CH630655A5 - Photopolymerisierbare massen und deren verwendung. - Google Patents
Photopolymerisierbare massen und deren verwendung. Download PDFInfo
- Publication number
- CH630655A5 CH630655A5 CH1108276A CH1108276A CH630655A5 CH 630655 A5 CH630655 A5 CH 630655A5 CH 1108276 A CH1108276 A CH 1108276A CH 1108276 A CH1108276 A CH 1108276A CH 630655 A5 CH630655 A5 CH 630655A5
- Authority
- CH
- Switzerland
- Prior art keywords
- substituted
- aromatic
- groups
- compositions according
- hydroxyl
- Prior art date
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
- G03F7/0385—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable using epoxidised novolak resin
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G59/00—Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
- C08G59/18—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
- C08G59/40—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the curing agents used
- C08G59/62—Alcohols or phenols
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G59/00—Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
- C08G59/18—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
- C08G59/68—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the catalysts used
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/114—Initiator containing
- Y10S430/115—Cationic or anionic
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/114—Initiator containing
- Y10S430/122—Sulfur compound containing
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/114—Initiator containing
- Y10S430/126—Halogen compound containing
Description
Die Erfindung betrifft photopolymerisierbare Massen, die bei der Belichtung mit aktinischer Strahlung oder Elektronenstrahlen aushärten.
Die erfindungsgemässen photopolymerisierbaren Massen, enthaltend a) ein erstes organisches Material mit einer Epoxidfunktio-nalität von mehr als 1,5,
b) ein zweites organisches Material mit einer Hydroxyl-funktionalität von mindestens 1 und c) einen Initiator,
sind dadurch gekennzeichnet, dass sie als Initiator ein aromatisches Jodonium-Komplexsalz der Formel I
1 © 2 0 Ar"; J Ar X
_(xn]
in der Ar1 und Ar2 aromatische Gruppen mit 4 bis 20 C-Atomen bedeuten, die im Falle n=0 aus der Reihe Phenyl, substituiertes Phenyl, Thienyl, substituiertes Thienyl, Furanyl, substituiertes
5
10
15
20
25
30
35
40
45
50
55
60
65
3
630655
Furanyl, und substituiertes Pyrazolyl, und im Falle n=1 aus der Reihe Phenylen, substituiertes Phenylen, Thiophendiyl, substituiertes Thiophendiyl, Furandiyl, substituiertes Furandiyl, und substituiertes Pyrazoldiyl ausgewählt sind,
-Z- ein Sauerstoff- oder Schwefelatom, eine C-C-Bindung oder eine der folgenden Gruppen ist: $=0, <£=0,0=^=0, R-fjT, wobei R ein Aryl- oder Acylrest ist, oder Ri-(^-R2, wobei Ri und R2 je für ein Wasserstoffatom, einen Alkylrest mit 1 bis 4 C-Atomen oder einen Alkenylrest mit 2 bis 4 C-Atomen stehen, n den Wert 0 oder 1 hat, und
X " ein Tetrafluoroborat-, Hexafluorophosphat-, Hexafluo-roarsenat- oder Hexafluoroantimonat-Komplexanion darstellt, und/oder ein aromatisches Sulfonium-Komplexsalz der Formel II
in der
-Z-, n und X0 die bei Formel I angegebenen Bedeutungen haben, und
Ri, R2 und R3 je eine aromatische Gruppe mit 4 bis 20 C-Atomen oder einen Alkyl- oder substituierten Alkylrest mit 1 bis 20 C-Atomen bedeuten, wobei mindestens einer der Reste Ri, R2 und R3 aromatisch ist,
enthalten.
Darüber hinaus enthalten die Massen vorzugsweise einen Sensibilisator für den Photoinitiator. Die photocopolymerisier-baren Massen der Erfindung vermeiden in der Regel die Nachteile entsprechender bekannter Massen. Beispielsweise sind sie stabile Einpackungssysteme mit langer Gebrauchsdauer, die unter Strahlungseinwirkung selbst bei Raumtemperatur oder darunter härten. Falls die Massen mehr Epoxidäquivalente enthalten als Äquivalente an hydroxylhaltigem Material, besitzen die gehärteten Massen normalerweise ausgezeichnete Zähigkeit, Abriebbeständigkeit, Haftung auf Metall, Glas, Kunststoff, Holz und anderen Oberflächen sowie Chemikalienbeständigkeit. Falls das Epoxid einen relativ geringen Gewichtsanteil der Masse ausmacht und das hydroxylhaltige Material polyfunktional ist, hängen im allgemeinen die Eigenschaften der gehärteten Masse in erster Linie von den Eigenschaften des hydroxyl-haltigen Materials ab. Auch flüssige hydroxylhaltige organische Materialien können mit flüssigen Epoxiden kombiniert werden, wobei lösungsmittelfreie Beschichtungsmassen mit niedriger Viskosität und ausgezeichneter thermischer Stabilität entstehen. Diese Massen können dennoch schnell gehärtet werden, ohne flüchtige Bestandteile freizusetzen, wobei zähe flexible Überzüge mit ausgezeichneten Eigenschaften entstehen. Bei Verwendung dieser lösungsmittelfreien flüssigen Massen werden beispielsweise die Probleme und Nachteile lösungsmittel-haltiger Beschichtungsmassen vermieden und der Energieverbrauch sowie die Umweltbelastung minimal gehalten. Die Massen der Erfindung eignen sich gewöhnlich für verschiedene Anwendungsbereiche, z. B. als strahlungshärtbare Farbbindemittel, Binder für Schleifmittel, Anstrichmittel, Klebstoffe, Beschichtungsmassen für Lithographie- und Reliefdruckplatten und als Schutzüberzüge für Metalle, Holz usw.
Durch Auswahl eines geeigneten hydroxylhaltigen organischen Material als Comonomer für das Epoxid erhält man üblicherweise eine lagerstabile, photopolymerisierbare Masse, die sich durch Bestrahlen mit Licht oder Elektronenstrahlen leicht zu einer gehärteten Masse mit ausgezeichneten physikalischen Eigenschaften aushärten lässt.
Geeignete epoxidhaltige Materialien sind organische Verbindungen mit einem Oxiranring
I I
( - c - c - )
die durch Ringöffnung polymerisierbar sind. Derartige Materialien werden allgemein als Epoxide bezeichnet; sie umfassen im allgemeinen monomere und polymere Epoxide, die aliphatischer, cycloaliphatischer, aromatischer oder heterocyclischer Natur sein können. Diese Materialien weisen im Durchschnitt mehr als 1,5 polymerisierbare Epoxygruppen pro Molekül auf, vorzugsweise 2 oder mehr Epoxygruppen pro Molekül. Zu den polymeren Epoxiden zählen z. B. lineare Polymere mit Epoxy-Endgruppen, z. B. Diglycidyläther von Polyoxyalkylenglykolen, Polymere mit Gerüst-Oxiraneinheiten, z. B. Polybutadien-poly-epoxid, und Polymere mit Epoxy-Seitengruppen, z. B. Glycidyl-methacrylat-Polymerisate oder -copolymerisate. Die Epoxide können als reine Verbindungen vorliegen; üblicherweise sind sie jedoch Gemische, die zwei oder mehrere Epoxygruppen pro Molekül enthalten. Die durchschnittliche Anzahl von Epoxygruppen pro Molekül wird dadurch ermittelt, dass man die Gesamtzahl der Epoxygruppen im epoxyhaltigen Material durch die Gesamtzahl der vorhandenen Epoxymoleküle dividiert.
Als epoxyhaltige Materialien eignen sich im allgemeinen sowohl niedermolekulare Monomere als auch hochmolekulare Polymere, die in der Art des chemischen Gerüsts und der Sub-stituenten grosse Unterschiede aufweisen können. Das Gerüst und die Substituenten können von beliebiger Art sein, allerdings dürfen letztere kein aktives Wasserstoffatom enthalten, das mit Oxiranringen bei Raumtemperatur reagieren kann. Beispiele für geeignete Substituenten sind Halogenatome, Ester-, Äther-, Sulfonat-, Siloxan-, Nitro- und Phosphatgruppen. Das Molekulargewicht des epoxyhaltigen Materials kann z. B. 58 bis etwa 100 000 oder höher betragen. Die Massen der Erfindung können auch Gemische aus verschiedenen epoxyhaltigen Materialien enthalten.
Brauchbare epoxyhaltige Materialien sind z. B. Cyclohexen-oxid-Gruppen enthaltende Materialien, z. B. Epoxycyclohexan-carboxylate, wie 3,4-Epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycycIohe-xancarboxylat,3,4-Epoxy-2-methylcyclohexylmethyl-3,4-epoxy-2-methylcyclohexancarboxylat und Bis-(3,4-epoxy-6-me-thylcyclohexylmethyl)-adipat. Weitere Epoxide dieser Art sind beispielsweise in der US-PS 3 117 099 beschrieben.
Weitere geeignete epoxyhaltige Materialien sind Glycidyl-äthermonomere der Formel
R'(0CHo-CH—-CH0)n a X/ 2
0
in der R' ein Alkylrest oder Arylrest und n eine ganze Zahl von 1 bis 6 ist. Beispiele hierfür sind die Glycidyläther von mehrwertigen Phenolen, die durch Umsetzen eines mehrwertigen Phenols mit überschüssigem Chlorhydrin, wie Epichlorhydrin, erhalten werden, z. B. der Diglycidyläther von 2,2-Bis-(2,3-epo-xypropoxyphenol)-propan. Weitere Epoxide dieser Art sind beispielsweise in der US-PS 3 018 262 und bei Lee und Neville, «Handbook of Epoxy Resins» McGraw-Hill Book Co., New Y ork ( 1967) beschrieben.
Im Rahmen der Erfindung können auch zahllose handelsübliche epoxyhaltige Materialien eingesetzt werden. Hierzu zäh-
5
10
15
20
25
30
35
40
45
50
55
60
65
630655
Ieri z. B. leicht verfügbare Epoxide, wie Octadecylenoxid, Epichlorhydrin, Styroloxid, Vinylcyclohexenoxid, Glycidol, Glycidylmethacrylat, Diglycidyläther von Bisphenol A (z. B. «Epon 828», «Epon 1004» und «Epon 1010» der Shell Chemical Co.; «DER-331», «DER-332» und «DER-334» der Dow Chemical Co.), Vinylcyclohexendioxid (z. B. «ERL-4206» der Union Carbide Corp.), 3,4-Epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohe-xencarboxylat (z. B. «ERL-4221» der Union Carbide Corp.), 3,4-Epoxy-6-methylcyclohexylmethyl-3,4-epoxy-6-methylcyclo-hexencarboxylat (z. B. «ERL-4201» der Union Carbide Corp.), Bis-(3,4-epoxy-6-methylcyclohexylmethyl)-adipat, Bis-(2,3-epoxy-cyclopentyl)-äther, aliphatische, mit Polypropylenglykol modifizierte Epoxyverbindungen, Dipentendioxid, epoxydier-tes Polybutadien, Silikonharze mit Epoxyfunktionalität, flammwidrige Epoxyharze, 1,4-Butandioldiglycidyläther von Phenol-Formaldehyd-Novolak (z. B. «DEN-431» und «DEN-438» der Dow Chemical Co.) und Resorcin-diglycidyläther.
Weitere geeignete epoxyhaltige Materialien sind Copo-lymerisate von Acrylsäure-Glycidestern, wie Glycidylacrylat und Glycidylmethacrylat, mit einer oder mehreren copolymeri-sierbaren Vinylverbindungen, z. B. 1 :l-Styrol-Glycidylmetha-crylat, 1:1-Methylmethacrylat-Glycidylacrylat und 62,5:24:13,5-Methylmethacrylat-Äthylacrylat-Glycidylmethacrylat.
Ferner eignen sich als epoxyhaltige Materialien bekannte Epoxide, z. B. Epichlorhydrine, wie Epichlorhydrin, Alkylen-oxide, wie Propylenoxid und Styroloxid, Alkenyloxide, wie Butadienoxid, und Glycidylester, wie Glycidäthylester.
Das erfindungsgemäss verwendete hydroxylhaltige Material ist ein flüssiges oder festes organisches Material mit einer Hydroxylfunktionalität von mindestens 1, vorzugsweise mindestens 2. Auch das hydroxylhaltige organische Material ist normalerweise frei von andern aktiven Wasserstoffatomen. Der Ausdruck «aktives Wasserstoffatom» entspricht hierbei der üblichen Definition; vgl. Zerewitinoff, J. Am. Chem. Soc., Bd. 49, S. 3181 (1927). Das hydroxylhaltige Material ist darüber hinaus im wesentlichen frei von Gruppen, die thermisch oder photoly-tisch instabil sind. Mit anderen Worten: es erfolgt im allgemeinen keine Zersetzung oder Freisetzung flüchtiger Bestandteile bei Temperaturen unterhalb etwa 100 °C oder in Gegenwart von aktinischer Strahlung bzw. Elektronenstrahlen während der Aushärtung.
Bevorzugte organische Materialien enthalten zwei oder mehrere primäre oder sekundäre aliphatische Hydroxylgruppen (d. h. Hydroxylgruppen, die direkt an ein nicht-aromatisches Kohlenstoffatom gebunden sind). Die Hydroylgruppen können Endgruppen oder Seitengruppen eines Polymerisats oder Copolymerisats sein. Das mittlere Molekulargewicht (Zahlenmittel) des hydroxylhaltigen organischen Materials kann von sehr niedrigen Werten (z. B. 62) bis zu sehr hohen Werten (z. B. 1 000 000 oder mehr) reichen. Das Äquivalentgewicht (Zahlenmittel) des hydroxylhaltigen Materials liegt vorzugsweise im Bereich von etwa 31 bis 5000. Materialien mit höheren Äquivalentgewichten neigen gewöhnlich zu einer Verringerung der Geschwindigkeit und des Ausmasses der Copo-lymerisation.
Beispiele für geeignete organische Materialien mit einer Hydroxylfunktionalität von 1 sind Alkanole, Monoalkyläther von Polyoxyalkylenglykolen und Monoalkyläther von Alky-lenglykolen.
Spezielle Beispiele für geeignete monomere organische Polyhydroxy Verbindungen sind Alkylenglykole, wie 1,2-Äthan-diol, 1,3-Propandiol, 1,4-Butandiol, 2-Äthyl-l,6-hexandiol, Bis-(hydroxymethyl)-cyclohexan, 1,18-Dihydroxyoctadecan und 3-Chlor-l,2-propandiol, Polyhydroxyalkane, wie Glycerin, Tri-methyloläthan, Pentaerythrit und Sorbit, und andere Polyhydroxy Verbindungen, wie N,N-Bis-(hydroxyäthyl)-benzamid, 2-Butin-l ,4-diol-4,4'-Bis-(hydroxymethyl)-diphenylsulfon und Ricinusöl.
Beispiele für geeignete polymere hydroxyhaltige Materialien sind Polyoxyäthylen- und Polyoxypropylenglykole und -triole mit Molekulargewichten von etwa 200 bis 10 000, was Äquivalentgewichten von 1Q0 bis 5000 für die Diole bzw. 70 bis 3300 für die Triole entspricht, Polytetramethylenglykole von unterschiedlichem Molekulargewicht, Copolymerisate von Hydroxypropyl-und Hydroxyäthylacrylaten bzw. -methacryla-ten mit anderen radikalisch polymerisierbaren Monomeren, wie Acrylsäureestern, Vinylhalogeniden oder Styrol, Copolymerisate mit Hydroxyl-Seitengruppen, die durch vollständige oder teilweise Hydrolyse von Vinylacetat-Copolymerisaten erhalten worden sind, Polyvinylacetalharze mit Hydroxyl-Seitengruppen, modifizierte Cellulosepolymere, wie hydroxyäthy-lierte und hydroxypropylierte Cellulose, sowie Polyester, Poly-lactone und Polyalkadiene mit Hydroxyl-Endgruppen.
Als handelsübliche hydroxylhaltige Materialien eignen sich z. B. die «Polymeg»-Produkte der Quaker Oats Company (Poly-tetramethylenätherglykole) wie Polymeg 650,1000 und 2000; die «PEP»-Produkte der Wyandotte Chemicals Corporation (Polyoxyalkylentetrole mit sekundären Hydroxylgruppen), wie Pep 450,550 und 650; die «Butvar»-Produkte der Monsanto Chemical Company (Polyvinylacetalharze), wie Butvar B-72A, B-73, B-76, B-90 und B-98 und «Formvar» R 7/70,12/85,7/95S, 7/95E, 15/95S und 15/95E; die «PCP»-Produkte der Union Carbide (Polycaprolactonpolyole), wie PCP 0200,0210,0230,0240 und 0300; «Paraplex U-148» von Röhm und Haas (aliphatisches Polyesterdiol), die «Multron»-Produkte der Mobay Chemical Co. (gesättigte Polyesterpolyole), wie Multron R-2, R-12A, R-16, R-l 8, R-38, R-68 und R-74; «Klucel E» der Hercules Inc. (hydroxypropylierte Cellulose mit einem Äquivalentgewicht von etwa 100) und «Alcohol Soluble Butyrate» von Eastman Kodak (Cel-luloseacetatbutyrat mit einem Hydroxyl-Äquivalentgewicht von etwa 400).
Die Menge des in den Massen der Erfindung enthaltenen hydroxylhaltigen organischen Materials kann innerhalb weiter Grenzen schwanken; sie richtet sich z. B. nach der Verträglichkeit des hydroxylhaltigen Materials mit dem Epoxid, dem Äquivalentgewicht und der Funktionalität des hydroxyhaltigen Materials, den gewünschten physikalischen Eigenschaften der gehärteten Masse und der gewünschten Härtungsgeschwindigkeit. Im allgemeinen zeigt das gehärtete Produkt bei erhöhten Mengen an hydroxylhaltigem Material eine verbesserte Schlagfestigkeit, Haftung auf Substraten und Biegsamkeit sowie eine verminderte Schrumpfung während des Härtungsvorgangs, während gleichzeitig die Härte, Zugfestigkeit und Lösungsmittelbeständikeit graduell abnehmen.
Obwohl die erfindungsgemässen Massen sowohl monofunktionelle als auch polyfunktionelle hydroxylhaltige Materialien enthalten können, sind für die meisten Anwendungsbereiche polyfunktionelle hydroxylhaltige Materialien bevorzugt. Monofunktionelle hydroxylhaltige Materialien eignen sich beispielsweise insbesondere zur Herstellung lösungsmittelfreier Beschichtungsmassen mit niedriger Viskosität. Bei Verwendung hydroxylhaltiger organischer Materialien, deren Funktionalität beträchtlich unterhalb 2 liegt (z. B. 1 bis 1,5), kann es bei Mengen von mehr als etwa 0,2 Hydroxyläquivalenten pro Epo-xyäquivalent zur Bildung gehärteter Massen kommen, die geringe innere Festigkeit, Zugfestigkeit und Lösungsmittelbeständigkeit besitzen und daher für manche Anwendungsbereiche ungeeignet sind. Diese Tendenz tritt im allgemeinen mit zunehmendem Äquivalentgewicht des hydroxylhaltigen Materials eher in Erscheinung. Bei Verwendung monofunktioneller Hydroxylmaterialien beträgt daher das Äquivalentgewicht vorzugsweise nicht mehr als etwa 250.
Im Falle von polyfunktionellen hydroxylhaltigen Materialien richtet sich die eingesetzte Menge im allgemeinen nach den gewünschten Eigenschaften des gehärteten Produkts. Das Verhältnis von Hydroxyläquivalenten zu Epoxidäquivalenten
4
5
10
15
20
25
30
35
40
45
50
55
60
65
5 630655
kann z. B. etwa 0,001:1 bis 10:1 betragen. In Anwendungsberei- carbamylgruppe, Sulfamylreste, wie die Sulfamyl-, N-Alkylsulfa-chen, bei denen in erster Linie eine Flexibilisierung von Epoxy- myl-, N,N-Dialkylsulfamyl-und N-Phenylsulfamylgruppe, Alko-harzen beabsichtigt ist (z. B. bei Schutzüberzügen auf Metal- xyrest, wie die Methoxy-, Äthoxy- und Butoxygruppe, Arylreste, len), ermöglichen vorzugsweise niedrige Verhältnisse von bis wie die Phenylgruppe, Alkylreste, wie die Methyl-, Äthyl- und zu 0,001:1 ausgezeichnete Ergebnisse. In Anwendungsberei- 5 Butylgruppe, Aryloxyreste, wie die Phenoxygruppe, Alkylsulfo-chen, bei denen das Epoxid in erster Linie zum Unlöslichma- nylreste, wie die Methylsulfonyl- und Äthylsulfonylgruppe,
chen eines filmbildenden thermoplastischen organischen Poly- Arylsulfonylreste, wie die Phenylsulfonylgruppe, Perfluoralkyl-hydroxymaterials dient (z. B. bei Überzügen auf Druckplatten), reste, wie die TrifIuormethyl- und Perfluoräthylgruppe, und können Verhältnisse von Hydroxyläquivalenten zu Epoxidäqui- Perfluoralkylsulfonylreste, wie die Trifluormethylsulfonyl- und valenten von bis zu 10:1 angewandt werden. Im allgemeinen io Perfluorbutylsulfonylgruppe.
verleihen höhere Hydroxyl-Äquivalentgewichte der gehärteten Spezielle Beispiele für aromatische Jodonium-Komplex-Masse eine höhere Zähigkeit und Flexibilität. salzphotoinitiatoren sind:
Gegebenenfalls können Gemische von hydroxylhaltigen Diphenyljodoniumtetrafluoroborat Materialien verwendet werden, z. B. Gemische aus zwei oder Di-(4-methyIphenyl)-jodoniumtetrafluoroborat mehreren polyfunktionellen Hydroxylmaterialien oder Gemi- 15 PhenyI-4-methylphenyljodoniumtetrafluoroborat sehe aus einem oder mehreren monofunktionellen Hydroxyl- Di-(4-heptylphenyl)-jodoniumtetrafluoroborat materialien mit polyfunktionellen Hydroxylmaterialien. Di-(3-nitrophenyl)-jodoniumhexafiuorophosphat
Die in den Massen der Erfindung verwendeten Photoinitia- Di-(4-chlorphenyl)-jodoniumhexafluorophosphat toren unterteilen sich in zwei Arten, nämlich in aromatische Di-(naphthyl)-jodoniumtetrafluoroborat Jodonium-Komplexsalze und aromatische Sulfonium-Komplex- 20 Di-(4-trifIuormethylphenyl)-jodoniumtetrafluoroborat
Diphenyljodoniumhexafluorophosphat Di-(4-methylphenyl)-jodoniumhexafluorophosphat Diphenyljodoniumhexafluoroarsenat Di-(4-phenoxyphenyl)-jodoniumtetrafluoroborat 25 Phenyl-2-thienyljodoniumhexafluorophosphat 3,5-Dimethylpyrazolyl-4-phenyljodoniumhexafluorophosphat Diphenyljodoniumhexafluoroantimonat 2,2 ' -Diphenyljodoniumtetrafluoroborat Di-(2,4-dichlorphenyl)-jodoniumhexafluorophosphat 30 Di-(4-bromphenyl)-jodoniumhexafluorophosphat in der Ar1 und Ar2 aromatische Gruppen mit 4 bis 20 C-Atomen Di-(4-methoxyphenyl)-jodoniumhexafluorophosphat bedeuten, die im Falle n=0 aus der Reihe Phenyl, substituiertes Di-(3-carboxyphenyl>jodoniumhexafIuorophosphat Phenyl, Thienyl, substituiertes Thienyl, Furanyl, substituiertes Di-(3-methoxycarbonylphenyl>jodoniumhexafluorophosphat Furanyl, und substituiertes Pyrazolyl, und im Falle n= 1 aus der Di-(3-methoxysulfonylphenyl)-jodoniumhexafluorophosphat Reihe Phenylen, substituiertes Phenylen, Thiophendiyl, substi- 35 Di-(4-acetamidophenyl)-jodoniumhexafluorophosphat tuiertes Thiophendiyl, Furandiyl, substituiertes Furandiyl, und Di-(2-benzothienyl)-jodoniumhexafluorophosphat.
substituiertes Pyrazoldiyl ausgewählt sind, Bevorzugte aromatische Jodonium-Komplexsalze sind die
-Z- ein Sauerstoff- oder Schwefelatom, eine C-C-Bindung Diaryljodoniumhexafiuorophosphate und die Diarlyjodonium-oder eine der folgenden Gruppen ist: $=0, (£=0,0=$=0, hexafluoroantimonate. Diese Salze sind in der Regel thermisch R-fJl, wobei R ein Aryl- oder Acylrest ist, oder Ri-Ç-Rî, wobei 40 besonders stabil, bewirken eine schnelle Reaktion und sind in Ri und R2 je für ein Wasserstoffatom, einen Alkylrest mit 1 bis 4 inerten organischen Lösungsmitteln löslicher als andere aro-C-Atomen oder einen Alkenylrest mit 2 bis 4 C-Atomen stehen, matische Jodonium-Komplexsalze.
n den Wert 0 oder 1 hat, und Die aromatischen Jodonium-Komplexsalze können nach
X8 ein Tetrafluoroborat-, Hexafluorophosphat-, Hexafluo- dem Verfahren von Beringer et al., J. Am. Chem. Soc., Bd. 81, S. roarsenat- oder Hexafluoroantimonat-Komplexanion darstellt. 45 342 (1959) aus den entsprechenden aromatischen Jodonium-
Die aromatischen Jodoniumkationen sind stabil und bereits Einfachsalzen, wie Diphenyljodoniumbisulfat, hergestellt wer-bekannt; vgl. z. B. US-PSen 3 565 906,3 712 920,3 759 989 und den. Beispielsweise wird das komplexe Diphenyljodoniumtetra-3 763 187 ; F. Beringer et al, Diaryliodonium Salts IX, J. Am. fluoroborat dadurch hergestellt, dass man eine Lösung von 44 g Chem. Soc, Bd. 81, S. 342-51 (1959), F. Beringer et al, Diarylio- ( 139 mMol) Diphenyljodoniumchlorid bei 60 °C mit einer donium Salts XXIII, J. Chem. Soc. (1964) S. 442-51 und F. Berin- 50 Lösung von 29,2 g (150 mMol) Silberfluoroborat, 2 g Fluorobor-ger et al, Jodonium Salts Containing Heterocyclic lodine, J. säure und 0,5 g Phosphorsäure in etwa 30 ml Wasser versetzt. Org. Chem. Bd. 30, S. 1141 -8 ( 1965). Das ausfallende Silberhalogenid wird abfiltriert und das Filtrat
Die Reste Ar1 und Ar2 sind aromatische Gruppen mit 4 bis eingeengt, wobei Diphenyljodoniumfluoroborat entsteht, das 20 C-Atomen aus der Reihe der Phenyl-, Thienyl-, Furanyl- und durch Umkristallisieren gereinigt werden kann. Pyrazolylgruppen. Diese aromatischen Gruppen können gege- 55 Die aromatischen Jodonium-Einfachsalze können nach benenfalls einen oder mehrere ankondensierte Benzolringe Behringer et al. auf verschiedene Weise hergestellt werden, aufweisen, wie z. B. die Naphthyl-, Benzothienyl-, Dibenzothie- z. B.
nyl-, Benzofuranyl- und Dibenzofuranylgruppe. Diese aromati- (1) durch Kuppeln zweier aromatischer Verbindungen mit sehen Gruppen können gegebenenfalls auch durch eine oder Jodylsulfat in Schwefelsäure,
mehrere der folgenden nichtbasischen Gruppen, die mit Epo- 60 (2) durch Kuppeln zweier aromatischer Verbindungen mit xid- und Hydroxylgruppen praktisch nicht reagieren, substitu- einem Jodat in Essigsäure/Acetanhydrid/Schwefelsäure,
iert sein: Halogenatome, Nitrogruppen, N-Arylanilinoreste, (3) durch Kuppeln zweier aromatischer Verbindungen mit
Esterreste, z. B. Alkoxycarbonylreste, wie die Methoxycarbo- einem Jod-acylat in Gegenwart einer Säure oder nyl-, Äthoxycarbonyl- und Phenoxycarbonylgruppe, Sulfoester- (4) durch Kondensation einer Jodosoverbindung, eines reste, z. B. Alkoxysulfonylreste, wie die Methoxysulfonyl-, Buto- 65 Jodosodiacetats oder einer Jodoxyverbindung mit einer ande-xysulfonyl- und Phenoxysulfonylgruppe, Amidoreste, wie die ren aromatischen Verbindung in Gegenwart einer Säure. Acetamido-, Butyramido- und Äthylsulfonamidogruppe, Carba- Beispielsweise wird Diphenyljodoniumbisulfat nach der mylreste, wie die Carbamyl-, N-Alkylcarbamyl- und N-Phenyl- Methode (3) dadurch hergestellt, dass man ein gründlich salze. Die aromatischen Jodonium-Komplexsalze haben die Formel I
Ar^ J r Ar
O.A.
X
,e
630655 6
gerührtes Gemisch aus 55,5 ml Benzol, 50 ml Acetanhydrid und genatome, Nitrogruppen, Arylreste, Esterreste, z. B. Alkoxycar-53,5 g Kaliumjodat innerhalb 8 Stunden bei einer Temperatur bonylreste, wie die Methoxycarbonyl-, Äthoxycarbonyl- und unterhalb 5 °C mit einem Gemisch aus 35 ml konzentrierter Phenoxycarbonylgruppe, Acyloxyreste, wi Acetoxy- und ProSchwefelsäure und 50 ml Acetanhydrid versetzt. Das Gemisch pionyloxygruppe, Sulfoesterreste, z. B. Alkoxysulfonylreste, wie wird dann weitere 4 Stunden bei 0 bis 5 °C und weitere 48 Stun- 5 die Methoxysulfonyl-, Butoxysulfonyl- und Phenoxysulfonyl-den bei Raumtemperatur gerührt und schliesslich mit 300 ml gruppe, Amidoreste, wie die Acetamido-, Butyramido- und Diäthyläther behandelt. Beim Einengen scheidet sich rohes Äthylsulfonamidogruppe, Carbamylreste, wie die Carbamyl-, Diphenyljodoniumbisulfat aus, das gegebenenfalls durch N-Alkylcarbamyl- und N-Phenylcarbamylgruppen, Sulfamylre-
Umkristallisieren gereinigt werden kann. ste, wie die Sulfamyl-, N-Alkylsulfamyl-, N,N-Dialkylsulfamyl-
Die in den Massen der Erfindung verwendeten aromati- io und N-Phenylsulfamylgruppe, Alkoxyreste, wie die Methoxy-, sehen Sulfonium-Komplexsalzphotoinitiatoren haben die For- Äthoxy- und Butoxygruppe, Arylreste, wie die Phenylgruppe, mei II Alkylreste, wie die Methyl-, Äthyl- und Butylgruppe, Aryloxyre-
ste, wie die Phenoxygruppe, Alkylsulfonylreste, wie die Methyl-sulfonyl- und Äthylsulfonylgruppe, Arylsulfonylreste, wie die 15 Phenylsulfonylgruppe, Perfluoralkylreste, wie die Trifluorme-q thyl und Perfluoräthylgruppe, und Perfluoralkylsulfonylreste,
X wie die Trifluormethylsulfonyl- und Perfluorbutylsulfonyl-
gruppe.
Spezielle Beispiele für aromatische Sulfonium-Komplex-20 salzphotoinitiatoren sind:
Triphenylsulfoniumtetrafluoroborat Methyldiphenylsulfoniumtetrafluoroborat in der Dimethylphenylsulfoniumhexafluorophosphat
-Z-, n und XB die bei Formel I angegebenen Bedeutungen Triphenylsulfoniumhexafluorophosphat haben und 25 Triphenylsulfoniumhexafluoroantimonat
Ri, R2 und R3 je eine aromatische Gruppe mit 4 bis 20 Diphenylnaphthylsulfoniumhexafluoroarsenat
C-Atomen, z. B. substituierte oder unsubstituierte Phenyl-, Thie- Tritolylsulfoniumhexafluorophosphat nyl- oder Furanylgruppen, oder einen Alkyl- oder substituierten Anisyldiphenylsulfoniumhexafluoroantimonat Alkylrest mit 1 bis 20 C-Atomen bedeuten, wobei mindestens 4-Butoxyphenyldiphenylsulfoniumtetrafluoroborat einer der Reste Ri, R2 und R3 aromatisch ist. 30 4-ChlorphenyldiphenylsulfoniumhexafIuoroantimonat
Unter Alkylresten werden hierbei auch substituierte Alkyl- Tris-(4-phenoxyphenyl)-sulfoniumhexafluorophosphat reste verstanden, die z. B. Halogenatome, Hydroxyl-, Alkoxy- Di-(4-äthoxyphenyl>methylsulfoniumhexafluoroarsenat oder Arylreste als Substituenten tragen. Vorzugsweise sind 4-Acetoxy-phenyldiphenylsulfoniumtetrafluoroborat sowohl Ri und R2 als auch R3 aromatisch. Z ist ein Sauerstoff- Tris-(4-thiomethoxyphenyl)-sulfoniumhexafiuorophosphat oder Schwefelatom, eine C-C-Bindung oder einer der folgen- 35 Di-(methoxysulfonylphenyl)-methylsulfoniumhexafIuoroanti-den Gruppen: Ç=0;Ç=0;0=$=0; R-fjI (wobei R ein Aryl- monat rest mit z. B. 6 bis 20 C-Atomen, wie die Phenylgruppe, oder ein Di-(methoxynaphthyl)-methylsulfoniumtetrafluoroborat Acylrst mit z. B. 2 bis 20 C-Atomen, wie die Acetyl- oder Ben- Di-(carbomethoxyphenyl)-methylsulfoniumhexafluoropho-zoylgruppe ist); R4-Ç-R5 (wobei R4 und Rs Wasserstoffatome, sphat
Alkylreste mit 1 bis 4 C-Atomen oder Alkenylreste mit 2 bis 4 40 4-AcetamidophenyldiphenylsulfoniumtetrafIuoroborat C-Atomen sind), n hat den Wert 0 oder 1 und X~ bedeutet ein Dimethylnaphthylsulfoniumhexafluorophosphat halogenhaltiges Komplexanion aus der Reihe der Tetrafluoro- Trifluormethyldiphenylsulfoniumtetrafluoroborat borat-, Hexafluorophosphat-, Hexafluoroarsenat- und Hexa- Phenylmethylbenzylsulfoniumhexafluorophosphat fluoroantimonat-Anionen.
Aromatische Sulfoniumsalze sind üblicherweise bekannt. 45 Triaryl-substituierte Sulfoniumverbindungen lassen sich z. B.
nach den bei G.H. Wiegand et al., Synthesis and Reactions of Triarylsulfonium Halides, J. Org. Chem. Bd. 33, S. 2671-75 (1968) beschriebenen Verfahren herstellen. Die Synthese von alkylsubstituierten aromatischen Sulfoniumsalzen ist beispiels- 50 weise auch bei K. Ohkubo et al., J. Org. Chem. Bd. 36, S. 3149-55 (1971) beschrieben. Das bevorzugte Verfahren zur Herstellung triaryl-substituierter Sulfoniumverbindungen ist in der US-PS 2 807 648 beschrieben. Die komplexen Sulfoniumsalze lassen sich aus den entsprechenden Einfachsalzen, z. B. den Halogeni- 55 (10-Methylphenoxathiiniumhexafluorophosphat)
den, durch Umsetzen mit einem Metall- oder Ammoniumsalz des gewünschten Komplexanions herstellen.
Die Sulfonium-Komplexsalze sind mit mindestens einer,
vorzugsweise drei aromatischen Gruppen substituiert. Spezielle Beispiele für aromatische Gruppen sind solche mit 4 bis 60 20 C-Atomen aus der Reihe der Phenyl-, Thienyl- und Furanylgruppen. Diese aromatischen Gruppen können gegebenenfalls einen oder mehrere ankondensierte Benzoringe aufweisen, wie die Naphthyl-, Benzo thienyl-, Dibenzo thienyl-, Benzofuranyl-und Dibenzofuranylgruppe. Die aromatischen Gruppen kön- 65 nen gegebenenfalls auch durch eine oder mehrere der folgenden nichtbasischen Gruppen, die im wesentlichen mit Epoxid-
und Hydroxylgruppen nicht reagieren, substituiert sein: Halo- (5-Methylthianthreniumhexafluorophospat)
PF
( 10-Phenylthioxantheniumhexafluorophosphat)
( 10-Phenyl-9,9-dimethylthioxantheniumhexafluorophosphat)
( 10-Phenyl-9-oxothioxantheniumtetrafluoroborat)
(5-Methyl-10-oxothianthreniumtetrafluoroborat)
(5-Methyl-l 0,10-dioxothianthreniumhexafluorophosphat)
Bevorzugte aromatische Sulfonium-Komplexsalze sind tria-rylsubstituierte Salze, wie Triphenylsulfoniumhexafluoropho-sphat. Die triaryl-substituierten Salze sind im allgemeinen ther630 655
misch stabiler als die mono- und diarylsubstituierten Salze und ergeben daher ein härtbares Einpackungssystem mit langer Gebrauchsdauer. Bei Verwendung von triaryl-substituierten Komplexsalzen ist gewöhnlich auch die Härtungsgeschwindigkeit bei gegebener Belichtungsmenge grösser. Darüber hinaus sind in der Regel die triaryl-substituierten Komplexsalze der Farbstoffsensibilisierung zugänglicher. Diese Komplexsalze ergeben daher photopolymerisierbare Massen, die sich insbesondere für graphische Zwecke und andere Anwendungsbereiche eignen, in denen nahes Ultraviolett und sichtbares Licht zur Bestrahlung verwendet werden.
Die photopolymerisierbaren Massen der Erfindung können je nach dem verwendeten organischen Material und aromatischem Sulfonium-Komplexsalz, z. B. als Klebstoffe, Dichtungsmassen, Giess- und Formmassen, Füll- und Einbettmassen, Imprägnier- und Beschichtungsmassen verwendet werden. Die Massen sind Einpackungssysteme, die zweckmässig an Ort und Stelle gehärtet werden.
Gegebenenfalls können die photopolymerisierbaren Massen der Erfindung verschiedene herkömmliche nicht-basische Füllstoffe, z. B. Kieselsäure, Talk, Glaspulver, Tone, Zinkoxid oder Metallpulver, wie Aluminium, in einer Menge bis zu etwa 50 Volumenprozent oder mehr, Viskositätsregler, Kautschuke, Klebrigkeitsverbesserer, Pigmente usw. enthalten.
Die photopolymerisierbaren Massen der Erfindung eignen sich insbesondere zur Herstellung von Schutzüberzügen und für graphische Zwecke, da sie überlegene Schlagfestigkeit, Abriebbeständigkeit, Haftung auf festen, elastischen und flexiblen Substraten, z. B. aus Metall, Kunststoff, Gummi, Glas,
Papier, Holz oder Keramik, Lösungsmittel- und Chemikalienbeständigkeit besitzen und zur Herstellung von Bildern mit hoher Auflösung geeignet sind. Zu diesen Anwendungsbereichen zählen z. B. säure- und alkalifeste Bilder für das chemische Mahlen, Gravurbilder, Offsetplatten, der Flexographiedruck, die sieblose Lithographie, Reliefdruckplatten, die Schablonenherstellung, Mikrobilder für gedruckte Schaltungen, Mikrobilder für die Informationsspeicherung, Dekorationen für Papier-, Glas-und Metalloberflächen sowie lichthärtbare Schutzüberzüge. Die Massen eignen sich beispielsweise auch zum Tränken von Substraten, z. B. Glasgeweben, wobei lagerstabile Produkte entstehen, die sich für zahlreiche Herstellungs- und Reparaturverfahren eignen, in denen thermisch härtbare flüssige Massen nicht anwendbar sind.
Die Photopolymerisation der erfindungsgemässen Massen erfolgt gewöhnlich beim Belichten mit aktinischer Strahlung mit einer Wellenlänge im ultravioletten bzw. sichtbaren Spektralbereich. Geeignete Strahlungsquellen sind z. B. Quecksilber- und Xenonlampen, Kohlelichtbögen, Wolframlampen und Sonnenlicht. Die Belichtungszeit beträgt normalerweise weniger als etwa 1 Sekunde bis zu 10 Minuten oder mehr, je nach der Menge des jeweils zu polymerisierenden Materials, dem verwendeten aromatischen Komplexsalz, der Strahlungsquelle, dem Abstand zur Strahlungsquelle und der Dicke des zu härtenden Überzugs. Die Massen können auch durch Einwirkung von Elektronenstrahlen gehärtet werden. Die hierzu erforderliche Dosis beträgt üblicherweise weniger als 1 Megarad bis zu 100 Megarad oder mehr. Ein wesentlicher Vorteil der Elektronen-Strahlhärtung liegt beispielsweise darin, dass stark pigmentierte Massen schneller aushärten als bei der Belichtung mit aktinischer Strahlung.
Die Härtung ist im allgemeinen eine Auslösungsreaktion, d. h. nach Initiierung des Abbaus des aromatischen Jodonium-bzw. Sulfonium-Komplexsalzes durch Belichtung mit einer Strahlungsquelle läuft die Härtungsreaktion ab und setzt sich auch dann fort, wenn die Strahlungsquelle entfernt wird. Durch Anwendung thermischer Energie während oder nach der Belichtung mit einer Strahlungsquelle wird normalerweise die Härtungsreaktion beschleunigt und selbst eine geringfügige
7
5
10
15
20
25
30
35
40
45
50
55
60
65
630655
8
Temperaturerhöhung erhöht die Härtungsgeschwindigkeit.
Die erfindungsgemäss verwendeten aromatischen Jodonium-Komplexsalze sind selbst in der Regel nur im Ultraviolettbereich lichtempfindlich. Sie können jedoch für den nahen Ultraviolettbereich und den sichtbaren Bereich des Spektrums sensibilisiert werden, indem man bekannte Sensibilisatoren für photolysierbare organische Halogenverbindungen einsetzt; vgl. US-PS 3 729 313. Zu diesen Sensibilisatoren zählen z. B. aromatische Amine und gefärbte aromatische polycyclische Kohlenwasserstoffe. Die Verwendung stark basischer Aminover-bindungen ist im allgemeinen weniger bevorzugt, da diese die Polymerisation verzögern.
Die erfindungsgemäss verwendeten aromatischen Sulfonium-Komplexsalze sind selbst normalerweise nur im Ultraviolettbereich lichtempfindlich. Sie können jedoch ebenfalls durch geeignete Sensibilisatoren für den nahen Ultraviolettbereich und den sichtbaren Bereich des Spektrums sensibilisiert werden. Als Sensibilisatoren eignen sich z. B.
a) aromatische tertiäre Amine der Formel
Ar
I
N
Ar, N : Ar
O.A
in der Ar1, Ar2 und Ar3 gleich oder verschieden sind und aromatische Gruppen mit 6 bis 20 C-Atomen bedeuten. Die aromatischen Gruppen können gegebenenfalls z. B. durch Hydroxyl-, Alkoxy-, Acyl- oder Alkylgruppen substituiert sein. Z ist ein Sauerstoff- oder Schwefelatom, eine C-C-Bindung oder eine der folgenden Gruppen: îj>=0; Ç=0; 0=^=0; R-ïjJ (wobei R ein Arylrest mit z. B. 6 bis 20 C-Atomen, wie die Phenyl- oder Naphthylgruppe ist) R4-(^-Rs (wobei R4 und Rs Wasserstoffatome, Alkylreste mit 1 bis 4 C-Atomen oder Alkenylreste mit 2 bis 4 C-Atomen sind) und n hat den Wert 0 oder 1. b) aromatische tertiäre Diamine der Formel
Ar'
|Z \ N - Y - N
J k' \
Ar
Ar in der Y ein Arylenrest oder der Rest Ar8-Z-Ar9 ist, wobei Z dieselbe Bedeutung hat, wie bei den aromatischen tertiären Aminen, Ar4, Ar5, Ar6, Ar7, Ar8 und Ar9 aromatische Gruppen mit 6 bis 20 C-Atomen darstellen und m und n den Wert 0 oder 1 haben. Die aromatischen Gruppen können gegebenenfalls z. B. durch Hydroxyl-, Alkoxy-, Acyl- oder Alkylgruppen substituiert sein.
c) aromatische polycyclische Verbindungen mit mindestens drei kondensierten Benzolringen und einem Ionisationspotential von weniger als etwa 7,5 eV, berechnet nach der Methode von F.A. Matsen, J. Chem. Physics, Bd. 24, S. 602 (1956). Spezielle Beispiele für Sensibilisatoren sind Triphenylamin, 2-ÄthyI-9,10-dimethoxyanthracen, Anthracen, 9-Methylanthra-cen, Rubren, Perylen und Tetraphenylbenzidin.
Die erfindungsgemässen Massen enthalten das aromatische Jodonium- bzw. Sulfonium-Komplexsalz z. B. in einer Menge von beispielsweise etwa 0,1 bis 30 Gewichtsteilen pro 100 Gewichtsteile des organischen Materials (d. h. Epoxid + hydro-xylhaltiges Material), vorzugsweise etwa 1 bis 10 Gewichtsteilen pro 100 Gewichtsteile des organischen Materials. Gegebenenfalls kann die Masse als lagerstabiles Konzentrat formuliert werden (d. h. mit hohen Komplexsalzkonzentrationen, z. B. 10 bis 30 Gewichtsprozent), das später zu einer Beschichtungs-masse verdünnt werden kann, indem man z. B. mehr Epoxid s und/oder hydroxylhaltiges Material am Verwendungsort zumischt.
Im allgemeinen nimmt die Polymerisationsgeschwindigkeit bei gegebener Bestrahlung mit steigenden Komplexsalzmengen zu. Die Polymerisationsgeschwindigkeit steigt beispiels-10 weise auch mit zunehmender Lichtintensität bzw. Elektronendosierung. Für Massen, die mit Hilfe eines Sensibilisators für längere Wellenlängen sensibilisiert sind, werden üblicherweise etwa 0,01 bis 1,0 Gewichtsteile Sensibilisator pro 1 Teil des aromatischen Komplexsalzes verwendet. 15 Die photopolymerisierbaren Massen der Erfindung werden beispielsweise dadurch hergestellt, dass man das aromatische Komplexsalz sowie gegebenenfalls den Sensibilisator unter Lichtabschirmung mit dem organischen Material vermischt. Gegebenenfalls kann das Mischen auch in Gegenwart inerter 20 Lösungsmittel erfolgen. Beispiele für geeignete Lösungsmittel sind Aceton, Methylenchlorid und andere Lösungsmittel, die mit dem Epoxid, dem hydroxylhaltigen Material, dem aromatischen Komplexsalz oder dem Sensibilisator nicht nennenswert reagieren. Ein zu polymerisierendes flüssiges organisches 25 Material kann auch als Lösungsmittel für ein anderes flüssiges oder festes, zu polymerisierendes organisches Material verwendet werden. Inerte Lösungsmittel können auch dazu verwendet werden, eine Lösung der Materialien herzustellen oder eine geeignete Viskosität für Beschichtungsmassen einzustel-30 len. Lösungsmittelfreie Massen lassen sich vorzugsweise dadurch herstellen, dass man das aromatische Komplexsalz und den Sensibilisator gegebenenfalls unter mildem Erwärmen in dem organischen Material löst.
Die Beispiele erläutern die Erfindung. Alle Teile und Pro-35 zente beziehen sich auf das Gewicht, falls nichts anderes angegeben ist.
Beispiele 1 bis 5
10 Teile eines Epoxyharzes (Epoxy-Äquivalentgewicht: 40 185), das 0,5 Teile Diphenyljodoniumhexafluorophosphat und 0,05 Teile 2-Äthyl-9,10-dimethoxyanthracen enthält, werden mit den in Tabelle I genannten Mengen Polyoxytetramethylengly-kol «Polymeg 650» (Hydroxyl-Äquivalentgewicht 325) versetzt. Die erhaltenen Lösungen, die ausgezeichnete Stabilität besit-45 zen, werden mit einer Rakel auf eine Polyesterfolie (75 ja.) aufgetragen, so dass ein photopolymerisierbarer Überzug von 100 jx Dicke entsteht. Die Proben werden in einem Abstand von 17,5 cm mit einer General Electric-H3T7 500-Watt-Quecksilberdampflampe belichtet. Die zum Härten der jeweiligen Über-50 züge erforderliche Zeit ist ebenfalls in Tabelle I angegeben. Nach dem Härten kann jeder der Überzüge in Form einer selbsttragenden Folie von dem Polyestersubstrat abgezogen werden.
Tabelle I
55
Beispiel
«Polymeg 650»
Belichtungszeit
(Teile)
(s)
1
2
20
2
4
35
3
6
40
4
8
45
5
10
50
65
Die in den Beispielen 1 bis 5 erhaltenen gehärteten Überzüge bzw. Folien sind transparent und die Flexibilität der Folien nimmt von Beispiel 1 bis Beispiel 5 zu, während gleichzeitig die Folienschrumpfung abnimmt.
9
630 655
Abgewogene Proben der einzelnen Folien werden in Bechergläser eingebracht, die mit Aceton gefüllt sind, und unter periodischem Schütteln 7 Tage stehengelassen. Hierauf entnimmt man die Proben, trocknet sie 24 Stunden an der Luft und bestimmt den Gewichtsverlust. Die Proben der Folien aus den Beispielen 1,2 und 3 besitzen ausgezeichnete Lösungsbeständigkeit mit nur geringer Quellung und keinem Gewichtsverlust. Bei den Proben der Folie aus den Beispielen 4 und 5 beträgt der Gewichtsverlust 3,7 bzw. 7,5 Gewichtsprozent. In den Beispielen 1,2 und 3 hatte das gesamte hydroxylhaltige Material mit dem Epoxid reagiert, während in den Beispielen 4 und 5 91 bzw. 85% mit dem Epoxid reagiert hatten. Die Folie aus Beispiel 2 hat eine Zugfestigkeit von 457 kg/cm2 und eine Bruchdehnung von 5%, während die Folie aus Beispiel 3 eine Zugfestigkeit von 74,5 kg/cm2 und eine Bruchdehnung von 53% beträgt. Dies macht deutlich, dass mit Hilfe der erfindungsge-mässen Massen durch Variation der relativen Mengen an Epoxid und hydroxylhaltigem Material ein breiter Bereich an physikalischen Eigenschaften erzielbar ist.
Beispiel 6
Eine photopolymerisierbare Masse mit niedriger Viskosität (1,3 Stokes) und einem Feststoffgehalt von 100% wird aus folgenden Bestandteilen hergestellt: Teile Epoxyharz (Äquivalentgewicht 137) 5 Polyoxyäthylenglykol (Äquivalentgewicht 200) 2 Diphenyljodoniumhexafluorophosphat 0,25 2-Äthyl-9,l 0-dimethoxyanthracen 0,025
Die Bestandteile werden unter Erhitzen gemischt und 30 Minuten bei 50 °C gerührt. Die erhaltene lagerstabile Masse wird dann in einer Schichtdicke von 75 n aufgetragen und 35
Sekunden in einem Abstand von 12,7 cm mit einer 275-Watt-General-Electric-Sonnenlampe belichtet. Hierbei wird eine transparente selbsttragende zähe Folie erhalten.
5 Beispiel 7
Eine pigmentierte photopolymerisierbare lagerstabile Giessmasse mit einem Feststoffgehalt von 100% wird durch 6stündiges Mahlen der folgenden Bestandteile in einer Kugelmühle hergestellt: Teile io Epoxyharz (Äquivalentgewicht 137) 6 Polyäthylenglykol (Äquivalentgewicht 200) 3 Zinkoxid 9 Diphenyljodoniumhexafluorophosphat 0,25 2-Athyl-9,l 0-dimethoxyanthracen 0,025 i5 Ein 55 (i dicker Überzug aus dieser Masse wird zu einer flexiblen selbsttragenden weissen Folie gehärtet, indem man 60 Sekunden in einem Abstand von 12,7 cm mit einer 275-Watt-General-Electric-Sonnenlampe belichtet.
20 Beispiele 8 bis 20
Unter Verwendung der in Tabelle II genannten Epoxide, hydroxylhaltigen Materialien und Komplexsalz-Photoinitiatoren werden verschiedene photopolymerisierbare lagerstabile Massen hergestellt. Das Mischen der Bestandteile erfolgt unter 25 mildem Erwärmen. Die Härtung erfolgt mit Hilfe einer 275-Watt-General-Electric-Sonnenlampe in einem Abstand von 12,7 cm bzw. einer 500-Watt-General-Electric-H3T7-Quecksil-berdampflampe in einem Abstand von 17,5 cm. Die Belichtungsbedingungen sind ebenfalls in Tabelle II genannt. In 30 jedem Beispiel wird eine vollständig ausgehärtete transparente zähe flexible Folie erhalten.
Tabelle II
Bei- Epoxyharz spiel (5 Gew.-Teile)
hydroxylhaltiges Material Komplexsalz Sensibilisator Überzugs- Belichtungs- Lampe Art Teile Art Teile Art Teile dicke (|x) zeit(s)
8
«ERL-4221»
«PPG400»
3
OzJPFe
0,25
DMA*
0,025
150
80
Sonnenlampe
9
«ERL4221»
«PEG-1000»
3
02JPF6
0,25
DMA*
0,025
50
35
Sonnenlampe
10
«EPON 828»
«PPG400»
1
02JPF6
0,25
DMA*
0,025
75
40
H3T7
11
«DER-331»
Diäthylenglykol
0,5
02JPF6
0,25
DMA*
0,025
43
45
H3T7
12
«ERL4221»
«PEG400»
2
O2SCH3PF6 0,25
DMA*
0,025
50
240
H3T7
13
«DER-331»
«Polymeg 1000»
3
O2JPF6
0,25
DMA*
0,025
90
35
H3T7
14
«DER-331»
«Polymeg 2000»
2
O2JPF6
0,25
DMA*
0,025
100
45
H3T7
15
«ERL4221»
«PPG400»
3
OsSPFs
0,20
-
50
90
H3T7
16
«ERL4221»
«PPG400»
3
OhJSbFa
0,20
-
50
180
H3T7
17
«Epon 1004»
«Polymeg 650»
1
OiSPF«
0,25
DMA
0,025
90
300
H3T7
18
«Epon 1010»
«Polymeg 650»
1
OaSPFo
0,25
DMA
0,025
50
300
H3T7
19
«ERL4221»
«PEG400»
2
O2JPF6
0,025
-
50
600
H3T7
20
«DER-331»
«PEP-550»
2
(D2JPF6
0,20
Triphenyl-
0,20
50
120
H3T7
amin
* 2-Äthyl-9,l 0-dimethoxyanthracen
55
Beispiel 21
Eine lagerstabile photopolymerisierbare Masse wird durch Rühren der folgenden Bestandteile bei Raumtemperatur hergestellt: Teile
Hydroxylhaltiges Material («Klucel E»; 60 15prozentige Methanollösung von hydroxypropylierter Cellulose mit sekundären
Hydroxylgruppen) 16
Epoxyharz («ERL-4221») 1,4
Diphenyljodoniumhexafluorophosphat 0,36 65
2-Äthyl-9,l 0-dimethoxyanthracen 0,11
Die erhaltene Masse wird mit Hilfe eines mit Draht umwik-kelten Stabs auf ein anodisiertes Aluminiumblech in einer Nassschichtdicke von etwa 60 |i aufgetragen. Die getrocknete Probe wird 60 Sekunden mit einer 275-Watt-General-Electric-Sonnenlampe in einem Abstand von 12,7 cm durch eine -fë photographische Stufenplatte belichtet. Die belichtete Probe wird dann unter fliessendes Wasser gehalten, um die nicht photopo-lymerisierten Bereiche abzulösen. 7 Stufen der Stufenplatte bleiben auf dem Aluminiumblech zurück. Der gehärtete Überzug ist farbaufnehmend und eignet sich als Lithographiedruckplatte.
Beispiel 22
Eine lagerstabile, photopolymerisierbare Masse wird durch Rühren der folgenden Bestandteile hergestellt:
630655
10
Teile
25 2 1
0,4 0,12
Hydroxylhaltiges Material (lOprozentige Methanollösung von «Butvar B-73»)
n-Butanol
Epoxyharz («ERL-4221») Diphenyljodoniumhexafluorophosphat 2-Äthyl-9,l O-dimethoxyanthracen
«Butvar B-73» ist ein handelsübliches Polyvinylbutyralharz mit einem Molekulargewicht von 50 000 bis 80 000, einem Hydroxylgehalt von 17,5 bis 21,0%, einem Acetatgehalt von 0 bis 2,5% und einem Butyralgehalt von 80%.
Die Masse wird mit einer Rakel in einer Nassschichtdicke von 50 u auf eine Polyesterfolie (75 |j.) aufgetragen und dann 1 Stunde an der Luft getrocknet. Hierauf belichtet man die Probe 15 Sekunden gemäss Beispiel 21 und taucht sie dann in Methanol. Vier Stufen der Stufenplatte bleiben nach der Entwicklung zurück.
Beispiel 23
Eine lagerstabile, photopolymerisierbare Masse wird gemäss Beispiel 22 hergestellt, wobei jedoch anstelle von «Butvar B-73» «Butvar B-98» verwendet wird, das ein handelsübliches Polyvinylbutyralharz mit einem Molekulargewicht von 30 000 bis 34 000, einem Hydroxylgehalt von 18 bis 20%, einem Acetatgehalt von 0 bis 2,5% und einem Butyralgehalt von 80% darstellt. Die Masse wird aufgetragen, getrocknet, 20 Sekunden belichtet und dann gemäss Beispiel 22 entwickelt. Fünf Stufen der Stufenplatte bleiben nach der Entwicklung zurück.
Beispiel 24 bis 26
Eine Grundlösung wird durch Auflösen von 0,4 Teilen Diphenyljodoniumhexafluorophosphat und 0,12 Teilen 2-Äthyl-9,10-dimethoxyanthracen in 25 Teilen einer lOprozentigen Methanollösung von «Alcohol Soluble Butyrate» hergestellt, das einen handelsüblichen Celluloseacetat-butyratester mit einem mittleren Butyrylgehalt von 47,2%, einem Acetylgehalt von 1,6% und einem Hydroxylgehalt von 4,53% darstellt. Jeweils 5 Teile der Grundlösung werden mit verschiedenen Epoxiden vermischt, worauf man die erhaltenen lagerstabilen Massen auf anodisierte Aluminiumbleche aufträgt, durch eine Stufenplatte belichtet und hierauf gemäss Beispiel 21 entwickelt, wobei jedoch Methanol anstelle von Wasser verwendet wird. Die verwendeten Epoxide, die Belichtungszeiten und die Anzahl der unlöslich bleibenden Stufen sind in Tabelle III angegeben.
Tabelle III
Bei
Epoxyharz
Teile
Belichtungs unlösliche spiel
zeit (s)
Stufen
24
«DER-331»
0,3
30
4
25
«ERL-4221»
0,3
60
3
26
«DER-XD7818»
0,1
60
7
io «DER-XD7818» ist ein Epoxyharz des aromatischen Glyci-dyläthertyps mit einer Viskosität von 3400 cP und einem Epo-xid-Äquivalentgewicht von 165.
Beispiel 27
15 Eine lagerstabile photopolymerisierbare Masse wird durch Rühren der folgenden Bestandteile hergestellt:
Teile
Hydroxylhaltiges Material (lOprozentige Acetonlösung von «Butvar B-76») 12,5
20 n-Butanol 1
Epoxyharz («ERL-4221») 0,4
Triphenylsulfoniumhexafluorophosphat 0,2
Triphenylamin 0,06
«Butvar B-76» ist ein handelsübliches Polyvinylbutyralharz 25 mit einem Molekulargewicht von 50 000 bis 80 000, einem Hydroxylgehalt von 17,5 bis 21%, einem Acetatgehalt von 0 bis 2,5%, und einem Butyralgehalt von 80%.
Die Masse wird mit einer Rakel in einer Nassschichtdicke von 50 (j. auf eine Polyesterfolie (75 u) aufgetragen und dann 1 3o Stunde an der Luft getrocknet, hierauf belichtet man die Probe gemäss Beispiel 21 mit einer 275-Watt-Sonnenlampe 2 Minuten durch eine Stufenplatte und entwickelt sie dann durch Besprühen mit Methanol. Nach der Entwicklung bleiben drei vollständige Stufen und vier teilweise Stufen zurück.
35
Beispiele 28 bis 43
Aus den in Tabelle IV genannten Epoxiden und Polycapro-lactonen mit Hydroxyl-Endgruppen bzw. aliphatischen Polyo-len werden lagerstabile photopolymerisierbare Massen herge-40 stellt. Die Bestandteile werden jeweils unter mildem Erwärmen zusammengerührt. Beim Belichten unter den in Tabelle IV genannten Bedingungen härten die Massen zu transparenten zähen flexiblen Folien. Zum Belichten wird eine 275-Watt-General-Electric-Sonnenlampe in einem Abstand von 12,7 cm 45 bzw. eine 500-Watt-G'eneral-Electric-QuecksilberdampfIampe in einem Abstand von 17,5 cm verwendet.
Tabelle IV
Bei- Epoxyharz spiel (5 Gew.-Teile)
hydroxylhalt.
Material
Art
Komplexsalz Teile Art
Sensibilisator Überzugs-Teile Art Teile dicke (p.)
Belichtungs- Lampe zeit (s)
28
«ERL-4221»
«PCP-0300»
2
CD2SCH3PF6
0,25
DMA****
0,025
50
240
H3T7
29
«DEN-439»
«Paraplex U-148»
3
(DzJPFe
0,25
DMA****
0,025
90
25
H3T7
30
«DER-331»
«Multron R-68»
5
O2JPF6
0,25
DMA****
0,025
70
90
H3T7
31**
«ERL-4221»
«Multron R-14»
2
OaSPFs
0,25
DMA****
0,025
38
120
H3T7
32
«ERL-4221»
«PCP-0300»
4
O2JPF6
0,25
DMA****
0,025
64
65
Sonnenlampe (275 W)
33*
«ERL-4221»
«PCP-0210»
3
O2JPF6
0,25
DMA****
0,025
50
60
Sonnenlampe (275 W)
34
«ERL4221»
«Multron R-68»
3
O2JPF6
0,25
DMA****
0,025
75
55
Sonnenlampe (275 W)
35***
«ERL-4221»
«Paraplex U-148»
3
dhJPFô
0,25
DMA****
0,025
75
35
Sonnenlampe (275 W)
36*
«ERL-4221»
«PCP-0230»
2
02JPF6
0,25
DMA****
0,025
64
90
H3T7
37
«ERL-4221»
«PCP-0300»
4
®3SSbFe
0,25
-
50
90
H3T7
38
«ERL-4221»
«PCP-0300»
4
(&2JBF4
0,25
-
50
90
H3T7
11
630655
Beispiel
Epoxyharz (5 Gew.-Teile)
hydroxylhalt.
Material
Art
Teile
Komplexsalz Art Teile
Sensibilisator Art Teile
Überzugsdicke (jj.)
Belichtungszeit (s)
Lampe
39
«ERL-4221»
«PCP-0300»
4"'
(CHj 0)2JPF6 0,25
_
50
90
H3T7
40
«ERL4221»
«PCP-0300»
4
(CHi (D)3SPF6 0,25
-
50
90
H3T7
41
«ERL-4221»
«PCP-0300»
4
OhJAsFe 0,25
-
50
90
H3T7
42
«Epon 828»
Äthoxyäthanol
2
dhSPFe 0,20
Tetraphe- 0,02
30
45
H3T7
nylbenzidin
43
«ERL-4221»
1,3-Propandiol
1
O2JPF6 0,20
2-Chlorthio- 0,02
50
50
H3T7
xanthon f 1 Teil Aceton zugegeben f 3 Teile Aceton zugegeben
*** Zugfestigkeit 49,2 kg/cm2; Bruchdehnung 50% ****! 2-Äthyl-9,l O-dimethoxyanthracen
Beispiel 44
Eine lagerstabile photopolymerisierbare Masse wird durch Zusammenrühren der folgenden Bestandteile hergestellt:
Teile
Epoxyharz («DER-331») 5
Hydroxylhaltiges Material («PeP-550») 2
Diphenyljodoniumhexafluorophosphat 0,2
Triphenylamin 0,02
Die Masse wird in einer Dicke von 50 |i aufgetragen und 5 Minuten mit einer 500-Watt-General-Eletric-H3T7-Quecksil-berdampflampe in einem Abstand von 17,5 cm belichtet, wobei sie zu einer transparenten zähen flexiblen Folie härtet.
Beispiel 45
Eine lagerstabile photopolymerisierbare Masse wird durch Zusammenrühren der folgenden Bestandteile hergestellt:
Teile
Epoxyharz (ERL4221 »■) 5
Hydroxylhaltiges Material («PeP 550») 1,5
Diphenyljodoniumhexafluorophosphat 0,2
Triphenylamin 0,02
Die Masse wird in einer Schichtdicke von 50 [i aufgetragen und 1 Minute gemäss Beispiel 44 belichtet, wobei sie zu einer transparenten zähen flexiblen Folie härtet.
Beispiele 46 bis 48
Lagerstabile photopolymerisierbare Masse werden aus den folgenden Bestandteilen hergestellt:
Beispiel 46 47 48
breit. Nach dem Belichten sind die Überzüge nicht mehr klebrig und innerhalb weniger Sekunden bei Raumtemperatur här-2o ten sie vollständig. Die Härtungszeit kann gegebenenfalls dadurch verkürzt werden, dass man das Substrat vor dem Belichten etwas erwärmt, z. B. auf 50 bis 60 °C.
Die gehärteten Überzüge besitzen ausgezeichnete Hitzebeständigkeit, nach 9minütigem Brennen bei 175 °C sind kein Ver-25 gilben oder andere Effekte feststellbar.
Die Zähigkeit der gehärteten Überzüge wird nach dem Gardiner-Schlagtest (ASTM D-2794-69) bestimmt. Dieser Vergleichstest misst die maximale Höhe (cm), aus der eine Stahlkugel auf die nicht beschichtete Rückseite des beschichteten 30 Blechs fallen kann, ohne den Zusammenhalt des gehärteten Überzugs zu zerstören. Die Ergebnisse sind in kg-cm angegeben; d. h. Gewicht der Stahlkugel x maximale Höhe in cm.
Die Haftung der gehärteten Überzüge auf den Blechen wird dadurch ermittelt, dass man in dem gehärteten Überzug 35 ein grosses X schneidet, das geritzte Blech 20 Minuten in Wasser von 72 °C taucht, das Blech trocknet, ein Cellophanklebe-band («Sotch Nr. 610» der Minnesota Mining and Manufacturing Co.) über das X klebt und dann schnell in einem Winkel von 90° von dem Blech abzieht, worauf man den auf dem Blech 4o zurückbleibenden Anteil des Überzugs bestimmt.
Die beschichteten Bleche der Beispiele 46 und 47 können vollständig umgebogen werden, ohne dass der Überzug reisst, während andererseits der Überzug des Blechs aus Beispiel 48 zerstört wird.
45
Beispiele 49 und 50
Zwei Lösungen werden aus folgenden Bestandteilen (Gewichtsteile) hergestellt:
«ERL-4221»
61,56
61,56
61,56
Bestandteile
Beispiel
Beispiel
Diglycidyläther von Bisphenol A
18,94
18,94
18,94
49
50
Diglycidyläther von 1,4-Butandiol
3,80
3,80
3,80
Diphenyljodoniumhexafluoropho-
1,2
1,2
1,2
Epoxyharz («ERL4221»)
5
5
sphat
55 1,2-Propandiol
2
-
Tripropylenglykol
14,2
-
-
3-Chlor-l ,2-propandiol
-
2
Tripropylenglykolmonomethyl- ■
14,2
-
02j + PFe~
0,2
0,2
äther
Anthracen
0,02
0,02
Gardiner-Schlagtest
80,64
74,88
34,56
Haftung nach der Pasteurisierung 100%
100%
80%
60 Die beiden Lösungen werden mit Hilfe einer Rakel in einer
Nassschichtdicke von 50 (i auf getrennte Polyesterfolien aufge-Die Massen werden mit Hilfe eines mit Draht umwickelten tragen. Jede der Proben wird mit einer Elektronenstrahlvor-Stabs auf Aluminiumbleche (7,5 x 20 x 0,06 cm) aufgetragen, wie richtung von 100 kV und 2,5 mA in einem Abstand von 1,9 cm sie zur Herstellung von Kannen verwendet werden. Hierauf bestrahlt. Eine Dosis von 4,5 Megarad ist ausreichend, um die führt man die Bleche mit einer Geschwindigkeit von 50 m/min 65 Probe von Beispiel 50 vollständig zu härten und bei der Probe unter zwei 200-Watt-2,54-cm-Ultraviolettlampen mit fokussier- aus Beispiel 49 eine klebfreie Oberfläche zu erhalten. Bei einer tem Reflektor im Brennpunkt der Lampen hindurch. Das auf Dosis von 14 Megarad härtet der Überzug aus Beispiel 49 voll-den beschichteten Blechen reflektierte Licht ist etwa 2,5 cm ständig.
G
Claims (17)
- 630655
- 2. Massen nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass sie cycloaliphatische Epoxide, Glycidylester, Glycidyläther, Epoxy-Novolake, aliphatische Epoxide, Polymere von Acryl-säure-Glycidestern bzw. Copolymere von Acrylsäure-Glycid-estern mit copolymerisierbaren Vinylverbindungen und/oder epoxydierte Polyalkadiene als erstes organisches Material enthalten.2PATENTANSPRÜCHE 1. Photopolymerisierbare Massen, enthaltend a) ein erstes organisches Material mit einer Epoxidfunktio-nalität von mehr als 1,5,b) ein zweites organisches Material mit einer Hydroxyl-funktionalität von mindestens 1 und c) einen Initiator,dadurch gekennzeichnet, dass sie als Initiator ein aromatisches Jodonium-Komplexsalz der Formel Iin der Ar1 und Ar2 aromatische Gruppen mit 4 bis 20 C-Atomen bedeuten, die im Falle n=0 aus der Reihe Phenyl, substituiertes Phenyl, Thienyl, substituiertes Thienyl, Furanyl, substituiertes Furanyl, und substituiertes Pyrazolyl, und im Falle n= 1 aus der Reihe Phenylen, substituiertes Phenylen, Thiophendiyl, substituiertes Thiophendiyl, Furandiyl, substituiertes Furandiyl, und substituiertes Pyrazoldiyl ausgewählt sind,-Z- ein Sauerstoff- oder Schwefelatom, eine C-C-Bindung oder eine der folgenden Gruppen ist: Ç=0, £=0,0=Ç=0, R-fjl, wobei R ein Aryl- oder Acylrest ist, oder Ri—(^-Rz, wobei R1 und R2 je für ein Wasserstoffatom, einen Alkylrest mit 1 bis 4 C-Atomen oder einen Alkenylrest mit 2 bis 4 C-Atomen stehen,n den Wert 0 oder 1 hat, undX8 ein Tetrafluoroborat-, Hexafluorophosphat-, Hexafluo-roarsenat- oder Hexafluoroantimonat-Komplexanion darstellt, und/oder ein aromatisches Sulfonium-Komplexsalz der Formel IIin der-Z-, n und X0 die bei Formel I angegebenen Bedeutungen haben, undRi, R2 und Rî je eine aromatische Gruppe mit 4 bis 20 C-Atomen oder einen Alkyl- oder substituierten Alkylrest mit 1 bis 20 C-Atomen bedeuten, wobei mindestens einer der Reste Ri, Rz und Rs aromatisch ist,enthalten.
- 3. Massen nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass das zweite organische Material eine Hydroxylfunktio-nalität von mindestens zwei aufweist.
- 4. Massen nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass der Photoinitiator ein aromatisches Jodo-nium-Komplexsalz ist, wobei Ar1 und Ar2 Phenyl- oder substituierte Phenylgruppen sind.
- 5. Massen nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass n den Wert 0 hat.
- 6. Massen nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass n den Wert 1 hat und -Z- eine C-C-Bindung darstellt.
- 7. Massen nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass der Photoinitiator ein aromatisches Jodonium-Komplexsalz ist, wobei Ar1 und Ar2 Thienyl- oder substituierte Thienylgruppen sind.
- 8. Massen nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass n den Wert 0 hat.
- 9. Massen nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, dass sie Alkylenglykole, Celluloseester, Cellu-loseäther, Polyoxyalkylenglykole, Polyester bzw. Polyäther mit Hydroxyl-Endgruppen und/oder Copolymerisate von Vinylverbindungen mit Acrylsäureestern mit Hydroxyl-Endgruppen als zweites organisches Material enthalten.
- 10. Massen nach einem der Ansprüche 1 bis 3 und 9,dadurch gekennzeichnet, dass der Photoinitiator ein aromatisches Sulfonium-Komplexsalz ist.
- 11. Massen nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, dass Ri, R2 und R3 substituierte oder unsubstituierte Phenyl-, Naphthyl- oder Thienylgruppen sind.
- 12. Massen nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, dass n den Wert 1 hat und -Z- eine C-C-Bindung darstellt.
- 13. Massen nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, dass n den Wert 1 hat, -Z- ein Sauerstoffatom ist, Ri und R2 Phenylengruppen bedeuten und R3 ein Alkylrest ist.
- 14. Massen nach einem der Ansprüche 1 bis 13, dadurch gekennzeichnet, dass sie zusätzlich 0,01 bis 1 Gewichtsteil eines Sensibilisatorfarbstoffs pro Gewichtsteil Photoinitiator enthalten.
- 15. Massen nach einem der Ansprüche 1 bis 14, dadurch gekennzeichnet, dass sie ein Diaryljodoniumhexafluoro-phosphat, Diaryljodoniumhexafluoroantimonat, Triarylsulfoni-umtetrafluoroborat, Triarylsulfoniumhexafluorophosphat und/ oder Triarylsulfoniumhexafluorantimonat als Photoinitiator enthalten.
- 16. Massen nach einem der Ansprüche 1 bis 15, dadurch gekennzeichnet, dass sie den Photoinitiator in einer Menge von 10 bis 30 Gewichtsprozent enthalten.
- 17. Verwendung der Massen nach Anspruch 1 zum Beschichten von Substraten.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US05/609,898 US4256828A (en) | 1975-09-02 | 1975-09-02 | Photocopolymerizable compositions based on epoxy and hydroxyl-containing organic materials |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CH630655A5 true CH630655A5 (de) | 1982-06-30 |
Family
ID=24442793
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CH1108276A CH630655A5 (de) | 1975-09-02 | 1976-09-01 | Photopolymerisierbare massen und deren verwendung. |
Country Status (13)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4256828A (de) |
JP (1) | JPS5942688B2 (de) |
AU (1) | AU497066B2 (de) |
BE (1) | BE845746A (de) |
BR (1) | BR7605796A (de) |
CA (1) | CA1114089A (de) |
CH (1) | CH630655A5 (de) |
DE (1) | DE2639395A1 (de) |
FR (1) | FR2322897A1 (de) |
GB (1) | GB1565671A (de) |
IT (1) | IT1066298B (de) |
SE (1) | SE427277C (de) |
ZA (1) | ZA765241B (de) |
Families Citing this family (233)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4101513A (en) * | 1977-02-02 | 1978-07-18 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Catalyst for condensation of hydrolyzable silanes and storage stable compositions thereof |
GB1604953A (en) * | 1977-08-05 | 1981-12-16 | Gen Electric | Photocurable compositions and method for curing |
GB2013208B (en) * | 1977-12-16 | 1982-11-24 | Gen Electric | Heat curable compositions |
EP0010897B1 (de) * | 1978-10-27 | 1984-01-25 | Imperial Chemical Industries Plc | Polymerisierbare Zusammensetzungen, daraus hergestellte Beschichtungen und andere polymerisierte Produkte |
EP0011918B1 (de) * | 1978-10-27 | 1984-03-07 | Imperial Chemical Industries Plc | Polymerisierbare Zusammensetzungen, daraus hergestellte Beschichtungen und andere polymerisierte Produkte |
US4299938A (en) | 1979-06-19 | 1981-11-10 | Ciba-Geigy Corporation | Photopolymerizable and thermally polymerizable compositions |
US4250203A (en) | 1979-08-30 | 1981-02-10 | American Can Company | Cationically polymerizable compositions containing sulfonium salt photoinitiators and odor suppressants and method of polymerization using same |
US4306953A (en) | 1979-11-05 | 1981-12-22 | American Can Company | Cationically polymerizable compositions containing sulfonium salt photoinitiators and stable free radicals as odor suppressants and _method of polymerization using same |
US4339567A (en) | 1980-03-07 | 1982-07-13 | Ciba-Geigy Corporation | Photopolymerization by means of sulphoxonium salts |
US4362263A (en) * | 1980-04-24 | 1982-12-07 | Westinghouse Electric Corp. | Solderable solventless UV curable enamel |
FR2483448B1 (fr) * | 1980-05-29 | 1985-12-20 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | Composition de revetement antibuee, article faconne revetu de cette composition et procede de preparation de cet article |
USRE32272E (en) * | 1980-05-29 | 1986-10-28 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Non-fogging coating composition and a shaped article coated therewith |
US4594379A (en) * | 1980-05-29 | 1986-06-10 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Non-fogging coating composition and a shaped article coated therewith |
US4383025A (en) | 1980-07-10 | 1983-05-10 | Ciba-Geigy Corporation | Photopolymerization by means of sulfoxonium salts |
JPS57191213A (en) * | 1981-05-19 | 1982-11-25 | Ngk Insulators Ltd | Preparation of carbonaceous product |
US4442197A (en) * | 1982-01-11 | 1984-04-10 | General Electric Company | Photocurable compositions |
US4415615A (en) * | 1982-01-15 | 1983-11-15 | Minnesota Mining And Manufacturing Co. | Cellular pressure-sensitive adhesive product and method of making |
US4439517A (en) * | 1982-01-21 | 1984-03-27 | Ciba-Geigy Corporation | Process for the formation of images with epoxide resin |
US4518676A (en) * | 1982-09-18 | 1985-05-21 | Ciba Geigy Corporation | Photopolymerizable compositions containing diaryliodosyl salts |
US4426431A (en) | 1982-09-22 | 1984-01-17 | Eastman Kodak Company | Radiation-curable compositions for restorative and/or protective treatment of photographic elements |
CA1240439A (en) * | 1983-02-07 | 1988-08-09 | Union Carbide Corporation | Photocopolymerizable compositions based on epoxy and hydroxyl-containing organic materials having primary hydroxyl content |
US4812488A (en) * | 1983-02-07 | 1989-03-14 | Union Carbide Corporation | Photocopolymerizable compositions based on hydroxyl-containing organic materials and substituted cycloaliphatic monoepoxide reactive diluents |
US4818776A (en) * | 1983-02-07 | 1989-04-04 | Union Carbide Corporation | Photocopolymerizable compositions based on epoxy and hydroxyl-containing organic materials having primary hydroxyl content |
CA1243147A (en) * | 1983-02-07 | 1988-10-11 | Union Carbide Corporation | Photocopolymerizable compositions based on epoxy and hydroxyl containing organic materials and substituted cycloaliphatic monoepoxide reactive diluents |
US4622349A (en) * | 1983-02-07 | 1986-11-11 | Union Carbide Corporation | Blends of epoxides and monoepoxides |
CA1243146A (en) * | 1983-02-07 | 1988-10-11 | Joseph V. Koleske | Photocopolymerizable compositions based on hydroxyl- containing organic materials and substituted cycloaliphatic monoepoxide reactive diluents |
US4593051A (en) * | 1983-02-07 | 1986-06-03 | Union Carbide Corporation | Photocopolymerizable compositons based on epoxy and polymer/hydroxyl-containing organic materials |
US4814361A (en) * | 1983-02-07 | 1989-03-21 | Union Carbide Corporation | Blends of epoxides and monoepoxides |
US4874798A (en) * | 1983-02-07 | 1989-10-17 | Union Carbide Corporation | Photocopolymerizable compositions based on epoxy and hydroxyl-containing organic materials and substituted cycloaliphatic monoepoxide reactive diluents |
US4529490A (en) * | 1983-05-23 | 1985-07-16 | General Electric Company | Photopolymerizable organic compositions and diaryliodonium ketone salts used therein |
US4725653A (en) * | 1983-10-27 | 1988-02-16 | Union Carbide Corporation | Low viscosity adducts of a polycaprolactone polyol and a polyepoxide |
GB8332073D0 (en) * | 1983-12-01 | 1984-01-11 | Ciba Geigy Ag | Polymerisable compositions |
DE3561155D1 (de) * | 1984-02-10 | 1988-01-21 | Ciba-Geigy Ag | |
JPS62545A (ja) * | 1985-04-17 | 1987-01-06 | ユニオン・カ−バイド・コ−ポレ−シヨン | ポリカプロラクトンポリオ−ルとポリエポキシドとのブレンド |
CA1289803C (en) * | 1985-10-28 | 1991-10-01 | Robert J. Cox | Photoresist composition and printed circuit boards and packages made therewith |
US4892894A (en) * | 1985-11-07 | 1990-01-09 | Union Carbide Chemical And Plastics Company Inc. | Photocopolymerizable compositions based on epoxy and hydroxyl-containing organic materials |
US4654379A (en) * | 1985-12-05 | 1987-03-31 | Allied Corporation | Semi-interpenetrating polymer networks |
US4665006A (en) * | 1985-12-09 | 1987-05-12 | International Business Machines Corporation | Positive resist system having high resistance to oxygen reactive ion etching |
CA1312040C (en) * | 1985-12-19 | 1992-12-29 | Joseph Victor Koleske | Conformal coatings cured with actinic radiation |
US4690957A (en) * | 1986-02-27 | 1987-09-01 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Ultra-violet ray curing type resin composition |
US4657779A (en) * | 1986-03-19 | 1987-04-14 | Desoto, Inc. | Shrinkage-resistant ultraviolet-curing coatings |
EP0255989B1 (de) * | 1986-08-06 | 1990-11-22 | Ciba-Geigy Ag | Negativ-Photoresist auf Basis von Polyphenolen und Epoxidverbindungen oder Vinylethern |
US5300380A (en) * | 1986-08-06 | 1994-04-05 | Ciba-Geigy Corporation | Process for the production of relief structures using a negative photoresist based on polyphenols and epoxy compounds or vinyl ethers |
US4751138A (en) | 1986-08-11 | 1988-06-14 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Coated abrasive having radiation curable binder |
CA1305823C (en) * | 1986-08-29 | 1992-07-28 | Union Carbide Corporation | Photocurable blends of cyclic ethers and cycloaliphatic epoxides |
US4929305A (en) * | 1987-01-30 | 1990-05-29 | General Electric Company | Method of bonding using UV curable epoxy resin compositions with delayed cure |
US4857562A (en) * | 1987-01-30 | 1989-08-15 | General Electric Company | UV curable epoxy resin compositions with delayed cure |
US4760013A (en) * | 1987-02-17 | 1988-07-26 | International Business Machines Corporation | Sulfonium salt photoinitiators |
US4997717A (en) * | 1987-03-27 | 1991-03-05 | Ciba-Geigy Corporation | Photocurable abrasives |
DE3852661D1 (de) * | 1987-03-27 | 1995-02-16 | Ciba Geigy Ag | Photohärtbare Schleifmittel. |
US4994346A (en) * | 1987-07-28 | 1991-02-19 | Ciba-Geigy Corporation | Negative photoresist based on polyphenols and selected epoxy or vinyl ether compounds |
US5047568A (en) * | 1988-11-18 | 1991-09-10 | International Business Machines Corporation | Sulfonium salts and use and preparation thereof |
US4954416A (en) * | 1988-12-21 | 1990-09-04 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Tethered sulfonium salt photoinitiators for free radical polymerization |
US4940651A (en) * | 1988-12-30 | 1990-07-10 | International Business Machines Corporation | Method for patterning cationic curable photoresist |
US5275880A (en) * | 1989-05-17 | 1994-01-04 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Microwave absorber for direct surface application |
US5034446A (en) * | 1989-05-26 | 1991-07-23 | Genesee Polymers Corporation | Stabilized polysiloxane fluids and a process for making the same |
US5034445A (en) * | 1989-05-26 | 1991-07-23 | Genesee Polymers Corporation | Stabilized polysiloxane fluids and a process for making same |
US5057550A (en) * | 1989-12-04 | 1991-10-15 | Dow Corning Corporation | Epoxy-silanol functional uv curable polymers |
US5077083A (en) * | 1989-12-04 | 1991-12-31 | Dow Corning Corporation | Epoxy-silanol functional UV curable polymers |
ES2077664T3 (es) * | 1989-12-07 | 1995-12-01 | Sicpa Holding Sa | Tintas de imprenta altamente reactivas. |
ATE150367T1 (de) * | 1990-04-26 | 1997-04-15 | Chesnut Eng | Tiefdruckplattenmaterial und verfahren zur herstellung einer tiefdruckvorrichtung unter verwendung dieses materials |
US5694852A (en) * | 1990-04-26 | 1997-12-09 | W.R. Chesnut Engineering, Inc. | Rotogravure printing media and methods of manufacturing a rotogravure printing device employing the media |
JPH04234422A (ja) * | 1990-10-31 | 1992-08-24 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 二重硬化エポキシバックシール処方物 |
US5102771A (en) * | 1990-11-26 | 1992-04-07 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Photosensitive materials |
US5085972A (en) * | 1990-11-26 | 1992-02-04 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Alkoxyalkyl ester solubility inhibitors for phenolic resins |
US5225316A (en) * | 1990-11-26 | 1993-07-06 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | An imagable article comprising a photosensitive composition comprising a polymer having acid labile pendant groups |
US5312715A (en) * | 1991-03-04 | 1994-05-17 | Shipley Company Inc. | Light-sensitive composition and process |
US5206116A (en) * | 1991-03-04 | 1993-04-27 | Shipley Company Inc. | Light-sensitive composition for use as a soldermask and process |
US5248752A (en) * | 1991-11-12 | 1993-09-28 | Union Carbide Chemicals & Plastics Technology Corporation | Polyurethane (meth)acrylates and processes for preparing same |
US5328940A (en) * | 1992-07-20 | 1994-07-12 | Lord Corporation | Radiation-curable compositions containing hydroxy-terminated polyurethanes and an epoxy compound |
TW268969B (de) * | 1992-10-02 | 1996-01-21 | Minnesota Mining & Mfg | |
JP2719748B2 (ja) * | 1993-02-08 | 1998-02-25 | 信越化学工業株式会社 | 新規なオニウム塩及びそれを用いたポジ型レジスト材料 |
US7575653B2 (en) * | 1993-04-15 | 2009-08-18 | 3M Innovative Properties Company | Melt-flowable materials and method of sealing surfaces |
US6485589B1 (en) | 1993-04-15 | 2002-11-26 | 3M Innovative Properties Company | Melt-flowable materials and method of sealing surfaces |
US5436063A (en) * | 1993-04-15 | 1995-07-25 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Coated abrasive article incorporating an energy cured hot melt make coat |
US6120878A (en) * | 1993-07-21 | 2000-09-19 | 3M Innovative Properties Company | Abrasive articles comprising vinyl ether functional resins |
US5310838A (en) * | 1993-09-07 | 1994-05-10 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Functional fluoropolymers |
EP0665220B1 (de) * | 1994-01-28 | 1999-04-07 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Sulfoniumsalz und chemisch verstärkte Positivresistzusammensetzungen |
TW307791B (de) * | 1994-02-09 | 1997-06-11 | Ciba Sc Holding Ag | |
US5597868A (en) * | 1994-03-04 | 1997-01-28 | Massachusetts Institute Of Technology | Polymeric anti-reflective compounds |
DE69520222T2 (de) | 1994-10-31 | 2001-08-23 | Minnesota Mining & Mfg | Mit sichtbarem licht härtbares epoxysystem mit verbesserter härtungstiefe |
US5856373A (en) * | 1994-10-31 | 1999-01-05 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Dental visible light curable epoxy system with enhanced depth of cure |
DE9420640U1 (de) * | 1994-12-23 | 1995-03-23 | Lord Corp | Strahlungsaushärtbare Zusammensetzungen mit einem Gehalt an hydroxy-terminierten Polyurethanen und einer Epoxy-Verbindung |
US5612445A (en) * | 1995-02-15 | 1997-03-18 | Arizona Chemical Co. | Ultraviolet curable epoxidized alkyds |
US5877229A (en) * | 1995-07-26 | 1999-03-02 | Lockheed Martin Energy Systems, Inc. | High energy electron beam curing of epoxy resin systems incorporating cationic photoinitiators |
DE19534668A1 (de) * | 1995-09-19 | 1997-03-20 | Thera Ges Fuer Patente | Kettenverlängerte Epoxidharze enthaltende, vorwiegend kationisch härtende Masse |
DE19534664A1 (de) * | 1995-09-19 | 1997-03-20 | Thera Ges Fuer Patente | Lichtinitiiert kationisch härtende, dauerflexible Epoxidharzmasse und ihre Verwendung |
DE19541075C1 (de) * | 1995-11-03 | 1997-04-24 | Siemens Ag | Photohärtbares Harz mit geringem Schwund und dessen Verwendung in einem Stereolithographieverfahren |
US6008266A (en) * | 1996-08-14 | 1999-12-28 | International Business Machines Corporation | Photosensitive reworkable encapsulant |
JPH1087963A (ja) * | 1996-09-20 | 1998-04-07 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | 樹脂組成物および繊維質材料成形型 |
US5837398A (en) * | 1996-09-26 | 1998-11-17 | Three Bond Co., Ltd. | Radiation curable sealing material for batteries |
JP3786480B2 (ja) * | 1996-10-14 | 2006-06-14 | Jsr株式会社 | 光硬化性樹脂組成物 |
JP3626302B2 (ja) * | 1996-12-10 | 2005-03-09 | Jsr株式会社 | 光硬化性樹脂組成物 |
JP3765896B2 (ja) * | 1996-12-13 | 2006-04-12 | Jsr株式会社 | 光学的立体造形用光硬化性樹脂組成物 |
US6254954B1 (en) | 1997-02-28 | 2001-07-03 | 3M Innovative Properties Company | Pressure-sensitive adhesive tape |
US5998495A (en) | 1997-04-11 | 1999-12-07 | 3M Innovative Properties Company | Ternary photoinitiator system for curing of epoxy/polyol resin compositions |
US6025406A (en) * | 1997-04-11 | 2000-02-15 | 3M Innovative Properties Company | Ternary photoinitiator system for curing of epoxy resins |
AU711786B2 (en) * | 1997-05-16 | 1999-10-21 | National Starch And Chemical Investment Holding Corporation | Reactive radiation- or thermally-initiated cationically- curable epoxide monomers and compositions made from those monomers |
US6020508A (en) * | 1997-05-16 | 2000-02-01 | National Starch And Chemical Investment Holding Corporation | Radiation- or thermally-initiated cationically-curable epoxide compounds and compositions made from those compounds |
AU7599598A (en) | 1997-06-06 | 1998-12-21 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Bonding system in an inkjet printer pen and method for providing the same |
DE19736471A1 (de) * | 1997-08-21 | 1999-02-25 | Espe Dental Ag | Lichtinduziert kationisch härtende Zusammensetzungen und deren Verwendung |
US6001936A (en) | 1997-10-24 | 1999-12-14 | 3M Innovative Properties Company | Dye enhanced durability through controlled dye environment |
US6518362B1 (en) * | 1998-02-18 | 2003-02-11 | 3M Innovative Properties Company | Melt blending polyphenylene ether, polystyrene and curable epoxy |
US6136398A (en) * | 1998-05-01 | 2000-10-24 | 3M Innovative Properties Company | Energy cured sealant composition |
US6057382A (en) | 1998-05-01 | 2000-05-02 | 3M Innovative Properties Company | Epoxy/thermoplastic photocurable adhesive composition |
US6077601A (en) | 1998-05-01 | 2000-06-20 | 3M Innovative Properties Company | Coated abrasive article |
US6274643B1 (en) | 1998-05-01 | 2001-08-14 | 3M Innovative Properties Company | Epoxy/thermoplastic photocurable adhesive composition |
US6228133B1 (en) | 1998-05-01 | 2001-05-08 | 3M Innovative Properties Company | Abrasive articles having abrasive layer bond system derived from solid, dry-coated binder precursor particles having a fusible, radiation curable component |
US6187836B1 (en) * | 1998-06-05 | 2001-02-13 | 3M Innovative Properties Company | Compositions featuring cationically active and free radically active functional groups, and methods for polymerizing such compositions |
US7005394B1 (en) | 1998-07-10 | 2006-02-28 | 3M Innovative Properties Company | Tackified thermoplastic-epoxy pressure sensitive adhesives |
US6306926B1 (en) | 1998-10-07 | 2001-10-23 | 3M Innovative Properties Company | Radiopaque cationically polymerizable compositions comprising a radiopacifying filler, and method for polymerizing same |
US6235850B1 (en) | 1998-12-11 | 2001-05-22 | 3M Immovative Properties Company | Epoxy/acrylic terpolymer self-fixturing adhesive |
US6489042B2 (en) | 1998-12-23 | 2002-12-03 | 3M Innovative Properties Company | Photoimageable dielectric material for circuit protection |
US6294270B1 (en) | 1998-12-23 | 2001-09-25 | 3M Innovative Properties Company | Electronic circuit device comprising an epoxy-modified aromatic vinyl-conjugated diene block copolymer |
DE19927949A1 (de) | 1999-06-18 | 2000-12-21 | Delo Industrieklebstoffe Gmbh | Kationisch härtende Masse, ihre Verwendung sowie Verfahren zur Herstellung gehärteter Polymermassen |
AU7662000A (en) * | 1999-10-06 | 2001-05-10 | Georg Gros | Adhesive primer for polyamide materials |
US6387486B1 (en) | 1999-10-29 | 2002-05-14 | Adhesives Research, Inc. | Pressure sensitive adhesive tape and silicone-free release coating used therein |
US6350792B1 (en) | 2000-07-13 | 2002-02-26 | Suncolor Corporation | Radiation-curable compositions and cured articles |
US6579914B1 (en) | 2000-07-14 | 2003-06-17 | Alcatel | Coating compositions for optical waveguides and optical waveguides coated therewith |
US6716568B1 (en) | 2000-09-15 | 2004-04-06 | Microchem Corp. | Epoxy photoresist composition with improved cracking resistance |
US6696216B2 (en) * | 2001-06-29 | 2004-02-24 | International Business Machines Corporation | Thiophene-containing photo acid generators for photolithography |
JP2003073481A (ja) | 2001-09-06 | 2003-03-12 | Brother Ind Ltd | 活性エネルギー線硬化型組成物、それを含有するインク及びそのインクを使用するプリンタ |
US20030218269A1 (en) * | 2001-09-28 | 2003-11-27 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | Image-receiving layer composition and overcoat layer composition for ink-jet recording |
JP2003105077A (ja) | 2001-09-28 | 2003-04-09 | Brother Ind Ltd | 活性エネルギー線硬化型組成物、それを含有するインク及びそのインクを使用するプリンタ |
US6765036B2 (en) * | 2002-01-15 | 2004-07-20 | 3M Innovative Properties Company | Ternary photoinitiator system for cationically polymerizable resins |
JP2003212965A (ja) * | 2002-01-28 | 2003-07-30 | Brother Ind Ltd | 活性エネルギー線硬化型組成物 |
US6758734B2 (en) | 2002-03-18 | 2004-07-06 | 3M Innovative Properties Company | Coated abrasive article |
EP1348727A3 (de) | 2002-03-29 | 2003-12-03 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | Bildempfangsschichtzusammensetzung und Schutzschichtzusammensetzung für Tintenstrahlaufzeichnungsmedien |
US6773474B2 (en) | 2002-04-19 | 2004-08-10 | 3M Innovative Properties Company | Coated abrasive article |
US20050175806A1 (en) * | 2002-05-28 | 2005-08-11 | Banovetz John P. | Adhesive tape |
AU2003261188A1 (en) | 2002-07-24 | 2004-02-09 | Adhesives Research, Inc. | Transformable pressure sensitive adhesive tape and use thereof in display screens |
US20060189160A1 (en) * | 2002-08-30 | 2006-08-24 | Tadashi Hattori | Method for producing a pattern formation mold |
WO2004023213A1 (en) * | 2002-08-30 | 2004-03-18 | Toyo Gosei Co., Ltd. | Radiation-sensitive negative-type resist composition for pattern formation and pattern formation method |
US20070006493A1 (en) * | 2003-05-12 | 2007-01-11 | Arnold Eberwein | Illuminated license plate for vehicles and vehicle provided with the same |
AU2004261560A1 (en) * | 2003-07-28 | 2005-02-10 | Valspar Sourcing, Inc. | Metal containers having an easily openable end and method of manufacturing the same |
WO2005019299A1 (ja) * | 2003-08-21 | 2005-03-03 | Asahi Kasei Chemicals Corporation | 感光性組成物およびその硬化物 |
US20070031641A1 (en) * | 2003-09-05 | 2007-02-08 | 3M Innovative Properties Company | License plate for back illumination and method for making same |
WO2005044470A1 (en) * | 2003-10-27 | 2005-05-19 | Adhesives Research, Inc. | Poly (alkylene oxide) polymer-based pressure sensitive adhesive and tapes formed therefrom |
US7262228B2 (en) * | 2003-11-21 | 2007-08-28 | Curators Of The University Of Missouri | Photoinitiator systems with anthracene-based electron donors for curing cationically polymerizable resins |
JP2007526767A (ja) * | 2004-01-30 | 2007-09-20 | コーニング インコーポレイテッド | マルチウェルプレートおよび低細胞毒性光硬化性接着剤を用いたマルチウェルプレートの製造方法 |
US20050260522A1 (en) * | 2004-02-13 | 2005-11-24 | William Weber | Permanent resist composition, cured product thereof, and use thereof |
CN2689322Y (zh) * | 2004-02-28 | 2005-03-30 | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 | 主机板固定装置 |
ES2293164T3 (es) * | 2004-04-07 | 2008-03-16 | 3M Innovative Properties Company | Conjunto de placa de matricula que comprende una fuente luminosa y una placa de matricula con iluminacion desde la parte posterior. |
US7449280B2 (en) * | 2004-05-26 | 2008-11-11 | Microchem Corp. | Photoimageable coating composition and composite article thereof |
US20060026904A1 (en) * | 2004-08-06 | 2006-02-09 | 3M Innovative Properties Company | Composition, coated abrasive article, and methods of making the same |
US20060065357A1 (en) | 2004-09-24 | 2006-03-30 | Curwood, Inc. | Process for manufacturing packaging laminates and articles made therefrom |
JP2006131850A (ja) * | 2004-11-09 | 2006-05-25 | Toagosei Co Ltd | 熱硬化性組成物 |
US7591865B2 (en) * | 2005-01-28 | 2009-09-22 | Saint-Gobain Abrasives, Inc. | Method of forming structured abrasive article |
US8287611B2 (en) * | 2005-01-28 | 2012-10-16 | Saint-Gobain Abrasives, Inc. | Abrasive articles and methods for making same |
GB2433637A (en) * | 2005-12-21 | 2007-06-27 | 3M Innovative Properties Co | Semi-transparent retroreflective material |
JP5364267B2 (ja) * | 2005-12-26 | 2013-12-11 | 株式会社カネカ | 硬化性組成物 |
US8435098B2 (en) * | 2006-01-27 | 2013-05-07 | Saint-Gobain Abrasives, Inc. | Abrasive article with cured backsize layer |
GB0602105D0 (en) * | 2006-02-02 | 2006-03-15 | 3M Innovative Properties Co | License plate assembly |
CN101529293B (zh) * | 2006-10-31 | 2012-02-22 | 株式会社日本触媒 | 柔性光波导及其制备方法以及用于柔性光波导的环氧树脂组合物 |
US7714037B1 (en) * | 2006-12-15 | 2010-05-11 | Henkel Corporation | Photoinitiated cationic epoxy compositions and articles exhibiting low color |
CN101939140B (zh) * | 2006-12-21 | 2012-11-28 | 圣戈本磨料股份有限公司 | 低腐蚀磨料制品及其制备方法 |
TW200838967A (en) | 2007-02-02 | 2008-10-01 | Jsr Corp | Composition for radiation-curable adhesive, composite, and method for producing the composite |
US8399592B2 (en) | 2007-04-17 | 2013-03-19 | Kaneka Corporation | Polyhedral polysiloxane modified product and composition using the modified product |
JP4946640B2 (ja) * | 2007-06-06 | 2012-06-06 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | 剥離シート用感エネルギー線重合性組成物、剥離シート、および剥離シートの製造方法 |
JP5101930B2 (ja) | 2007-06-08 | 2012-12-19 | マブチモーター株式会社 | 多角形状外形の小型モータ |
JP2008310001A (ja) * | 2007-06-14 | 2008-12-25 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 感光性樹脂組成物及びパターン形成方法 |
JP2009013315A (ja) * | 2007-07-06 | 2009-01-22 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 封止用組成物 |
JP4946676B2 (ja) * | 2007-07-06 | 2012-06-06 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | 剥離シート用感エネルギー線重合性組成物、剥離シート、および剥離シートの製造方法 |
JP2009051982A (ja) * | 2007-08-29 | 2009-03-12 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 硬化型粘接着材料 |
DE102007043559B4 (de) | 2007-09-13 | 2012-05-31 | Carl Zeiss Vision Gmbh | Verwendung eines lichthärtenden thermoplastischen Epoxidharzklebstoffs zum Blocken oder Kleben von optischen Bauelementen |
WO2009075233A1 (ja) | 2007-12-10 | 2009-06-18 | Kaneka Corporation | アルカリ現像性を有する硬化性組成物およびそれを用いた絶縁性薄膜および薄膜トランジスタ |
US8047368B2 (en) | 2008-01-23 | 2011-11-01 | Curwood, Inc. | Vacuum skin packaging laminate, package and process for using same |
JP5435879B2 (ja) | 2008-02-14 | 2014-03-05 | 株式会社ダイセル | ナノインプリント用硬化性樹脂組成物 |
JP5101343B2 (ja) | 2008-03-03 | 2012-12-19 | 株式会社ダイセル | 微細構造物の製造方法 |
JP2009265519A (ja) * | 2008-04-28 | 2009-11-12 | Hitachi Cable Ltd | フレキシブル光導波路およびその製造方法 |
JP2010015135A (ja) * | 2008-06-03 | 2010-01-21 | Hitachi Cable Ltd | 光ファイバ固定溝付き光導波路基板およびその製造方法、その製造方法に用いる型、ならびに、その光導波路基板を含む光電気混載モジュール |
EP2133063A1 (de) | 2008-06-10 | 2009-12-16 | 3M Innovative Properties Company | Initiatorsystem mit Biphenylen-Derivaten, Herstellungsverfahren und Verwendung dafür |
EP2133064A1 (de) * | 2008-06-10 | 2009-12-16 | 3M Innovative Properties Company | Initiatorsystem mit einem Diarylalkylamin-Derivat, härtbare Zusammensetzung und deren Verwendung |
EP2343326B1 (de) | 2008-10-02 | 2018-08-15 | Kaneka Corporation | Lichthärtbare zusammensetzung und gehärtetes produkt |
EP2376682B1 (de) | 2008-12-23 | 2015-10-28 | 3M Innovative Properties Company | Härtbare faser und sie enthaltende zusammensetzungen |
CN102325854A (zh) | 2008-12-23 | 2012-01-18 | 3M创新有限公司 | 包含颗粒的流体组合物和使用该组合物修改井筒的方法 |
KR101592960B1 (ko) | 2009-10-01 | 2016-02-12 | 히타치가세이가부시끼가이샤 | 유기 일렉트로닉스용 재료, 유기 일렉트로닉스 소자, 유기 일렉트로 루미네센스 소자, 및 그것을 사용한 표시 소자, 조명 장치, 표시 장치 |
CN102859740B (zh) | 2010-04-22 | 2016-06-15 | 日立化成株式会社 | 有机电子材料、聚合引发剂及热聚合引发剂、油墨组合物、有机薄膜及其制造方法、有机电子元件、有机电致发光元件、照明装置、显示元件以及显示装置 |
JP5622564B2 (ja) | 2010-06-30 | 2014-11-12 | 富士フイルム株式会社 | 感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン形成方法、パターン膜、低屈折率膜、光学デバイス、及び、固体撮像素子 |
DE102011105593A1 (de) | 2011-06-27 | 2012-12-27 | Sml Verwaltungs Gmbh | Auskleidungsschlauch für die Sanierung von Leitungssystemen und Verfahren zur Sanierung von Leitungssystemen |
DE102012202377A1 (de) | 2011-10-21 | 2013-04-25 | Tesa Se | Klebemasse insbesondere zur Kapselung einer elektronischen Anordnung |
CN103087640A (zh) | 2011-11-08 | 2013-05-08 | 汉高股份有限公司 | 双固化粘合剂组合物及其用途以及粘合基底的方法 |
US9096759B2 (en) | 2011-12-21 | 2015-08-04 | E I Du Pont De Nemours And Company | Printing form and process for preparing the printing form with curable composition having solvent-free epoxy resin |
DE102012206273A1 (de) | 2012-04-17 | 2013-10-17 | Tesa Se | Vernetzbare Klebmasse mit Hart- und Weichblöcken als Permeantenbarriere |
BR112015007082A2 (pt) * | 2012-09-29 | 2017-07-04 | 3M Innovative Properties Co | composição adesiva e fita adesiva |
KR101821464B1 (ko) | 2012-10-02 | 2018-01-23 | 블루스타 실리콘즈 프랑스 에스에이에스 | 요오도늄 보레이트를 포함하고 허용가능한 악취를 방출하는 양이온성 가교가능/중합가능 조성물 |
JP5967824B2 (ja) | 2012-10-26 | 2016-08-10 | 日本化薬株式会社 | 感光性樹脂組成物、レジスト積層体及びそれらの硬化物 |
JP5901070B2 (ja) | 2012-10-26 | 2016-04-06 | 日本化薬株式会社 | 感光性樹脂組成物、レジスト積層体及びそれらの硬化物 |
JP5939964B2 (ja) | 2012-11-22 | 2016-06-29 | 日本化薬株式会社 | 感光性樹脂組成物、レジスト積層体及びそれらの硬化物 |
JP6066413B2 (ja) | 2012-11-22 | 2017-01-25 | 日本化薬株式会社 | 感光性樹脂組成物、レジスト積層体及びそれらの硬化物 |
DE102012222056A1 (de) | 2012-12-03 | 2014-06-05 | Tesa Se | Lamination starrer Substrate mit dünnen Klebebändern |
US9893287B2 (en) | 2012-12-12 | 2018-02-13 | Empire Technology Development Llc | Nano-encapsulating polymers with high barrier properties |
DE102012024905A1 (de) | 2012-12-20 | 2014-06-26 | Sml Verwaltungs Gmbh | Auskleidungsschlauch für die Sanierung von Leitungssystemen und Verfahren zur Sanierung von Leitungssystemen |
EP2759514A1 (de) | 2013-01-29 | 2014-07-30 | tesa SE | Haftklebemasse enthaltend ein verbundenes Nanopartikelnetzwerk, Verfahren zu ihrer Herstellung sowie die Verwendung derselben |
EP2966942A4 (de) | 2013-03-08 | 2016-12-07 | Hitachi Chemical Co Ltd | Behandlungslösung mit ionischer verbindung, organisches elektronisches element und verfahren zur herstellung eines organischen elektronischen elements |
DE102013211047B4 (de) | 2013-06-13 | 2015-04-30 | MTU Aero Engines AG | Verfahren zum Verschließen von Kühlluftbohrungen |
WO2016066435A1 (de) | 2014-10-29 | 2016-05-06 | Tesa Se | Klebemassen mit aktivierbaren gettermaterialien |
WO2016066434A1 (de) | 2014-10-29 | 2016-05-06 | Tesa Se | Oled kompatible klebemassen mit silanwasserfängern |
PL3212728T3 (pl) | 2014-10-29 | 2019-02-28 | Tesa Se | Masy klejące z wielofunkcyjnymi wodnymi wyłapywaczami siloksanów |
MX2017010017A (es) | 2015-02-06 | 2017-11-22 | Tesa Se | Compuesto adhesivo con indice de amarillamiento reducido. |
EP3091059B1 (de) | 2015-05-05 | 2020-09-09 | tesa SE | Klebeband mit klebemasse mit kontinuierlicher polymerphase |
DE102015217860A1 (de) | 2015-05-05 | 2016-11-10 | Tesa Se | Klebeband mit Klebemasse mit kontinuierlicher Polymerphase |
DE102015210346A1 (de) | 2015-06-04 | 2016-12-08 | Tesa Se | Verfahren zur Herstellung viskoser Epoxidsirupe und danach erhältliche Epoxidsirupe |
DE102015210345A1 (de) | 2015-06-04 | 2016-12-08 | Tesa Se | Wasserdampfsperrende Klebemasse mit anpolymerisiertem Epoxidsirup |
JP6837443B2 (ja) | 2015-06-04 | 2021-03-03 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | Uv硬化性エポキシ/アクリレート接着剤組成物 |
CN108884363B (zh) | 2016-04-04 | 2021-10-15 | 德莎欧洲股份公司 | 具有暗反应的可辐射活化的压敏胶带及其用途 |
DE102016207540A1 (de) | 2016-05-02 | 2017-11-02 | Tesa Se | Wasserdampfsperrende Klebemasse mit hochfunktionalisiertem Poly(meth)acrylat |
DE102016207550A1 (de) | 2016-05-02 | 2017-11-02 | Tesa Se | Funktionalisierte (Co)Polymere für Klebesysteme und Klebebänder |
DE102016213911A1 (de) | 2016-07-28 | 2018-02-01 | Tesa Se | OLED kompatible Klebemassen mit cyclischen Azasilanwasserfängern |
KR102492572B1 (ko) | 2016-12-02 | 2023-01-30 | 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 캄파니 | 다층 접착 물품 |
DE102017221072A1 (de) | 2017-11-24 | 2019-05-29 | Tesa Se | Verfahren zur Herstellung haftklebriger Reaktivklebebänder |
US10297370B1 (en) | 2017-12-14 | 2019-05-21 | Tesa Se | Forming a rigid cable harness with a curable sleeve |
DE102018202545A1 (de) | 2018-02-20 | 2019-08-22 | Tesa Se | Zusammensetzung zur Erzeugung einer Klebemasse insbesondere zur Kapselung einer elektronischen Anordnung |
DE102018216868A1 (de) | 2018-10-01 | 2020-04-02 | Tesa Se | Latent reaktiver Klebefilm |
JP7297442B2 (ja) * | 2018-12-27 | 2023-06-26 | キヤノン株式会社 | 微細構造体の製造方法及び液体吐出ヘッドの製造方法 |
DE102019103123A1 (de) | 2019-02-08 | 2020-08-13 | Tesa Se | Thermisch erweichbares Klebeband und Verfahren zum Ummanteln von langgestrecktem Gut insbesondere Leitungen |
DE102019103122A1 (de) | 2019-02-08 | 2020-08-13 | Tesa Se | Mit Feuchtigkeit härtbares Klebeband und Verfahren zum Ummanteln von langgestrecktem Gut insbesondere Leitungen |
DE102019103120A1 (de) | 2019-02-08 | 2020-08-13 | Tesa Se | UV-härtbares Klebeband und Verfahren zum Ummanteln von langgestrecktem Gut insbesondere Leitungen |
DE102019207550A1 (de) | 2019-05-23 | 2020-11-26 | Tesa Se | Verfahren zur Herstellung haftklebriger Reaktivklebebänder |
EP4010446A4 (de) | 2019-08-07 | 2023-08-09 | 3M Innovative Properties Company | Uv-härtbare klebstoffzusammensetzung und klebefilm, klebeband und verbindungskomponente damit |
CN113072900B (zh) | 2020-01-06 | 2022-09-23 | 3M创新有限公司 | 可紫外光固化的压敏胶组合物及可紫外光固化的压敏胶带 |
US20240084125A1 (en) | 2020-12-31 | 2024-03-14 | 3M Innovative Properties Company | Uv-curable tape |
DE102021201094A1 (de) | 2021-02-05 | 2022-08-11 | Tesa Se | Polyvinylaromat-Polydien-Blockcopolymer basierende Haftklebemassen mit gesteigerter Wärmescherfestigkeit |
DE102021126466A1 (de) | 2021-10-13 | 2023-04-13 | Tesa Se | Klebeband und Verfahren zum Ummanteln von langgestrecktem Gut insbesondere Leitungen |
DE102021131472A1 (de) | 2021-11-30 | 2023-06-01 | Relineeurope Gmbh | Auskleidungsschlauch zur Sanierung fluidführender Leitungssysteme |
DE102022105737A1 (de) | 2022-03-11 | 2023-09-14 | Tesa Se | Aushärtbare Klebemasse mit verbesserter Stanzbarkeit und verbesserten Schockeigenschaften |
DE102022105738A1 (de) | 2022-03-11 | 2023-09-14 | Tesa Se | Aushärtbare Klebemasse mit verbesserter Stanzbarkeit |
WO2024003637A1 (en) | 2022-06-29 | 2024-01-04 | 3M Innovative Properties Company | Curable adhesive and articles for bonding pavement and concrete |
DE102022117183A1 (de) | 2022-07-11 | 2024-01-11 | Tesa Se | Unvernetztes Polyepoxid und Klebemasse umfassend dieses Polyepoxid |
DE102022124902A1 (de) | 2022-09-28 | 2024-03-28 | Tesa Se | Kationisch härtbare Klebemasse mit Indikation der Haltefestigkeit |
DE102022124905A1 (de) | 2022-09-28 | 2024-03-28 | Tesa Se | Verfahren zur Ummantelung einer Batteriezelle |
DE102022124903A1 (de) | 2022-09-28 | 2024-03-28 | Tesa Se | Kationisch härtbare Klebemasse mit definierter Färbung im ausgehärteten Zustand |
DE102022124904A1 (de) | 2022-09-28 | 2024-03-28 | Tesa Se | Aushärtbare Haftklebemasse mit verbesserten Klebeeigenschaften |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL224266A (de) * | 1957-01-22 | |||
US3410824A (en) * | 1965-03-19 | 1968-11-12 | Ralph B. Atkinson | Light sensitive resin from a dihydroxy chalcone and an epoxy prepolymer |
US3412046A (en) * | 1965-07-01 | 1968-11-19 | Dexter Corp | Catalyzed polyepoxide-anhydride resin systems |
US3567453A (en) * | 1967-12-26 | 1971-03-02 | Eastman Kodak Co | Light sensitive compositions for photoresists and lithography |
US3826650A (en) * | 1968-08-20 | 1974-07-30 | American Can Co | Epoxy photopolymer duplicating stencil |
DE2115918C3 (de) * | 1971-04-01 | 1980-04-24 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Verfahren zur Herstellung von Epoxydpolyaddukten |
US3816280A (en) * | 1971-05-18 | 1974-06-11 | American Can Co | Photopolymerizable epoxy systems containing cyclic amide gelation inhibitors |
US3711390A (en) * | 1971-05-18 | 1973-01-16 | J Feinberg | Photopolymerizable epoxy systems containing substituted cyclic amides or substituted ureas as gelation inhibitors |
US3729313A (en) * | 1971-12-06 | 1973-04-24 | Minnesota Mining & Mfg | Novel photosensitive systems comprising diaryliodonium compounds and their use |
US3816281A (en) * | 1973-04-30 | 1974-06-11 | American Can Co | Poly(vinyl pyrrolidone)stabilized polymerized epoxy compositions and process for irradiating same |
AU497960B2 (en) * | 1974-04-11 | 1979-01-25 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Photopolymerizable compositions |
GB1516351A (en) * | 1974-05-02 | 1978-07-05 | Gen Electric | Curable epoxide compositions |
US4058401A (en) * | 1974-05-02 | 1977-11-15 | General Electric Company | Photocurable compositions containing group via aromatic onium salts |
GB1516512A (en) * | 1974-05-02 | 1978-07-05 | Gen Electric | Chalcogenium salts |
US4175972A (en) * | 1974-05-02 | 1979-11-27 | General Electric Company | Curable epoxy compositions containing aromatic onium salts and hydroxy compounds |
US4175973A (en) * | 1974-05-02 | 1979-11-27 | General Electric Company | Curable compositions |
US4026705A (en) * | 1975-05-02 | 1977-05-31 | General Electric Company | Photocurable compositions and methods |
US4108747A (en) * | 1976-07-14 | 1978-08-22 | General Electric Company | Curable compositions and method for curing such compositions |
-
1975
- 1975-09-02 US US05/609,898 patent/US4256828A/en not_active Expired - Lifetime
-
1976
- 1976-08-09 CA CA258,706A patent/CA1114089A/en not_active Expired
- 1976-08-30 SE SE7609584A patent/SE427277C/xx unknown
- 1976-09-01 GB GB36215/76A patent/GB1565671A/en not_active Expired
- 1976-09-01 DE DE19762639395 patent/DE2639395A1/de active Granted
- 1976-09-01 BR BR7605796A patent/BR7605796A/pt unknown
- 1976-09-01 JP JP51103780A patent/JPS5942688B2/ja not_active Expired
- 1976-09-01 IT IT51101/76A patent/IT1066298B/it active
- 1976-09-01 FR FR7626391A patent/FR2322897A1/fr active Granted
- 1976-09-01 ZA ZA765241A patent/ZA765241B/xx unknown
- 1976-09-01 CH CH1108276A patent/CH630655A5/de not_active IP Right Cessation
- 1976-09-01 BE BE170268A patent/BE845746A/xx not_active IP Right Cessation
- 1976-09-01 AU AU17359/76A patent/AU497066B2/en not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CA1114089A (en) | 1981-12-08 |
US4256828A (en) | 1981-03-17 |
JPS5230899A (en) | 1977-03-08 |
AU497066B2 (en) | 1978-11-23 |
IT1066298B (it) | 1985-03-04 |
SE7609584L (sv) | 1977-03-03 |
AU1735976A (en) | 1978-03-09 |
SE427277C (sv) | 1985-03-17 |
FR2322897A1 (fr) | 1977-04-01 |
SE427277B (sv) | 1983-03-21 |
JPS5942688B2 (ja) | 1984-10-17 |
ZA765241B (en) | 1977-08-31 |
BE845746A (fr) | 1977-03-01 |
DE2639395A1 (de) | 1977-03-10 |
DE2639395C2 (de) | 1991-03-14 |
GB1565671A (en) | 1980-04-23 |
BR7605796A (pt) | 1977-08-16 |
FR2322897B1 (de) | 1982-01-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE2639395C2 (de) | ||
US4318766A (en) | Process of using photocopolymerizable compositions based on epoxy and hydroxyl-containing organic materials | |
DE2954646C2 (de) | ||
EP0646580B1 (de) | Vinyletherverbindungen mit zusätzlichen von Vinylethergruppen verschiedenen funktionellen Gruppen und deren Verwendung zur Formulierung härtbarer Zusammensetzungen | |
EP0054509B1 (de) | Sulfoxoniumsalzpolymerisationskatalysatoren | |
DE2520489C2 (de) | Photopolymerisierbare Massen | |
EP0022081B1 (de) | Sulphoxoniumsalze enthaltende polymerisierbare Mischungen sowie Verfahren zur Herstellung hochmolekularer Produkte aus diesen Mischungen durch Bestrahlung | |
DE60129666T2 (de) | Polymerisierbare zusammensetzung und gehärtetes harz daraus, verfahren zur seiner herstellung | |
DE2035890B2 (de) | Verfahren zur polymerisation von monomeren epoxyden | |
EP0035969B1 (de) | Zusammensetzung aus kationisch polymerisierbarem Material und einem Katalysator | |
US4977199A (en) | Photo curable blends of 2-methyoxytetrahydropyran and a cycloaliphatic diepoxide | |
EP0604364B1 (de) | Neue (cyclo)aliphatische Epoxidverbindungen | |
US6777460B2 (en) | Curing agents for cationically curable compositions | |
DE69731542T2 (de) | Photokatalytische zusammensetzung | |
EP0380010B1 (de) | Strahlungsempfindliche, ethylenisch ungesättigte, copolymerisierbare Sulfoniumsalze und Verfahren zu deren Herstellung | |
DE2315500A1 (de) | Polymerisierbares epoxydgemisch | |
DE3604580A1 (de) | Haertbare mischungen, enthaltend n-sulfonylaminosulfoniumsalze als kationisch wirksame katalysatoren | |
DE2731396A1 (de) | Haertbare zusammensetzungen | |
CH618674A5 (de) | ||
DE3604581A1 (de) | 4-acylbenzylsulfoniumsalze, ihre herstellung sowie sie enthaltende photohaertbare gemische und aufzeichnungsmaterialien | |
CH642387A5 (de) | Photopolymerisierbare gemische. | |
EP0321828B1 (de) | Photopolymerisierbares Gemisch und daraus hergestelltes Aufzeichnungsmaterial | |
EP0146501A2 (de) | Polymerisierbare Zusammensetzungen | |
EP0441232A2 (de) | Verfahren zur kationischen Photopolymerisation | |
DE69729463T2 (de) | Monomere, oligomere und polymere mit oxiranendgruppen, verfahren zu ihrer herstellung und ihre kationische strahlungspolymerisation |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PL | Patent ceased |