5-Dimethylpyrazolyl-4-phenyljodoniumhexafluorophosphat,
Diphenyljodoniumhexafluoroantimonat,
2,2′-Diphenyljodoniumtetrafluoroborat,
Di-(2,4-dichlorphenyl)-jodoniumhexafluorophosphat,
Di-(4-bromphenyl)-jodoniumhexafluorophosphat,
Di-(4-methoxyphenyl)-jodoniumhexafluorophosphat,
Di-(3-carboxyphenyl)-jodoniumhexafluorophosphat,
Di-(3-methoxycarbonylphenyl)-jodoniumhexafluorophosphat,
Di-(3-methoxysulfonylphenyl)-jodoniumhexafluorophosphat,
Di-(4-acetamidophenyl)-jodoniumhexafluorophosphat,
Di-(2-benzothienyl)-jodoniumhexafluorophosphat.
Di-(4-methylphenyl)-jodoniumtetrafluoroborat,
Phenyl-4-methylphenyljodoniumtetrafluoroborat,
Di-(4-heptylphenyl)-jodoniumtetrafluoroborat,
Di-(3-nitrophenyl)-jodoniumhexafluorophosphat,
Di-(4-chlorphenyl)-jodoniumhexafluorophosphat,
Di-(naphthyl)-jodoniumtetrafluoroborat,
Di-(4-trifluormethylphenyl)-jodoniumtetrafluoroborat,
Diphenyljodoniumhexafluorophosphat,
Di-(4-methylphenyl)-jodoniumhexafluorophosphat,
Diphenyljodoniumhexafluoroarsenat,
Di-(4-phenoxyphenyl)-jodoniumtetrafluoroborat,
Phenyl-2-thienyljodoniumhexafluorophosphat,
3,5-Dimethylpyrazolyl-4-phenyljodoniumhexafluorophosphat,
Diphenyljodoniumhexafluoroantimonat,
2,2′-Diphenyljodoniumtetrafluoroborat,
Di-(2,4-dichlorphenyl)-jodoniumhexafluorophosphat,
Di-(4-bromphenyl)-jodoniumhexafluorophosphat,
Di-(4-methoxyphenyl)-jodoniumhexafluorophosphat,
Di-(3-carboxyphenyl)-jodoniumhexafluorophosphat,
Di-(3-methoxycarbonylphenyl)-jodoniumhexafluorophosphat,
Di-(3-methoxysulfonylphenyl)-jodoniumhexafluorophosphat,
Di-(4-acetamidophenyl)-jodoniumhexafluorophosphat,
Di-(2-benzothienyl)-jodoniumhexafluorophosphat.
Bevorzugte aromatische Jodonium-Komplexsalze sind die Diaryljodoniumhexafluorophosphate
und die Diaryljodoniumhexafluoroantimonate.
Diese Salze sind thermisch besonders stabil, bewirken
eine schnellere Reaktion und sind in inerten organischen
Lösungsmitteln löslicher als andere aroamtische
Jodonium-Komplexsalze.
Die aromatischen Jodonium-Komplexsalze können nach dem Verfahren
von Beringer et al., J. Am. Chem. Soc., Bd. 81, S. 342
(1959), aus den entsprechenden aromatischen Jodonium-Einfachsalzen,
wie Diphenyljodoniumbisulfat, hergestellt werden.
Beispielsweise wird das komplexe Diphenyljodoniumtetrafluoroborat
dadurch hergestellt, daß man eine Lösung von 44 g
(139 mMol) Diphenyljodoniumchlorid bei 60°C mit einer Lösung
von 29,2 g (150 mMol) Silberfluoroborat, 2 g Fluoroborsäure
und 0,5 g Phosphorsäure in etwa 30 ml Wasser versetzt. Das ausfallende
Silberhalogenid wird abfiltriert und das Filtrat eingeengt,
wobei Diphenyljodoniumfluoroborat entsteht, das durch
Umkristallisieren gereinigt werden kann.
Die aromatischen Jodonium-Einfachsalze können nach Behringer
et al. auf verschiedene Weise hergestellt werden, z. B.
- (1) durch Kuppeln zweier aromatischer Verbindungen mit Jodylsulfat in Schwefelsäure,
- (2) durch Kuppeln zweier aromatischer Verbindungen mit einem Jodat in Essigsäure/Acetanhydrid/Schwefelsäure,
- (3) durch Kuppeln zweier aromatischer Verbindungen mit einem Jod-acylat in Gegenwart einer Säure oder
- (4) durch Kondensation einer Jodosoverbindung, eines Jodosodiacetats oder einer Jodoxyverbindung mit einer anderen aromatischen Verbindung in Gegenwart einer Säure.
Beispielsweise wird Diphenyljodoniumbisulfat nach der Methode
(3) dadurch hergestellt, daß man ein gründlich gerührtes Gemisch
aus 55,5 ml Benzol, 50 ml Acetanhydrid und 53,5 g Kaliumjodat
innerhalb 8 Stunden bei einer Temperatur unterhalb 5°C
mit einem Gemisch aus 35 ml konzentrierter Schwefelsäure und
50 ml Acetanhydrid versetzt. Das Gemisch wird dann weitere
4 Stunden bei 0 bis 5°C und weitere 48 Stunden bei Raumtemperatur
gerührt und schließlich mit 300 ml Diäthyläther behandelt.
Beim Einengen scheidet sich rohes Diphenyljodoniumbisulfat aus,
das gegebenenfalls durch Umkristallisieren gereinigt werden
kann.
Die in den Massen der Erfindung verwendeten aromatischen Sulfonium-
Komplexsalzphotoinitiatoren haben die allgemeine Formel II
in der R₁, R₂ und R₃ aromatische Gruppen mit 4 bis 20 C-Atomen
(z. B. substituierte oder unsubstituierte Phenyl-,
Thienyl- oder Furanylgruppen) oder Alkylreste mit 1 bis 20
C-Atomen bedeuten, mit der Maßgabe, daß mindestens einer der
Reste R₁, R₂ und R₃ ein aromatischer Rest ist. Unter Alkylresten werden
hierbei auch substituierte Alkylreste verstanden, die z. B. Halogenatome,
Hydroxyl-, Alkoxy- oder Arylreste als Substituenten
tragen. Vorzugsweise sind sowohl R₁ und R₂ als auch R₃
aromatisch. Z ist ein Sauerstoff- oder Schwefelatom, eine
C-C-Bindung oder eine der folgenden Gruppen:
(wobei R ein Arylrest mit z. B. 6 bis 20 C-Atomen, wie die
Phenylgruppe, oder ein Acylrest mit z. B. 2 bis 20 C-Atomen,
wie die Acetyl- oder Benzyolgruppe ist);
(wobei R₄ und
R₅ Wasserstoffatome, Alkylreste mit 1 bis 4 C-Atomen oder Alkenylreste
mit 2 bis 4 C-Atomen sind), n hat den Wert 0 oder
1 und X⁻ bedeutet ein halogenhaltiges Komplexanion aus der
Reihe der Tetrafluoroborat-, Hexafluorophosphat-, Hexaflurorarsenat-
und Hexafluoroantimonat-Anionen.
Aromatische Sulfoniumsalze sind bekannt. Triaryl-substituierte
Sulfoniumverbindungen lassen sich z. B. nach den bei
G. H. Wiegand et al., Synthesis and Reactions of Triarylsulfonium
Halides. J. Org. Chem., Bd. 33, S. 2671-75 (1968), beschriebenen Verfahren herstellen.
Die Synthese von alkylsubstituierten aromatischen Sulfoniumsalzen
ist auch bei K. Ohkubo et al., J. Org. Chem., Bd. 36,
S. 3149-55 (1971), beschrieben. Das bevorzugte Verfahren zur
Herstellung triaryl-substituierter Sulfoniumverbindungen ist
in der US-PS 28 07 648 beschrieben. Die komplexen Sulfoniumsalze
lassen sich aus den entsprechenden Einfachsalzen, z. B.
den Halogeniden, durch Umsetzen mit einem Metall- oder Ammoniumsalz
des gewünschten Komplexanions herstellen.
Die Sulfonium-Komplexsalze sind mit mindestens einer, vorzugsweise
drei aromatischen Gruppen substituiert. Spezielle Beispiele
für aromatische Gruppen sind solche mit 4 bis 20 C-Atomen
aus der Reihe der Phenyl-, Thienyl- und Furanylgruppen.
Diese aromatischen Gruppen können gegebenenfalls einen oder
mehrere ankondensierte Benzolringe aufweisen, wie die Naphthyl-,
Benzothienyl-, Dibenzothienyl-, Benzofuranyl- und Dibenzofuranylgruppe.
Die aromatischen Gruppen können gegebenenfalls auch
durch eine oder mehrere der folgenden nichtbasischen Gruppen,
die im wesentlichen mit Epoxy- und Hydroxylgruppen nicht
reagieren, substituiert sein: Halogenatome, Nitrogruppen, Arylreste,
Esterreste, z. B. Alkoxycarbonylreste, wie die Methoxycarbonyl-,
Äthoxycarbonyl- und Phenoxycarbonylgrupe, Acyloxyreste,
wie Acetoxy- und Propionyloxygruppe, Sulfoesterreste,
z. B. Alkoxysulfonylreste, wie die Methoxysulfonyl-, Butoxysulfonyl-
und Phenoxysulfonylgruppe, Amidoreste, wie die Acetamido-,
Butyramido- und Äthylsulfoamidogruppe, Carbamylreste,
wie die Carbamyl-, N-Alkylcarbamyl- und N-Phenylcarbamylgruppe,
Sulfamylreste, wie die Sulfamyl-, N-Alkylsulfamyl-,
N,N-Dialkylsulfamyl- und N-Phenylsulfamylgruppe, Alkoxyreste,
wie die Methoxy-, Äthoxy- und Butoxygruppe, Arylreste, wie die
Phenylgruppe, Alkylreste, wie die Methyl-, Äthyl- und Butylgruppe,
Aryloxyreste, wie die Phenoxygruppe, Alkylsulfonylreste,
wie die Methylsulfonyl- und Äthylsulfonylgruppe, Arylsulfonylreste,
wie die Phenylsulfonylgruppe, Perfluoralkylreste,
wie die Trifluormethyl- und Perfluoräthylgruppe, und
Perfluoralkylsulfonylreste, wie die Trifluormethylsulfonyl-
und Perfluorbutylsulfonylgruppe.
Spezielle Beispiele für aromatische Sulfonium-Komplexsalzphotoinitiatoren
sind:
Triphenylsulfoniumtetrafluoroborat,
Methyldiphenylsulfoniumtetrafluoroborat,
Dimethylphenylsulfoniumhexafluorophosphat,
Triphenylsulfoniumhexafluorophosphat,
Triphenylsulfoniumhexafluoroantimonat,
Diphenylnaphthylsulfoniumhexafluoroarsenat,
Tritolylsulfoniumhexafluorophosphat,
Anisyldiphenylsulfoniumhexafluoroantimonat,
4-Butoxyphenyldiphenylsulfoniumtetrafluoroborat,
4-Chlorphenyldiphenylsulfoniumhexafluoroantimonat,
Tris-(4-phenoxyphenyl)-sulfoniumhexafluorophosphat,
Di-(4-äthoxyphenyl)-methylsulfoniumhexafluoroarsenat,
4-Acetoxy-phenyldiphenylsulfoniumtetrafluoroborat,
Tris-(4-thiomethoxyphenyl)-sulfoniumhexafluorophosphat,
Di-(methoxysulfonylphenyl)-methylsulfoniumhexafluoroantimonat,
Di-(methoxynaphthyl)-methylsulfoniumtetrafluoroborat,
Di-(carbomethoxyphenyl)-methylsulfoniumhexafluorophosphat,
4-Acetamidophenyldiphenylsulfoniumtetrafluoroborat,
Dimethylnaphthylsulfoniumhexafluorophosphat,
Trifluormethyldiphenylsulfoniumtetrafluoroborat,
Methyl-(N-methylphenothiazinyl)-sulfoniumhexafluoroantimonat,
Phenylmethylbenzylsulfoniumhexafluorophosphat
Methyldiphenylsulfoniumtetrafluoroborat,
Dimethylphenylsulfoniumhexafluorophosphat,
Triphenylsulfoniumhexafluorophosphat,
Triphenylsulfoniumhexafluoroantimonat,
Diphenylnaphthylsulfoniumhexafluoroarsenat,
Tritolylsulfoniumhexafluorophosphat,
Anisyldiphenylsulfoniumhexafluoroantimonat,
4-Butoxyphenyldiphenylsulfoniumtetrafluoroborat,
4-Chlorphenyldiphenylsulfoniumhexafluoroantimonat,
Tris-(4-phenoxyphenyl)-sulfoniumhexafluorophosphat,
Di-(4-äthoxyphenyl)-methylsulfoniumhexafluoroarsenat,
4-Acetoxy-phenyldiphenylsulfoniumtetrafluoroborat,
Tris-(4-thiomethoxyphenyl)-sulfoniumhexafluorophosphat,
Di-(methoxysulfonylphenyl)-methylsulfoniumhexafluoroantimonat,
Di-(methoxynaphthyl)-methylsulfoniumtetrafluoroborat,
Di-(carbomethoxyphenyl)-methylsulfoniumhexafluorophosphat,
4-Acetamidophenyldiphenylsulfoniumtetrafluoroborat,
Dimethylnaphthylsulfoniumhexafluorophosphat,
Trifluormethyldiphenylsulfoniumtetrafluoroborat,
Methyl-(N-methylphenothiazinyl)-sulfoniumhexafluoroantimonat,
Phenylmethylbenzylsulfoniumhexafluorophosphat
Bevorzugte aromatische Sulfonium-Komplexsalze sind triarylsubstituierte
Salze, wie Triphenylsulfoniumhexafluorophosphat.
Die triaryl-substituierten Salze sind thermisch stabiler als
die mono- und diarylsubstituierten Salze und ergeben daher
ein härtbares Einpackungssystem mit langer Gebrauchsdauer. Bei
Verwendung von triaryl-substituierten Komplexsalzen ist auch
die Härtungsgeschwindigkeit bei gegebener Belichtungsmenge
größer. Darüber hinaus sind die triaryl-substituierten Komplexsalze
der Farbstoffsensibilisierung zugänglicher. Diese Komplexsalze
ergeben daher photopolymerisierbare Massen, die
sich insbesondere für graphische Zwecke und andere Anwendungsbereiche
eignen, in denen nahes Ultraviolett und sichtbares
Licht zur Bestrahlung verwendet werden.
Die photopolymerisierbaren Massen der Erfindung können je nach
dem verwendeten organischen Material und aromatischem Sulfonium-
Komplexsalz, z. B. als Klebstoffe, Dichtungsmassen, Gieß-
und Formmassen, Füll- und Einbettmassen, Imprägnier- und Beschichtungsmassen
verwendet werden. Die Massen sind Einpackungssysteme,
die an Ort und Stelle gehärtet werden.
Gegebenenfalls können die photopolymerisierbaren Massen der
Erfindung verschiedene herkömmliche nicht-basische Füllstoffe,
z. B. Kieselsäure, Talk, Glaspulver, Tone, Zinkoxid oder
Metallpulver, wie Aluminium, in einer Menge bis zu etwa 50 Volumenprozent
oder mehr, Viskositätsregler, Kautschuke, Klebrigkeitsverbesserer
oder Pigmente enthalten.
Die photopolymerisierbaren Massen der Erfindung eignen sich
insbesondere zur Herstellung von Schutzüberzügen und für
graphische Zwecke, da sie überlegene Schlagfestigkeit, Abriebbeständigkeit,
Haftung auf festen, elastischen und
flexiblen Substraten, z. B. aus Metall, Kunststoff, Gummi,
Glas, Papier, Holz oder Keramik, Lösungsmittel- und Chemikalienbeständigkeit
besitzen und zur Herstellung von Bildern mit
hoher Auflösung geeignet sind. Zu diesen Anwendungsbereichen
zählen z. B. säure- und alkalifeste Bilder für das chemische
Mahlen, Gravurbilder, Offsetplatten, der Flexographiedruck, die
sieblose Lithographie, Reliefdruckplatten, die Schablonenherstellung,
Mikrobilder für gedruckte Schaltungen, Mikrobilder
für die Informationsspeicherung, Dekorationen für Papier-,
Glas- und Metalloberflächen sowie lichthärtbare Schutzüberzüge.
Die Massen eignen sich auch zum Tränken von Substraten,
z. B. Glasgeweben, wobei lagerstabile Produkte entstehen, die
sich für zahlreiche Herstellungs- und Reparaturverfahren
eignen, in denen thermisch härtbare flüssige Massen nicht anwendbar
sind.
Die Photopolymerisation der erfindungsgemäßen Massen erfolgt
beim Belichten mit aktinischer Strahlung mit einer Wellenlänge
im ultravioletten bzw. sichtbaren Spektralbereich. Geeignete
Strahlungsquellen sind z. B. Quecksilber- und Xenonlampen,
Kohlelichtbögen, Wolframlampen und Sonnenlicht. Die Belichtungszeit
beträgt weniger als etwa 1 Sekunde bis zu 10 Minuten
oder mehr, je nach der Menge des jeweils zu polymerisierenden
Materials, dem verwendeten aromatischen Komplexsalz, der Strahlungsquelle,
dem Abstand zur Strahlungsquelle und der Dicke
des zu härtenden Überzugs. Die Massen können auch durch Einwirkung
von Elektronenstrahlen gehärtet werden. Die hierzu
erforderliche Dosis beträgt üblicherweise weniger als 10 kGy (1 Megarad)
bis zu 111 Gy (100 Megarad) oder mehr. Ein wesentlicher Vorteil der
Elektronenstrahlhärtung liegt darin, daß stark pigmentierte
Massen schneller aushärten als bei der Belichtung mit aktinischer
Strahlung.
Die Härtung ist eine Auslösungsreaktion, d. h., nach Initiierung
des Abbaus des aromatischen Jodonium- bzw. Sulfonium-Komplexsalzes
durch Belichtung mit einer Strahlungsquelle läuft die
Härtungsreaktion ab und setzt sich auch dann fort, wenn die
Strahlungsquelle entfernt wird. Durch Anwendung thermischer
Energie während oder nach der Belichtung mit einer Strahlungsquelle
wird die Härtungsreaktion beschleunigt, und selbst eine
geringfügige Temperaturerhöhung erhöht die Härtungsgeschwindigkeit.
Die erfindungsgemäß verwendeten aromatischen Jodonium-Komplexsalze
sind selbst nur im Ultraviolettbereich lichtempfindlich.
Sie können jedoch für den nahen Ultraviolettbereich und den
sichtbaren Bereich des Spektrums sensibilisiert werden,
indem man bekannte Sensibilisatoren für photolysierbare organische
Halogenverbindungen einsetzt; vgl. US-PS 37 29 313. Zu
diesen Sensibilisatoren zählen z. B. aromatische Amine und gefärbte
aromatische polycyclische Kohlenwasserstoffe. Die Verwendung
stark basischer Aminoverbindungen ist weniger bevorzugt,
da diese die Polymerisation verzögern.
Die erfindungsgemäß verwendeten aromatischen Sulfonium-Komplexsalze
sind selbst nur im Ultraviolettbereich lichtempfindlich.
Sie können jedoch ebenfalls durch geeignete Sensibilisatoren
für den nahen Ultraviolettbereich und den sichtbaren Bereich
des Spektrums sensibilisiert werden. Als Sensibilisatoren zur Verwendung in den photopolymerisierbaren
Massen eignen sich erfindungsgemäß:
- a) aromatische tertiäre Amine der allgemeinen Formel III in der Ar¹, Ar² und Ar³ gleich oder verschieden sind und aromatische Gruppen mit 6 bis 20 C-Atomen bedeuten. Die aromatischen Gruppen können gegebenenfalls z. B. durch Hydroxyl-, Alkoxy-, Acyl- oder Alkylgruppen substituiert sein. Z ist ein Sauerstoff- oder Schwefelatom, eine C-C-Bindung oder eine der folgenden Gruppen: (wobei R ein Arylrest mit z. B. 6 bis 20 C-Atomen, wie die Phenyl- oder Naphthylgruppe ist) (wobei R₄ und R₅ Wasserstoffatome, Alkylreste mit 1 bis 4 C-Atomen oder Alkenylreste mit 2 bis 4 C-Atomen sind) und n hat den Wert 0 oder 1.
- b) Aromatische tertiäre Diamine der allgemeinen Formel IV in der Y ein Arylenrest oder der Rest Ar⁸-Z-Ar⁹ ist, wobei Z dieselbe Bedeutung hat, wie bei den aromatischen tertiären Aminen, Ar⁴, Ar⁵, Ar⁶, Ar⁷, Ar⁸ und Ar⁹ aromatische Gruppen mit 6 bis 20 C-Atomen darstellen und m und n den Wert 0 oder 1 haben. Die aromatischen Gruppen können gegebenenfalls z. B. durch Hydroxyl-, Alkoxy-, Acyl- oder Alkylgrupen substituiert sein.
- c) Aromatische polycyclische Verbindungen mit mindestens drei kondensierten Benzolringen und einem Ionisationspotential von weniger als 7,5 eV, berechnet nach der Methode von F. A. Matsen, J. Chem. Physics, Bd. 24, S. 602 (1956).
Spezielle Beispiele für Sensibilisatoren sind Triphenylamin,
2-Äthyl-9,10-dimethoxyanthracen, Anthracen, 9-Methylanthracen,
Rubren, Perylen und Tetraphenylbenzidin.
Die erfindungsgemäßen Massen enthalten das aromatische Jodonium-
bzw. Sulfonium-Komplexsalz z. B. in einer Menge von etwa
0,1 bis 30 Gewichtsteilen pro 100 Gewichtsteile des organischen
Materials (d. h. Epoxid + hyroxylhaltiges Material), vorzugsweise
etwa 1 bis 10 Gewichtsteilen pro 100 Gewichtsteile des
organischen Materials. Gegebenenfalls kann die Masse als lagerstabiles
Konzentrat formuliert werden (d. h. mit hohen Komplexsalzkonzentrationen,
z. B. 10 bis 30 Gewichtsprozent), das
später zu einer Beschichtungsmasse verdünnt werden kann,
indem man z. B. mehr Epoxid und/oder hydroxylhaltiges Material
am Verwendungsort zumischt.
Im allgemeinen nimmt die Polymerisationsgeschwindigkeit bei gegebener
Bestrahlung mit steigenden Komplexsalzmengen zu. Die
Polymerisationsgeschwindigkeit steigt auch mit zunehmender
Lichtintensität bzw. Elektronendosierung. Für Massen, die mit
Hilfe eines Sensibilisators für längere Wellenlängen sensibilisiert
sind, werden etwa 0,01 bis 1,0 Gewichtsteile Sensibilisator
pro 1 Teil des aromatischen Komplexsalzes verwendet.
Die photopolymerisierbaren Massen der Erfindung werden dadurch
hergestellt, daß man das aromatische Komplexsalz sowie gegebenenfalls
den Sensibilisator unter Lichtabschirmung mit dem
organischen Material vermischt. Gegebenenfalls kann das Mischen
auch in Gegenwart inerter Lösungsmittel erfolgen. Beispiele
für geeignete Lösungsmittel sind Aceton, Methylenchlorid und
andere Lösungsmittel, die mit dem Epoxid, dem hydroxylhaltigen
Material, dem aromatischen Komplexsalz oder dem Sensibilisator
nicht nennenswert reagieren. Ein zu polymerisierendes flüssiges
organisches Material kann auch als Lösungsmittel für ein anderes
flüssiges oder festes, zu polymerisierendes organisches
Material verwendet werden. Inerte Lösungsmittel können auch
dazu verwendet werden, eine Lösung der Materialien herzustellen
oder eine geeignete Viskosität für Beschichtungsmassen einzustellen.
Lösungsmittelfreie Massen lassen sich dadurch herstellen,
daß man das aromatische Komplexsalz und den Sensibilisator
gegebenenfalls unter mildem Erwärmen in dem organischen
Material löst.
Die Beispiele erläutern die Erfindung. Alle Teile und Prozente
beziehen sich auf das Gewicht, falls nicht anderes angegeben
ist.
10 Teile eines Epoxyharzes (Epoxy-Äquivalentgewicht: 185), das
0,5 Teile Diphenyljodoniumhexafluorophosphat und 0,05 Teile
2-Äthyl-9,10-dimethoxyanthracen enthält, werden mit den in Tabelle
III genannten Mengen H1
versetzt. Die erhaltenen
Lösungen, die ausgezeichnete Stabilität besitzen, werden
mit einer Rakel auf eine Polyesterfolie (75 µm) aufgetragen,
so daß ein photopolymerisierbarer Überzug von 100 µm Dicke
entsteht. Die Proben werden in einem Abstand von 17,5 cm mit
einer 500-Watt-Quecksilberdampflampe belichtet.
Die zum Härten der jeweiligen Überzüge erforderliche
Zeit ist ebenfalls in Tabelle III angegeben. Nach dem Härten
kann jeder der Überzüge in Form einer selbsttragenden Folie
von dem Polyestersubstrat abgezogen werden.
Die in den Beispielen 1 bis 5 erhaltenen gehärteten Überzüge
bzw. Folien sind transparent, und die Flexibilität der Folien
nimmt von Beispiel 1 bis Beispiel 5 zu, während gleichzeitig
die Folienschrumpfung abnimmt.
Abgewogene Proben der einzelnen Folien werden in Bechergläser
eingebracht, die mit Aceton gefüllt sind, und unter periodischem
Schütteln 7 Tage stehengelassen. Hierauf entnimmt man
die Proben, trocknet sie 24 Stunden an der Luft und bestimmt
den Gewichtsverlust. Die Proben der Folien aus den Beispielen
1, 2 und 3 besitzen ausgezeichnete Lösungsbeständigkeit mit
nur geringer Quellung und keinem Gewichtsverlust. Bei den Proben
der Folien aus den Beispielen 4 und 5 beträgt der Gewichtsverlust
3,7 bzw. 7,5 Gewichtsprozent. In den Beispielen
1, 2 und 3 hatte das gesamte hydroxylhaltige Material mit dem
Epoxid reagiert, während in den Beispielen 4 und 5 91 bzw.
85% mit dem Epoxid reagiert hatten. Die Folie aus Beispiel 2
hat eine Zugfestigkeit von 44,8 µPa (457 kg/cm²) und eine Bruchdehnung
von 5%, während die Folie aus Beispiel 3 eine Zugfestigkeit
von 7,31 µPa (74,5 kg/cm²) und eine Bruchdehnung von 53% beträgt. Dies
macht deutlich, daß mit Hilfe der erfindungsgemäßen Massen
durch Variation der relativen Mengen an Epoxid und hydroxylhaltigem
Material ein breiter Bereich an physikalischen Eigenschaften
erzielbar ist.
Eine photopolymerisierbare Masse mit niedriger Viskosität 130 mm²/s
(1,3 Stokes) und einem Feststoffgehalt von 100% wird aus folgenden
Bestandteilen hergestellt:
Teile | |
Epoxyharz (Äquivalentgewicht 137) | |
5 | |
Polyoxyäthylenglykol (Äquivalentgewicht 200) | 2 |
Diphenyljodoniumhexafluorophosphat | 0,25 |
2-Äthyl-9,10-dimethoxyanthracen | 0,025 |
Die Bestandteile werden unter Erhitzen gemischt und 30 Minuten
bei 50°C gerührt. Die erhaltene lagerstabile Masse wird dann
in einer Schichtdicke von 75 µm aufgetragen und 35 Sekunden
in einem Abstand von 12,7 cm mit einer 275-Watt-
Sonnenlampe belichtet. Hierbei wird eine transparente
selbsttragende zähe Folie erhalten.
Eine pigmentierte photopolymerisierbare lagerstabile Gießmasse
mit einem Feststoffgehalt von 100% wird durch 6stündiges
Mahlen der folgenden Bestandteile in einer Kugelmühle
hergestellt:
Teile | |
Epoxyharz (Äquivalentgewicht 137) | |
6 | |
Polyäthylenglykol (Äquivalentgewicht 200) | 3 |
Zinkoxid | 9 |
Diphenyljodoniumhexafluorophosphat | 0,25 |
2-Äthyl-9,10-dimethoxyanthracen | 0,025 |
Ein 55 µm dicker Überzug aus dieser Masse wird zu einer flexiblen
selbsttragenden weißen Folie gehärtet, indem man 60 Sekunden
in einem Abstand von 12,7 cm mit einer 275-Watt-
Sonnenlampe belichtet.
Unter Verwendung der in Tabelle IV genannten Epoxide, hydroxylhaltigen
Materialien und Komplexsalz-Photoinitiatoren werden
verschiedene photopolymerisierbare lagerstabile Massen
hergestellt. Das Mischen der Bestandteile erfolgt unter mildem
Erwärmen. Die Härtung erfolgt mit Hilfe einer 275-Watt-
Sonnenlampe in einem Abstand von 12,7 cm
bzw. einer 500-Watt-Quecksilberdampflampe
in einem Abstand von 17,5 cm. Die Belichtungsbedingungen
sind ebenfalls in Tabelle IV genannt. In jedem Beispiel wird
eine vollständig ausgehärtete transparente zähe flexible Folie
erhalten.
Eine lagerstabile photopolymerisierbare Masse wird durch Rühren
der folgenden Bestandteile bei Raumtemperatur hergestellt:
Teile | |
Hydroxylhaltiges Material H4 | |
16 | |
Epoxyharz E6 | 1,4 |
Diphenyljodoniumhexafluorophosphat | 0,36 |
2-Äthyl-9,10-dimethoxyanthracen | 0,11 |
Die erhaltene Masse wird mit Hilfe eines mit Draht umwickelten
Stabs auf ein anodisiertes Aluminiumblech in einer Naßschichtdicke
von etwa 60 µm aufgetragen. Die getrocknete Probe
wird 60 Sekunden mit einer 275-Watt-Sonnenlampe
in einem Abstand von 12,7 cm durch eine √ photographische
Stufenplatte belichtet. Die belichtete Probe wird dann
unter fließendes Wasser gehalten, um die nicht photopolymerisierten
Bereiche abzulösen. 7 Stufen der Stufenplatte bleiben
auf dem Aluminiumblech zurück. Der gehärtete Überzug ist farbaufnehmend
und eignet sich als Lithographiedruckplatte.
Eine lagerstabile, photopolymerisierbare Masse wird durch
Rühren der folgenden Bestandteile hergestellt:
Teile | |
Hydroxylhaltiges Material (10prozentige Methanollösung von H2) | |
25 | |
n-Butanol | 2 |
Epoxyharz E6 | 1 |
Diphenyljodoniumhexafluorophosphat | 0,4 |
2-Äthyl-9,10-dimethoxyanthracen | 0,12 |
Die Masse wird mit einer Rakel in einer Naßschichtdicke von
50 µm auf eine Polyesterfolie (75 µm) aufgetragen und dann
1 Stunde an der Luft getrocknet. Hierauf belichtet man die
Probe 15 Sekunden gemäß Beispiel 21 und taucht sie dann in
Methanol. Vier Stufen der Stufenplatte bleiben nach der Entwicklung
zurück.
Eine lagerstabile, photopolymerisierbare Masse wird gemäß Beispiel
22 hergestellt, wobei jedoch anstelle von H2
verwendet wird.
Die Masse wird aufgetragen, getrocknet, 20 Sekunden
belichtet und dann gemäß Beispiel 22 entwickelt. Fünf Stufen
der Stufenplatte bleiben nach der Entwicklung zurück.
Eine Grundlösung wird durch Auflösen von 0,4 Teilen Diphenyljodoniumhexafluorophosphat
und 0,12 Teilen 2-Äthyl-9,10-dimethoxyanthracen
in 25 Teilen einer 10prozentigen Methanollösung
von H5 dargestellt.
Jeweils 5 Teile
der Grundlösung werden mit verschiedenen Epoxiden vermischt,
worauf man die erhaltenen lagerstabilen Massen auf anodisierte
Aluminiumbleche aufträgt, durch eine Stufenplatte belichtet
und hierauf gemäß Beispiel 21 entwickelt, wobei jedoch Methanol
anstelle von Wasser verwendet wird. Die verwendeten Epoxide,
die Belichtungszeiten und die Anzahl der unlöslich
bleibenden Stufen sind in Tabelle V angegeben.
"DER-XD7818" ist ein Epoxyharz des aromatischen Glycidyläthertyps
mit einer Viskosität von 3400 mPa · s (cP) und einem Epoxid-
Äquivalentgewicht von 165.
Eine lagerstabile photopolymerisierbare Masse wird durch
Rühren der folgenden Bestandteile hergestellt:
Teile | |
Hydroxylhaltiges Material (10prozentige Acetonlösung von H9) | |
12,5 | |
n-Butanol | 1 |
Epoxyharz E6 | 0,4 |
Triphenylsulfoniumhexafluorophosphat | 0,2 |
Triphenylamin | 0,06 |
Die Masse wird mit einer Rakel in einer Meßschichtdicke von
50 µm auf eine Polyesterfolie (75 µm) aufgetragen und dann
1 Stunde an der Luft getrocknet. Hierauf belichtet man die
Probe gemäß Beispiel 21 mit einer 275-Watt-Sonnenlampe 2 Minuten
durch eine Stufenplatte und entwickelt sie dann durch Besprühen
mit Methanol. Nach der Entwicklung bleiben drei vollständige
Stufen und vier teilweise Stufen zurück.
Aus den in Tabelle VI genannten Epoxiden und Polycaprolactonen
mit Hydroxyl-Endgruppen bzw. aliphatischen Polyolen werden
lagerstabile photopolymerisierbare Massen hergestellt. Die Bestandteile
werden jeweils unter mildem Erwärmen zusammengerührt.
Beim Belichten unter den in Tabelle VI genannten Bedingungen
härten die Massen zu transparenten zähen flexiblen
Folien. Zum Belichten wird eine 275-Watt-
Sonnenlampe in einem Abstand von 12,7 cm bzw. eine 500-Watt-
Quecksilberdampflampe in einem Abstand von
17,5 cm verwendet.
Eine lagerstabile photopolymerisierbare Masse wird durch Zusammenrühren
der folgenden Bestandteile hergestellt:
Teile | |
Epoxyharz E4 | |
5 | |
Hydroxylhaltiges Material ("PeP-550") | 2 |
Diphenyljodoniumhexafluorophosphat | 0,2 |
Triphenylamin | 0,02 |
Die Masse wird in einer Dicke von 50 µm aufgetragen und 5 Minuten
mit einer 500-Watt-Quecksilberdampflampe
in einem Abstand von 17,5 cm belichtet, wobei sie zu
einer transparenten zähen flexiblen Folie härtet.
Eine lagerstabile photopolymerisierbare Masse wird durch Zusammenrühren
der folgenden Bestandteile hergestellt:
Teile | |
Epoxyharz E6 | |
5 | |
Hydroxylhaltiges Material ("PeP 550") | 1,5 |
Diphenyljodoniumhexafluorophosphat | 0,2 |
Triphenylamin | 0,02 |
Die Masse wird in einer Schichtdicke von 50 µm aufgetragen und
1 Minute gemäß Beispiel 44 belichtet, wobei sie zu einer
transparenten zähen flexiblen Folie härtet.
Lagerstabile photopolymerisierbare Massen werden aus den folgenden
Bestandteilen hergestellt:
Die Massen werden mit Hilfe eines mit Draht umwickelten Stabs
auf Aluminiumbleche (7,5×20×0,06 cm) aufgetragen, wie sie
zur Herstellung von Kannen verwendet werden. Hierauf wird man
führt man die Bleche mit einer Geschwindigkeit von 50 m/min
unter zwei 200-Watt-2,54-cm-Ultraviolettlampen mit fokussiertem
Reflektor im Brennpunkt der Lampen hindurch. Das auf den
beschichteten Blechen reflektierte Licht ist etwa 2,5 cm
breit. Nach dem Belichten sind die Überzüge nicht mehr klebrig
und innerhalb weniger Sekunden bei Raumtemperatur härten
sie vollständig. Die Härtungszeit kann gegebenenfalls dadurch
verkürzt werden, daß man das Substrat vor dem Beschichten etwas
erwärmt, z. B. auf 50 bis 60°C.
Die gehärteten Überzüge besitzen ausgezeichnete Hitzebeständigkeit,
nach 9minütigem Brennen bei 175°C sind kein Vergilben
oder andere Effekte feststellbar.
Die Fähigkeit der gehärteten Überzüge wird nach dem Gardiner-
Schlagtest (ASTM D-2794-69) bestimmt. Dieser Vergleichstest
mißt die maximale Höhe (cm), aus der eine Stahlkugel auf die
nicht beschichtete Rückseite des beschichteten Blechs fallen
kann, ohne den Zusammenhalt des gehärteten Überzugs zu zerstören.
Die Ergebnisse sind in kg-cm angegeben; d. h. Gewicht der
Stahlkugel x maximale Höhe in cm.
Die Haftung der gehärteten Überzüge auf den Blechen wird dadurch
ermittelt, daß man in dem gehärteten Überzug ein großes
X schneidet, das geritzte Blech 20 Minuten in Wasser von 72°C
taucht, das Blech trocknet, ein Cellophanklebeband ("Scotch
Nr. 610" der Minnesota Mining and Manufacturing Co.) über das
X klebt und dann schnell in einem Winkel von 90° von dem Blech
abzieht, worauf man den auf dem Blech zurückbleibenden Anteil
des Überzugs bestimmt.
Die beschichteten Bleche der Beispiele 46 und 47 können vollständig
umgebogen werden, ohne daß der Überzug reißt, während
andererseits der Überzug des Blechs aus Beispiel 48 zerstört
wird.
Zwei Lösungen werden aus folgenden Bestandteilen (Gewichtsteile)
hergestellt:
Die beiden Lösungen werden mit Hilfe einer Rakel in einer Naßschichtdicke
von 50 µm auf getrennte Polyesterfolien aufgetragen.
Jede der Proben wird mit einer Elektronenstrahlvorrichtung
von 100 kV und 2,5 mA in einem Abstand von 1,9 cm bestrahlt.
Eine Dosis von 45 kGy (4,5 Megarad) ist ausreichend, um die
Probe von Beispiel 50 vollständig zu härten und bei der Probe
aus Beispiel 49 eine klebfreie Oberfläche zu erhalten. Bei
einer Dosis von 140 kGy (14 Megarad) härtet der Überzug aus Beispiel 49
vollständig.
Claims (6)
1. Photopolymerisierbare Massen, bestehend aus
- a) einem ersten organischen Material mit einer Epoxidfunktionalität von mehr als 1,5, dessen Substituenten keine aktiven Wasserstoffatome enthalten;
- b) einem zweiten organischen Material mit einer Hydroxylfunktionalität von mindestens 1, das frei ist von anderen aktiven Wasserstoffatomen und von Epoxidgruppen,
- c) einen Initiator, und
- d) gegebenenfalls herkömmlichen nicht-basischen Füllstoffen, Viskositätsreglern, Kautschuken, Klebrigkeitsverbesserern, Pigmenten, inerten Lösungsmitteln,
dadurch gekennzeichnet, daß sie als
Initiator ein aromatisches Jodonium-Komplexsalz der allgemeinen
Formel I
in der Ar¹ und Ar² aromatische Reste mit 4 bis 20 C-Atomen
aus der Reihe der Phenyl-, Thienyl-, Furanyl- und Pyrazolylgruppen
bedeuten, Z ein Sauerstoff- oder Schwefelatom, eine
C-C-Bindung oder eine der folgenden Gruppen ist:
(wobei R ein Aryl- oder Acylrest ist) oder
(wobei R₁ und R₂ Wasserstoffatome, Alkylreste mit 1 bis 4 C-
Atomen oder Alkenylreste mit 2 bis 4 C-Atomen sind),
n den Wert 0 oder 1 hat und X⁻ ein Tetrafluoroborat-, Hexafluorophosphat-, Hexafluoroarsenat- oder Hexafluoroantimonat- Komplexanion darstellt, und/oder
ein aromatisches Sulfonium-Komplexsalz der allgemeinen Formel II in der R₁, R₂ und R₃ aromatische Gruppen mit 4 bis 20 C-Atomen oder Alkylreste mit 1 bis 20 C-Atomen bedeuten, wobei mindestens einer der Reste R₁, R₂ und R₃ ein aromatischer Rest, Z ein Sauerstoff- oder Schwefelatom, eine C-C-Bindung oder eine der folgenden Gruppen ist: (wobei R ein Aryl- oder Acylrest ist) oder (wobei R₄ und R₅ Wasserstoffatome, Alkylreste mit 1 bis 4 C-Atomen oder Alkenylreste mit 2 bis 4 C-Atomen sind), n den Wert 0 oder 1 hat und X⁻ ein Tetrafluoroborat-, Hexafluorophosphat-, Hexafluoroarsenat- oder Hexafluoroantimonat-Komplexanion darstellt, enthalten.
n den Wert 0 oder 1 hat und X⁻ ein Tetrafluoroborat-, Hexafluorophosphat-, Hexafluoroarsenat- oder Hexafluoroantimonat- Komplexanion darstellt, und/oder
ein aromatisches Sulfonium-Komplexsalz der allgemeinen Formel II in der R₁, R₂ und R₃ aromatische Gruppen mit 4 bis 20 C-Atomen oder Alkylreste mit 1 bis 20 C-Atomen bedeuten, wobei mindestens einer der Reste R₁, R₂ und R₃ ein aromatischer Rest, Z ein Sauerstoff- oder Schwefelatom, eine C-C-Bindung oder eine der folgenden Gruppen ist: (wobei R ein Aryl- oder Acylrest ist) oder (wobei R₄ und R₅ Wasserstoffatome, Alkylreste mit 1 bis 4 C-Atomen oder Alkenylreste mit 2 bis 4 C-Atomen sind), n den Wert 0 oder 1 hat und X⁻ ein Tetrafluoroborat-, Hexafluorophosphat-, Hexafluoroarsenat- oder Hexafluoroantimonat-Komplexanion darstellt, enthalten.
2. Massen nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß sie
cycloaliphatische Epoxide, Glycidylester, Glycidyläther,
Epoxy-Novolake, aliphatische Epoxide, Polymere bzw. Copolymere
von Acrylsäure-Glycidestern mit copolymerisierbaren Vinylverbindungen
und/oder epoxydierte Polyalkadiene als erstes
organisches Material enthalten.
3. Massen nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet,
daß das zweite organische Material eine Hydroxylfunktionalität
von mindestens zwei aufweist.
4. Massen nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch einen zusätzlichen
Gehalt
- e₁) eines aromatischen tertiären Amins der allgemeinen Formel III in der Ar¹, Ar² und Ar³ gleich oder verschieden sind und aromatische Reste mit 6 bis 20 C-Atomen bedeuten, Z ein Sauerstoff- oder Schwefelatom, eine C-C-Bindung oder eine der folgenden Gruppen: ist, wobei R ein Arylrest mit 6 bis 20 C-Atomen und R₄ und R₅ Wasserstoffatome, Alkylreste mit 1 bis 4 C-Atomen oder Alkenylreste mit 2 bis 4 C-Atomen bedeuten, und n den Wert 0 oder 1 hat, oder
- e₂) eines aromatischen tertiären Diamins der allgemeinen Formel IV in der Y ein Arylenrest oder der Rest Ar⁸-Z-Ar⁹ ist, wobei Z die vorstehende Bedeutung hat, Ar⁴, Ar⁵, Ar⁶, Ar⁷, Ar⁸ und Ar⁹ aromatische Reste mit 6 bis 20 C-Atomen darstellen und m und n den Wert 0 oder 1 haben, oder
- e₃) einer aromatischen polycyclischen Verbindung mit mindestens drei kondensierten Benzolringen und einem Ionisationspotential von weniger als 7,5 eV als Sensibilisator.
5. Massen nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß der
Sensibilisator Triphenylamin, 2-Äthyl-9,10-dimethoxyanthracen,
Anthracen, 9-Methylanthracen, Rubren, Perylen oder Tetraphenylbenzidin
ist.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US05/609,898 US4256828A (en) | 1975-09-02 | 1975-09-02 | Photocopolymerizable compositions based on epoxy and hydroxyl-containing organic materials |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2639395A1 DE2639395A1 (de) | 1977-03-10 |
DE2639395C2 true DE2639395C2 (de) | 1991-03-14 |
Family
ID=24442793
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19762639395 Granted DE2639395A1 (de) | 1975-09-02 | 1976-09-01 | Photopolymerisierbare massen und deren verwendung |
Country Status (13)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4256828A (de) |
JP (1) | JPS5942688B2 (de) |
AU (1) | AU497066B2 (de) |
BE (1) | BE845746A (de) |
BR (1) | BR7605796A (de) |
CA (1) | CA1114089A (de) |
CH (1) | CH630655A5 (de) |
DE (1) | DE2639395A1 (de) |
FR (1) | FR2322897A1 (de) |
GB (1) | GB1565671A (de) |
IT (1) | IT1066298B (de) |
SE (1) | SE427277C (de) |
ZA (1) | ZA765241B (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19736471A1 (de) * | 1997-08-21 | 1999-02-25 | Espe Dental Ag | Lichtinduziert kationisch härtende Zusammensetzungen und deren Verwendung |
Families Citing this family (232)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4101513A (en) * | 1977-02-02 | 1978-07-18 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Catalyst for condensation of hydrolyzable silanes and storage stable compositions thereof |
GB1604953A (en) * | 1977-08-05 | 1981-12-16 | Gen Electric | Photocurable compositions and method for curing |
GB2013208B (en) * | 1977-12-16 | 1982-11-24 | Gen Electric | Heat curable compositions |
DE2966764D1 (en) * | 1978-10-27 | 1984-04-12 | Ici Plc | Polymerisable compositions, derived coatings and other polymerised products |
ATE6002T1 (de) * | 1978-10-27 | 1984-02-15 | Imperial Chemical Industries Plc | Polymerisierbare zusammensetzungen, daraus hergestellte beschichtungen und andere polymerisierte produkte. |
US4299938A (en) | 1979-06-19 | 1981-11-10 | Ciba-Geigy Corporation | Photopolymerizable and thermally polymerizable compositions |
US4250203A (en) | 1979-08-30 | 1981-02-10 | American Can Company | Cationically polymerizable compositions containing sulfonium salt photoinitiators and odor suppressants and method of polymerization using same |
US4306953A (en) | 1979-11-05 | 1981-12-22 | American Can Company | Cationically polymerizable compositions containing sulfonium salt photoinitiators and stable free radicals as odor suppressants and _method of polymerization using same |
US4339567A (en) | 1980-03-07 | 1982-07-13 | Ciba-Geigy Corporation | Photopolymerization by means of sulphoxonium salts |
US4362263A (en) * | 1980-04-24 | 1982-12-07 | Westinghouse Electric Corp. | Solderable solventless UV curable enamel |
US4594379A (en) * | 1980-05-29 | 1986-06-10 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Non-fogging coating composition and a shaped article coated therewith |
FR2483448B1 (fr) * | 1980-05-29 | 1985-12-20 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | Composition de revetement antibuee, article faconne revetu de cette composition et procede de preparation de cet article |
USRE32272E (en) * | 1980-05-29 | 1986-10-28 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Non-fogging coating composition and a shaped article coated therewith |
US4383025A (en) | 1980-07-10 | 1983-05-10 | Ciba-Geigy Corporation | Photopolymerization by means of sulfoxonium salts |
JPS57191213A (en) * | 1981-05-19 | 1982-11-25 | Ngk Insulators Ltd | Preparation of carbonaceous product |
US4442197A (en) * | 1982-01-11 | 1984-04-10 | General Electric Company | Photocurable compositions |
US4415615A (en) * | 1982-01-15 | 1983-11-15 | Minnesota Mining And Manufacturing Co. | Cellular pressure-sensitive adhesive product and method of making |
US4439517A (en) * | 1982-01-21 | 1984-03-27 | Ciba-Geigy Corporation | Process for the formation of images with epoxide resin |
US4518676A (en) * | 1982-09-18 | 1985-05-21 | Ciba Geigy Corporation | Photopolymerizable compositions containing diaryliodosyl salts |
US4426431A (en) | 1982-09-22 | 1984-01-17 | Eastman Kodak Company | Radiation-curable compositions for restorative and/or protective treatment of photographic elements |
CA1243147A (en) * | 1983-02-07 | 1988-10-11 | Union Carbide Corporation | Photocopolymerizable compositions based on epoxy and hydroxyl containing organic materials and substituted cycloaliphatic monoepoxide reactive diluents |
US4818776A (en) * | 1983-02-07 | 1989-04-04 | Union Carbide Corporation | Photocopolymerizable compositions based on epoxy and hydroxyl-containing organic materials having primary hydroxyl content |
US4814361A (en) * | 1983-02-07 | 1989-03-21 | Union Carbide Corporation | Blends of epoxides and monoepoxides |
CA1243146A (en) * | 1983-02-07 | 1988-10-11 | Joseph V. Koleske | Photocopolymerizable compositions based on hydroxyl- containing organic materials and substituted cycloaliphatic monoepoxide reactive diluents |
CA1240439A (en) * | 1983-02-07 | 1988-08-09 | Union Carbide Corporation | Photocopolymerizable compositions based on epoxy and hydroxyl-containing organic materials having primary hydroxyl content |
US4593051A (en) * | 1983-02-07 | 1986-06-03 | Union Carbide Corporation | Photocopolymerizable compositons based on epoxy and polymer/hydroxyl-containing organic materials |
US4622349A (en) * | 1983-02-07 | 1986-11-11 | Union Carbide Corporation | Blends of epoxides and monoepoxides |
US4874798A (en) * | 1983-02-07 | 1989-10-17 | Union Carbide Corporation | Photocopolymerizable compositions based on epoxy and hydroxyl-containing organic materials and substituted cycloaliphatic monoepoxide reactive diluents |
US4812488A (en) * | 1983-02-07 | 1989-03-14 | Union Carbide Corporation | Photocopolymerizable compositions based on hydroxyl-containing organic materials and substituted cycloaliphatic monoepoxide reactive diluents |
US4529490A (en) * | 1983-05-23 | 1985-07-16 | General Electric Company | Photopolymerizable organic compositions and diaryliodonium ketone salts used therein |
US4725653A (en) * | 1983-10-27 | 1988-02-16 | Union Carbide Corporation | Low viscosity adducts of a polycaprolactone polyol and a polyepoxide |
GB8332073D0 (en) * | 1983-12-01 | 1984-01-11 | Ciba Geigy Ag | Polymerisable compositions |
DE3561155D1 (de) * | 1984-02-10 | 1988-01-21 | Ciba-Geigy Ag | |
ES8800318A1 (es) * | 1985-04-17 | 1987-11-01 | Union Carbide Corp | Un procedimiento para preparar una composicion curable a base de policaprolactona-poliol y exposido cicloalifatico. |
CA1289803C (en) * | 1985-10-28 | 1991-10-01 | Robert J. Cox | Photoresist composition and printed circuit boards and packages made therewith |
US4892894A (en) * | 1985-11-07 | 1990-01-09 | Union Carbide Chemical And Plastics Company Inc. | Photocopolymerizable compositions based on epoxy and hydroxyl-containing organic materials |
US4654379A (en) * | 1985-12-05 | 1987-03-31 | Allied Corporation | Semi-interpenetrating polymer networks |
US4665006A (en) * | 1985-12-09 | 1987-05-12 | International Business Machines Corporation | Positive resist system having high resistance to oxygen reactive ion etching |
CA1312040C (en) * | 1985-12-19 | 1992-12-29 | Joseph Victor Koleske | Conformal coatings cured with actinic radiation |
US4690957A (en) * | 1986-02-27 | 1987-09-01 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Ultra-violet ray curing type resin composition |
US4657779A (en) * | 1986-03-19 | 1987-04-14 | Desoto, Inc. | Shrinkage-resistant ultraviolet-curing coatings |
EP0255989B1 (de) * | 1986-08-06 | 1990-11-22 | Ciba-Geigy Ag | Negativ-Photoresist auf Basis von Polyphenolen und Epoxidverbindungen oder Vinylethern |
US5300380A (en) * | 1986-08-06 | 1994-04-05 | Ciba-Geigy Corporation | Process for the production of relief structures using a negative photoresist based on polyphenols and epoxy compounds or vinyl ethers |
US4751138A (en) | 1986-08-11 | 1988-06-14 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Coated abrasive having radiation curable binder |
CA1305823C (en) * | 1986-08-29 | 1992-07-28 | Union Carbide Corporation | Photocurable blends of cyclic ethers and cycloaliphatic epoxides |
US4929305A (en) * | 1987-01-30 | 1990-05-29 | General Electric Company | Method of bonding using UV curable epoxy resin compositions with delayed cure |
US4857562A (en) * | 1987-01-30 | 1989-08-15 | General Electric Company | UV curable epoxy resin compositions with delayed cure |
US4760013A (en) * | 1987-02-17 | 1988-07-26 | International Business Machines Corporation | Sulfonium salt photoinitiators |
DE3852661D1 (de) * | 1987-03-27 | 1995-02-16 | Ciba Geigy Ag | Photohärtbare Schleifmittel. |
US4997717A (en) * | 1987-03-27 | 1991-03-05 | Ciba-Geigy Corporation | Photocurable abrasives |
US4994346A (en) * | 1987-07-28 | 1991-02-19 | Ciba-Geigy Corporation | Negative photoresist based on polyphenols and selected epoxy or vinyl ether compounds |
US5047568A (en) * | 1988-11-18 | 1991-09-10 | International Business Machines Corporation | Sulfonium salts and use and preparation thereof |
US4954416A (en) * | 1988-12-21 | 1990-09-04 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Tethered sulfonium salt photoinitiators for free radical polymerization |
US4940651A (en) * | 1988-12-30 | 1990-07-10 | International Business Machines Corporation | Method for patterning cationic curable photoresist |
US5275880A (en) * | 1989-05-17 | 1994-01-04 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Microwave absorber for direct surface application |
US5034446A (en) * | 1989-05-26 | 1991-07-23 | Genesee Polymers Corporation | Stabilized polysiloxane fluids and a process for making the same |
US5034445A (en) * | 1989-05-26 | 1991-07-23 | Genesee Polymers Corporation | Stabilized polysiloxane fluids and a process for making same |
US5077083A (en) * | 1989-12-04 | 1991-12-31 | Dow Corning Corporation | Epoxy-silanol functional UV curable polymers |
US5057550A (en) * | 1989-12-04 | 1991-10-15 | Dow Corning Corporation | Epoxy-silanol functional uv curable polymers |
ATE128478T1 (de) * | 1989-12-07 | 1995-10-15 | Sicpa Holding Sa | Hochreaktive druckfarben. |
DK0526567T3 (da) * | 1990-04-26 | 1997-09-15 | Chesnut Eng | Dybtryk-trykmedium og fremgangsmåder til fremstilling af en dybtryk-trykanordning, hvori mediet anvendes. |
US5694852A (en) * | 1990-04-26 | 1997-12-09 | W.R. Chesnut Engineering, Inc. | Rotogravure printing media and methods of manufacturing a rotogravure printing device employing the media |
JPH04234422A (ja) * | 1990-10-31 | 1992-08-24 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 二重硬化エポキシバックシール処方物 |
US5225316A (en) * | 1990-11-26 | 1993-07-06 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | An imagable article comprising a photosensitive composition comprising a polymer having acid labile pendant groups |
US5102771A (en) * | 1990-11-26 | 1992-04-07 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Photosensitive materials |
US5085972A (en) * | 1990-11-26 | 1992-02-04 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Alkoxyalkyl ester solubility inhibitors for phenolic resins |
US5206116A (en) * | 1991-03-04 | 1993-04-27 | Shipley Company Inc. | Light-sensitive composition for use as a soldermask and process |
US5312715A (en) * | 1991-03-04 | 1994-05-17 | Shipley Company Inc. | Light-sensitive composition and process |
US5248752A (en) * | 1991-11-12 | 1993-09-28 | Union Carbide Chemicals & Plastics Technology Corporation | Polyurethane (meth)acrylates and processes for preparing same |
US5328940A (en) * | 1992-07-20 | 1994-07-12 | Lord Corporation | Radiation-curable compositions containing hydroxy-terminated polyurethanes and an epoxy compound |
TW268969B (de) * | 1992-10-02 | 1996-01-21 | Minnesota Mining & Mfg | |
JP2719748B2 (ja) * | 1993-02-08 | 1998-02-25 | 信越化学工業株式会社 | 新規なオニウム塩及びそれを用いたポジ型レジスト材料 |
US5436063A (en) * | 1993-04-15 | 1995-07-25 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Coated abrasive article incorporating an energy cured hot melt make coat |
US7575653B2 (en) * | 1993-04-15 | 2009-08-18 | 3M Innovative Properties Company | Melt-flowable materials and method of sealing surfaces |
US6485589B1 (en) | 1993-04-15 | 2002-11-26 | 3M Innovative Properties Company | Melt-flowable materials and method of sealing surfaces |
US6120878A (en) * | 1993-07-21 | 2000-09-19 | 3M Innovative Properties Company | Abrasive articles comprising vinyl ether functional resins |
US5310838A (en) * | 1993-09-07 | 1994-05-10 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Functional fluoropolymers |
DE69508812T2 (de) * | 1994-01-28 | 1999-11-04 | Shinetsu Chemical Co | Sulfoniumsalz und chemisch verstärkte Positivresistzusammensetzungen |
TW307791B (de) * | 1994-02-09 | 1997-06-11 | Ciba Sc Holding Ag | |
US5597868A (en) * | 1994-03-04 | 1997-01-28 | Massachusetts Institute Of Technology | Polymeric anti-reflective compounds |
AU3971895A (en) | 1994-10-31 | 1996-05-23 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Visible-light curable epoxy system with enhanced depth of cure |
US5856373A (en) * | 1994-10-31 | 1999-01-05 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Dental visible light curable epoxy system with enhanced depth of cure |
DE9420640U1 (de) * | 1994-12-23 | 1995-03-23 | Lord Corp | Strahlungsaushärtbare Zusammensetzungen mit einem Gehalt an hydroxy-terminierten Polyurethanen und einer Epoxy-Verbindung |
US5612445A (en) * | 1995-02-15 | 1997-03-18 | Arizona Chemical Co. | Ultraviolet curable epoxidized alkyds |
US5877229A (en) * | 1995-07-26 | 1999-03-02 | Lockheed Martin Energy Systems, Inc. | High energy electron beam curing of epoxy resin systems incorporating cationic photoinitiators |
DE19534664A1 (de) * | 1995-09-19 | 1997-03-20 | Thera Ges Fuer Patente | Lichtinitiiert kationisch härtende, dauerflexible Epoxidharzmasse und ihre Verwendung |
DE19534668A1 (de) * | 1995-09-19 | 1997-03-20 | Thera Ges Fuer Patente | Kettenverlängerte Epoxidharze enthaltende, vorwiegend kationisch härtende Masse |
DE19541075C1 (de) * | 1995-11-03 | 1997-04-24 | Siemens Ag | Photohärtbares Harz mit geringem Schwund und dessen Verwendung in einem Stereolithographieverfahren |
US6008266A (en) * | 1996-08-14 | 1999-12-28 | International Business Machines Corporation | Photosensitive reworkable encapsulant |
JPH1087963A (ja) * | 1996-09-20 | 1998-04-07 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | 樹脂組成物および繊維質材料成形型 |
US5837398A (en) * | 1996-09-26 | 1998-11-17 | Three Bond Co., Ltd. | Radiation curable sealing material for batteries |
JP3786480B2 (ja) * | 1996-10-14 | 2006-06-14 | Jsr株式会社 | 光硬化性樹脂組成物 |
JP3626302B2 (ja) * | 1996-12-10 | 2005-03-09 | Jsr株式会社 | 光硬化性樹脂組成物 |
JP3765896B2 (ja) * | 1996-12-13 | 2006-04-12 | Jsr株式会社 | 光学的立体造形用光硬化性樹脂組成物 |
US6254954B1 (en) | 1997-02-28 | 2001-07-03 | 3M Innovative Properties Company | Pressure-sensitive adhesive tape |
US5998495A (en) | 1997-04-11 | 1999-12-07 | 3M Innovative Properties Company | Ternary photoinitiator system for curing of epoxy/polyol resin compositions |
US6025406A (en) * | 1997-04-11 | 2000-02-15 | 3M Innovative Properties Company | Ternary photoinitiator system for curing of epoxy resins |
US6020508A (en) * | 1997-05-16 | 2000-02-01 | National Starch And Chemical Investment Holding Corporation | Radiation- or thermally-initiated cationically-curable epoxide compounds and compositions made from those compounds |
AU711786B2 (en) * | 1997-05-16 | 1999-10-21 | National Starch And Chemical Investment Holding Corporation | Reactive radiation- or thermally-initiated cationically- curable epoxide monomers and compositions made from those monomers |
JP2002504032A (ja) | 1997-06-06 | 2002-02-05 | ミネソタ マイニング アンド マニュファクチャリング カンパニー | インクジェットプリンタペンの結合システムおよびそれを提供するための方法 |
US6001936A (en) | 1997-10-24 | 1999-12-14 | 3M Innovative Properties Company | Dye enhanced durability through controlled dye environment |
US6518362B1 (en) * | 1998-02-18 | 2003-02-11 | 3M Innovative Properties Company | Melt blending polyphenylene ether, polystyrene and curable epoxy |
US6274643B1 (en) | 1998-05-01 | 2001-08-14 | 3M Innovative Properties Company | Epoxy/thermoplastic photocurable adhesive composition |
US6228133B1 (en) | 1998-05-01 | 2001-05-08 | 3M Innovative Properties Company | Abrasive articles having abrasive layer bond system derived from solid, dry-coated binder precursor particles having a fusible, radiation curable component |
US6057382A (en) * | 1998-05-01 | 2000-05-02 | 3M Innovative Properties Company | Epoxy/thermoplastic photocurable adhesive composition |
US6136398A (en) * | 1998-05-01 | 2000-10-24 | 3M Innovative Properties Company | Energy cured sealant composition |
US6077601A (en) | 1998-05-01 | 2000-06-20 | 3M Innovative Properties Company | Coated abrasive article |
US6187836B1 (en) * | 1998-06-05 | 2001-02-13 | 3M Innovative Properties Company | Compositions featuring cationically active and free radically active functional groups, and methods for polymerizing such compositions |
US7005394B1 (en) | 1998-07-10 | 2006-02-28 | 3M Innovative Properties Company | Tackified thermoplastic-epoxy pressure sensitive adhesives |
US6306926B1 (en) | 1998-10-07 | 2001-10-23 | 3M Innovative Properties Company | Radiopaque cationically polymerizable compositions comprising a radiopacifying filler, and method for polymerizing same |
US6235850B1 (en) | 1998-12-11 | 2001-05-22 | 3M Immovative Properties Company | Epoxy/acrylic terpolymer self-fixturing adhesive |
US6294270B1 (en) | 1998-12-23 | 2001-09-25 | 3M Innovative Properties Company | Electronic circuit device comprising an epoxy-modified aromatic vinyl-conjugated diene block copolymer |
US6489042B2 (en) | 1998-12-23 | 2002-12-03 | 3M Innovative Properties Company | Photoimageable dielectric material for circuit protection |
DE19927949A1 (de) * | 1999-06-18 | 2000-12-21 | Delo Industrieklebstoffe Gmbh | Kationisch härtende Masse, ihre Verwendung sowie Verfahren zur Herstellung gehärteter Polymermassen |
WO2001025319A1 (de) * | 1999-10-06 | 2001-04-12 | Georg Gros | Haftprimer für polyamidwerkstoffe |
US6387486B1 (en) | 1999-10-29 | 2002-05-14 | Adhesives Research, Inc. | Pressure sensitive adhesive tape and silicone-free release coating used therein |
US6350792B1 (en) | 2000-07-13 | 2002-02-26 | Suncolor Corporation | Radiation-curable compositions and cured articles |
US6579914B1 (en) | 2000-07-14 | 2003-06-17 | Alcatel | Coating compositions for optical waveguides and optical waveguides coated therewith |
US6716568B1 (en) | 2000-09-15 | 2004-04-06 | Microchem Corp. | Epoxy photoresist composition with improved cracking resistance |
US6696216B2 (en) * | 2001-06-29 | 2004-02-24 | International Business Machines Corporation | Thiophene-containing photo acid generators for photolithography |
JP2003073481A (ja) | 2001-09-06 | 2003-03-12 | Brother Ind Ltd | 活性エネルギー線硬化型組成物、それを含有するインク及びそのインクを使用するプリンタ |
JP2003105077A (ja) | 2001-09-28 | 2003-04-09 | Brother Ind Ltd | 活性エネルギー線硬化型組成物、それを含有するインク及びそのインクを使用するプリンタ |
US20030218269A1 (en) * | 2001-09-28 | 2003-11-27 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | Image-receiving layer composition and overcoat layer composition for ink-jet recording |
US6765036B2 (en) * | 2002-01-15 | 2004-07-20 | 3M Innovative Properties Company | Ternary photoinitiator system for cationically polymerizable resins |
JP2003212965A (ja) * | 2002-01-28 | 2003-07-30 | Brother Ind Ltd | 活性エネルギー線硬化型組成物 |
US6758734B2 (en) | 2002-03-18 | 2004-07-06 | 3M Innovative Properties Company | Coated abrasive article |
EP1348727A3 (de) | 2002-03-29 | 2003-12-03 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | Bildempfangsschichtzusammensetzung und Schutzschichtzusammensetzung für Tintenstrahlaufzeichnungsmedien |
US6773474B2 (en) | 2002-04-19 | 2004-08-10 | 3M Innovative Properties Company | Coated abrasive article |
JP2005527690A (ja) * | 2002-05-28 | 2005-09-15 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 接着テープ |
US20060100299A1 (en) | 2002-07-24 | 2006-05-11 | Ranjit Malik | Transformable pressure sensitive adhesive tape and use thereof in display screens |
EP1540419A1 (de) * | 2002-08-30 | 2005-06-15 | Toyo Gosei Kogyo Co., Ltd. | Verfahren zur herstellung einer strukturausbildungsform |
EP1532487A1 (de) * | 2002-08-30 | 2005-05-25 | Toyo Gosei Co., Ltd. | Strahlungsempfindliche, negativ arbeitende resistzusammensetzung zur herstellungvon mustern und verfahren zur herstellung von mustern |
US20070006493A1 (en) * | 2003-05-12 | 2007-01-11 | Arnold Eberwein | Illuminated license plate for vehicles and vehicle provided with the same |
BRPI0413077A (pt) * | 2003-07-28 | 2006-10-03 | Valspar Sourcing Inc | recipientes de metal possuindo uma extremidade de fácil abertura e método de fabricação dos mesmos |
US7569260B2 (en) * | 2003-08-21 | 2009-08-04 | Asahi Kasei Chemicals Corporation | Photosensitive composition and cured products thereof |
US20070031641A1 (en) * | 2003-09-05 | 2007-02-08 | 3M Innovative Properties Company | License plate for back illumination and method for making same |
JP2007510041A (ja) * | 2003-10-27 | 2007-04-19 | アドヒーシブズ・リサーチ・インコーポレイテッド | ポリ(アルキレンオキシド)ポリマー系感圧接着剤及びこれから形成されるテープ |
US7262228B2 (en) * | 2003-11-21 | 2007-08-28 | Curators Of The University Of Missouri | Photoinitiator systems with anthracene-based electron donors for curing cationically polymerizable resins |
EP1729884A1 (de) * | 2004-01-30 | 2006-12-13 | Corning Incorporated | Multiwellplatte und verfahren zur herstellung einer multiwellplatte unter verwendung eines photohärtbaren klebstoffs mit geringer cytotoxizität |
US20050260522A1 (en) * | 2004-02-13 | 2005-11-24 | William Weber | Permanent resist composition, cured product thereof, and use thereof |
CN2689322Y (zh) * | 2004-02-28 | 2005-03-30 | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 | 主机板固定装置 |
DE602004009539T2 (de) * | 2004-04-07 | 2008-07-24 | 3M Innovative Properties Co., St. Paul | Kennzeichenschild-Anordnung mit Lichtquelle und hinterleuchtetem Kennzeichenschild |
US7449280B2 (en) * | 2004-05-26 | 2008-11-11 | Microchem Corp. | Photoimageable coating composition and composite article thereof |
US20060026904A1 (en) * | 2004-08-06 | 2006-02-09 | 3M Innovative Properties Company | Composition, coated abrasive article, and methods of making the same |
US20060065357A1 (en) | 2004-09-24 | 2006-03-30 | Curwood, Inc. | Process for manufacturing packaging laminates and articles made therefrom |
JP2006131850A (ja) * | 2004-11-09 | 2006-05-25 | Toagosei Co Ltd | 熱硬化性組成物 |
US8287611B2 (en) * | 2005-01-28 | 2012-10-16 | Saint-Gobain Abrasives, Inc. | Abrasive articles and methods for making same |
US7591865B2 (en) * | 2005-01-28 | 2009-09-22 | Saint-Gobain Abrasives, Inc. | Method of forming structured abrasive article |
GB2433637A (en) * | 2005-12-21 | 2007-06-27 | 3M Innovative Properties Co | Semi-transparent retroreflective material |
US8263725B2 (en) * | 2005-12-26 | 2012-09-11 | Kaneka Corporation | Curable composition |
US8435098B2 (en) * | 2006-01-27 | 2013-05-07 | Saint-Gobain Abrasives, Inc. | Abrasive article with cured backsize layer |
GB0602105D0 (en) * | 2006-02-02 | 2006-03-15 | 3M Innovative Properties Co | License plate assembly |
US20100150510A1 (en) * | 2006-10-31 | 2010-06-17 | Nippon Shokubai Co., Ltd | Flexible optical waveguide, process for its production, and epoxy resin composition for flexible optical waveguides |
US7714037B1 (en) * | 2006-12-15 | 2010-05-11 | Henkel Corporation | Photoinitiated cationic epoxy compositions and articles exhibiting low color |
US7947097B2 (en) * | 2006-12-21 | 2011-05-24 | Saint-Gobain Abrasives, Inc. | Low corrosion abrasive articles and methods for forming same |
TW200838967A (en) | 2007-02-02 | 2008-10-01 | Jsr Corp | Composition for radiation-curable adhesive, composite, and method for producing the composite |
EP3378867B1 (de) | 2007-04-17 | 2020-03-25 | Kaneka Corporation | Modifiziertes polyhedrales polysiloxanprodukt und zusammensetzung, in der das modifizierte produkt verwendet wird |
JP4946640B2 (ja) * | 2007-06-06 | 2012-06-06 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | 剥離シート用感エネルギー線重合性組成物、剥離シート、および剥離シートの製造方法 |
JP5101930B2 (ja) | 2007-06-08 | 2012-12-19 | マブチモーター株式会社 | 多角形状外形の小型モータ |
JP2008310001A (ja) * | 2007-06-14 | 2008-12-25 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 感光性樹脂組成物及びパターン形成方法 |
JP2009013315A (ja) * | 2007-07-06 | 2009-01-22 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 封止用組成物 |
JP4946676B2 (ja) * | 2007-07-06 | 2012-06-06 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | 剥離シート用感エネルギー線重合性組成物、剥離シート、および剥離シートの製造方法 |
JP2009051982A (ja) * | 2007-08-29 | 2009-03-12 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 硬化型粘接着材料 |
DE102007043559B4 (de) * | 2007-09-13 | 2012-05-31 | Carl Zeiss Vision Gmbh | Verwendung eines lichthärtenden thermoplastischen Epoxidharzklebstoffs zum Blocken oder Kleben von optischen Bauelementen |
KR101800015B1 (ko) | 2007-12-10 | 2017-11-21 | 카네카 코포레이션 | 알칼리 현상성을 갖는 경화성 조성물 및 그것을 사용한 절연성 박막 및 박막 트랜지스터 |
US8047368B2 (en) | 2008-01-23 | 2011-11-01 | Curwood, Inc. | Vacuum skin packaging laminate, package and process for using same |
JP5435879B2 (ja) | 2008-02-14 | 2014-03-05 | 株式会社ダイセル | ナノインプリント用硬化性樹脂組成物 |
JP5101343B2 (ja) | 2008-03-03 | 2012-12-19 | 株式会社ダイセル | 微細構造物の製造方法 |
JP2009265519A (ja) * | 2008-04-28 | 2009-11-12 | Hitachi Cable Ltd | フレキシブル光導波路およびその製造方法 |
JP2010015135A (ja) * | 2008-06-03 | 2010-01-21 | Hitachi Cable Ltd | 光ファイバ固定溝付き光導波路基板およびその製造方法、その製造方法に用いる型、ならびに、その光導波路基板を含む光電気混載モジュール |
EP2133064A1 (de) * | 2008-06-10 | 2009-12-16 | 3M Innovative Properties Company | Initiatorsystem mit einem Diarylalkylamin-Derivat, härtbare Zusammensetzung und deren Verwendung |
EP2133063A1 (de) | 2008-06-10 | 2009-12-16 | 3M Innovative Properties Company | Initiatorsystem mit Biphenylen-Derivaten, Herstellungsverfahren und Verwendung dafür |
CN102171268B (zh) | 2008-10-02 | 2016-05-18 | 株式会社钟化 | 光固化性组合物以及固化物 |
WO2010075248A1 (en) | 2008-12-23 | 2010-07-01 | 3M Innovative Properties Company | Curable fiber and compositions comprising the same; method of trating a subterranean formation |
EP2376590A1 (de) | 2008-12-23 | 2011-10-19 | 3M Innovative Properties Company | Fluidzusammensetzung mit partikeln und ihre verwendung zur modifizierung eines bohrlochs |
SG10201405425XA (en) | 2009-10-01 | 2014-10-30 | Hitachi Chemical Co Ltd | Material for organic electronics, organic electronic element, organic electroluminescent element, display element using organic electroluminescent element, illuminating device, and display device |
KR20140108701A (ko) | 2010-04-22 | 2014-09-12 | 히타치가세이가부시끼가이샤 | 유기 일렉트로닉스 재료, 중합 개시제 및 열중합 개시제, 잉크 조성물, 유기 박막 및 그 제조 방법, 유기 일렉트로닉스 소자, 유기 일렉트로 루미네센스 소자, 조명 장치, 표시 소자, 및 표시 장치 |
JP5622564B2 (ja) | 2010-06-30 | 2014-11-12 | 富士フイルム株式会社 | 感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン形成方法、パターン膜、低屈折率膜、光学デバイス、及び、固体撮像素子 |
DE102011105593A1 (de) | 2011-06-27 | 2012-12-27 | Sml Verwaltungs Gmbh | Auskleidungsschlauch für die Sanierung von Leitungssystemen und Verfahren zur Sanierung von Leitungssystemen |
DE102012202377A1 (de) | 2011-10-21 | 2013-04-25 | Tesa Se | Klebemasse insbesondere zur Kapselung einer elektronischen Anordnung |
CN103087640A (zh) | 2011-11-08 | 2013-05-08 | 汉高股份有限公司 | 双固化粘合剂组合物及其用途以及粘合基底的方法 |
US9096759B2 (en) | 2011-12-21 | 2015-08-04 | E I Du Pont De Nemours And Company | Printing form and process for preparing the printing form with curable composition having solvent-free epoxy resin |
DE102012206273A1 (de) | 2012-04-17 | 2013-10-17 | Tesa Se | Vernetzbare Klebmasse mit Hart- und Weichblöcken als Permeantenbarriere |
EP2900779B1 (de) * | 2012-09-29 | 2018-12-19 | 3M Innovative Properties Company | Haftzusammensetzung und haftband |
US10131817B2 (en) | 2012-10-02 | 2018-11-20 | Elkem Silicones France Sas | Cationically cross-linkable/polymerizable composition comprising an iodonium borate and releasing an acceptable odor |
JP5901070B2 (ja) | 2012-10-26 | 2016-04-06 | 日本化薬株式会社 | 感光性樹脂組成物、レジスト積層体及びそれらの硬化物 |
JP5967824B2 (ja) | 2012-10-26 | 2016-08-10 | 日本化薬株式会社 | 感光性樹脂組成物、レジスト積層体及びそれらの硬化物 |
JP6066413B2 (ja) | 2012-11-22 | 2017-01-25 | 日本化薬株式会社 | 感光性樹脂組成物、レジスト積層体及びそれらの硬化物 |
JP5939964B2 (ja) | 2012-11-22 | 2016-06-29 | 日本化薬株式会社 | 感光性樹脂組成物、レジスト積層体及びそれらの硬化物 |
DE102012222056A1 (de) | 2012-12-03 | 2014-06-05 | Tesa Se | Lamination starrer Substrate mit dünnen Klebebändern |
WO2014092826A1 (en) | 2012-12-12 | 2014-06-19 | Empire Technology Development Llc | Nano-encapsulating polymers with high barrier properties |
DE102012024905A1 (de) | 2012-12-20 | 2014-06-26 | Sml Verwaltungs Gmbh | Auskleidungsschlauch für die Sanierung von Leitungssystemen und Verfahren zur Sanierung von Leitungssystemen |
EP2759514A1 (de) | 2013-01-29 | 2014-07-30 | tesa SE | Haftklebemasse enthaltend ein verbundenes Nanopartikelnetzwerk, Verfahren zu ihrer Herstellung sowie die Verwendung derselben |
JP6428600B2 (ja) | 2013-03-08 | 2018-11-28 | 日立化成株式会社 | イオン性化合物を含有する処理液、有機エレクトロニクス素子、及び有機エレクトロニクス素子の製造方法 |
DE102013211047B4 (de) | 2013-06-13 | 2015-04-30 | MTU Aero Engines AG | Verfahren zum Verschließen von Kühlluftbohrungen |
WO2016066434A1 (de) | 2014-10-29 | 2016-05-06 | Tesa Se | Oled kompatible klebemassen mit silanwasserfängern |
WO2016066435A1 (de) | 2014-10-29 | 2016-05-06 | Tesa Se | Klebemassen mit aktivierbaren gettermaterialien |
PL3212728T3 (pl) | 2014-10-29 | 2019-02-28 | Tesa Se | Masy klejące z wielofunkcyjnymi wodnymi wyłapywaczami siloksanów |
EP3253842A1 (de) | 2015-02-06 | 2017-12-13 | tesa SE | Klebemasse mit reduziertem gelbwert |
EP3091059B1 (de) | 2015-05-05 | 2020-09-09 | tesa SE | Klebeband mit klebemasse mit kontinuierlicher polymerphase |
DE102015217860A1 (de) | 2015-05-05 | 2016-11-10 | Tesa Se | Klebeband mit Klebemasse mit kontinuierlicher Polymerphase |
JP6837443B2 (ja) | 2015-06-04 | 2021-03-03 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | Uv硬化性エポキシ/アクリレート接着剤組成物 |
DE102015210345A1 (de) | 2015-06-04 | 2016-12-08 | Tesa Se | Wasserdampfsperrende Klebemasse mit anpolymerisiertem Epoxidsirup |
DE102015210346A1 (de) | 2015-06-04 | 2016-12-08 | Tesa Se | Verfahren zur Herstellung viskoser Epoxidsirupe und danach erhältliche Epoxidsirupe |
JP2019513885A (ja) | 2016-04-04 | 2019-05-30 | テーザ・ソシエタス・ヨーロピア | 暗反応を用いた放射線で活性化可能な感圧接着テープ及びその使用 |
DE102016207550A1 (de) | 2016-05-02 | 2017-11-02 | Tesa Se | Funktionalisierte (Co)Polymere für Klebesysteme und Klebebänder |
DE102016207540A1 (de) | 2016-05-02 | 2017-11-02 | Tesa Se | Wasserdampfsperrende Klebemasse mit hochfunktionalisiertem Poly(meth)acrylat |
DE102016213911A1 (de) | 2016-07-28 | 2018-02-01 | Tesa Se | OLED kompatible Klebemassen mit cyclischen Azasilanwasserfängern |
EP3548273B1 (de) | 2016-12-02 | 2020-12-23 | 3M Innovative Properties Company | Mehrschichtiger haftartikel |
DE102017221072A1 (de) | 2017-11-24 | 2019-05-29 | Tesa Se | Verfahren zur Herstellung haftklebriger Reaktivklebebänder |
US10297370B1 (en) | 2017-12-14 | 2019-05-21 | Tesa Se | Forming a rigid cable harness with a curable sleeve |
DE102018202545A1 (de) | 2018-02-20 | 2019-08-22 | Tesa Se | Zusammensetzung zur Erzeugung einer Klebemasse insbesondere zur Kapselung einer elektronischen Anordnung |
DE102018216868A1 (de) | 2018-10-01 | 2020-04-02 | Tesa Se | Latent reaktiver Klebefilm |
JP7297442B2 (ja) * | 2018-12-27 | 2023-06-26 | キヤノン株式会社 | 微細構造体の製造方法及び液体吐出ヘッドの製造方法 |
DE102019103123A1 (de) | 2019-02-08 | 2020-08-13 | Tesa Se | Thermisch erweichbares Klebeband und Verfahren zum Ummanteln von langgestrecktem Gut insbesondere Leitungen |
DE102019103122A1 (de) | 2019-02-08 | 2020-08-13 | Tesa Se | Mit Feuchtigkeit härtbares Klebeband und Verfahren zum Ummanteln von langgestrecktem Gut insbesondere Leitungen |
DE102019103120A1 (de) | 2019-02-08 | 2020-08-13 | Tesa Se | UV-härtbares Klebeband und Verfahren zum Ummanteln von langgestrecktem Gut insbesondere Leitungen |
DE102019207550A1 (de) | 2019-05-23 | 2020-11-26 | Tesa Se | Verfahren zur Herstellung haftklebriger Reaktivklebebänder |
KR20220044737A (ko) | 2019-08-07 | 2022-04-11 | 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 캄파니 | Uv 경화성 접착제 조성물 및 접착 필름, 접착 테이프, 및 이를 포함하는 접합 구성 요소 |
CN113072900B (zh) | 2020-01-06 | 2022-09-23 | 3M创新有限公司 | 可紫外光固化的压敏胶组合物及可紫外光固化的压敏胶带 |
CN116724086A (zh) | 2020-12-31 | 2023-09-08 | 3M创新有限公司 | 可紫外线固化的带材 |
DE102021201094A1 (de) | 2021-02-05 | 2022-08-11 | Tesa Se | Polyvinylaromat-Polydien-Blockcopolymer basierende Haftklebemassen mit gesteigerter Wärmescherfestigkeit |
DE102021126466A1 (de) | 2021-10-13 | 2023-04-13 | Tesa Se | Klebeband und Verfahren zum Ummanteln von langgestrecktem Gut insbesondere Leitungen |
DE102021131472A1 (de) | 2021-11-30 | 2023-06-01 | Relineeurope Gmbh | Auskleidungsschlauch zur Sanierung fluidführender Leitungssysteme |
DE102022105737A1 (de) | 2022-03-11 | 2023-09-14 | Tesa Se | Aushärtbare Klebemasse mit verbesserter Stanzbarkeit und verbesserten Schockeigenschaften |
DE102022105738A1 (de) | 2022-03-11 | 2023-09-14 | Tesa Se | Aushärtbare Klebemasse mit verbesserter Stanzbarkeit |
WO2024003637A1 (en) | 2022-06-29 | 2024-01-04 | 3M Innovative Properties Company | Curable adhesive and articles for bonding pavement and concrete |
DE102022117183A1 (de) | 2022-07-11 | 2024-01-11 | Tesa Se | Unvernetztes Polyepoxid und Klebemasse umfassend dieses Polyepoxid |
DE102022124902A1 (de) | 2022-09-28 | 2024-03-28 | Tesa Se | Kationisch härtbare Klebemasse mit Indikation der Haltefestigkeit |
DE102022124903A1 (de) | 2022-09-28 | 2024-03-28 | Tesa Se | Kationisch härtbare Klebemasse mit definierter Färbung im ausgehärteten Zustand |
DE102022124904A1 (de) | 2022-09-28 | 2024-03-28 | Tesa Se | Aushärtbare Haftklebemasse mit verbesserten Klebeeigenschaften |
DE102022124905A1 (de) | 2022-09-28 | 2024-03-28 | Tesa Se | Verfahren zur Ummantelung einer Batteriezelle |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL109838C (de) * | 1957-01-22 | |||
US3410824A (en) * | 1965-03-19 | 1968-11-12 | Ralph B. Atkinson | Light sensitive resin from a dihydroxy chalcone and an epoxy prepolymer |
US3412046A (en) * | 1965-07-01 | 1968-11-19 | Dexter Corp | Catalyzed polyepoxide-anhydride resin systems |
US3567453A (en) * | 1967-12-26 | 1971-03-02 | Eastman Kodak Co | Light sensitive compositions for photoresists and lithography |
US3826650A (en) * | 1968-08-20 | 1974-07-30 | American Can Co | Epoxy photopolymer duplicating stencil |
DE2115918C3 (de) * | 1971-04-01 | 1980-04-24 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Verfahren zur Herstellung von Epoxydpolyaddukten |
US3816280A (en) * | 1971-05-18 | 1974-06-11 | American Can Co | Photopolymerizable epoxy systems containing cyclic amide gelation inhibitors |
US3711390A (en) * | 1971-05-18 | 1973-01-16 | J Feinberg | Photopolymerizable epoxy systems containing substituted cyclic amides or substituted ureas as gelation inhibitors |
US3729313A (en) * | 1971-12-06 | 1973-04-24 | Minnesota Mining & Mfg | Novel photosensitive systems comprising diaryliodonium compounds and their use |
US3816281A (en) * | 1973-04-30 | 1974-06-11 | American Can Co | Poly(vinyl pyrrolidone)stabilized polymerized epoxy compositions and process for irradiating same |
AU497960B2 (en) * | 1974-04-11 | 1979-01-25 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Photopolymerizable compositions |
US4175973A (en) * | 1974-05-02 | 1979-11-27 | General Electric Company | Curable compositions |
US4058401A (en) * | 1974-05-02 | 1977-11-15 | General Electric Company | Photocurable compositions containing group via aromatic onium salts |
GB1516512A (en) * | 1974-05-02 | 1978-07-05 | Gen Electric | Chalcogenium salts |
GB1516352A (en) * | 1974-05-02 | 1978-07-05 | Gen Electric | Halonium salts |
US4175972A (en) * | 1974-05-02 | 1979-11-27 | General Electric Company | Curable epoxy compositions containing aromatic onium salts and hydroxy compounds |
US4026705A (en) * | 1975-05-02 | 1977-05-31 | General Electric Company | Photocurable compositions and methods |
US4108747A (en) * | 1976-07-14 | 1978-08-22 | General Electric Company | Curable compositions and method for curing such compositions |
-
1975
- 1975-09-02 US US05/609,898 patent/US4256828A/en not_active Expired - Lifetime
-
1976
- 1976-08-09 CA CA258,706A patent/CA1114089A/en not_active Expired
- 1976-08-30 SE SE7609584A patent/SE427277C/xx unknown
- 1976-09-01 BE BE170268A patent/BE845746A/xx not_active IP Right Cessation
- 1976-09-01 ZA ZA765241A patent/ZA765241B/xx unknown
- 1976-09-01 GB GB36215/76A patent/GB1565671A/en not_active Expired
- 1976-09-01 DE DE19762639395 patent/DE2639395A1/de active Granted
- 1976-09-01 AU AU17359/76A patent/AU497066B2/en not_active Expired
- 1976-09-01 IT IT51101/76A patent/IT1066298B/it active
- 1976-09-01 CH CH1108276A patent/CH630655A5/de not_active IP Right Cessation
- 1976-09-01 JP JP51103780A patent/JPS5942688B2/ja not_active Expired
- 1976-09-01 FR FR7626391A patent/FR2322897A1/fr active Granted
- 1976-09-01 BR BR7605796A patent/BR7605796A/pt unknown
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19736471A1 (de) * | 1997-08-21 | 1999-02-25 | Espe Dental Ag | Lichtinduziert kationisch härtende Zusammensetzungen und deren Verwendung |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
BR7605796A (pt) | 1977-08-16 |
AU1735976A (en) | 1978-03-09 |
DE2639395A1 (de) | 1977-03-10 |
SE427277B (sv) | 1983-03-21 |
FR2322897A1 (fr) | 1977-04-01 |
GB1565671A (en) | 1980-04-23 |
CH630655A5 (de) | 1982-06-30 |
SE427277C (sv) | 1985-03-17 |
AU497066B2 (en) | 1978-11-23 |
JPS5230899A (en) | 1977-03-08 |
US4256828A (en) | 1981-03-17 |
ZA765241B (en) | 1977-08-31 |
JPS5942688B2 (ja) | 1984-10-17 |
SE7609584L (sv) | 1977-03-03 |
CA1114089A (en) | 1981-12-08 |
IT1066298B (it) | 1985-03-04 |
BE845746A (fr) | 1977-03-01 |
FR2322897B1 (de) | 1982-01-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE2639395C2 (de) | ||
US4318766A (en) | Process of using photocopolymerizable compositions based on epoxy and hydroxyl-containing organic materials | |
DE2954646C2 (de) | ||
EP0646580B1 (de) | Vinyletherverbindungen mit zusätzlichen von Vinylethergruppen verschiedenen funktionellen Gruppen und deren Verwendung zur Formulierung härtbarer Zusammensetzungen | |
DE60129666T2 (de) | Polymerisierbare zusammensetzung und gehärtetes harz daraus, verfahren zur seiner herstellung | |
DE2520489C2 (de) | Photopolymerisierbare Massen | |
US4231951A (en) | Complex salt photoinitiator | |
EP0054509B1 (de) | Sulfoxoniumsalzpolymerisationskatalysatoren | |
DE2035890B2 (de) | Verfahren zur polymerisation von monomeren epoxyden | |
DE2315500A1 (de) | Polymerisierbares epoxydgemisch | |
US4977199A (en) | Photo curable blends of 2-methyoxytetrahydropyran and a cycloaliphatic diepoxide | |
DE2731396A1 (de) | Haertbare zusammensetzungen | |
DE2559718A1 (de) | Verfahren zur kationischen polymerisation von epoxyharz | |
EP0380010B1 (de) | Strahlungsempfindliche, ethylenisch ungesättigte, copolymerisierbare Sulfoniumsalze und Verfahren zu deren Herstellung | |
EP0146501A2 (de) | Polymerisierbare Zusammensetzungen | |
DE3604580A1 (de) | Haertbare mischungen, enthaltend n-sulfonylaminosulfoniumsalze als kationisch wirksame katalysatoren | |
DE2602574A1 (de) | Photopolymerisierbare massen | |
CH642387A5 (de) | Photopolymerisierbare gemische. | |
EP0732625A2 (de) | Stabilisierung flüssiger strahlungshärtbarer Zusammensetzungen gegen unerwünschte vorzeitige Polymerisation | |
EP0441232A2 (de) | Verfahren zur kationischen Photopolymerisation | |
DE2557078C3 (de) | Lichtempfindliche Masse | |
DE69729463T2 (de) | Monomere, oligomere und polymere mit oxiranendgruppen, verfahren zu ihrer herstellung und ihre kationische strahlungspolymerisation | |
EP0145653B1 (de) | Photopolymerisierbare Zusammensetzungen | |
DE2361141A1 (de) | Photopolymerisierbare materialien und verfahren zur photopolymerisation | |
DE2313627C2 (de) | Stabilisierte polymerisierbare Zubereitung |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8328 | Change in the person/name/address of the agent |
Free format text: TAUCHNER, P., DIPL.-CHEM. DR.RER.NAT. HEUNEMANN, D., DIPL.-PHYS. DR.RER.NAT. RAUH, P., DIPL.-CHEM. DR.RER.NAT. HERMANN, G., DIPL.-PHYS. DR.RER.NAT. SCHMIDT, J., DIPL.-ING. JAENICHEN, H., DIPL.-BIOL. DR.RER.NAT., PAT.-ANWAELTE TREMMEL, H., RECHTSANW., 8000 MUENCHEN |